JPH0354672B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0354672B2 JPH0354672B2 JP57159548A JP15954882A JPH0354672B2 JP H0354672 B2 JPH0354672 B2 JP H0354672B2 JP 57159548 A JP57159548 A JP 57159548A JP 15954882 A JP15954882 A JP 15954882A JP H0354672 B2 JPH0354672 B2 JP H0354672B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- formula
- compound
- methyl
- following formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D403/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00
- C07D403/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00 containing two hetero rings
- C07D403/12—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D401/00 containing two hetero rings linked by a chain containing hetero atoms as chain links
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D205/00—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D205/02—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
- C07D205/06—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
- C07D205/08—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams
- C07D205/085—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams with a nitrogen atom directly attached in position 3
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D505/00—Heterocyclic compounds containing 5-oxa-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. oxacephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/547—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
- C07F9/553—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07F9/568—Four-membered rings
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
Description
本発明は、新規な化合物としての２−アルキル
基を有する１−オキサ−１−デチア−セフアロス
ポリン化合物およびその製造法に関する。 さらに詳しく述べると、本発明は抗菌力を有す
る２−アルキル−１−オキサ−１−デチア−セフ
アロスポリン誘導体を合成するのに用いる中間体
として有用である次の一般式（） 〔式中R1は水素原子またはメトキシ基を、R2は
低級アルキル基を、R3はメチル基、ハロメチル
基または式−CH2−Ｓ−Het（但しHetは置換基を
有してもよい複素環式基を表わす）の基を表わ
し、さらにＡは水素原子又はカルボキシル保護基
を表わす〕で示される7β−アミノ−２−アルキ
ル−１−オキサ−１−デチア−セフアロスポリン
化合物を第１の要旨とする。 近年、１−オキサ−１−デチア−３−セフエム
化合物（オキサセフアロスポリン）の合成研究が
進められている（例えば特開昭53−25551号公報
参照）。本発明者らはオキサセフアロスポリンの
新誘導体の合成について研究中、オキサセフアロ
スポリン核の２位をアルキル置換された化合物
は、アルキル基がない場合に比較して、抗菌力が
増強され且つβ−ラクタメースに対する抵抗性が
増加されるという知見を得た（本出願人の出願に
係る特願昭57−127574号（特開昭59−46287号）
明細書参照）。その合成法を鋭意検討して研究を
行い、その一環として、本発明を完成させた。 本発明の式（）の7β−アミノ−２−アルキ
ル−１−オキサ−１−デチア−セフアロスポリン
化合物は文献未載の新規化合物である。 本発明の化合物の具体例を示すと次の通りであ
る。 (1) 7β−アミノ−7α−メトキシ−2α−メチル−
３−（１−メチル−1H−テトラゾール−５−イ
ル）チオメチル−１−オキサ−１−デチア−３
−セフエム−４−カルボン酸又はそのジフエニ
ルメチルエステル (2) 7β−アミノ−2α−メチル−３−（１−メチル
−1H−テトラゾール−５−イル）チオメチル
−１−オキサ−１−デチア−３−セフエム−４
−カルボン酸又はそのジフエニルメチルエステ
ル (3) 7β−アミノ−2β−メチル−３−（１−メチル
−1H−テトラゾール−５−イル）チオメチル
−１−オキサ−１−デチア−３−セフエム−４
−カルボン酸又はそのジフエニルメチルエステ
ル (4) 7β−アミノ−7α−メトキシ−2β−メチル−
３−（１−メチル−1H−テトラゾール−５−イ
ル）チオメチル−１−オキサ−１−デチア−３
−セフエム−４−カルボン酸又はそのジフエニ
ルメチルエステル (5) 7β−アミノ−2β，３−ジメチル−１−オキ
サ−１−デチア−３−セフエム−４−カルボン
酸又はそのジフエニルメチルエステル (6) 7β−アミノ−2α，３−ジメチル−１−オキ
サ−１−デチア−３−セフエム−４−カルボン
酸又はそのジフエニルメチルエステル 本発明の一般式（）の化合物の製造は、オキ
サゾリン誘導体にα−ヒドロキシアルカン酸アル
キルエステルを縮合させて得られるアゼチジノン
誘導体を環化させることを基本工程とする方法に
よつて行い得るものである。後記の式（）で表
わされるアゼチジノン誘導体から出発するその製
造法を工程図により図解的に表示すると次の通り
である。 従つて、本発明の第２の要旨によると、次の一
般式 〔式中、基RCO−はアシル基を示し、R2は低級
アルキル基を示し、R3はメチル基、ハロメチル
基又は式−CH2−Ｓ−Het（但しHetは置換基を有
してもよい複素環式基である）の基を示し、ph
はフエニル基を示し、A′はカルボキシル保護基
を示す〕のアゼチジノン化合物を環化して次式 （式中、RCO−，R2，R3，A′は前記と同じ意味
をもつ）のセフエム化合物を生成し、該化合物の
7α−アミノ基から基RCO−を公知反応で脱離さ
せて次式 （式中、R2，R3，A′は前記と同じ意味をもつ）
の化合物を生成し、該化合物を芳香族アルデヒド
と反応させて次式 （式中、R2，R3，A′は前記と同じ意味をもち、
R4は芳香族基を表わす）のシツフ塩基型の化合
物を生成し、この化合物のシツフ塩基化された
7α−アミノ基を、立体配置反転反応、あるいは
７位β−メトキシ化を伴う公知の立体配置反転反
応に付して次式 （式中、R1は水素原子又はメトキシ基を示し、
R2，R3，R4，A′は前記の意味をもつ）の化合物
を生成し、さらに該化合物からシツフ塩基の基
R4−CH＝を常法で切断し、さらに所要ならばカ
ルボキシル保護基（A′）を脱離させることを特
徴とする、一般式 （式中、R1，R2，R3は前記の意味をもち、Ａは
水素原子又はカルボキシル保護基を表わす）で示
される7β−アミノ−２−アルキル−１−オキサ
−１−デチア−セフアロスポリン化合物の製造法
が提供される。 本発明の方法における一般式（）〜（）の
化合物中、Ｒ，R1，R2，R3およびA′はすべて前
述の意味をもち、R4は芳香族基、例えば置換さ
れてもよいアリール基、特にフエニル基又は４−
ヒドロキシフエニル基を示す。 本発明の化合物（）およびその製法で使用さ
れる出発物質（）及び中間体物質（）〜
（）におけるＲ，R1，R3，A′について以下に詳
しく説明する。基RCO−のアシル基としては、
一般に芳香族アシル基であるならばすべて実施可
能である。従つて、基Ｒは芳香族基、例えばアリ
ール基、特にフエニル基又は置換フエニル基、ア
リールアルキル基、アリーロキシアルキル基、ア
ラルキルオキシ基又はトリフエニルアルキル基で
あることができる。例えば基RCO−は、好適に
はフエニルカルボニル、フエニルアセチル、ベン
ジルオキシカルボニル、フエノキシメチルカルボ
ニル又はトリチルカルボニル基であるのがよい。 R2としての低級アルキル基は炭素数１〜４の
アルキル基を意味し、α，βの両方の立体配位が
存在し、α，βの両配位ともにメチル基が好適で
ある。 R3としてのハロメチル基としては、塩素、臭
素のモノ置換のメチル基が挙げられる。また、
R3は基−CH2−Ｓ−Hetであり得るが、こゝで
Hetで示される複素環式基は、窒素、酸素、硫黄
原子などの異原子を含む５員複素環式基を包含
し、好適な例としてはテトラゾリル基、トリアゾ
リル基、チアジアゾリル基が挙げられる。この複
素環式基上の置換基としては、炭素数１〜４の低
級アルキル基特にメチル基又はカルボキシ低級ア
ルキル基などが挙げられるが、公知のセフアロス
ポリン類の３位置換基として従来用いられている
ものも可能である。 シツフ塩基残基R4−CH＝における基R4は一般
的には芳香族基、特にアリール基であることがで
き、好ましくは４−ヒドロキシフエニル基であ
る。この上の置換基として、メチル、イソプロピ
ル、ｔ−ブチル等の低級アルキル基などが存在し
てもよく、その置換の位置は３，５−ジ置換が好
適である。 基A′は水素原子又はカルボキシル保護基であ
ることができ、カルボキシ保護基としては、従来
セフアロスポリン、ペニシリン類に慣用されてい
るものはすべて使用可能である。例えば、A′は
ジフエニルメチル、ベンジル、ｐ−ニトロベンジ
ル基などの置換または非置換アラルキル基、また
はｔ−ブチル、トリクロロエチルなどの置換また
は非置換のアルキル基などであり得る。 本発明による一般式（）の化合物の製造法
を、工程図についてさらに詳しく説明する。 まず化合物（）から化合物（）への環化反
応であるが、この反応は化合物（）を、不活性
溶媒に溶解して加熱する方法、いわゆるウイテイ
ヒ（Witting）反応に付し環化させる反応であ
る。反応温度は40〜120℃の範囲で、好ましくは
100〜120℃の範囲である。不活性溶媒としては、
THF、ジオキサン、ベンゼン、トルエン、キシ
レンその他ジメトキシエタン等のエーテル類が用
いられる。この反応においては副反応を防ぐた
め、窒素あるいはアルゴン気流中で行うのが望ま
しく、さらに酸化防止剤として触媒量のハイドロ
キノンを添加してもよい。 化合物（）におけるR2のα，βの配位は化
合物（）におけるR2の配位がＲ−配位の場合
α−配位となり、Ｓ配位の場合はβ−配位とな
る。化合物（）から化合物（）を生成し、さ
らに化合物（）のシツフ塩基型の化合物を生成
する２工程は、それぞれ常法にて実施できる。す
なわち前者の（）→（）工程は、いわゆるイ
ミノハライド、イミノエーテル法（特公昭41〜
13862号公報参照）にて、また後者の（）→
（）工程は芳香族アルデヒドを反応させること
によるシツフ塩基化であつて特開昭50〜50394号
公程に開示されている方法、例えば３，５−ジ−
ｔ−ブチル−４−ベンズアルデヒド等の如き芳香
族アルデヒドを不活性溶媒例えばベンゼン、塩化
メチレン、酢酸エチル中で脱水縮合させることに
より実施でき、これにより化合物（）が得られ
る。 化合物（）から化合物（）を生成する反転
反応は、化合物（）を不活性溶媒に溶解しまず
酸化剤を加え、酸化し、さらに酸化剤の除去後に
直ちに還元剤を加えることにより実施できる。こ
の際に、７位側鎖の立体位置の反転反応が起り、
化合物（）が得られる。この反応に用いる溶媒
は通常のβ−ラクタム化合物の反応に用いられる
ものが用いられ、クロロホルム、塩化メチレン等
が好ましい。酸化剤としては、二酸化マンガン、
過酸化ニツケル、四酢酸鉛、ジクロロジシアノベ
ンゾキノン（DDQ）が好適に用いられる。 還元剤としては、NaBH3CN（シアノ水素化ホ
ウ素ナトリウム）、NaBH4（水素化ホウ素ナトリ
ウム）、Et4NBH4（水素化ホウ素テトラエチルア
ンモニウム）、又はLi（ｔ−BuO）3AlH（トリ第３
級ブトキシ水素化アルミニウム・リチウム）が好
適に用いられる。これらの両方の一連の反応は−
20℃〜５℃の範囲で進行する。 化合物（）から化合物（）を生成する工程
は７位のメトキシ化を伴う反転反応により実施で
き、これには特開昭50−50394号公報に開示の方
法が適用できる。 このようにして得られた化合物（）および
（）は、次いで、シツフ塩基分解（切断）反応
に付されて目的の中間体化合物（）へ導かれ
る。 このシツフ塩基の分解（切断）は公知の方法、
例えば上記特開昭50−50394号公報に開示されて
いる加水分解方法等により実施できる。更に所望
ならば、化合物（）におけるカルボキシル保護
基（A′）を常法で脱離できる。 本発明の目的化合物（）は、更に７位アミノ
基を適当にアシル化した後、カルボキシル保護基
を脱離することにより強い抗菌力を有する7β−
アシル−２−アルキル−１−オキサ−１−デチア
−セフアロスポリン化合物へ誘導でき、中間体と
して有用である。 本発明化合物（）から抗菌作用を有する化合
物を製造することの具体例としては、前出の特願
昭57−127574号（特開昭59−46287号）明細書に
明示されている。 本発明に用いられる出発原料としての化合物
（）は、文献未載の新規化合物であるので、本
発明者らにより開発されたその調製法の概略を次
に説明する。 すなわち一般式（）の化合物は、例えば次式
（） （但しMeはメチル基、Ａは前述の意味を、phは
フエニル基を表わす）の化合物〔この一例として
のベンツヒドリル−３−メチル−２−〔（1R，5S）
−３−フエニル−７−オキソ−４−オキサ−２，
６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−
エン−６−イル〕ブト−２−エノエイトは
Journal of ChemicalSociety，Perkin Ｉ，1932
頁（1975）に所載される〕から出発して多段階で
合成できる。 化合物（）に対して次式 （但しR2は一般式（）のR2と同じ意味のアル
キル基であり、Ｂはエチル基の如きアルキル基で
ある）のDL−α−ヒドロキシアルカン酸アルキ
ルエステルをトリフルオロメタンスルホン酸の存
在下に室温で反応させると、次式 （ph，R2，Ｂは前記と同じ意味をもつ、以下同
様）の（3R，4R）−４−｛（1S）−１−アルコキシ
カルボニルアルコキシ｝−３−ベンズアミド−１
−（１−保護カルボニル−２−メチルプロプ−１
−エニル）−アゼチジン−２−オンと、次式 の（3R，4R）４−｛（1R）−１−アルコキシカル
ボニルアルコキシ｝−３−ベンズアミド−１−（１
−保護カルボニル−２−メチルプロ−１−エニ
ル）−アゼチジン−２−オンとがジアステレオマ
ー混合物として得られる。これはベンゼン−酢酸
エチル（７：１）で展開されるシリカゲルクロマ
トグラフイーにかけると、式（）の化合物と式
（）の化合物とを互に分離できる。 DL体の形の一般式（）の化合物の代りに、
それぞれ対応のＤ体（Ｒ体）、Ｌ体（Ｓ体）の形
の化合物（）を一般式（）の化合物に反応さ
せれば、クロマトグラフイーで分離することなく
所望の立体配置の一般式（）、（）の化合物
が得られる（参考例６）。 更に以後の工程として、所望のセフエム環を化
合物（）、（）から得るために、一般式
（）、（）の化合物すなわちアゼチジノン化
合物の１位及び４位側鎖を前処理する工程を行
う。 まずアゼチジノン化合物の１位側鎖を処理する
工程から説明する（参考例１参照）。 式（）の化合物をとり、これを塩化メチレ
ン中で０℃以下の温度でオゾン・ガスと反応して
酸化させると、次式 の酸化生成物（不安定である）が生成する（同様
な反応は本出願人の出願に係る特願昭56−198466
号の参考例に示される）。これを酢酸中で低温で
亜鉛末で還元すると、次式 のアルコール体が生成する。式（）のアルコ
ールを塩化メチレン中でピリジンの存在下に塩化
チオニルで塩素化すると、次式 のクロル誘導体を生成する。この式（）のク
ロル化合物をクロロホルム中でトリアルキルアミ
ンの如き第３級アミンの存在下に室温でトリフエ
ニルホスフインで処理すると、クロル基がトリフ
エニルホスホラニリデシ基と入れ代わる反応が起
る（ホスホラニリデン化工程）。これによつて次
式 の化合物を生成する。 ここで１位側鎖の前処理工程が終るから、次に
アゼチジノン化合物の４位側鎖の前処理工程に移
る。 すなわち、式（）の化合物を含水アセトン
中で水酸化ナトリウム等の存在下にアルカリ性条
件で加水分解してアルキル基(B)を脱離すると、対
応のカルボン酸化合物（式（）中の−OBが
−OHになつたものに相当する）を得る。このカ
ルボン酸化合物は、次の反応に付す前に基−
COOBを活性化する。この活性化には例えば活性
エステル化がある。この目的のため、該カルボン
酸化合物に対して次式 Cl−COOEt （） のクロルギ酸エチルエステルを作用させると、エ
トキシカルボニル化が起る。これにより次式 の化合物を得る。式（）の化合物にエチルエ
ーテル中で低温でジアゾメタンを作用させてジア
ゾメチル化反応を行うと、次式 のジアゾ化合物を得る。このジアゾ化合物（
）にジオキサン中で塩化水素を作用させると、
ジアゾ基がクロル基と置換される。これにより次
式 のクロル化合物を得る。このクロル化合物（′）
に対して次式 HS−Het （） （但しHetは複素環基を示す）の複素環チオール
化合物を塩化メチレン中でピリジンの存在下に作
用させると、次式 の化合物を得る。 前述の説明では、置換基R2がＲ配位をとる一
般式（）の化合物から出発する場合について
説明したが、置換基R2がＳ配位をとる一覧式
（）の化合物についても同様な処理が適用され、
それぞれ処理した後に環化反応に付せば、セフエ
ム環を形成する。前者の場合には、セフエム環の
２位はα配位をとり、後者の場合にはセフエム環
の２位はβ配位をとる。 さらに、式（）および（）の化合物の１
位側鎖ならびに４位側鎖の処理は、どちらを先に
実施してもよい。何れの場合にせよ、それぞれの
反応は前述の反応条件と同様な条件で実施され
る。４位側鎖を先に処理する例は参考例４であ
る。 一般式（）で表わされる本発明目的化合物の
うち、R3がハロメチル基のものは、例えば一般
式（′）の化合物を、前述の環化条件で反応さ
せると合成されるが、合成された一般式（）の
R3がハロメチルの化合物は不安定である。よつ
て前述の説明の如く一般式（′）の化合物を一
般式（″）の化合物へ変換して環化させるのが
好適である。R3がメチル基の場合の出発原料即
ち一般式（）の化合物のR3がメチル基の化合
物の製造法は参考例５（アゼチジノンの４位を先
に変換する方法）で示した。この特徴は一般式
（）の化合物でR3がハロメチル基の化合物を、
還元することにより得られる。還元に際してのハ
ロメチル基のハロゲンとしては沃素が最適であ
る。 このハロメチル基の還元はアゼチジノンの１
位、４位のどちらを先に変換しても還元条件は同
様にして変換反応を実施できる。 以下に、本発明方法の実施例、および原料化合
物の調製法を説明する参考例により本発明を具体
的に詳しく説明するが、本発明はこれらの例に限
定されるものではない。 実施例 １ (1) 7α−ベンヅアミド−2α−メチル−３−（１−
メチル−1H−テトラゾール−５−イル）チオ
メチル−１−オキサ−１−デチア−３−セフエ
ム−４−カルボン酸ジフエニルメチルエステル
の生成 次式 （但しphはフエニル基を、Meはメチル基を、
また−Tz−Meは１−メチル−テトラゾール−
５−イル基を表わす）で示される化合物、すな
わち（3R，4R）−４−｛（1R）−３−（１−メチ
ル−1H−テトラゾール−５−イル）チオ−２
−オキソ−１−メチルプロポキシ｝−３−ベン
ヅアミド−１−（１−ジフエニルメトキシカル
ボニル−１−トリフエニルホスホラニリデンメ
チル）アゼチジン−２−オンの2.00ｇをトルエ
ン75mlに溶解しハイドロキノン50mgを加え、９
時間加熱還流すると環化反応が起る。反応液を
濃縮後、シリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（３：１）
で精製すると、次式 の表題化合物の1.17ｇ（86％）を得る。 IR（CHCl3，νnax（cm-1）：1787，1718，1672，
1600. NMR（CDCl3），δppn：1.51（3H、ｄ，Ｊ＝6.9
Hz，２−CH3），3.81（3H，ｓ，テトラゾー
ル１−CH3），4.17，4.40（2H，ABq，Ｊ＝13
Hz，−CH2S−），4.80（1H，ｑ，Ｊ＝6.9Hz，
２−Ｈ），4.81（1H，dd，Ｊ＝7.5，1.0Hz，７
−Ｈ），5.28（1H.d，Ｊ＝1.0Hz，６−Ｈ），
6.94（1H，ｓ，−ＣＨph2），7.10〜8.70（15H，
ｍ，C6H5，×３）， (2) 7α−アミノ−2α−メチル−３−（１−メチル
−1H−テトラゾール−５−イル）チオメチル
−１−オキサ−１−デチア−３−セフエム−４
−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの生成 PCl5840mgを塩化メチレン24mlに溶解し、０
℃でピリジン0.48ml加え、同温度で30分間撹拌
する。 この反応液に前項(1)の生成物の1200mgを含む
塩化メチレン12mlを０℃で滴下し、同温度で30
分間、０〜25℃で１時間撹拌する。再び０℃に
冷却し、メタノール30mlを加え、同温度で10分
間、０〜25℃で40分間撹拌すると、ベンゾイル
基（phCO−）の脱離反応が起る。反応液を氷
水60mlにあけ、30分間撹拌後濃縮する。 残留物を酢酸エチル30mlに溶解し、飽和重曹
水次に水で洗浄し、MgSO4で乾燥後濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフ
イー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（１：
１））で精製すると次式 の表題化合物の630mg（65％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1779，1713，1620 (3) 7α−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシベンジリデンアミノ）−2α−メチル−３−
（１−メチル−1H−テトラゾール−５−イル）
チオメチル−１−オキサ−１−デチア−３−セ
フエム−４−カルボン酸 ジフエニルメチルエ
ステルの生成 前項(2)の生成物の600mg、３，５−ジ−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシベンヅアルデヒド312
mgをベンゼン60mlに溶解し、Dean−Starkの装
置で45分間加熱還流し、濃縮すると、次式 （但しMeはメチル基、ｔ−Buは第３級ブチル
基、phはフエニル基、−Tz−Meは１−メチル
−1H−テトラゾール−５−イル基を表わす）
で示される表題化合物の910mgを得る。 (4) 7α−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシベンジリデンアミノ）−7α−メトキシ−2α
−メチル−３−（１−メチル−1H−テトラゾー
ル−５−イル）チオメチル−１−オキサ−１−
デチア−３−セフエム−４−カルボン酸ジフエ
ニルメチルエステルの生成 前項(3)の生成物の910mgを塩化メチルン15ml
に溶解し、氷冷下MgSO4660mg、過酸化ニツケ
ル600mgを加え、同温度で10分間撹拌すると、
立体化学を持たないベンゾキノン型の中間体に
酸化される。反応液を過し、過物を塩化メ
チレン15mlで洗浄し液を合せる。 この駅に氷冷化メタノール30mlを加え、同
温度で30分間撹拌すると、7α−メトキシ基の
導入と同時に反転反応が起る。反応液を濃縮す
ると、次式 で示される表題化合物の900mgを得る。 (5) 7α−アミノ−7α−メトキシ−2α−メチル−
３−（１−メチル−1H−テトラゾール−５−イ
ル）チオメチル−１−オキサ−１−デチア−３
−セフエム−４−カルボン酸ジフエニルメチル
エステルの生成 前項(4)の生成物の900mgを酢酸エチル15mlに
溶解し、ジラードＴ試薬400mgを含むメタノー
ル15mlを加え室温で２時間撹拌すると、7β−
アミノ基からの置換ベンジリデン基の脱離反応
が起る。 反応液を濃縮し、残留物を酢酸エチル20mlに
溶解し、水洗、MgSO4で乾燥後濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフ
イー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル２：１））
で精製すると、次式 で示される表題化合物の405mg（64％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1782，1720，1603 NMR（CDCl3），δppn：1.55（3H，ｄ，Ｊ＝6.8
Hz，２−CH3），2.10（2H，br.s，アミノ），
3.52（3H，ｓ，−OCＨ＝3），3.79（3H，ｓ，テ
トラゾール１−CH3），4.15，4.48（2H，
ABq，Ｊ＝14Hz，−CH2S−），4.85（1H，ｑ，
Ｊ＝6.8Hz，２−Ｈ）4.97（1H，ｓ，６−Ｈ），
6.90（1H，ｓ，−ＣＨ＝ph2），7.15〜7.70（10H，
ｍ，C6H5×２） 実施例 ２ (1) 7β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシベンジリデンアミノ）−2α−メチル−３−
（１−メチル−1H−テトラゾール−５−イル）
チオメチル−１−オキサ−１−デチア−３−セ
フエム−４−カルボン酸ジフエニルメチルエス
テルの生成 実施例１の項(2)の生成物の650mgを塩化メチ
レン10mlに溶解し、氷冷下MgSO4の470mg、過
酸化ニツケル460mgを加え、同温度で10分間撹
拌すると、立体化学を持たないベンゾキノン型
の中間体に酸化される。反応液を過し、過
物を塩化メチレン10mlで洗浄し、液を合せ
る。この液を氷冷後還元剤としてのテトラエ
チルアンモニウム ボロハイドライド38mgを含
む塩化メチレン0.5mlを加え、同温度で10分間
撹拌すると反転反応が起り7β−のシツフ塩基
体が得られる。反応液を氷水20mlにあける。 反応混合物をPH5.0に調整し、有機層を分液
し、水洗後MgSO4で乾燥し濃縮すると、次式 で示される表題化合物の630mgを得る。 (2) 7β−アミノ−2α−メチル−３−（１−メチル
−1H−テトラゾール−５−イル）チオメチル
−１−オキサ−１−デチア−３−セフエム−４
−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの生成 前項(1)の生成物の630mgを酢酸エチル10mlに溶
解し、ジラードＴ試薬290mgを含むメタノール10
mlを加え、室温で１時間撹拌し、濃縮すると、
7β−アミノ基からの置換ベンジリデン基の脱離
反応が起る。 反応液を濃縮し残留物を酢酸エチル20mlに溶解
し、水洗、MgSO4で乾燥後濃縮する。残留物を
シリカゲルのカラムクロマトグラフイー（展開溶
媒ベンゼン−酢酸エチル（１：１））で精製する
と、次式 で示される表題化合物の151mg（35％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1785，1720，1602 NMR（CDCl3），δppn：1.57（3H，ｄ，Ｊ＝6.8
Hz，２−CH3），2.06（2H，br.s，アミノ），
3.82（3H，ｓ，テトラゾール／−CH3），
4.21，4.46（2H，ABq，Ｊ＝14Hz），4.55
（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，７−Ｈ），4.86（1H，
ｑ，Ｊ＝6.8Hz，２−Ｈ），5.15（1H，ｄ，Ｊ
＝4.5Hz，６−Ｈ），6.92（1H，ｓ，−ＣＨ＝
ph2），7.15〜7.70（10H，ｍ，C6H5×２） 実施例 ３ (1) 7α−ベンヅアミド−2β−メチル−３−（１−
メチル−1H−テトラゾール−５−イル）チオ
メチル−１−オキサ−１−デチア−３−セフエ
ム−４−カルボン酸ジフエニルメチルエステル
の生成 次式 で示される（3R，4R）−４−｛（1S）−３−（１
−メチル−1H−テトラゾール−５−イル）チ
オ−２−オキサ−１−メチルプロポキシ｝−３
−ベンヅアミド−１−（１−ジフエニルメトキ
シカルボニル−１−トリフエニルホスホラニリ
デンメチル）アゼチジン−２−オン2.70ｇをト
ルエン270mlに溶解し、ヒドロキノン180mgを加
え、窒素気流下20時間加熱還流する。反応液を
濃縮後シリカゲルのカラムクロマトグラフイー
（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（４：１））で
精製すると、次式 で示される表題化合物の1.50ｇ（81％）を得
る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1780，1718，1668，
1600。 NMR（CDCl3），δppn：1.51（3H，ｄ，Ｊ＝6.8
Hz，２−CH3），3.79（3H，ｓ，テトラゾー
ル１−CH3），4.03，4.66（2H，ABq，Ｊ＝14
Hz，−CH2S−），4.80（1H，ｑ，Ｊ＝6.8Hz，
２−Ｈ），4.89（1H，dd，Ｊ＝７，１Hz，７
−Ｈ），5.10（1H，ｄ，Ｊ＝１Hz，６−Ｈ），
6.85（1H，ｄ，Ｊ＝７Hz−CONH−），6.92
（1H，ｓ，−ＣＨ＝ph2），7.10〜8.90（15H，ｍ，
C6H5×３）， (2) 7α−アミノ−2β−メチル−３−（１−メチル
−1H−テトラゾール−５−イル）チオメチル
−１−オキサ−１−デチア−３−セフエム−４
−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの生成 PCl5843mgを塩化メチレン24mlに懸濁し、０
℃でピリジン0.48mlを加え、同温度で30分間撹
拌する。この反応液に前項(1)の生成物の1200mg
を含む塩化メチレン５mlを０℃で滴下し、同温
度で30分間、０〜25℃で１時間撹拌する。再び
０℃に冷却し、メタノール12mlを加え同温度で
10分間０〜25℃で40分間撹拌し、氷水50mlにあ
け、30分間撹拌後濃縮する。 残留物を酢酸エチル30mlに溶解し、飽和重曹
水、次に水で洗浄し、MgSO4で乾燥後濃縮す
る。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフ
イー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（１：
１））で精製すると、次式 で示される表題化合物の500mg（50％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1778，1723，1608 NMR（CDCl3）、δppn：1.49（3H，ｄ，Ｊ＝6.8
Hz，２−CH3），2.00（2H，br.s，アミノ），
3.77（3H，ｓ，テトラゾール１−CH3），
4.04，4.63（2H，ABq，Ｊ＝14Hz，−CH2S
−），4.05（1H，ｄ，Ｊ＝１Hz，７−Ｈ），
4.75（1H，ｄ，Ｊ＝１Hz，６−Ｈ），4.80
（1H，ｑ，Ｊ＝6.8Hz，２−Ｈ），6.90（1H，
Ｓ，−ＣＨ＝ph2），7.10〜7.70（10H，ｍ，C6H5
×２）， (3) 7α−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒド
ロキシベンジリデンアミノ）−2β−メチル−３
−（１−メチル−1H−テトラゾール−５−イ
ル）チオメチル−１−オキサ−１−デチア−３
−セフエム−４−カルボン酸ジフエニルメチル
エステルの生成 前項(2)の生成物の350mg、３，５−ジ−tert
−ブチル−４−ヒドロキシベンヅアルデヒド
184mgをベンゼン100mlに溶解し、Dean−Stark
の装置で50分間加熱還流し、濃縮すると、次式 で示される表題化合物の530mgを得る。 NMR（CDCl3），（δppn）：1.47（18H，ｓ，tert
−ブチル），1.57（3H，ｄ，Ｊ＝6.8Hz，２−
CH3），3.80（3H，ｓ，テトラゾール１−
CH3），4.08，4.68（2H，ABq，Ｊ＝14Hz，−
CH2S−），4.71（1H，br，ｓ，７−Ｈ），4.82
（1H，ｑ，Ｊ＝6.8Hz，２−Ｈ），5.16（1H，
ｄ，Ｊ＝１Hz，６−Ｈ），5.56（1H，ｓ，−
OH），6.90（1H，ｓ，−ＣＨ＝ph2），7.10〜7.75
（10H，ｍ，C6H5×２），7.60（2H，ｓ，
C6H5），8.35（1H，ｄ，Ｊ＝１Hz，−CH＝Ｎ
−） (4) 7β−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒド
ロキシベンジリデンアミノ）−2β−メチル−３
−（１−メチル−1H−テトラゾール−５−イ
ル）チオメチル−１−オキサ−１−デチア−３
−セフエム−４−カルボン酸ジフエニルメチル
エステルの生成 前項(3)の生成物の327mgを塩化メチレン５ml
に溶解し、氷冷下MgSO4236mg過酸化ニツケル
230mgを加え、同温度で10分間撹拌後過し、
過物を塩化メチレン５mlで洗浄し、液を合
せる。 この溶液を氷冷後、テトラエチルアンモニウ
ムボロハイドライド16mgを含む塩化メチレン
0.1mlを加え、同温度で10分間撹拌し、氷水10
mlにあける。このようにして７位の反転反応が
行われる。その反応混合物をPH5.0に調整し、
有機層を分液し、洗水後、MgSO4で乾燥し濃
縮すると、次式 で示される表題化合物の309mgを得る。 (5) 7β−アミノ−2β−メチル−３−（１−メチル
−1H−テトラゾール−５−イル）チオメチル
−１−オキサ−１−デチア−３−セフエム−４
−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの生成 前項(4)の生成物の309mgを酢酸エチル５mlに
溶解し、ジラードＴ試薬145mgを含むメタノー
ル５mlを加え、室温で１時間撹拌し、濃縮す
る。 残留物を酢酸エチル20mlに溶解し、水洗、
MgSO4で乾燥後濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフ
イー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（１：
１））で精製すると、次式 の表題化合物の66mg（31％）を得る。 m.p.131〜133℃（分解） IR（CHCl3），νnax（cm-1：1783，1720，1602， NMR（CDCl3），δppn：1.53（3H，ｄ，Ｊ＝6.8
Hz，２−CH3），2.12（2H，br.s，アミノ），
3.79（3H，ｓ，テトラゾール１−CH3）、
4.02，4.67（2H，ABq，Ｊ＝14Hz，−CH2S
−），4.45（1E，ｄ，Ｊ＝５Hz，７−Ｈ），
4.80（1H，ｑ，Ｊ＝6.8Hz，２−Ｈ），4.97
（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz，６−Ｈ），6.84（1H，
ｓ，−ＣＨ＝ph2），7.10〜7.65（10H，ｍ，C6H5
×２）， 実施例 ４ (1) 7β−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒド
ロキシベンジリデンアミノ）−7α−メトキシ−
2β−メチル−３−（１−メチル−1H−テトラゾ
ール−５−イル）チオメチル−１−オキサ−１
−デチア−３−セフエム−４−カルボン酸ジフ
エニルメチルエステルの生成 実施例３の４項の生成物の530mgを塩化メチレ
ン８mlに溶解し、氷冷下MgSO4380mg、過酸化ニ
ツケル300mgを加え、同温度で10分間撹拌後過
し、過物を塩化メチレン８mlで洗浄し、液を
合せる。 この液に氷冷下メタノール10mlを加え、同温
度で30分間撹拌反応すると、７位メトキシ化を伴
う反転反応が起る。反応液を濃縮すると、次式 で表わされる表題化合物の490mgを得る。 NMR（CDCl3），δppn：1.33（3H，ｄ，Ｊ＝6.8
Hz，２−CH3），1.47（18H，ｓ，tert−ブチ
ル），3.59（3H，ｓ，−OCH3），3.80（3H，ｓ，
テトラゾール１−CH3），4.07，4.70（2H，
ABq，Ｊ＝14Hz、−CH2S−），4.77（1H，ｑ，
Ｊ＝6.8Hz，２−Ｈ），5.08（1H，ｓ，６−Ｈ），
5.59（1H，ｓ，−OH），6.91（1H，ｓ，−ＣＨ＝
ph2），7.10〜7.80（10H，ｍ，C6H5×２），6.66
（2H，ｓ，C6H5），8.44（1H，ｓ，−CH＝Ｎ
−）， (2) 7β−アミノ−7α−メトキシ−2β−メチル−
３−（１−メチル−1H−テトラゾール−５−イ
ル）チオメチル−１−オキサ−１−デチア−３
−セフエム−４−カルボン酸ジフエニルメチル
エステルの生成 前項(1)の生成物の490mgを酢酸エチル８mlに
溶解し、ジラードＴ試薬240mgを含むメタノー
ル８mlを加え室温で1.5時間撹拌し、濃縮する。 残留物を酢酸エチル10mlに溶解し、水洗、
MgSO4で乾燥後濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフ
イー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（２：
１））で精製すると、次式 で示される表題化合物の241mg（65％）を得る。 m.p.133〜５℃（分解） IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1783，1720，1600 NMR（CDCl3）δppn：1.53（3H，ｄ，Ｊ＝6.8
Hz，２−CH3），2.16（2H，br.s，アミノ），
3.49（3H，ｓ，−OCH3），3.79（3H，ｓ，テト
ラゾール１−CH3），4.03，4.62（2H，ABq，
Ｊ＝14Hz，−CH2S−），4.83（1H，ｑ，Ｊ＝
6.8Hz，２−Ｈ），4.85（1H，ｓ，６−Ｈ），
6.86（1H，ｓ，−ＣＨ＝ph2），7.10〜7.70（10H，
ｍ，C6H5×２）， 実施例 ５ (1) 7α−ベンヅアミド−2α−メチル−３−（２−
メチル−１，３，４−チアジアゾール−５−イ
ル）チオメチル−１−オキサ−１−デチア−３
−セフエム−４−カルボン酸ジフエニルメチル
エステルの生成 （3R，4R）−４−｛（1R）−３−（２−メチル
−１，３，４−チアジアゾール−５−イル）チ
オ−２−オキソ−１−メチルプロポキシ｝−３
−ベンヅアミド−１−（１−ジフエニルメトキ
シカルボニル−１−トリフエニルホスホラニリ
デンメチル）アゼチジン−２−オン1.70ｇをト
リエン30mlに溶解し、ヒドロキノン100mgを加
え、窒素気流下10時間加熱還流する。反応液を
濃縮後、シリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（３：１））
で精製すると、次式 で示される表題化合物の0.95ｇ（81％）を得
る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1784，1719，1668，
1600， NMR（CDCl3）δppn：1.48（3H，ｄ，Ｊ＝6.8
Hz，２−CH3），2.68（3H，ｓ，チアジアゾ
ール２−CH3），4.31（2H，br.s，−CH2S−），
4.79（1H，ｑ，Ｊ＝6.8Hz，２−Ｈ），4.90
（1H，dd，Ｊ＝8.9，１Hz，７−Ｈ），5.24
（1H，ｄ，Ｊ＝１Hz，６−Ｈ），6.94（1H，
ｓ，−ＣＨ＝ph2），7.10〜7.85（15H，ｍ，C6H5
×３）， 実施例 ６ (1) 7α−ベンヅアミド−2β，３−ジメチル−１
−オキサ−１−デチア−３−セフエム−４−カ
ルボン酸ジフエニルメチルエステルの生成 （3R，4R）−４−｛（1S）−２−オキソ−１−メ
チルプロポキシ｝−３−ベンヅアミド−１−（１−
ジフエニルメトキシカルボニル−１−ホスホラニ
リデンメチル）アゼチジン−２−オン100mgをジ
オキサン10mlに溶解し、窒素気流下52時間加熱還
流後、濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ーで精製すると、 次式 で示される表題化合物の20mg（32％）を得る。 NMR（CDCl3），δppn：1.42（3H，ｄ，Ｊ＝6.8
Hz，２−CH3），1.95（3H，ｓ，３−CH3），
4.32（1H，ｑ，Ｊ＝6.8Hz，２−Ｈ），4.94
（1H，dd，Ｊ＝７，１Hz，７−Ｈ），4.97
（1H，ｄ，Ｊ＝１Hz，６−Ｈ），6.90（1H，
ｓ，−ＣＨ＝ph2），7.00〜7.80（15H，ｍ，C6H5
×３）， (2) 7α−アミノ−2β，３−ジメチル−１−オキ
サ−１−デチア−３−セフエム−４−カルボン
酸ジフエニルメチルエステルの生成 PCl51750mgを塩化メチレン45mlに溶解し、
０℃でピリジン1.0mlを加え同温度で30分間撹
拌する。この反応液に前項(1)の生成物の2030mg
を含む塩化メチレン15mlを０℃で滴下し、同温
度で30分間、更に０〜25℃で１時間撹拌する。
再び０℃に冷却し、メタノール25mlを加え同温
度で１時間、０〜25℃で１時間撹拌し、氷水50
mlにあけ、30分間撹拌後に濃縮する。 残留物を酢酸エチル50mlに溶解し、飽和重曹
水、次に水で洗浄し、MgSO4で乾燥後濃縮す
る。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフ
イー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（２：
１））で精製し、次式 で示される表題化合物の960mg（60％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1770，1718， NMR（CDCl3），δppn：1.37（3H，ｄ，Ｊ＝6.8
Hz，２−CH3），1.84（2H，ｓ，H2N−），
1.91（3H，ｄ，Ｊ＝0.9Hz，３−CH3），4.01
（1H，ｓ，７−Ｈ），4.35（1H，ｑ，Ｊ＝6.8
Hz，２−Ｈ），4.72（1H，ｓ，６−Ｈ），6.92
（1H，ｓ，−ＣＨ＝ph2），7.10〜7.60（10H，ｍ，
C6H5×２）， (3) 7α−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒド
ロキシベンジリデンアミノ）−2β，３−ジメチ
ル−１−オキサ−１−デチア−３−セフエム−
４−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの生
成 前項(2)の生成物の960mg、３，５−ジ−tert
−ブチル−４−ヒドロキシベンヅアルデヒド
654mgをベンゼン50mlに溶解し、Dean−Stark
の装置で１時間加熱還流し、濃縮すると、次式 で示される表題化合物の1500mgを得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1770，1719，1680， NMR（CDCl3），δppn：1.41（3H，ｄ，Ｊ＝6.8
Hz，２−CH3），1.46（18H，ｓ，tert−Bu），1.97
（3H，ｄ，Ｊ＝0.9Hz，３−CH3），4.44（1H，ｑ，
Ｊ＝6.8Hz，２−Ｈ），4.70（1H，br.s，７−Ｈ），
5.13（1H，br.s，６−Ｈ），5.58（1H，ｓ，−OH），
6.90（1H，ｓ，−ＣＨ＝ph2），7.10〜7.70（10H，ｍ，
C6H5×２），7.64（2H，ｓ，C6H5），8.41（1H，
ｄ，Ｊ＝1.5Hz，−CH＝Ｎ−）， (4) 7β−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒド
ロキシベンジリデンアミノ）−ド2β，３−ジメ
チル−１−オキサ−１−デチア−３−セフエム
−４−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの
生成 前項(3)の生成物の1400mgを塩化メチレン30ml
に溶解し、氷冷下MgSO4950mg、過酸化ニツケ
ル950mgを加え、同温度で10分間撹拌後過し、
過物を塩化メチレン30mlで洗浄し、液を合
せる。 この液を−20℃に冷却後、テトラエチルア
ンモニウムボロハイドライド100mgを含む塩化
メチレン２mlを加え、同温度で10分間撹拌し、
氷水50mlにあける。 反応混合物をPH5.0に調整し、有機層を分液
し、水洗MgSO4で乾燥後濃縮すると、次式 で示される表題化合物の1200mgを得る。 (5) 7β−アミノ−2β，３−ジメチル−１−オキ
サ−１−デチア−３−セフエム−４−カルボン
酸ジフエニルメチルエステルの生成 前項(4)の生成物の1200mgを酢酸エチル14mlに
溶解し、ジラードＴ試薬600mgを含むメタノー
ル14mlを加え室温で１時間撹拌し、濃縮する。 残留物を酢酸エチル45mlに溶解し、水洗、
MgSO4で乾燥後濃縮する。 残留分をシリカゲルのカラムクロマトグラフ
イー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（１：
１））で精製すると、次式 で示された表題化合物の488mg（64％）を得る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1778，1718 NMR（CDCl3）、δppn：1.41（3H、ｄ、Ｊ＝6.8
Hz、２−CH3）、1.84（2H、br.s、H2N−）、
1.98（3H、d.J＝0.9Hz、３−CH3）、4.40（1H、
q.J＝6.8Hz、２−Ｈ）、4.45（1H、d.J＝4.0Hz、
７−Ｈ）、4.98（1H、d.J＝4.0Hz、６−Ｈ）、
6.89（1H、ｓ、−ＣＨ＝ph2）、7.10〜7.60（10H、
ｍ、C6H5×２）、 実施例 ７ (1) 7α−ベンヅアミド−2α，３−ジメチル−１
−オキサ−１−デチア−３−セフエム−４−カ
ルボン酸ジフエニルメチルエステルの生成 （3R，4R）−４−｛（1R）−２−オキソ−１−
メチルプロポキシ｝−３−ベンヅアミド−１−
（１−ジフエニルメトキシカルボニル−１−ホ
スホラニリデンメチル）アゼチジン−２−オン
1.30ｇをトルエン120mlに溶解し、ハイドロキ
ノン70mgを加え、窒素気流下40時間加熱還流後
濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフ
イーで精製すると、次式 で示される表題化合物の0.43ｇ（52％）を得
る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1770、1718、1660 NMR（CDCl3）、δppn：1.38（3H、d.J＝6.9Hz、
２−CH3）、2.02（3H、ｓ、３−CH3）、4.42
（1H、q.J＝6.9Hz、２−Ｈ）、4.99（1H、dd、
Ｊ＝7.6、１Hz、７−Ｈ）、5.13（1H、ｓ、６
−Ｈ）、6.91（1H、ｓ、−ＣＨ＝ph2）、7.00〜
7.90（15H、ｍ、C6H5×３）、 (2) 7α−アミノ−2α，３−ジメチル−１−オキ
サ−１−デチア−３−セフエム−４−カルボン
酸ジフエニルメチルエステルの生成 PCl51720mgを塩化メチレン40mlに溶解し、
０℃でピリジン1.0mlを加え同温度で30分間撹
拌する。 この反応液に前項(1)の生成物の2000mgを含む
塩化メチレン15mlを０℃で滴下し、同温度で30
分間、更に０〜25℃で１時間撹拌する。再び０
℃に冷却し、メタノール25mlを加え、同温度で
１時間、０〜25℃で１時間撹拌し、氷水40mlに
あけ、30分間撹拌後濃縮する。 残留物を酢酸エチル50mlに溶解し、飽和重曹
水、次に水で洗浄し、MgSO4で乾燥後濃縮す
る。 残留物をシリカゲルのカラムクロマイトグラ
フイー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（２：
１））で精製し、次式 で示される表題化合物の1035mg（66％）を得
る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1773、1720 NMR（CDCl3）、δppn：1.40（3H、d.J＝6.9Hz、
２−CH3）、1.88（2H、br.s、−NH2）、2.01
（3H、ｓ、３−CH3）、4.02（1H、br.s.7−Ｈ）．
4.37（1H、q.J＝6.9Hz、２−Ｈ）、4.87（1H、br.
s、６−H2）、6.93（1H、ｓ、−ＣＨ＝ph2）．7.10
〜7.60（10H、ｍ、C6H5×２）、 (3) 7α−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒド
ロキシベンジリデンアミノ）−2α，３−ジメチ
ル−１−オキサ−１−デチア−３−セフエム−
４−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの生
成 前項(2)の生成物の1000mg、３，５−ジ−tert−
ブチル−４−ヒドロキシベンヅアルデヒド680mg
をベンゼン50mlに溶解し、Dean−Starkの装置で
１時間加熱還流し、濃縮すると、表題化合物の
1571mgを得る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1775、1720、1682 NMR（CDCl3）、δppn：1.40（3H、d.J＝6.9Hz、
２−CH3）、1.46（18H、ｓ、tert−Bu）、2.05
（3H、s.3−CH3）、4.43（1H、q.J＝6.9Hz、２
−Ｈ）、4.68（1H、br.s、７−Ｈ）、5.27（1H、
ｓ、６−Ｈ）、5.57（1H、ｓ、−OH）、6.92
（1H、ｓ、−ＣＨ＝ph2）7.10〜7.70（10H、ｍ、
C6H5×２）、7.60（2H、ｓ、C6H5）、8.41
（1H、ｄ、1.5Hz、−CH＝Ｎ−）、 (4) 7β−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒド
ロキシベンジリデンアミノ）−2α，３−ジメチ
ル−１−オキサ−１−デチア−３−セフエム−
４−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの生
成 前項(3)の生成物の1500mgを塩化メチレン30ml
に溶解し、氷冷却下MgSO4970mg、過酸化ニツ
ケル970mgを加え、同温度で10分間撹拌過し、
過物を塩化メチレン30mlで洗浄し、液を合
せる。 この液を−20℃に冷却後テトラエチルアン
モニウムボロハイドライド110mgを含む塩化メ
チレン２mlを加え、同温度で10分間撹拌し、氷
水50mlにあける。 反応混合物をPH5.0に調整し、有機層を分液
し、水洗、MgSO4で乾燥後濃縮すると、次式 で示される表題化合物の1400mgを得る。 (5) 7β−アミノ−2α，３−ジメチル−１−オキ
サ−１−デチア−３−セフエム−４−カルボン
酸ジフエニルメチルエステルの生成 前項(4)の生成物の1400mgを酢酸エチル15mlに
溶解し、ジラードＴ試薬690mgを含むメタノー
ル15mlを加え室温で１時間撹拌し、濃縮する。 残留物を酢酸エチル50mlに溶解し、水洗
MgSO4で乾燥後濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフ
イー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（１：
１））で精製すると、次式 で示される表題化合物の587mg（66％）を得る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1782，1719，1600、 NMR（CDCl3）、δppn：1.44（3H、ｄ、Ｊ＝6.9
Hz、２−CH3）、1.86（2H、br.s、−NH2）、
2.06（3H、ｓ、３−CH3）、4.44（1H、ｑ、Ｊ
＝6.9Hz、２−Ｈ）、4.49（1H、ｄ、Ｊ＝3.8
Hz、７−Ｈ）、5.13（1H、ｄ、Ｊ＝3.8Hz、６
−Ｈ）、6.90（1H、ｓ、−ＣＨ＝ph2）、7.10〜
7.70（10H、ｍ、C6H6×２）、 実施例 ８ (1) 7α−ベンヅアミド−2α−メチル−３−クロ
ルメチル−１−オキサ−１−デチア−３−セフ
エム−４−カルボン酸ジフエニルメチルエステ
ル 次式 で示される（3R、4R）−４−｛（1R）−３−クロ
ル−２−オキソ−１−メチルプロポキシ｝−３
−ベンヅアミド−１−（１−ジフエニルメトキ
シカルボニル−１−トリフエニルホスホラニリ
デンメチル）アゼチジン−２−オン1.59ｇをト
ルエン50mlに溶解し、３時間加熱還流後濃縮す
る。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフ
イー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（５：
１））で精製すると、次式 で示される表題化合物の0.70ｇ（68％）を得
る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1786，1728，1663，，
1602、 NMR（CDCl3）、δppn：1.46（3H、ｄ、Ｊ＝6.9
Hz、２−CH3）、4.22、4.53（2H、ABq、Ｊ＝
11.5Hz、−CH2Cl）、4.78（1H、q.J＝6.9Hz、２
−Ｈ）、4.95（1H、dd、Ｊ＝7.5、１Hz、７−
Ｈ）、5.23（1H、ｄ、Ｊ＝１Hz、６−Ｈ）、
6.95（1H、ｓ、−ＣＨ＝ph2）7.00〜7.90（15H、
ｍ、C6H5×３）、 (2) 7α−ベンヅアミド−2α−メチル−３−（１，
３，４，−チアジアゾール−５−イル）チオメ
チル−１−オキサ−１−デチア−３−セフエム
−４−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの
生成 前項(1)の生成物の800mgを塩化メチレン20mlに
溶解し、５−メチカプト−１，３，４−チアジア
ゾール220mgNaHCO3260mg、塩化テトラエチル
アンモニウム70mgを含む水溶液10mlを加え、室温
で２時間撹拌する。有機層を分液し、水洗・乾燥
後濃縮し、残留物をシリカゲルのカラムクロマト
グラフイー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル
（３：１））で精製すると、次式 で示される表題化合物の結晶580mg（63％）を得
る。 m.p.170〜172℃（分解） IR（CHCl3）、νnax（cm-1）1782，1718，1665，
1600、 NMR（CDCl3）、δppn：1.52（3H、ｄ、Ｊ＝6.8
Hz、２−CH3）、4.41（2H、br.s、−CH2S−）、
4.82（1H、ｑ、Ｊ＝6.8Hz、２−Ｈ）、4.90
（1H、dd、Ｊ＝７、１Hz、７−Ｈ）、5.26
（1H、ｄ、Ｊ＝１Hz、６−Ｈ）、6.96（1H、
ｓ、−ＣＨ＝ph2）、7.06（1H、ｄ、Ｊ＝7.1Hz−
COONH−）、7.10〜7.90（15H、ｍ、C6H5×
３）、8.96（1H、ｓ、チアジアゾール２−Ｈ） 参考例 １ (1) （3R，4R）−４−｛（1S）−１−エトキシカル
ボニルエトキシ｝−３−ベンヅアミド−１−（１
−ジフエニルメトキシカルボニル−２−メチル
プロプ−１−エニル）アゼチジン−２−オン
（化合物ａ）及び（3R，4R）−４−｛（1R）−１
−エトキシカルボニルエトキシ｝−３−ベンヅ
アミド−１−（１−ジフエニルメトキシカルボ
ニル−２−メチルプロプ−１−エニル）アゼチ
ジン−２−オン（化合物ｂ）の生成（工程Ａ） 次式 （但しPHはフエニル基を表わす）で示される
（1R，5S）−３−フエニル−６−（１−ジフエニ
ルメトキシカルボニル−２−メチルプロプ−１
−エニル）−７−オキソ−４−オキサ−２，６
−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−
エン（Journal of Chemical Soiety、Perkin
Ｉ、1932頁（1975）参照）の10ｇを次式 （但しMeはメチル基、Etはエチル基を表わ
す）で示されるDL−α−乳酸エチルエステル
の35mlに、溶解し、トリフルオロメタンスルホ
ン酸0.5mlを加え、室温で1.5時間撹拌すると、
原料化合物の開環、縮合反応が起る。反応液を
重曹水200mlにあけ、氷冷下30分間静置する。 水層を除き、生成した油状物を酢酸エチル70
mlに溶解し、飽和食塩水、次に水で洗浄し、
MgSO4で乾燥後濃縮する。 残留物中に生成物として得られる二種のジア
ステレオマーが含まれ、これらをシリカゲルの
カラムクロマトグラフイー（展開溶媒ベンゼン
−酢酸エチル（７：１））で分離し、エチルエ
ーテルから結晶化すると、次式 で示される（3R，4R）−４−｛（1S）−１−エト
キシカルボニルエトキシ｝−３−ベンヅアミド
−１−（１−ジフエニルメトキシカルボニル−
２−メチルプロプ−１−エニル）アゼチジン−
２−オン（化合物ａ）2.1ｇと次式 で示される（3R，4R）−４−｛（1R）−１−エト
キシカルボニルエトキシ｝−３−ベンヅアミド
−１−（１−ジフエニルメトキシカルボニル−
２−メチルプロプ−１−エニル）アゼチジン−
２−オン（化合物ｂ）2.05ｇを得る。 （化合物ａ）の物性： ｍ・p.104〜６℃ 〔α〕D−75゜（c1.0、CHCl3） IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1763、1738、1661、
1602 （化合物ｂ）の物性： ｍ・p.133〜５℃ 〔α〕D−2゜（c1.0、CHCl3） IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1768、1735、1668、
1600 (2) （3R，4R）−４−｛（1R）−１−エトキシカル
ボニルエトキシ｝−３−ベンヅアミド−１−（１
−ジフエニルメトキシカルボニル−１−ヒドロ
キシメチル）アゼチジン−２−オンの生成（工
程Ｂ＋工程Ｃ） 前項(1)で得た化合物(b)の5.0ｇを塩化メチレ
ン150mlに溶解し、−60℃で溶液が青色になるま
でオゾンを導通する。これによつて化合物(b)は
次式 の化合物(c)に転化する。（本出願人に係る特願
昭56−198466号明細書、参考例１(イ)（）参
照）。この化合物(c)を含む反応液に対して、−60
℃で亜鉛末１ｇ、酢酸１mlを加え０℃まで昇温
し、同温度で再び亜鉛末10ｇ、酢酸10mlを加え
30分間撹拌下に還元反応する。 この反応混合物を過し、液を飽和重曹
水、次に水で洗浄し、MgSO4で乾燥後、濃縮
すると、次式 で示される表題化合物の4.3ｇ（90％）を得る。 (3) （3R，4R）−４−｛（1R）−１−エトキシカル
ボニルエトキシ｝−３−ベンヅアミド−１−（１
−ジフエニルメトキシカルボニル−１−クロメ
チル）アゼチジン−２−オンの生成（工程Ｄ） 前項(2)の生成物の4.58ｇを塩化メチレン50ml
に溶解し、氷冷後ピリジン1.38ｇ、塩化チオニ
ル2.08ｇを加え、同温度で30分間撹拌して塩素
化する。 反応液を氷水にあけ、有機層を分液し、飽和
重曹水、次に水で洗浄し、MgSO4で乾燥後濃
縮すると、次式 で示される表題化合物の4.50ｇ（95％）を得
る。 (4) （3R，4R）−４−｛（1R）−１−エトキシカル
ボニルエトキシ｝−３−ベンヅアミド−１−（１
−ジフエニルメトキシカルボニル−１−トリフ
エニルホスホラニリデンメチル）アゼチジン−
２−オンの生成（工程Ｅ） 前項(3)の生成物の4.5ｇをクロロホルム50ml
に溶解し、トリエチルアミン1.46ml、トリフエ
ニルホスフイン（Pph3）4.5ｇを加え、室温で
15時間撹拌下にホスホラニリデン化する。反応
液を氷水50mlにあけ、PHを３に調整後、分液す
る。 有機層を飽和重曹水、次に水で洗浄し、
MgSO4で乾燥後濃縮する。残留物をシリカゲ
ルのカラムクロマトグラフイー（展開溶媒ベン
ゼン−酢酸エチル（３：１）））で精製すると、
次式 の表題化合物の4.5ｇ（71％）を得る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1764，1732，1652，
1612 (5) （3R，4R）−４−｛（1R）−１−カルボキシエ
トキシ｝−３−ベンゾアミド−１−（１−ジフエ
ニルメトキシカルボニル−１−トリフエニルホ
スホラニリデンメチル）アゼチジン−２−オン
の生成（工程Ｆ） 前項(4)の生成物の4.50ｇをアセトン70mlに溶
解し、水23ml、1N−NaOH水溶液5.7mlを加え
室温で２時間撹拌し、更に1N−NaOH水溶液
2.8mlを加え室温で30分間撹拌下に加水分解す
る。 反応液をPH7.0に調整後、濃縮し、残留物を
イソプロピルエーテルで粉末化して取する。
この粉末を酢酸エチル50ml、水50mlの混合液に
懸濁させ、氷冷下PH2.0に調整後、有機層を分
液し、MgSO4で乾燥し、濃縮すると、次式 で示される表題化合物の4.16ｇ（96％）を得
る。 (6) （3R，4R）−４−｛（1R）−３−（１−メチル
−1H−テトラゾール−５−イル）チオ−２−
オキソ−１−メチルプロポキシ｝−３−ベンヅ
アミド−１−（１−ジフエニルメトキシカルボ
ニル−１−トリフエニルホスホラニリデンメチ
ル）アゼチジン−２−オンの生成（工程Ｇ＋Ｈ
＋Ｉ＋Ｊ） () 前項(5)の生成物の3.29ｇを塩化メチレン
40mlに溶解し、−10℃でＮ−メチルモルホリ
ン0.57ml、クロルギ酸エチル（Cl−COOEt）
0.45mlを加え、同温度で30分間撹拌下に反応
させると、次式 の化合物を生成する。この化合物を含む反応
液に、ジアゾメタン８ミリモルを含むエチル
エーテル10mlを氷冷下に滴下し、滴下後30分
間同温度で撹拌すると、ジアゾメチル化反応
が起り、次式 で示される（3R，4R）−４−｛（1R）−３−ジ
アゾ−２−オキソ−１−メチルプロポキシ｝
−３−ベンヅアミド−１−（１−ジフエニル
メトキシカルボニル−１−トリフエニルホル
ホラニリデンメチル）アゼチジン−２−オン
の溶液を得る。 () この溶液に6H−HClジオキサン溶液1.43
mlを氷冷下滴下し、同温度で30分間撹拌下に
クロル反応を行う。反応液を氷水50mlにあけ
る。有機層を分液し、飽和重曹水、次に水で
洗浄し、MgSO4で乾燥後、濃縮すると、次
式 で示される（3R，4R）−４−｛（1R）−３−ク
ロル−２−オキソ−１−メチルプロポキシ｝
−３−ベンヅアミド−１−（１−ジフエニル
メトキシカルボニル−１−トリフエニルホス
ホラニリデンメチル）アゼチジン−２−オン
3.10ｇを油状物として得る。 () この油状物を塩化メチレン50mlに溶解
し、１−メチル−５−メルカプト−1H−テ
トラゾール0.60ｇ、ピリジン0.47mlを加え室
温で15時間撹拌下に反応させて、クロル基を
（１−メチル−テトラゾール−５−イル）チ
オ基と置換させる反応を行う。反応液を氷水
50mlにあける。有機層を分液し、飽和重曹
水、次に水で洗浄し、MgSO4で乾燥後濃縮
する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフ
イー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（２：
１））で精製すると、次式 （但し−Tz−Meは１−メチル−テトラゾール
−５−イル基を表わす）で示される表題化合
物、すなわち（3R，4R）−４−｛（1R）−３−
（１−メチル−1H−テトラゾール−５−イル）
チオ−２−オキソ−１−メチルプロポキシ｝−
３−ベンヅアミド−１−（１−ジフエニルメト
キシカルボニル−１−トリフエニルホスホラニ
リテンメチル）アゼチジン−２−オン2.05ｇ
（56％）を得る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1766，1730，1653，
1615 参考例 ２ (1) （3R，4R）−４−｛（1S）−１−エトキシカル
ボニルエトキシ｝−３−ベンヅアミド−１−（１
−ジフエニルメトキシカルボニル−１−ヒドロ
キシメチル）アゼチジン−２−オンの生成 参考例１の(1)項で得られる化合物(a)の3.0ｇ
を塩化メチレン150mlに溶解し、−60℃で溶液が
青色になるまでオゾンを導通する。これに−60
℃で亜鉛末1.0ｇ、酢酸１mlを加え０℃まで昇
温し、同温度で再び亜鉛末6.8ｇ、酢酸6.3mlを
加え30分間撹拌する。 この反応混合物を過し、液を飽和重曹
水、次に水で洗浄し、MgSO4で乾燥後濃縮す
ると次式 で示される表題化合物の2.75ｇ（96％）を得
る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：3420，1781，1735，
1660，1600、 MNR（CDCl3）、δppn：1.18、1.21（3H、ｔ、−
CH2−CH3）、1.18、1.48（3H、ｄ、−
CHCH3）、4.03，4.12（2H、ｑ、−CH2CH3）、
4.33，4.43（1H、ｑ、−CHCH3）、4.75，4.80
（1H、dd、３−Ｈ）、4.90、4.99（1H、ｄ、４
−Ｈ）、5.40，5.53（1H、br.s、−CHOH）、
6.86，6.92（1H、ｓ、−ＣＨ＝ph2）、7.60〜7.80
（15H、ｍ、C6H5×３） (2) （3R，4R）−４−｛（1S）−１−エトキシカル
ボニルエトキシ｝−３−ベンゾアミド−１−（１
−ジフエニルメトキシカルボニル−１−クロル
メチル）アゼチジン−２−オンの生成 前項(1)の生成物の2.75ｇを塩化メチレン50ml
に溶解し、水冷後ピリジン1.24ｇ、塩化チオニ
ル1.87ｇを加え、同温度で30分間撹拌する。 反応液を氷水にあけ、有機層を分液し、飽和
重曹水、次に水で洗浄し、MgSO4で乾燥後濃
縮すると、表題化合物の2.64ｇ（93％）を得
る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1785，1738，1666，
1605 MNR（CDCl3）、δppn：1.22（3H、ｄ、−
CHCH3）、4.12（2H、ｑ、−CH2CH3）、4.44
（1H、ｑ、−CHCH3）、1.37，1.47（3H，ｄ，
−CHCH3），4.73（1H、dd、３−Ｈ）、5.32、
5.37（1H、ｄ、４−Ｈ）、6.17，6.21（1H、
ｓ、−CHCl）、6.87，6.92（1H、ｓ、−ＣＨ＝
ph2）、7.10〜7.70（15H、ｍ、C6H5×３）、 (3) （3R，4R）−４−｛（1S）−１−エトキシカル
ボニルエトキシ｝−３−ベンヅアミド−１−（１
−ジフエニルメトキシカルボニル−１−トリフ
エニルホスホラニリデンメチル）アゼチジン−
２−オンの生成 前項(2)の生成物の2.64ｇをクロロホルム50ml
に溶解し、トリエチルアミン0.75mlトリフエニ
ルホスフイン2.75ｇを加え、室温で15時間撹拌
する。反応液を氷水50mlにあけ、PH3.0に調整
後、有機層を分液し、飽和重曹水、次に水で洗
浄し、MgSO4で乾燥後濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフ
イー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（３：
１））で精製すると、次式 の表題化合物の2.50ｇ（67％）を得る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1761、1739、1655、
1615 (4) （3R，4R）−４−｛（1S）−１−カルボキシエ
トキシ｝−３−ベンヅアミド−１−（１−ジフエ
ニルメトキシカルボニル−１−トリフエニルホ
スホラニリデンメチル）アゼチジン−２−オン 前項(3)の生成物2.50ｇをアセトン37mlに溶解
し、水12ml、1N−NaOH水溶液3.16ml加え室
温で２時間撹拌し、更に1N−NaOH水溶液1.6
ml加え室温で30分間撹拌する。 反応液をPH7.0に調整後、濃縮し、残留物を
IpEで粉末化し、取する。 これを酢酸エチル50ml、水50mlの混合液に懸
濁し、氷冷下PH2.0に調整後、有機層を分液し、
MgSO4で乾燥濃縮すると、次式 の表題化合物の2.28ｇ（95％）を得る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1765，1730，1658，
1617 (5) （3R，4R）−４−｛（1S）−３−（１−メチル
−1H−テトラゾール−５−イル）チオ−２−
オキソ−１−メチルプロポキシ｝−３−ベンヅ
アミド−１−（１−ジフエニルメトキシカルボ
ニル−１−トリフエニルホスホラニリデンメチ
ル）アゼチジン−２−オンの生成 前項(4)の生成物の2.10ｇを塩化メチレン25mlに
溶解し、−10℃でＮ−メチルモルホリン0.36ml、
クロルギ酸エチル0.29mlを加え、同温度で30分間
撹拌する。 この反応液にジアゾメタン5.5ミリモルを含む
エーテル10mlを氷冷下滴下し、同温度で30分間撹
拌すると、（3R，4R）−４−｛（1S）−３−ジアゾ
−２−オキソ−１−メチルプロポキシ｝−３−ベ
ンヅアミド−１−（１−ジフエニルメトキシカル
ボニル−１−トリフエニルホスホラニリデンメチ
ル）アゼチジン−２−オンの溶液を得る。 この溶液に6N−HClジオキサン溶液0.91mlを
氷冷下滴下し、同温度で30分間撹拌し、氷水30ml
にあける。有機層を分液し、飽和重曹水、次に水
で洗浄し、MgSO4で乾燥後濃縮すると（3R，
4R）−４−｛（1S）−３−クロル−２−オキソ−１
−メチルプロポキシ｝−３−ベンヅアミド−１−
（１−ジフエニルメトキシカルボニル−１−トリ
フエニルホスホラニリデンメチル）アゼチジン−
２−オン2.05ｇを油状物として得る。 これを塩化メチレン20mlに溶解し、１−メチル
−５−メルカプト−1H−テトラゾール0.32ｇ、
ピリジン0.26mlを加え、室温で15時間撹拌し、氷
水20mlにおける。 有機層を分液し、飽和重曹水、次に水で洗浄
し、MgSO4で乾燥後濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（２：１））
で精製すると、表題化合物、すなわち（3R，
4R）−４−｛（1S）−３−（１−メチル−1H−テト
ラゾール−５−イル）チオ−２−オキソ−１−メ
チルプロポキシ｝−３−ベンヅアミド−１−（１−
ジフエニルメトキシカルボニル−１−トリフエニ
ルホスホラニリデンメチル）アゼチジン−２−オ
ンの1.70ｇ（72％）を得る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1765，1735，1658，
1619 参考例 ３ (1) （3R，4R）−４｛（1R）−３−ジアゾ−２−オ
キソ−１−メチルプロポキシ｝−３−ベンヅア
ミド−１−（１−ジフエニルメトキシカルボニ
ル−１−トリフエニルホスホラニリデンメチ
ル）アゼチジン−２−オンの生成 参考例１の(5)項の生成物の3.29ｇを塩化メチ
レン40mlに溶解し、−10℃でＮ−メチルモルホ
リン0.57ml、クロルギ酸エチル0.45mlを加え、
同温度で30分間撹拌する。 この反応液にジアゾメタン８ミリモルを含む
エーテル10mlを氷冷下滴下し、滴下後30分間撹
拌し、更に酢酸0.23mlを加え同温度で30分間撹
拌する。 反応液を氷水にあけ、有機層を分液し、飽和
重曹水次に水で洗浄し、MgSO4で乾燥後濃縮
する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフ
イー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（３：
１））で精製すると、次式 の表題化合物の2.91ｇ（86％）を得る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：2110，1763，
1655，1618 (2) （3R，4R）−４−｛（1R）−３−クロル−２−
オキソ−１−メチルプロポキシ｝−３−ベンヅ
アミド−１−（１−ジフエニルメトキシカルボ
ニル−１−トリフエニルホスホラニリデンメチ
ル）アゼチジン−２−オンの生成 前項(1)の生成物の2.91ｇを塩化メチレン40ml
に溶解し、6N−HClジオキサン溶液0.92mlを
氷冷下滴下し、同温度で30分間室温で30分間撹
拌し、氷水50mlにあける。 有機層を分液し、飽和重曹水、次に水で洗浄
し、MgSO4で乾燥後濃縮すると、次式 の表題化合物の2.73ｇ（93％）を得る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1765，1742，1650，
1618 (3) （3R，4R）−４−｛（1R）−３−（２−メチル
−１，３，４−チアジアゾール−５−イル）チ
オ−２−オキソ−１−メチルプロポキシ｝−３
−ベンヅアミド−１−（１−ジフエニルメトキ
シカルボニル−１−トリフエニルホスホラニリ
デンメチル）アゼチジン−２−オンの生成 前項(2)の生成物の1.76ｇを塩化メチレン30mlに
溶解し、２−メチル−５−メルカプト−１，３，
４−チアジアゾール0.35ｇ、ピリジン0.26mlを加
え室温で15時間撹拌し、氷水30mlにあける。 有機層を分液し、飽和重曹水、次に水で洗浄
し、MgSO4で乾燥後濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（２：１））
で精製すると、表題化合物の1.40ｇ（71％）を得
る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1763，1737，1652，
1615 参考例 ４ (1) （3R，4R）−４−（（1S）−１−カルボキシエ
トキシ｝−３−ベンヅアミド−１−（１−ジフエ
ニルメトキシカルボニル−２−メチルプロプ−
１−エニル）アゼチジン−２−オンの生成） 参考例１の(1)項で得られる化合物(a)の6.10ｇ
をアセトン70mlに溶解し、氷冷下水酸化ナトリ
ウム470mgを含む水30mlを加え同温度で１時間、
更に室温で１時間撹拌し、アセトンを留去す
る。 得られる水溶液をエーテルで洗浄後、酸性
（PH2.0）にし、酢酸エチルで抽出する。 有機層をMgSO4で乾燥後濃縮し、エーテル
から結晶化すると、表題化合物の5.30ｇ（91
％）を得る。 m.p.172〜174℃（分解） IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1775，1724，1660，
1605、 NMR（CDCl3）、δppn：1.40（3H、ｄ、Ｊ＝6.8
Hz、−CHCH3）、2.01（3H、ｓ、
基を有する１−オキサ−１−デチア−セフアロス
ポリン化合物およびその製造法に関する。 さらに詳しく述べると、本発明は抗菌力を有す
る２−アルキル−１−オキサ−１−デチア−セフ
アロスポリン誘導体を合成するのに用いる中間体
として有用である次の一般式（） 〔式中R1は水素原子またはメトキシ基を、R2は
低級アルキル基を、R3はメチル基、ハロメチル
基または式−CH2−Ｓ−Het（但しHetは置換基を
有してもよい複素環式基を表わす）の基を表わ
し、さらにＡは水素原子又はカルボキシル保護基
を表わす〕で示される7β−アミノ−２−アルキ
ル−１−オキサ−１−デチア−セフアロスポリン
化合物を第１の要旨とする。 近年、１−オキサ−１−デチア−３−セフエム
化合物（オキサセフアロスポリン）の合成研究が
進められている（例えば特開昭53−25551号公報
参照）。本発明者らはオキサセフアロスポリンの
新誘導体の合成について研究中、オキサセフアロ
スポリン核の２位をアルキル置換された化合物
は、アルキル基がない場合に比較して、抗菌力が
増強され且つβ−ラクタメースに対する抵抗性が
増加されるという知見を得た（本出願人の出願に
係る特願昭57−127574号（特開昭59−46287号）
明細書参照）。その合成法を鋭意検討して研究を
行い、その一環として、本発明を完成させた。 本発明の式（）の7β−アミノ−２−アルキ
ル−１−オキサ−１−デチア−セフアロスポリン
化合物は文献未載の新規化合物である。 本発明の化合物の具体例を示すと次の通りであ
る。 (1) 7β−アミノ−7α−メトキシ−2α−メチル−
３−（１−メチル−1H−テトラゾール−５−イ
ル）チオメチル−１−オキサ−１−デチア−３
−セフエム−４−カルボン酸又はそのジフエニ
ルメチルエステル (2) 7β−アミノ−2α−メチル−３−（１−メチル
−1H−テトラゾール−５−イル）チオメチル
−１−オキサ−１−デチア−３−セフエム−４
−カルボン酸又はそのジフエニルメチルエステ
ル (3) 7β−アミノ−2β−メチル−３−（１−メチル
−1H−テトラゾール−５−イル）チオメチル
−１−オキサ−１−デチア−３−セフエム−４
−カルボン酸又はそのジフエニルメチルエステ
ル (4) 7β−アミノ−7α−メトキシ−2β−メチル−
３−（１−メチル−1H−テトラゾール−５−イ
ル）チオメチル−１−オキサ−１−デチア−３
−セフエム−４−カルボン酸又はそのジフエニ
ルメチルエステル (5) 7β−アミノ−2β，３−ジメチル−１−オキ
サ−１−デチア−３−セフエム−４−カルボン
酸又はそのジフエニルメチルエステル (6) 7β−アミノ−2α，３−ジメチル−１−オキ
サ−１−デチア−３−セフエム−４−カルボン
酸又はそのジフエニルメチルエステル 本発明の一般式（）の化合物の製造は、オキ
サゾリン誘導体にα−ヒドロキシアルカン酸アル
キルエステルを縮合させて得られるアゼチジノン
誘導体を環化させることを基本工程とする方法に
よつて行い得るものである。後記の式（）で表
わされるアゼチジノン誘導体から出発するその製
造法を工程図により図解的に表示すると次の通り
である。 従つて、本発明の第２の要旨によると、次の一
般式 〔式中、基RCO−はアシル基を示し、R2は低級
アルキル基を示し、R3はメチル基、ハロメチル
基又は式−CH2−Ｓ−Het（但しHetは置換基を有
してもよい複素環式基である）の基を示し、ph
はフエニル基を示し、A′はカルボキシル保護基
を示す〕のアゼチジノン化合物を環化して次式 （式中、RCO−，R2，R3，A′は前記と同じ意味
をもつ）のセフエム化合物を生成し、該化合物の
7α−アミノ基から基RCO−を公知反応で脱離さ
せて次式 （式中、R2，R3，A′は前記と同じ意味をもつ）
の化合物を生成し、該化合物を芳香族アルデヒド
と反応させて次式 （式中、R2，R3，A′は前記と同じ意味をもち、
R4は芳香族基を表わす）のシツフ塩基型の化合
物を生成し、この化合物のシツフ塩基化された
7α−アミノ基を、立体配置反転反応、あるいは
７位β−メトキシ化を伴う公知の立体配置反転反
応に付して次式 （式中、R1は水素原子又はメトキシ基を示し、
R2，R3，R4，A′は前記の意味をもつ）の化合物
を生成し、さらに該化合物からシツフ塩基の基
R4−CH＝を常法で切断し、さらに所要ならばカ
ルボキシル保護基（A′）を脱離させることを特
徴とする、一般式 （式中、R1，R2，R3は前記の意味をもち、Ａは
水素原子又はカルボキシル保護基を表わす）で示
される7β−アミノ−２−アルキル−１−オキサ
−１−デチア−セフアロスポリン化合物の製造法
が提供される。 本発明の方法における一般式（）〜（）の
化合物中、Ｒ，R1，R2，R3およびA′はすべて前
述の意味をもち、R4は芳香族基、例えば置換さ
れてもよいアリール基、特にフエニル基又は４−
ヒドロキシフエニル基を示す。 本発明の化合物（）およびその製法で使用さ
れる出発物質（）及び中間体物質（）〜
（）におけるＲ，R1，R3，A′について以下に詳
しく説明する。基RCO−のアシル基としては、
一般に芳香族アシル基であるならばすべて実施可
能である。従つて、基Ｒは芳香族基、例えばアリ
ール基、特にフエニル基又は置換フエニル基、ア
リールアルキル基、アリーロキシアルキル基、ア
ラルキルオキシ基又はトリフエニルアルキル基で
あることができる。例えば基RCO−は、好適に
はフエニルカルボニル、フエニルアセチル、ベン
ジルオキシカルボニル、フエノキシメチルカルボ
ニル又はトリチルカルボニル基であるのがよい。 R2としての低級アルキル基は炭素数１〜４の
アルキル基を意味し、α，βの両方の立体配位が
存在し、α，βの両配位ともにメチル基が好適で
ある。 R3としてのハロメチル基としては、塩素、臭
素のモノ置換のメチル基が挙げられる。また、
R3は基−CH2−Ｓ−Hetであり得るが、こゝで
Hetで示される複素環式基は、窒素、酸素、硫黄
原子などの異原子を含む５員複素環式基を包含
し、好適な例としてはテトラゾリル基、トリアゾ
リル基、チアジアゾリル基が挙げられる。この複
素環式基上の置換基としては、炭素数１〜４の低
級アルキル基特にメチル基又はカルボキシ低級ア
ルキル基などが挙げられるが、公知のセフアロス
ポリン類の３位置換基として従来用いられている
ものも可能である。 シツフ塩基残基R4−CH＝における基R4は一般
的には芳香族基、特にアリール基であることがで
き、好ましくは４−ヒドロキシフエニル基であ
る。この上の置換基として、メチル、イソプロピ
ル、ｔ−ブチル等の低級アルキル基などが存在し
てもよく、その置換の位置は３，５−ジ置換が好
適である。 基A′は水素原子又はカルボキシル保護基であ
ることができ、カルボキシ保護基としては、従来
セフアロスポリン、ペニシリン類に慣用されてい
るものはすべて使用可能である。例えば、A′は
ジフエニルメチル、ベンジル、ｐ−ニトロベンジ
ル基などの置換または非置換アラルキル基、また
はｔ−ブチル、トリクロロエチルなどの置換また
は非置換のアルキル基などであり得る。 本発明による一般式（）の化合物の製造法
を、工程図についてさらに詳しく説明する。 まず化合物（）から化合物（）への環化反
応であるが、この反応は化合物（）を、不活性
溶媒に溶解して加熱する方法、いわゆるウイテイ
ヒ（Witting）反応に付し環化させる反応であ
る。反応温度は40〜120℃の範囲で、好ましくは
100〜120℃の範囲である。不活性溶媒としては、
THF、ジオキサン、ベンゼン、トルエン、キシ
レンその他ジメトキシエタン等のエーテル類が用
いられる。この反応においては副反応を防ぐた
め、窒素あるいはアルゴン気流中で行うのが望ま
しく、さらに酸化防止剤として触媒量のハイドロ
キノンを添加してもよい。 化合物（）におけるR2のα，βの配位は化
合物（）におけるR2の配位がＲ−配位の場合
α−配位となり、Ｓ配位の場合はβ−配位とな
る。化合物（）から化合物（）を生成し、さ
らに化合物（）のシツフ塩基型の化合物を生成
する２工程は、それぞれ常法にて実施できる。す
なわち前者の（）→（）工程は、いわゆるイ
ミノハライド、イミノエーテル法（特公昭41〜
13862号公報参照）にて、また後者の（）→
（）工程は芳香族アルデヒドを反応させること
によるシツフ塩基化であつて特開昭50〜50394号
公程に開示されている方法、例えば３，５−ジ−
ｔ−ブチル−４−ベンズアルデヒド等の如き芳香
族アルデヒドを不活性溶媒例えばベンゼン、塩化
メチレン、酢酸エチル中で脱水縮合させることに
より実施でき、これにより化合物（）が得られ
る。 化合物（）から化合物（）を生成する反転
反応は、化合物（）を不活性溶媒に溶解しまず
酸化剤を加え、酸化し、さらに酸化剤の除去後に
直ちに還元剤を加えることにより実施できる。こ
の際に、７位側鎖の立体位置の反転反応が起り、
化合物（）が得られる。この反応に用いる溶媒
は通常のβ−ラクタム化合物の反応に用いられる
ものが用いられ、クロロホルム、塩化メチレン等
が好ましい。酸化剤としては、二酸化マンガン、
過酸化ニツケル、四酢酸鉛、ジクロロジシアノベ
ンゾキノン（DDQ）が好適に用いられる。 還元剤としては、NaBH3CN（シアノ水素化ホ
ウ素ナトリウム）、NaBH4（水素化ホウ素ナトリ
ウム）、Et4NBH4（水素化ホウ素テトラエチルア
ンモニウム）、又はLi（ｔ−BuO）3AlH（トリ第３
級ブトキシ水素化アルミニウム・リチウム）が好
適に用いられる。これらの両方の一連の反応は−
20℃〜５℃の範囲で進行する。 化合物（）から化合物（）を生成する工程
は７位のメトキシ化を伴う反転反応により実施で
き、これには特開昭50−50394号公報に開示の方
法が適用できる。 このようにして得られた化合物（）および
（）は、次いで、シツフ塩基分解（切断）反応
に付されて目的の中間体化合物（）へ導かれ
る。 このシツフ塩基の分解（切断）は公知の方法、
例えば上記特開昭50−50394号公報に開示されて
いる加水分解方法等により実施できる。更に所望
ならば、化合物（）におけるカルボキシル保護
基（A′）を常法で脱離できる。 本発明の目的化合物（）は、更に７位アミノ
基を適当にアシル化した後、カルボキシル保護基
を脱離することにより強い抗菌力を有する7β−
アシル−２−アルキル−１−オキサ−１−デチア
−セフアロスポリン化合物へ誘導でき、中間体と
して有用である。 本発明化合物（）から抗菌作用を有する化合
物を製造することの具体例としては、前出の特願
昭57−127574号（特開昭59−46287号）明細書に
明示されている。 本発明に用いられる出発原料としての化合物
（）は、文献未載の新規化合物であるので、本
発明者らにより開発されたその調製法の概略を次
に説明する。 すなわち一般式（）の化合物は、例えば次式
（） （但しMeはメチル基、Ａは前述の意味を、phは
フエニル基を表わす）の化合物〔この一例として
のベンツヒドリル−３−メチル−２−〔（1R，5S）
−３−フエニル−７−オキソ−４−オキサ−２，
６−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−
エン−６−イル〕ブト−２−エノエイトは
Journal of ChemicalSociety，Perkin Ｉ，1932
頁（1975）に所載される〕から出発して多段階で
合成できる。 化合物（）に対して次式 （但しR2は一般式（）のR2と同じ意味のアル
キル基であり、Ｂはエチル基の如きアルキル基で
ある）のDL−α−ヒドロキシアルカン酸アルキ
ルエステルをトリフルオロメタンスルホン酸の存
在下に室温で反応させると、次式 （ph，R2，Ｂは前記と同じ意味をもつ、以下同
様）の（3R，4R）−４−｛（1S）−１−アルコキシ
カルボニルアルコキシ｝−３−ベンズアミド−１
−（１−保護カルボニル−２−メチルプロプ−１
−エニル）−アゼチジン−２−オンと、次式 の（3R，4R）４−｛（1R）−１−アルコキシカル
ボニルアルコキシ｝−３−ベンズアミド−１−（１
−保護カルボニル−２−メチルプロ−１−エニ
ル）−アゼチジン−２−オンとがジアステレオマ
ー混合物として得られる。これはベンゼン−酢酸
エチル（７：１）で展開されるシリカゲルクロマ
トグラフイーにかけると、式（）の化合物と式
（）の化合物とを互に分離できる。 DL体の形の一般式（）の化合物の代りに、
それぞれ対応のＤ体（Ｒ体）、Ｌ体（Ｓ体）の形
の化合物（）を一般式（）の化合物に反応さ
せれば、クロマトグラフイーで分離することなく
所望の立体配置の一般式（）、（）の化合物
が得られる（参考例６）。 更に以後の工程として、所望のセフエム環を化
合物（）、（）から得るために、一般式
（）、（）の化合物すなわちアゼチジノン化
合物の１位及び４位側鎖を前処理する工程を行
う。 まずアゼチジノン化合物の１位側鎖を処理する
工程から説明する（参考例１参照）。 式（）の化合物をとり、これを塩化メチレ
ン中で０℃以下の温度でオゾン・ガスと反応して
酸化させると、次式 の酸化生成物（不安定である）が生成する（同様
な反応は本出願人の出願に係る特願昭56−198466
号の参考例に示される）。これを酢酸中で低温で
亜鉛末で還元すると、次式 のアルコール体が生成する。式（）のアルコ
ールを塩化メチレン中でピリジンの存在下に塩化
チオニルで塩素化すると、次式 のクロル誘導体を生成する。この式（）のク
ロル化合物をクロロホルム中でトリアルキルアミ
ンの如き第３級アミンの存在下に室温でトリフエ
ニルホスフインで処理すると、クロル基がトリフ
エニルホスホラニリデシ基と入れ代わる反応が起
る（ホスホラニリデン化工程）。これによつて次
式 の化合物を生成する。 ここで１位側鎖の前処理工程が終るから、次に
アゼチジノン化合物の４位側鎖の前処理工程に移
る。 すなわち、式（）の化合物を含水アセトン
中で水酸化ナトリウム等の存在下にアルカリ性条
件で加水分解してアルキル基(B)を脱離すると、対
応のカルボン酸化合物（式（）中の−OBが
−OHになつたものに相当する）を得る。このカ
ルボン酸化合物は、次の反応に付す前に基−
COOBを活性化する。この活性化には例えば活性
エステル化がある。この目的のため、該カルボン
酸化合物に対して次式 Cl−COOEt （） のクロルギ酸エチルエステルを作用させると、エ
トキシカルボニル化が起る。これにより次式 の化合物を得る。式（）の化合物にエチルエ
ーテル中で低温でジアゾメタンを作用させてジア
ゾメチル化反応を行うと、次式 のジアゾ化合物を得る。このジアゾ化合物（
）にジオキサン中で塩化水素を作用させると、
ジアゾ基がクロル基と置換される。これにより次
式 のクロル化合物を得る。このクロル化合物（′）
に対して次式 HS−Het （） （但しHetは複素環基を示す）の複素環チオール
化合物を塩化メチレン中でピリジンの存在下に作
用させると、次式 の化合物を得る。 前述の説明では、置換基R2がＲ配位をとる一
般式（）の化合物から出発する場合について
説明したが、置換基R2がＳ配位をとる一覧式
（）の化合物についても同様な処理が適用され、
それぞれ処理した後に環化反応に付せば、セフエ
ム環を形成する。前者の場合には、セフエム環の
２位はα配位をとり、後者の場合にはセフエム環
の２位はβ配位をとる。 さらに、式（）および（）の化合物の１
位側鎖ならびに４位側鎖の処理は、どちらを先に
実施してもよい。何れの場合にせよ、それぞれの
反応は前述の反応条件と同様な条件で実施され
る。４位側鎖を先に処理する例は参考例４であ
る。 一般式（）で表わされる本発明目的化合物の
うち、R3がハロメチル基のものは、例えば一般
式（′）の化合物を、前述の環化条件で反応さ
せると合成されるが、合成された一般式（）の
R3がハロメチルの化合物は不安定である。よつ
て前述の説明の如く一般式（′）の化合物を一
般式（″）の化合物へ変換して環化させるのが
好適である。R3がメチル基の場合の出発原料即
ち一般式（）の化合物のR3がメチル基の化合
物の製造法は参考例５（アゼチジノンの４位を先
に変換する方法）で示した。この特徴は一般式
（）の化合物でR3がハロメチル基の化合物を、
還元することにより得られる。還元に際してのハ
ロメチル基のハロゲンとしては沃素が最適であ
る。 このハロメチル基の還元はアゼチジノンの１
位、４位のどちらを先に変換しても還元条件は同
様にして変換反応を実施できる。 以下に、本発明方法の実施例、および原料化合
物の調製法を説明する参考例により本発明を具体
的に詳しく説明するが、本発明はこれらの例に限
定されるものではない。 実施例 １ (1) 7α−ベンヅアミド−2α−メチル−３−（１−
メチル−1H−テトラゾール−５−イル）チオ
メチル−１−オキサ−１−デチア−３−セフエ
ム−４−カルボン酸ジフエニルメチルエステル
の生成 次式 （但しphはフエニル基を、Meはメチル基を、
また−Tz−Meは１−メチル−テトラゾール−
５−イル基を表わす）で示される化合物、すな
わち（3R，4R）−４−｛（1R）−３−（１−メチ
ル−1H−テトラゾール−５−イル）チオ−２
−オキソ−１−メチルプロポキシ｝−３−ベン
ヅアミド−１−（１−ジフエニルメトキシカル
ボニル−１−トリフエニルホスホラニリデンメ
チル）アゼチジン−２−オンの2.00ｇをトルエ
ン75mlに溶解しハイドロキノン50mgを加え、９
時間加熱還流すると環化反応が起る。反応液を
濃縮後、シリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（３：１）
で精製すると、次式 の表題化合物の1.17ｇ（86％）を得る。 IR（CHCl3，νnax（cm-1）：1787，1718，1672，
1600. NMR（CDCl3），δppn：1.51（3H、ｄ，Ｊ＝6.9
Hz，２−CH3），3.81（3H，ｓ，テトラゾー
ル１−CH3），4.17，4.40（2H，ABq，Ｊ＝13
Hz，−CH2S−），4.80（1H，ｑ，Ｊ＝6.9Hz，
２−Ｈ），4.81（1H，dd，Ｊ＝7.5，1.0Hz，７
−Ｈ），5.28（1H.d，Ｊ＝1.0Hz，６−Ｈ），
6.94（1H，ｓ，−ＣＨph2），7.10〜8.70（15H，
ｍ，C6H5，×３）， (2) 7α−アミノ−2α−メチル−３−（１−メチル
−1H−テトラゾール−５−イル）チオメチル
−１−オキサ−１−デチア−３−セフエム−４
−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの生成 PCl5840mgを塩化メチレン24mlに溶解し、０
℃でピリジン0.48ml加え、同温度で30分間撹拌
する。 この反応液に前項(1)の生成物の1200mgを含む
塩化メチレン12mlを０℃で滴下し、同温度で30
分間、０〜25℃で１時間撹拌する。再び０℃に
冷却し、メタノール30mlを加え、同温度で10分
間、０〜25℃で40分間撹拌すると、ベンゾイル
基（phCO−）の脱離反応が起る。反応液を氷
水60mlにあけ、30分間撹拌後濃縮する。 残留物を酢酸エチル30mlに溶解し、飽和重曹
水次に水で洗浄し、MgSO4で乾燥後濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフ
イー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（１：
１））で精製すると次式 の表題化合物の630mg（65％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1779，1713，1620 (3) 7α−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシベンジリデンアミノ）−2α−メチル−３−
（１−メチル−1H−テトラゾール−５−イル）
チオメチル−１−オキサ−１−デチア−３−セ
フエム−４−カルボン酸 ジフエニルメチルエ
ステルの生成 前項(2)の生成物の600mg、３，５−ジ−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシベンヅアルデヒド312
mgをベンゼン60mlに溶解し、Dean−Starkの装
置で45分間加熱還流し、濃縮すると、次式 （但しMeはメチル基、ｔ−Buは第３級ブチル
基、phはフエニル基、−Tz−Meは１−メチル
−1H−テトラゾール−５−イル基を表わす）
で示される表題化合物の910mgを得る。 (4) 7α−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシベンジリデンアミノ）−7α−メトキシ−2α
−メチル−３−（１−メチル−1H−テトラゾー
ル−５−イル）チオメチル−１−オキサ−１−
デチア−３−セフエム−４−カルボン酸ジフエ
ニルメチルエステルの生成 前項(3)の生成物の910mgを塩化メチルン15ml
に溶解し、氷冷下MgSO4660mg、過酸化ニツケ
ル600mgを加え、同温度で10分間撹拌すると、
立体化学を持たないベンゾキノン型の中間体に
酸化される。反応液を過し、過物を塩化メ
チレン15mlで洗浄し液を合せる。 この駅に氷冷化メタノール30mlを加え、同
温度で30分間撹拌すると、7α−メトキシ基の
導入と同時に反転反応が起る。反応液を濃縮す
ると、次式 で示される表題化合物の900mgを得る。 (5) 7α−アミノ−7α−メトキシ−2α−メチル−
３−（１−メチル−1H−テトラゾール−５−イ
ル）チオメチル−１−オキサ−１−デチア−３
−セフエム−４−カルボン酸ジフエニルメチル
エステルの生成 前項(4)の生成物の900mgを酢酸エチル15mlに
溶解し、ジラードＴ試薬400mgを含むメタノー
ル15mlを加え室温で２時間撹拌すると、7β−
アミノ基からの置換ベンジリデン基の脱離反応
が起る。 反応液を濃縮し、残留物を酢酸エチル20mlに
溶解し、水洗、MgSO4で乾燥後濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフ
イー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル２：１））
で精製すると、次式 で示される表題化合物の405mg（64％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1782，1720，1603 NMR（CDCl3），δppn：1.55（3H，ｄ，Ｊ＝6.8
Hz，２−CH3），2.10（2H，br.s，アミノ），
3.52（3H，ｓ，−OCＨ＝3），3.79（3H，ｓ，テ
トラゾール１−CH3），4.15，4.48（2H，
ABq，Ｊ＝14Hz，−CH2S−），4.85（1H，ｑ，
Ｊ＝6.8Hz，２−Ｈ）4.97（1H，ｓ，６−Ｈ），
6.90（1H，ｓ，−ＣＨ＝ph2），7.15〜7.70（10H，
ｍ，C6H5×２） 実施例 ２ (1) 7β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシベンジリデンアミノ）−2α−メチル−３−
（１−メチル−1H−テトラゾール−５−イル）
チオメチル−１−オキサ−１−デチア−３−セ
フエム−４−カルボン酸ジフエニルメチルエス
テルの生成 実施例１の項(2)の生成物の650mgを塩化メチ
レン10mlに溶解し、氷冷下MgSO4の470mg、過
酸化ニツケル460mgを加え、同温度で10分間撹
拌すると、立体化学を持たないベンゾキノン型
の中間体に酸化される。反応液を過し、過
物を塩化メチレン10mlで洗浄し、液を合せ
る。この液を氷冷後還元剤としてのテトラエ
チルアンモニウム ボロハイドライド38mgを含
む塩化メチレン0.5mlを加え、同温度で10分間
撹拌すると反転反応が起り7β−のシツフ塩基
体が得られる。反応液を氷水20mlにあける。 反応混合物をPH5.0に調整し、有機層を分液
し、水洗後MgSO4で乾燥し濃縮すると、次式 で示される表題化合物の630mgを得る。 (2) 7β−アミノ−2α−メチル−３−（１−メチル
−1H−テトラゾール−５−イル）チオメチル
−１−オキサ−１−デチア−３−セフエム−４
−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの生成 前項(1)の生成物の630mgを酢酸エチル10mlに溶
解し、ジラードＴ試薬290mgを含むメタノール10
mlを加え、室温で１時間撹拌し、濃縮すると、
7β−アミノ基からの置換ベンジリデン基の脱離
反応が起る。 反応液を濃縮し残留物を酢酸エチル20mlに溶解
し、水洗、MgSO4で乾燥後濃縮する。残留物を
シリカゲルのカラムクロマトグラフイー（展開溶
媒ベンゼン−酢酸エチル（１：１））で精製する
と、次式 で示される表題化合物の151mg（35％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1785，1720，1602 NMR（CDCl3），δppn：1.57（3H，ｄ，Ｊ＝6.8
Hz，２−CH3），2.06（2H，br.s，アミノ），
3.82（3H，ｓ，テトラゾール／−CH3），
4.21，4.46（2H，ABq，Ｊ＝14Hz），4.55
（1H，ｄ，Ｊ＝4.5Hz，７−Ｈ），4.86（1H，
ｑ，Ｊ＝6.8Hz，２−Ｈ），5.15（1H，ｄ，Ｊ
＝4.5Hz，６−Ｈ），6.92（1H，ｓ，−ＣＨ＝
ph2），7.15〜7.70（10H，ｍ，C6H5×２） 実施例 ３ (1) 7α−ベンヅアミド−2β−メチル−３−（１−
メチル−1H−テトラゾール−５−イル）チオ
メチル−１−オキサ−１−デチア−３−セフエ
ム−４−カルボン酸ジフエニルメチルエステル
の生成 次式 で示される（3R，4R）−４−｛（1S）−３−（１
−メチル−1H−テトラゾール−５−イル）チ
オ−２−オキサ−１−メチルプロポキシ｝−３
−ベンヅアミド−１−（１−ジフエニルメトキ
シカルボニル−１−トリフエニルホスホラニリ
デンメチル）アゼチジン−２−オン2.70ｇをト
ルエン270mlに溶解し、ヒドロキノン180mgを加
え、窒素気流下20時間加熱還流する。反応液を
濃縮後シリカゲルのカラムクロマトグラフイー
（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（４：１））で
精製すると、次式 で示される表題化合物の1.50ｇ（81％）を得
る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1780，1718，1668，
1600。 NMR（CDCl3），δppn：1.51（3H，ｄ，Ｊ＝6.8
Hz，２−CH3），3.79（3H，ｓ，テトラゾー
ル１−CH3），4.03，4.66（2H，ABq，Ｊ＝14
Hz，−CH2S−），4.80（1H，ｑ，Ｊ＝6.8Hz，
２−Ｈ），4.89（1H，dd，Ｊ＝７，１Hz，７
−Ｈ），5.10（1H，ｄ，Ｊ＝１Hz，６−Ｈ），
6.85（1H，ｄ，Ｊ＝７Hz−CONH−），6.92
（1H，ｓ，−ＣＨ＝ph2），7.10〜8.90（15H，ｍ，
C6H5×３）， (2) 7α−アミノ−2β−メチル−３−（１−メチル
−1H−テトラゾール−５−イル）チオメチル
−１−オキサ−１−デチア−３−セフエム−４
−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの生成 PCl5843mgを塩化メチレン24mlに懸濁し、０
℃でピリジン0.48mlを加え、同温度で30分間撹
拌する。この反応液に前項(1)の生成物の1200mg
を含む塩化メチレン５mlを０℃で滴下し、同温
度で30分間、０〜25℃で１時間撹拌する。再び
０℃に冷却し、メタノール12mlを加え同温度で
10分間０〜25℃で40分間撹拌し、氷水50mlにあ
け、30分間撹拌後濃縮する。 残留物を酢酸エチル30mlに溶解し、飽和重曹
水、次に水で洗浄し、MgSO4で乾燥後濃縮す
る。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフ
イー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（１：
１））で精製すると、次式 で示される表題化合物の500mg（50％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1778，1723，1608 NMR（CDCl3）、δppn：1.49（3H，ｄ，Ｊ＝6.8
Hz，２−CH3），2.00（2H，br.s，アミノ），
3.77（3H，ｓ，テトラゾール１−CH3），
4.04，4.63（2H，ABq，Ｊ＝14Hz，−CH2S
−），4.05（1H，ｄ，Ｊ＝１Hz，７−Ｈ），
4.75（1H，ｄ，Ｊ＝１Hz，６−Ｈ），4.80
（1H，ｑ，Ｊ＝6.8Hz，２−Ｈ），6.90（1H，
Ｓ，−ＣＨ＝ph2），7.10〜7.70（10H，ｍ，C6H5
×２）， (3) 7α−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒド
ロキシベンジリデンアミノ）−2β−メチル−３
−（１−メチル−1H−テトラゾール−５−イ
ル）チオメチル−１−オキサ−１−デチア−３
−セフエム−４−カルボン酸ジフエニルメチル
エステルの生成 前項(2)の生成物の350mg、３，５−ジ−tert
−ブチル−４−ヒドロキシベンヅアルデヒド
184mgをベンゼン100mlに溶解し、Dean−Stark
の装置で50分間加熱還流し、濃縮すると、次式 で示される表題化合物の530mgを得る。 NMR（CDCl3），（δppn）：1.47（18H，ｓ，tert
−ブチル），1.57（3H，ｄ，Ｊ＝6.8Hz，２−
CH3），3.80（3H，ｓ，テトラゾール１−
CH3），4.08，4.68（2H，ABq，Ｊ＝14Hz，−
CH2S−），4.71（1H，br，ｓ，７−Ｈ），4.82
（1H，ｑ，Ｊ＝6.8Hz，２−Ｈ），5.16（1H，
ｄ，Ｊ＝１Hz，６−Ｈ），5.56（1H，ｓ，−
OH），6.90（1H，ｓ，−ＣＨ＝ph2），7.10〜7.75
（10H，ｍ，C6H5×２），7.60（2H，ｓ，
C6H5），8.35（1H，ｄ，Ｊ＝１Hz，−CH＝Ｎ
−） (4) 7β−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒド
ロキシベンジリデンアミノ）−2β−メチル−３
−（１−メチル−1H−テトラゾール−５−イ
ル）チオメチル−１−オキサ−１−デチア−３
−セフエム−４−カルボン酸ジフエニルメチル
エステルの生成 前項(3)の生成物の327mgを塩化メチレン５ml
に溶解し、氷冷下MgSO4236mg過酸化ニツケル
230mgを加え、同温度で10分間撹拌後過し、
過物を塩化メチレン５mlで洗浄し、液を合
せる。 この溶液を氷冷後、テトラエチルアンモニウ
ムボロハイドライド16mgを含む塩化メチレン
0.1mlを加え、同温度で10分間撹拌し、氷水10
mlにあける。このようにして７位の反転反応が
行われる。その反応混合物をPH5.0に調整し、
有機層を分液し、洗水後、MgSO4で乾燥し濃
縮すると、次式 で示される表題化合物の309mgを得る。 (5) 7β−アミノ−2β−メチル−３−（１−メチル
−1H−テトラゾール−５−イル）チオメチル
−１−オキサ−１−デチア−３−セフエム−４
−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの生成 前項(4)の生成物の309mgを酢酸エチル５mlに
溶解し、ジラードＴ試薬145mgを含むメタノー
ル５mlを加え、室温で１時間撹拌し、濃縮す
る。 残留物を酢酸エチル20mlに溶解し、水洗、
MgSO4で乾燥後濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフ
イー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（１：
１））で精製すると、次式 の表題化合物の66mg（31％）を得る。 m.p.131〜133℃（分解） IR（CHCl3），νnax（cm-1：1783，1720，1602， NMR（CDCl3），δppn：1.53（3H，ｄ，Ｊ＝6.8
Hz，２−CH3），2.12（2H，br.s，アミノ），
3.79（3H，ｓ，テトラゾール１−CH3）、
4.02，4.67（2H，ABq，Ｊ＝14Hz，−CH2S
−），4.45（1E，ｄ，Ｊ＝５Hz，７−Ｈ），
4.80（1H，ｑ，Ｊ＝6.8Hz，２−Ｈ），4.97
（1H，ｄ，Ｊ＝５Hz，６−Ｈ），6.84（1H，
ｓ，−ＣＨ＝ph2），7.10〜7.65（10H，ｍ，C6H5
×２）， 実施例 ４ (1) 7β−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒド
ロキシベンジリデンアミノ）−7α−メトキシ−
2β−メチル−３−（１−メチル−1H−テトラゾ
ール−５−イル）チオメチル−１−オキサ−１
−デチア−３−セフエム−４−カルボン酸ジフ
エニルメチルエステルの生成 実施例３の４項の生成物の530mgを塩化メチレ
ン８mlに溶解し、氷冷下MgSO4380mg、過酸化ニ
ツケル300mgを加え、同温度で10分間撹拌後過
し、過物を塩化メチレン８mlで洗浄し、液を
合せる。 この液に氷冷下メタノール10mlを加え、同温
度で30分間撹拌反応すると、７位メトキシ化を伴
う反転反応が起る。反応液を濃縮すると、次式 で表わされる表題化合物の490mgを得る。 NMR（CDCl3），δppn：1.33（3H，ｄ，Ｊ＝6.8
Hz，２−CH3），1.47（18H，ｓ，tert−ブチ
ル），3.59（3H，ｓ，−OCH3），3.80（3H，ｓ，
テトラゾール１−CH3），4.07，4.70（2H，
ABq，Ｊ＝14Hz、−CH2S−），4.77（1H，ｑ，
Ｊ＝6.8Hz，２−Ｈ），5.08（1H，ｓ，６−Ｈ），
5.59（1H，ｓ，−OH），6.91（1H，ｓ，−ＣＨ＝
ph2），7.10〜7.80（10H，ｍ，C6H5×２），6.66
（2H，ｓ，C6H5），8.44（1H，ｓ，−CH＝Ｎ
−）， (2) 7β−アミノ−7α−メトキシ−2β−メチル−
３−（１−メチル−1H−テトラゾール−５−イ
ル）チオメチル−１−オキサ−１−デチア−３
−セフエム−４−カルボン酸ジフエニルメチル
エステルの生成 前項(1)の生成物の490mgを酢酸エチル８mlに
溶解し、ジラードＴ試薬240mgを含むメタノー
ル８mlを加え室温で1.5時間撹拌し、濃縮する。 残留物を酢酸エチル10mlに溶解し、水洗、
MgSO4で乾燥後濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフ
イー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（２：
１））で精製すると、次式 で示される表題化合物の241mg（65％）を得る。 m.p.133〜５℃（分解） IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1783，1720，1600 NMR（CDCl3）δppn：1.53（3H，ｄ，Ｊ＝6.8
Hz，２−CH3），2.16（2H，br.s，アミノ），
3.49（3H，ｓ，−OCH3），3.79（3H，ｓ，テト
ラゾール１−CH3），4.03，4.62（2H，ABq，
Ｊ＝14Hz，−CH2S−），4.83（1H，ｑ，Ｊ＝
6.8Hz，２−Ｈ），4.85（1H，ｓ，６−Ｈ），
6.86（1H，ｓ，−ＣＨ＝ph2），7.10〜7.70（10H，
ｍ，C6H5×２）， 実施例 ５ (1) 7α−ベンヅアミド−2α−メチル−３−（２−
メチル−１，３，４−チアジアゾール−５−イ
ル）チオメチル−１−オキサ−１−デチア−３
−セフエム−４−カルボン酸ジフエニルメチル
エステルの生成 （3R，4R）−４−｛（1R）−３−（２−メチル
−１，３，４−チアジアゾール−５−イル）チ
オ−２−オキソ−１−メチルプロポキシ｝−３
−ベンヅアミド−１−（１−ジフエニルメトキ
シカルボニル−１−トリフエニルホスホラニリ
デンメチル）アゼチジン−２−オン1.70ｇをト
リエン30mlに溶解し、ヒドロキノン100mgを加
え、窒素気流下10時間加熱還流する。反応液を
濃縮後、シリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（３：１））
で精製すると、次式 で示される表題化合物の0.95ｇ（81％）を得
る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1784，1719，1668，
1600， NMR（CDCl3）δppn：1.48（3H，ｄ，Ｊ＝6.8
Hz，２−CH3），2.68（3H，ｓ，チアジアゾ
ール２−CH3），4.31（2H，br.s，−CH2S−），
4.79（1H，ｑ，Ｊ＝6.8Hz，２−Ｈ），4.90
（1H，dd，Ｊ＝8.9，１Hz，７−Ｈ），5.24
（1H，ｄ，Ｊ＝１Hz，６−Ｈ），6.94（1H，
ｓ，−ＣＨ＝ph2），7.10〜7.85（15H，ｍ，C6H5
×３）， 実施例 ６ (1) 7α−ベンヅアミド−2β，３−ジメチル−１
−オキサ−１−デチア−３−セフエム−４−カ
ルボン酸ジフエニルメチルエステルの生成 （3R，4R）−４−｛（1S）−２−オキソ−１−メ
チルプロポキシ｝−３−ベンヅアミド−１−（１−
ジフエニルメトキシカルボニル−１−ホスホラニ
リデンメチル）アゼチジン−２−オン100mgをジ
オキサン10mlに溶解し、窒素気流下52時間加熱還
流後、濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ーで精製すると、 次式 で示される表題化合物の20mg（32％）を得る。 NMR（CDCl3），δppn：1.42（3H，ｄ，Ｊ＝6.8
Hz，２−CH3），1.95（3H，ｓ，３−CH3），
4.32（1H，ｑ，Ｊ＝6.8Hz，２−Ｈ），4.94
（1H，dd，Ｊ＝７，１Hz，７−Ｈ），4.97
（1H，ｄ，Ｊ＝１Hz，６−Ｈ），6.90（1H，
ｓ，−ＣＨ＝ph2），7.00〜7.80（15H，ｍ，C6H5
×３）， (2) 7α−アミノ−2β，３−ジメチル−１−オキ
サ−１−デチア−３−セフエム−４−カルボン
酸ジフエニルメチルエステルの生成 PCl51750mgを塩化メチレン45mlに溶解し、
０℃でピリジン1.0mlを加え同温度で30分間撹
拌する。この反応液に前項(1)の生成物の2030mg
を含む塩化メチレン15mlを０℃で滴下し、同温
度で30分間、更に０〜25℃で１時間撹拌する。
再び０℃に冷却し、メタノール25mlを加え同温
度で１時間、０〜25℃で１時間撹拌し、氷水50
mlにあけ、30分間撹拌後に濃縮する。 残留物を酢酸エチル50mlに溶解し、飽和重曹
水、次に水で洗浄し、MgSO4で乾燥後濃縮す
る。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフ
イー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（２：
１））で精製し、次式 で示される表題化合物の960mg（60％）を得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1770，1718， NMR（CDCl3），δppn：1.37（3H，ｄ，Ｊ＝6.8
Hz，２−CH3），1.84（2H，ｓ，H2N−），
1.91（3H，ｄ，Ｊ＝0.9Hz，３−CH3），4.01
（1H，ｓ，７−Ｈ），4.35（1H，ｑ，Ｊ＝6.8
Hz，２−Ｈ），4.72（1H，ｓ，６−Ｈ），6.92
（1H，ｓ，−ＣＨ＝ph2），7.10〜7.60（10H，ｍ，
C6H5×２）， (3) 7α−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒド
ロキシベンジリデンアミノ）−2β，３−ジメチ
ル−１−オキサ−１−デチア−３−セフエム−
４−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの生
成 前項(2)の生成物の960mg、３，５−ジ−tert
−ブチル−４−ヒドロキシベンヅアルデヒド
654mgをベンゼン50mlに溶解し、Dean−Stark
の装置で１時間加熱還流し、濃縮すると、次式 で示される表題化合物の1500mgを得る。 IR（CHCl3），νnax（cm-1）：1770，1719，1680， NMR（CDCl3），δppn：1.41（3H，ｄ，Ｊ＝6.8
Hz，２−CH3），1.46（18H，ｓ，tert−Bu），1.97
（3H，ｄ，Ｊ＝0.9Hz，３−CH3），4.44（1H，ｑ，
Ｊ＝6.8Hz，２−Ｈ），4.70（1H，br.s，７−Ｈ），
5.13（1H，br.s，６−Ｈ），5.58（1H，ｓ，−OH），
6.90（1H，ｓ，−ＣＨ＝ph2），7.10〜7.70（10H，ｍ，
C6H5×２），7.64（2H，ｓ，C6H5），8.41（1H，
ｄ，Ｊ＝1.5Hz，−CH＝Ｎ−）， (4) 7β−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒド
ロキシベンジリデンアミノ）−ド2β，３−ジメ
チル−１−オキサ−１−デチア−３−セフエム
−４−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの
生成 前項(3)の生成物の1400mgを塩化メチレン30ml
に溶解し、氷冷下MgSO4950mg、過酸化ニツケ
ル950mgを加え、同温度で10分間撹拌後過し、
過物を塩化メチレン30mlで洗浄し、液を合
せる。 この液を−20℃に冷却後、テトラエチルア
ンモニウムボロハイドライド100mgを含む塩化
メチレン２mlを加え、同温度で10分間撹拌し、
氷水50mlにあける。 反応混合物をPH5.0に調整し、有機層を分液
し、水洗MgSO4で乾燥後濃縮すると、次式 で示される表題化合物の1200mgを得る。 (5) 7β−アミノ−2β，３−ジメチル−１−オキ
サ−１−デチア−３−セフエム−４−カルボン
酸ジフエニルメチルエステルの生成 前項(4)の生成物の1200mgを酢酸エチル14mlに
溶解し、ジラードＴ試薬600mgを含むメタノー
ル14mlを加え室温で１時間撹拌し、濃縮する。 残留物を酢酸エチル45mlに溶解し、水洗、
MgSO4で乾燥後濃縮する。 残留分をシリカゲルのカラムクロマトグラフ
イー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（１：
１））で精製すると、次式 で示された表題化合物の488mg（64％）を得る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1778，1718 NMR（CDCl3）、δppn：1.41（3H、ｄ、Ｊ＝6.8
Hz、２−CH3）、1.84（2H、br.s、H2N−）、
1.98（3H、d.J＝0.9Hz、３−CH3）、4.40（1H、
q.J＝6.8Hz、２−Ｈ）、4.45（1H、d.J＝4.0Hz、
７−Ｈ）、4.98（1H、d.J＝4.0Hz、６−Ｈ）、
6.89（1H、ｓ、−ＣＨ＝ph2）、7.10〜7.60（10H、
ｍ、C6H5×２）、 実施例 ７ (1) 7α−ベンヅアミド−2α，３−ジメチル−１
−オキサ−１−デチア−３−セフエム−４−カ
ルボン酸ジフエニルメチルエステルの生成 （3R，4R）−４−｛（1R）−２−オキソ−１−
メチルプロポキシ｝−３−ベンヅアミド−１−
（１−ジフエニルメトキシカルボニル−１−ホ
スホラニリデンメチル）アゼチジン−２−オン
1.30ｇをトルエン120mlに溶解し、ハイドロキ
ノン70mgを加え、窒素気流下40時間加熱還流後
濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフ
イーで精製すると、次式 で示される表題化合物の0.43ｇ（52％）を得
る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1770、1718、1660 NMR（CDCl3）、δppn：1.38（3H、d.J＝6.9Hz、
２−CH3）、2.02（3H、ｓ、３−CH3）、4.42
（1H、q.J＝6.9Hz、２−Ｈ）、4.99（1H、dd、
Ｊ＝7.6、１Hz、７−Ｈ）、5.13（1H、ｓ、６
−Ｈ）、6.91（1H、ｓ、−ＣＨ＝ph2）、7.00〜
7.90（15H、ｍ、C6H5×３）、 (2) 7α−アミノ−2α，３−ジメチル−１−オキ
サ−１−デチア−３−セフエム−４−カルボン
酸ジフエニルメチルエステルの生成 PCl51720mgを塩化メチレン40mlに溶解し、
０℃でピリジン1.0mlを加え同温度で30分間撹
拌する。 この反応液に前項(1)の生成物の2000mgを含む
塩化メチレン15mlを０℃で滴下し、同温度で30
分間、更に０〜25℃で１時間撹拌する。再び０
℃に冷却し、メタノール25mlを加え、同温度で
１時間、０〜25℃で１時間撹拌し、氷水40mlに
あけ、30分間撹拌後濃縮する。 残留物を酢酸エチル50mlに溶解し、飽和重曹
水、次に水で洗浄し、MgSO4で乾燥後濃縮す
る。 残留物をシリカゲルのカラムクロマイトグラ
フイー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（２：
１））で精製し、次式 で示される表題化合物の1035mg（66％）を得
る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1773、1720 NMR（CDCl3）、δppn：1.40（3H、d.J＝6.9Hz、
２−CH3）、1.88（2H、br.s、−NH2）、2.01
（3H、ｓ、３−CH3）、4.02（1H、br.s.7−Ｈ）．
4.37（1H、q.J＝6.9Hz、２−Ｈ）、4.87（1H、br.
s、６−H2）、6.93（1H、ｓ、−ＣＨ＝ph2）．7.10
〜7.60（10H、ｍ、C6H5×２）、 (3) 7α−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒド
ロキシベンジリデンアミノ）−2α，３−ジメチ
ル−１−オキサ−１−デチア−３−セフエム−
４−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの生
成 前項(2)の生成物の1000mg、３，５−ジ−tert−
ブチル−４−ヒドロキシベンヅアルデヒド680mg
をベンゼン50mlに溶解し、Dean−Starkの装置で
１時間加熱還流し、濃縮すると、表題化合物の
1571mgを得る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1775、1720、1682 NMR（CDCl3）、δppn：1.40（3H、d.J＝6.9Hz、
２−CH3）、1.46（18H、ｓ、tert−Bu）、2.05
（3H、s.3−CH3）、4.43（1H、q.J＝6.9Hz、２
−Ｈ）、4.68（1H、br.s、７−Ｈ）、5.27（1H、
ｓ、６−Ｈ）、5.57（1H、ｓ、−OH）、6.92
（1H、ｓ、−ＣＨ＝ph2）7.10〜7.70（10H、ｍ、
C6H5×２）、7.60（2H、ｓ、C6H5）、8.41
（1H、ｄ、1.5Hz、−CH＝Ｎ−）、 (4) 7β−（３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒド
ロキシベンジリデンアミノ）−2α，３−ジメチ
ル−１−オキサ−１−デチア−３−セフエム−
４−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの生
成 前項(3)の生成物の1500mgを塩化メチレン30ml
に溶解し、氷冷却下MgSO4970mg、過酸化ニツ
ケル970mgを加え、同温度で10分間撹拌過し、
過物を塩化メチレン30mlで洗浄し、液を合
せる。 この液を−20℃に冷却後テトラエチルアン
モニウムボロハイドライド110mgを含む塩化メ
チレン２mlを加え、同温度で10分間撹拌し、氷
水50mlにあける。 反応混合物をPH5.0に調整し、有機層を分液
し、水洗、MgSO4で乾燥後濃縮すると、次式 で示される表題化合物の1400mgを得る。 (5) 7β−アミノ−2α，３−ジメチル−１−オキ
サ−１−デチア−３−セフエム−４−カルボン
酸ジフエニルメチルエステルの生成 前項(4)の生成物の1400mgを酢酸エチル15mlに
溶解し、ジラードＴ試薬690mgを含むメタノー
ル15mlを加え室温で１時間撹拌し、濃縮する。 残留物を酢酸エチル50mlに溶解し、水洗
MgSO4で乾燥後濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフ
イー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（１：
１））で精製すると、次式 で示される表題化合物の587mg（66％）を得る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1782，1719，1600、 NMR（CDCl3）、δppn：1.44（3H、ｄ、Ｊ＝6.9
Hz、２−CH3）、1.86（2H、br.s、−NH2）、
2.06（3H、ｓ、３−CH3）、4.44（1H、ｑ、Ｊ
＝6.9Hz、２−Ｈ）、4.49（1H、ｄ、Ｊ＝3.8
Hz、７−Ｈ）、5.13（1H、ｄ、Ｊ＝3.8Hz、６
−Ｈ）、6.90（1H、ｓ、−ＣＨ＝ph2）、7.10〜
7.70（10H、ｍ、C6H6×２）、 実施例 ８ (1) 7α−ベンヅアミド−2α−メチル−３−クロ
ルメチル−１−オキサ−１−デチア−３−セフ
エム−４−カルボン酸ジフエニルメチルエステ
ル 次式 で示される（3R、4R）−４−｛（1R）−３−クロ
ル−２−オキソ−１−メチルプロポキシ｝−３
−ベンヅアミド−１−（１−ジフエニルメトキ
シカルボニル−１−トリフエニルホスホラニリ
デンメチル）アゼチジン−２−オン1.59ｇをト
ルエン50mlに溶解し、３時間加熱還流後濃縮す
る。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフ
イー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（５：
１））で精製すると、次式 で示される表題化合物の0.70ｇ（68％）を得
る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1786，1728，1663，，
1602、 NMR（CDCl3）、δppn：1.46（3H、ｄ、Ｊ＝6.9
Hz、２−CH3）、4.22、4.53（2H、ABq、Ｊ＝
11.5Hz、−CH2Cl）、4.78（1H、q.J＝6.9Hz、２
−Ｈ）、4.95（1H、dd、Ｊ＝7.5、１Hz、７−
Ｈ）、5.23（1H、ｄ、Ｊ＝１Hz、６−Ｈ）、
6.95（1H、ｓ、−ＣＨ＝ph2）7.00〜7.90（15H、
ｍ、C6H5×３）、 (2) 7α−ベンヅアミド−2α−メチル−３−（１，
３，４，−チアジアゾール−５−イル）チオメ
チル−１−オキサ−１−デチア−３−セフエム
−４−カルボン酸ジフエニルメチルエステルの
生成 前項(1)の生成物の800mgを塩化メチレン20mlに
溶解し、５−メチカプト−１，３，４−チアジア
ゾール220mgNaHCO3260mg、塩化テトラエチル
アンモニウム70mgを含む水溶液10mlを加え、室温
で２時間撹拌する。有機層を分液し、水洗・乾燥
後濃縮し、残留物をシリカゲルのカラムクロマト
グラフイー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル
（３：１））で精製すると、次式 で示される表題化合物の結晶580mg（63％）を得
る。 m.p.170〜172℃（分解） IR（CHCl3）、νnax（cm-1）1782，1718，1665，
1600、 NMR（CDCl3）、δppn：1.52（3H、ｄ、Ｊ＝6.8
Hz、２−CH3）、4.41（2H、br.s、−CH2S−）、
4.82（1H、ｑ、Ｊ＝6.8Hz、２−Ｈ）、4.90
（1H、dd、Ｊ＝７、１Hz、７−Ｈ）、5.26
（1H、ｄ、Ｊ＝１Hz、６−Ｈ）、6.96（1H、
ｓ、−ＣＨ＝ph2）、7.06（1H、ｄ、Ｊ＝7.1Hz−
COONH−）、7.10〜7.90（15H、ｍ、C6H5×
３）、8.96（1H、ｓ、チアジアゾール２−Ｈ） 参考例 １ (1) （3R，4R）−４−｛（1S）−１−エトキシカル
ボニルエトキシ｝−３−ベンヅアミド−１−（１
−ジフエニルメトキシカルボニル−２−メチル
プロプ−１−エニル）アゼチジン−２−オン
（化合物ａ）及び（3R，4R）−４−｛（1R）−１
−エトキシカルボニルエトキシ｝−３−ベンヅ
アミド−１−（１−ジフエニルメトキシカルボ
ニル−２−メチルプロプ−１−エニル）アゼチ
ジン−２−オン（化合物ｂ）の生成（工程Ａ） 次式 （但しPHはフエニル基を表わす）で示される
（1R，5S）−３−フエニル−６−（１−ジフエニ
ルメトキシカルボニル−２−メチルプロプ−１
−エニル）−７−オキソ−４−オキサ−２，６
−ジアザビシクロ〔３，２，０〕ヘプト−２−
エン（Journal of Chemical Soiety、Perkin
Ｉ、1932頁（1975）参照）の10ｇを次式 （但しMeはメチル基、Etはエチル基を表わ
す）で示されるDL−α−乳酸エチルエステル
の35mlに、溶解し、トリフルオロメタンスルホ
ン酸0.5mlを加え、室温で1.5時間撹拌すると、
原料化合物の開環、縮合反応が起る。反応液を
重曹水200mlにあけ、氷冷下30分間静置する。 水層を除き、生成した油状物を酢酸エチル70
mlに溶解し、飽和食塩水、次に水で洗浄し、
MgSO4で乾燥後濃縮する。 残留物中に生成物として得られる二種のジア
ステレオマーが含まれ、これらをシリカゲルの
カラムクロマトグラフイー（展開溶媒ベンゼン
−酢酸エチル（７：１））で分離し、エチルエ
ーテルから結晶化すると、次式 で示される（3R，4R）−４−｛（1S）−１−エト
キシカルボニルエトキシ｝−３−ベンヅアミド
−１−（１−ジフエニルメトキシカルボニル−
２−メチルプロプ−１−エニル）アゼチジン−
２−オン（化合物ａ）2.1ｇと次式 で示される（3R，4R）−４−｛（1R）−１−エト
キシカルボニルエトキシ｝−３−ベンヅアミド
−１−（１−ジフエニルメトキシカルボニル−
２−メチルプロプ−１−エニル）アゼチジン−
２−オン（化合物ｂ）2.05ｇを得る。 （化合物ａ）の物性： ｍ・p.104〜６℃ 〔α〕D−75゜（c1.0、CHCl3） IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1763、1738、1661、
1602 （化合物ｂ）の物性： ｍ・p.133〜５℃ 〔α〕D−2゜（c1.0、CHCl3） IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1768、1735、1668、
1600 (2) （3R，4R）−４−｛（1R）−１−エトキシカル
ボニルエトキシ｝−３−ベンヅアミド−１−（１
−ジフエニルメトキシカルボニル−１−ヒドロ
キシメチル）アゼチジン−２−オンの生成（工
程Ｂ＋工程Ｃ） 前項(1)で得た化合物(b)の5.0ｇを塩化メチレ
ン150mlに溶解し、−60℃で溶液が青色になるま
でオゾンを導通する。これによつて化合物(b)は
次式 の化合物(c)に転化する。（本出願人に係る特願
昭56−198466号明細書、参考例１(イ)（）参
照）。この化合物(c)を含む反応液に対して、−60
℃で亜鉛末１ｇ、酢酸１mlを加え０℃まで昇温
し、同温度で再び亜鉛末10ｇ、酢酸10mlを加え
30分間撹拌下に還元反応する。 この反応混合物を過し、液を飽和重曹
水、次に水で洗浄し、MgSO4で乾燥後、濃縮
すると、次式 で示される表題化合物の4.3ｇ（90％）を得る。 (3) （3R，4R）−４−｛（1R）−１−エトキシカル
ボニルエトキシ｝−３−ベンヅアミド−１−（１
−ジフエニルメトキシカルボニル−１−クロメ
チル）アゼチジン−２−オンの生成（工程Ｄ） 前項(2)の生成物の4.58ｇを塩化メチレン50ml
に溶解し、氷冷後ピリジン1.38ｇ、塩化チオニ
ル2.08ｇを加え、同温度で30分間撹拌して塩素
化する。 反応液を氷水にあけ、有機層を分液し、飽和
重曹水、次に水で洗浄し、MgSO4で乾燥後濃
縮すると、次式 で示される表題化合物の4.50ｇ（95％）を得
る。 (4) （3R，4R）−４−｛（1R）−１−エトキシカル
ボニルエトキシ｝−３−ベンヅアミド−１−（１
−ジフエニルメトキシカルボニル−１−トリフ
エニルホスホラニリデンメチル）アゼチジン−
２−オンの生成（工程Ｅ） 前項(3)の生成物の4.5ｇをクロロホルム50ml
に溶解し、トリエチルアミン1.46ml、トリフエ
ニルホスフイン（Pph3）4.5ｇを加え、室温で
15時間撹拌下にホスホラニリデン化する。反応
液を氷水50mlにあけ、PHを３に調整後、分液す
る。 有機層を飽和重曹水、次に水で洗浄し、
MgSO4で乾燥後濃縮する。残留物をシリカゲ
ルのカラムクロマトグラフイー（展開溶媒ベン
ゼン−酢酸エチル（３：１）））で精製すると、
次式 の表題化合物の4.5ｇ（71％）を得る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1764，1732，1652，
1612 (5) （3R，4R）−４−｛（1R）−１−カルボキシエ
トキシ｝−３−ベンゾアミド−１−（１−ジフエ
ニルメトキシカルボニル−１−トリフエニルホ
スホラニリデンメチル）アゼチジン−２−オン
の生成（工程Ｆ） 前項(4)の生成物の4.50ｇをアセトン70mlに溶
解し、水23ml、1N−NaOH水溶液5.7mlを加え
室温で２時間撹拌し、更に1N−NaOH水溶液
2.8mlを加え室温で30分間撹拌下に加水分解す
る。 反応液をPH7.0に調整後、濃縮し、残留物を
イソプロピルエーテルで粉末化して取する。
この粉末を酢酸エチル50ml、水50mlの混合液に
懸濁させ、氷冷下PH2.0に調整後、有機層を分
液し、MgSO4で乾燥し、濃縮すると、次式 で示される表題化合物の4.16ｇ（96％）を得
る。 (6) （3R，4R）−４−｛（1R）−３−（１−メチル
−1H−テトラゾール−５−イル）チオ−２−
オキソ−１−メチルプロポキシ｝−３−ベンヅ
アミド−１−（１−ジフエニルメトキシカルボ
ニル−１−トリフエニルホスホラニリデンメチ
ル）アゼチジン−２−オンの生成（工程Ｇ＋Ｈ
＋Ｉ＋Ｊ） () 前項(5)の生成物の3.29ｇを塩化メチレン
40mlに溶解し、−10℃でＮ−メチルモルホリ
ン0.57ml、クロルギ酸エチル（Cl−COOEt）
0.45mlを加え、同温度で30分間撹拌下に反応
させると、次式 の化合物を生成する。この化合物を含む反応
液に、ジアゾメタン８ミリモルを含むエチル
エーテル10mlを氷冷下に滴下し、滴下後30分
間同温度で撹拌すると、ジアゾメチル化反応
が起り、次式 で示される（3R，4R）−４−｛（1R）−３−ジ
アゾ−２−オキソ−１−メチルプロポキシ｝
−３−ベンヅアミド−１−（１−ジフエニル
メトキシカルボニル−１−トリフエニルホル
ホラニリデンメチル）アゼチジン−２−オン
の溶液を得る。 () この溶液に6H−HClジオキサン溶液1.43
mlを氷冷下滴下し、同温度で30分間撹拌下に
クロル反応を行う。反応液を氷水50mlにあけ
る。有機層を分液し、飽和重曹水、次に水で
洗浄し、MgSO4で乾燥後、濃縮すると、次
式 で示される（3R，4R）−４−｛（1R）−３−ク
ロル−２−オキソ−１−メチルプロポキシ｝
−３−ベンヅアミド−１−（１−ジフエニル
メトキシカルボニル−１−トリフエニルホス
ホラニリデンメチル）アゼチジン−２−オン
3.10ｇを油状物として得る。 () この油状物を塩化メチレン50mlに溶解
し、１−メチル−５−メルカプト−1H−テ
トラゾール0.60ｇ、ピリジン0.47mlを加え室
温で15時間撹拌下に反応させて、クロル基を
（１−メチル−テトラゾール−５−イル）チ
オ基と置換させる反応を行う。反応液を氷水
50mlにあける。有機層を分液し、飽和重曹
水、次に水で洗浄し、MgSO4で乾燥後濃縮
する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフ
イー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（２：
１））で精製すると、次式 （但し−Tz−Meは１−メチル−テトラゾール
−５−イル基を表わす）で示される表題化合
物、すなわち（3R，4R）−４−｛（1R）−３−
（１−メチル−1H−テトラゾール−５−イル）
チオ−２−オキソ−１−メチルプロポキシ｝−
３−ベンヅアミド−１−（１−ジフエニルメト
キシカルボニル−１−トリフエニルホスホラニ
リテンメチル）アゼチジン−２−オン2.05ｇ
（56％）を得る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1766，1730，1653，
1615 参考例 ２ (1) （3R，4R）−４−｛（1S）−１−エトキシカル
ボニルエトキシ｝−３−ベンヅアミド−１−（１
−ジフエニルメトキシカルボニル−１−ヒドロ
キシメチル）アゼチジン−２−オンの生成 参考例１の(1)項で得られる化合物(a)の3.0ｇ
を塩化メチレン150mlに溶解し、−60℃で溶液が
青色になるまでオゾンを導通する。これに−60
℃で亜鉛末1.0ｇ、酢酸１mlを加え０℃まで昇
温し、同温度で再び亜鉛末6.8ｇ、酢酸6.3mlを
加え30分間撹拌する。 この反応混合物を過し、液を飽和重曹
水、次に水で洗浄し、MgSO4で乾燥後濃縮す
ると次式 で示される表題化合物の2.75ｇ（96％）を得
る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：3420，1781，1735，
1660，1600、 MNR（CDCl3）、δppn：1.18、1.21（3H、ｔ、−
CH2−CH3）、1.18、1.48（3H、ｄ、−
CHCH3）、4.03，4.12（2H、ｑ、−CH2CH3）、
4.33，4.43（1H、ｑ、−CHCH3）、4.75，4.80
（1H、dd、３−Ｈ）、4.90、4.99（1H、ｄ、４
−Ｈ）、5.40，5.53（1H、br.s、−CHOH）、
6.86，6.92（1H、ｓ、−ＣＨ＝ph2）、7.60〜7.80
（15H、ｍ、C6H5×３） (2) （3R，4R）−４−｛（1S）−１−エトキシカル
ボニルエトキシ｝−３−ベンゾアミド−１−（１
−ジフエニルメトキシカルボニル−１−クロル
メチル）アゼチジン−２−オンの生成 前項(1)の生成物の2.75ｇを塩化メチレン50ml
に溶解し、水冷後ピリジン1.24ｇ、塩化チオニ
ル1.87ｇを加え、同温度で30分間撹拌する。 反応液を氷水にあけ、有機層を分液し、飽和
重曹水、次に水で洗浄し、MgSO4で乾燥後濃
縮すると、表題化合物の2.64ｇ（93％）を得
る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1785，1738，1666，
1605 MNR（CDCl3）、δppn：1.22（3H、ｄ、−
CHCH3）、4.12（2H、ｑ、−CH2CH3）、4.44
（1H、ｑ、−CHCH3）、1.37，1.47（3H，ｄ，
−CHCH3），4.73（1H、dd、３−Ｈ）、5.32、
5.37（1H、ｄ、４−Ｈ）、6.17，6.21（1H、
ｓ、−CHCl）、6.87，6.92（1H、ｓ、−ＣＨ＝
ph2）、7.10〜7.70（15H、ｍ、C6H5×３）、 (3) （3R，4R）−４−｛（1S）−１−エトキシカル
ボニルエトキシ｝−３−ベンヅアミド−１−（１
−ジフエニルメトキシカルボニル−１−トリフ
エニルホスホラニリデンメチル）アゼチジン−
２−オンの生成 前項(2)の生成物の2.64ｇをクロロホルム50ml
に溶解し、トリエチルアミン0.75mlトリフエニ
ルホスフイン2.75ｇを加え、室温で15時間撹拌
する。反応液を氷水50mlにあけ、PH3.0に調整
後、有機層を分液し、飽和重曹水、次に水で洗
浄し、MgSO4で乾燥後濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフ
イー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（３：
１））で精製すると、次式 の表題化合物の2.50ｇ（67％）を得る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1761、1739、1655、
1615 (4) （3R，4R）−４−｛（1S）−１−カルボキシエ
トキシ｝−３−ベンヅアミド−１−（１−ジフエ
ニルメトキシカルボニル−１−トリフエニルホ
スホラニリデンメチル）アゼチジン−２−オン 前項(3)の生成物2.50ｇをアセトン37mlに溶解
し、水12ml、1N−NaOH水溶液3.16ml加え室
温で２時間撹拌し、更に1N−NaOH水溶液1.6
ml加え室温で30分間撹拌する。 反応液をPH7.0に調整後、濃縮し、残留物を
IpEで粉末化し、取する。 これを酢酸エチル50ml、水50mlの混合液に懸
濁し、氷冷下PH2.0に調整後、有機層を分液し、
MgSO4で乾燥濃縮すると、次式 の表題化合物の2.28ｇ（95％）を得る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1765，1730，1658，
1617 (5) （3R，4R）−４−｛（1S）−３−（１−メチル
−1H−テトラゾール−５−イル）チオ−２−
オキソ−１−メチルプロポキシ｝−３−ベンヅ
アミド−１−（１−ジフエニルメトキシカルボ
ニル−１−トリフエニルホスホラニリデンメチ
ル）アゼチジン−２−オンの生成 前項(4)の生成物の2.10ｇを塩化メチレン25mlに
溶解し、−10℃でＮ−メチルモルホリン0.36ml、
クロルギ酸エチル0.29mlを加え、同温度で30分間
撹拌する。 この反応液にジアゾメタン5.5ミリモルを含む
エーテル10mlを氷冷下滴下し、同温度で30分間撹
拌すると、（3R，4R）−４−｛（1S）−３−ジアゾ
−２−オキソ−１−メチルプロポキシ｝−３−ベ
ンヅアミド−１−（１−ジフエニルメトキシカル
ボニル−１−トリフエニルホスホラニリデンメチ
ル）アゼチジン−２−オンの溶液を得る。 この溶液に6N−HClジオキサン溶液0.91mlを
氷冷下滴下し、同温度で30分間撹拌し、氷水30ml
にあける。有機層を分液し、飽和重曹水、次に水
で洗浄し、MgSO4で乾燥後濃縮すると（3R，
4R）−４−｛（1S）−３−クロル−２−オキソ−１
−メチルプロポキシ｝−３−ベンヅアミド−１−
（１−ジフエニルメトキシカルボニル−１−トリ
フエニルホスホラニリデンメチル）アゼチジン−
２−オン2.05ｇを油状物として得る。 これを塩化メチレン20mlに溶解し、１−メチル
−５−メルカプト−1H−テトラゾール0.32ｇ、
ピリジン0.26mlを加え、室温で15時間撹拌し、氷
水20mlにおける。 有機層を分液し、飽和重曹水、次に水で洗浄
し、MgSO4で乾燥後濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（２：１））
で精製すると、表題化合物、すなわち（3R，
4R）−４−｛（1S）−３−（１−メチル−1H−テト
ラゾール−５−イル）チオ−２−オキソ−１−メ
チルプロポキシ｝−３−ベンヅアミド−１−（１−
ジフエニルメトキシカルボニル−１−トリフエニ
ルホスホラニリデンメチル）アゼチジン−２−オ
ンの1.70ｇ（72％）を得る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1765，1735，1658，
1619 参考例 ３ (1) （3R，4R）−４｛（1R）−３−ジアゾ−２−オ
キソ−１−メチルプロポキシ｝−３−ベンヅア
ミド−１−（１−ジフエニルメトキシカルボニ
ル−１−トリフエニルホスホラニリデンメチ
ル）アゼチジン−２−オンの生成 参考例１の(5)項の生成物の3.29ｇを塩化メチ
レン40mlに溶解し、−10℃でＮ−メチルモルホ
リン0.57ml、クロルギ酸エチル0.45mlを加え、
同温度で30分間撹拌する。 この反応液にジアゾメタン８ミリモルを含む
エーテル10mlを氷冷下滴下し、滴下後30分間撹
拌し、更に酢酸0.23mlを加え同温度で30分間撹
拌する。 反応液を氷水にあけ、有機層を分液し、飽和
重曹水次に水で洗浄し、MgSO4で乾燥後濃縮
する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフ
イー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（３：
１））で精製すると、次式 の表題化合物の2.91ｇ（86％）を得る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：2110，1763，
1655，1618 (2) （3R，4R）−４−｛（1R）−３−クロル−２−
オキソ−１−メチルプロポキシ｝−３−ベンヅ
アミド−１−（１−ジフエニルメトキシカルボ
ニル−１−トリフエニルホスホラニリデンメチ
ル）アゼチジン−２−オンの生成 前項(1)の生成物の2.91ｇを塩化メチレン40ml
に溶解し、6N−HClジオキサン溶液0.92mlを
氷冷下滴下し、同温度で30分間室温で30分間撹
拌し、氷水50mlにあける。 有機層を分液し、飽和重曹水、次に水で洗浄
し、MgSO4で乾燥後濃縮すると、次式 の表題化合物の2.73ｇ（93％）を得る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1765，1742，1650，
1618 (3) （3R，4R）−４−｛（1R）−３−（２−メチル
−１，３，４−チアジアゾール−５−イル）チ
オ−２−オキソ−１−メチルプロポキシ｝−３
−ベンヅアミド−１−（１−ジフエニルメトキ
シカルボニル−１−トリフエニルホスホラニリ
デンメチル）アゼチジン−２−オンの生成 前項(2)の生成物の1.76ｇを塩化メチレン30mlに
溶解し、２−メチル−５−メルカプト−１，３，
４−チアジアゾール0.35ｇ、ピリジン0.26mlを加
え室温で15時間撹拌し、氷水30mlにあける。 有機層を分液し、飽和重曹水、次に水で洗浄
し、MgSO4で乾燥後濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（２：１））
で精製すると、表題化合物の1.40ｇ（71％）を得
る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1763，1737，1652，
1615 参考例 ４ (1) （3R，4R）−４−（（1S）−１−カルボキシエ
トキシ｝−３−ベンヅアミド−１−（１−ジフエ
ニルメトキシカルボニル−２−メチルプロプ−
１−エニル）アゼチジン−２−オンの生成） 参考例１の(1)項で得られる化合物(a)の6.10ｇ
をアセトン70mlに溶解し、氷冷下水酸化ナトリ
ウム470mgを含む水30mlを加え同温度で１時間、
更に室温で１時間撹拌し、アセトンを留去す
る。 得られる水溶液をエーテルで洗浄後、酸性
（PH2.0）にし、酢酸エチルで抽出する。 有機層をMgSO4で乾燥後濃縮し、エーテル
から結晶化すると、表題化合物の5.30ｇ（91
％）を得る。 m.p.172〜174℃（分解） IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1775，1724，1660，
1605、 NMR（CDCl3）、δppn：1.40（3H、ｄ、Ｊ＝6.8
Hz、−CHCH3）、2.01（3H、ｓ、
【式】）、
2.23（3H、ｓ、
【式】）、4.41（1H、q.J＝
6.8Hz、−CHCH3）、4.75（1H、dd、Ｊ＝６、
１Hz、３−Ｈ）、5.14（1H、ｓ、４−Ｈ）、
6.82（1H、ｓ、−ＣＨ＝ph2）、6.90〜7.80（15H、
ｍ、C6H5×３）、 (2) （3R，4R）−４−｛（1S）−３−ジアゾ−２−
オキソ−１−メチルプロポキシ｝−３−ベンズ
アミド−１−（１−ジフエニルメトキシカルボ
ニル−２−メチルプロプ−１−エニル）アゼチ
ジン−２−オンの生成 前項(1)の生成物の5.00ｇを塩化メチレン70ml
に溶解し、−10℃でＮ−メチルモルホリン1.19
ml、クロルギ酸エチル0.96mlを加え、同温度で
30分間撹拌する。 この反応液に、氷冷下18ミリモルのジアゾメ
タンを含むエチルエーテル40mlを滴下し、30分
間撹拌し、酢酸0.57mlを加え10分間撹拌後、氷
水100mlにあける。 有機層を分液し、飽和重曹水、次に水で洗浄
し、濃縮すると、次式 の表題化合物の5.15ｇを得る。 IR（CCl4）、νnax（cm-1）：2210，1775，1722，
1660、 NMR（CDCl3）、δppn：1.32（3H、ｄ、Ｊ＝6.8
Hz、−CHCH3）、2.07（3H、ｓ
１Hz、３−Ｈ）、5.14（1H、ｓ、４−Ｈ）、
6.82（1H、ｓ、−ＣＨ＝ph2）、6.90〜7.80（15H、
ｍ、C6H5×３）、 (2) （3R，4R）−４−｛（1S）−３−ジアゾ−２−
オキソ−１−メチルプロポキシ｝−３−ベンズ
アミド−１−（１−ジフエニルメトキシカルボ
ニル−２−メチルプロプ−１−エニル）アゼチ
ジン−２−オンの生成 前項(1)の生成物の5.00ｇを塩化メチレン70ml
に溶解し、−10℃でＮ−メチルモルホリン1.19
ml、クロルギ酸エチル0.96mlを加え、同温度で
30分間撹拌する。 この反応液に、氷冷下18ミリモルのジアゾメ
タンを含むエチルエーテル40mlを滴下し、30分
間撹拌し、酢酸0.57mlを加え10分間撹拌後、氷
水100mlにあける。 有機層を分液し、飽和重曹水、次に水で洗浄
し、濃縮すると、次式 の表題化合物の5.15ｇを得る。 IR（CCl4）、νnax（cm-1）：2210，1775，1722，
1660、 NMR（CDCl3）、δppn：1.32（3H、ｄ、Ｊ＝6.8
Hz、−CHCH3）、2.07（3H、ｓ
【式】）、
2.28（3H、ｓ、
【式】）、4.15（1H、ｑ、
Ｊ＝6.8Hz、−CHCH3）、4.83（1H、dd、Ｊ＝
７、１Hz、３−Ｈ）、5.04（1H、ｄ、Ｊ＝１
Hz、４−Ｈ）、5.30（1H、ｓ、−CHN2）、6.88
（1H、ｓ、−CHPH2）、7.10〜7.85（15H、ｍ、
C6H5×３）、 (3) （3R，4R）−４−｛（1S）−３−クロル−２−
オキソ−１−メチルプロポキシ｝３−ベンヅア
ミド−１−（１−ジフエニルメトキシカルボニ
ル−２−メチルプロプ−１−エニル）アゼチジ
ン−２−オンの生成 前項(2)の生成物の5.15ｇを塩化メチレン50ml
に溶解し、氷冷後1N−HClジオキサン溶液９
mlを滴下し、同温度で30分間撹拌後氷水50mlに
おける。 有機層を分液し、飽和重曹水次に水で洗浄
し、MgSO4で乾燥後濃縮すると、次式 の表題化合物の5.10ｇを得る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1772，1723，1663，
1603 NMR（CDCl3）、δppn：1.34（3H、ｄ，Ｊ＝6.8
Hz、−CHCH3）、2.40（3H、ｓ、
７、１Hz、３−Ｈ）、5.04（1H、ｄ、Ｊ＝１
Hz、４−Ｈ）、5.30（1H、ｓ、−CHN2）、6.88
（1H、ｓ、−CHPH2）、7.10〜7.85（15H、ｍ、
C6H5×３）、 (3) （3R，4R）−４−｛（1S）−３−クロル−２−
オキソ−１−メチルプロポキシ｝３−ベンヅア
ミド−１−（１−ジフエニルメトキシカルボニ
ル−２−メチルプロプ−１−エニル）アゼチジ
ン−２−オンの生成 前項(2)の生成物の5.15ｇを塩化メチレン50ml
に溶解し、氷冷後1N−HClジオキサン溶液９
mlを滴下し、同温度で30分間撹拌後氷水50mlに
おける。 有機層を分液し、飽和重曹水次に水で洗浄
し、MgSO4で乾燥後濃縮すると、次式 の表題化合物の5.10ｇを得る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1772，1723，1663，
1603 NMR（CDCl3）、δppn：1.34（3H、ｄ，Ｊ＝6.8
Hz、−CHCH3）、2.40（3H、ｓ、
【式】）、
2.27（3H、ｓ、
【式】）、4.05（2H、ｓ、
−CH2Cl）、4.27（1H、ｑ、Ｊ＝6.8Hz、−ＣＨ
CH3）、4.78（1H、dd、Ｊ＝７，１Hz、３−
Ｈ）、5.06（1H、ｄ、Ｊ＝１Hz、４−Ｈ）、
6.88（1H、ｓ、−ＣＨ＝ph2）、7.00〜7.90（15H、
ｍ、C6H5×３）、 (4) （3R，4R）−４−｛（1S）−３−（１−メチル
−1H−テトラゾール−５−イル）チオ−２−
オキソ−１−メチルプロポキシ｝−３−ベンヅ
アミド−１−（１−ジフエニルメトキシカルボ
ニル−２−メチルプロプ−１−エニル）アゼチ
ジン−２−オンの生成 前項(3)の生成物の5.10ｇを塩化メチレン50ml
に溶解し、１−メチル−５−メルカプト−1H
−テトラゾール1.06ｇ、ピリジン0.9mlを加え、
室温で15時間撹拌後、氷水50mlにあける。 有機層を分液し、飽和重曹水、次に水で洗浄
し、MgSO4で乾燥後濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフ
イー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（３：
１））で精製すると、次式 の表題化合物の5.16ｇ（89％）を得る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1773，1725，1665，
1605、 MNR（CDCl3）、δppn：1.35（3H、ｄ，Ｊ＝6.8
Hz、−CHCH3）、2.20（3H、ｓ、
CH3）、4.78（1H、dd、Ｊ＝７，１Hz、３−
Ｈ）、5.06（1H、ｄ、Ｊ＝１Hz、４−Ｈ）、
6.88（1H、ｓ、−ＣＨ＝ph2）、7.00〜7.90（15H、
ｍ、C6H5×３）、 (4) （3R，4R）−４−｛（1S）−３−（１−メチル
−1H−テトラゾール−５−イル）チオ−２−
オキソ−１−メチルプロポキシ｝−３−ベンヅ
アミド−１−（１−ジフエニルメトキシカルボ
ニル−２−メチルプロプ−１−エニル）アゼチ
ジン−２−オンの生成 前項(3)の生成物の5.10ｇを塩化メチレン50ml
に溶解し、１−メチル−５−メルカプト−1H
−テトラゾール1.06ｇ、ピリジン0.9mlを加え、
室温で15時間撹拌後、氷水50mlにあける。 有機層を分液し、飽和重曹水、次に水で洗浄
し、MgSO4で乾燥後濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフ
イー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（３：
１））で精製すると、次式 の表題化合物の5.16ｇ（89％）を得る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1773，1725，1665，
1605、 MNR（CDCl3）、δppn：1.35（3H、ｄ，Ｊ＝6.8
Hz、−CHCH3）、2.20（3H、ｓ、
【式】）、
2.28（3H、ｓ、
【式】）、3.86（3H、ｓ、
テトラゾール１−CH3）、4.22（2H、ｓ、−
CH2S−）、4.37（1H、ｑ、Ｊ＝6.8Hz、−
CHCH3）、4.83（1H、dd、Ｊ＝６，１Hz、３
−Ｈ）、5.21（1H、ｄ、Ｊ＝１Hz、４−Ｈ）、
6.86（1H、ｓ、−ＣＨ＝ph2）、7.00〜7.80（15H、
ｍ、C6H5×３）、 (5) （3R，4R）−４−｛（1S）−３−（１−メチル
−1H−テトラゾール−５−イル）チオ−２−
オキソ−１−メチルプロポキシ｝−３−ベンヅ
アミド−１−（１−ジフエニルメトキシカルボ
ニル−１−ヒドロキシメチル）アゼチジン−２
−オンの生成 （3R，4R）−４−｛（1R）−３−（１−メチル
−Ｈ−テトラゾール−５−イル）チオ−２−オ
キソ−１−メチルプロポキシ｝−３−ベンヅア
ミド−１−（１−ジフエニルメルトキシカルボ
ニル−２−メチルプロプ−１−エニル）アゼチ
ジン−２−オン2.00ｇを塩化メチレン80mlに溶
解し、−60℃で溶液が青色になるまでオゾンを
導通する。 これに−60℃で亜鉛末0.40ｇ、酢酸0.4mlを
加え、０℃まで昇温し、同温度で再び亜鉛末
3.98ｇ酢酸3.60mlを加え、30分間撹拌する。 この反応混合物を過し、液を飽和重曹
水、次に水で洗浄し、MgSO4で乾燥後濃縮す
ると、次式 の表題化合物の1.10ｇ（57％）を得る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：3400，1776，1740，
1664，1604 (6) （3R，4R）−４−｛（1S）−３−（１−メチル
−1H−テトラゾール−５−イル）チオ−２−
オキソ−１−メチルプロポキシ｝−３−ベンヅ
アミド−１−（１−ジフエニルメトキシカルボ
ニル−１−クロルメチル）アゼチジン−２−オ
ンの生成 前項(5)の生成物の1.38ｇを塩化メチレン40ml
に溶解し、氷冷下ピリジン0.53ml塩化チオニル
0.48mlを加え、15分間撹拌し、氷水50mlにあけ
る。 有機層を分液し、飽和重曹水、次に水で洗浄
し、MgSO4で乾燥後濃縮すると、次式 の表題化合物の1.21ｇ（63％）を得る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1789，1752，1663，
1603、 (7) （3R，4R）−４−｛（1S）−３−（１−メチル
−1H−テトラゾール−５−イル）チオ−２−
オキソ−１−メチルプロポキシ｝−３−ベンヅ
アミド−１−（１−ジフエニルメトキシカルボ
ニル−１−トリフエニルホスホラニリデンメチ
ル）アゼチジン−２−オンの生成 前項(6)の生成物の1.20ｇをクロロホルム40ml
に溶解し、トリフエニルホスフイン0.57ｇ加
え、室温で15時間撹拌後、飽和重曹水で洗浄、
MgSO4で乾燥後濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフ
イー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（２：
１））で精製すると、表題化合物の0.86ｇ（53
％）を得る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1765，1735，1658，
1619、 参考例 ５ (1) （3R，4R）−４−｛（1S）−３−ヨード−２−
オキソ−１−メチルプロポキシ｝−３−ベンヅ
アミド−１−（１−ジフエニルメトキシカルボ
ニル−２−メチルプロプ−１−エニル）アゼチ
ジン−２−オン 参考例３の(3)項の生成物の1.32ｇをアセトン
30mlに溶解し、ヨー化ナトリウム0.9ｇを加え
室温で20分間撹拌し、濃縮する。 残留物を酢酸エチル20mlに溶解し、チオ硫酸
ナトリウム水溶液次に水で洗浄し、MgSO4で
乾燥後濃縮すると、次式 の表題化合物の1.32ｇ（86％）を得る。 NMR（CDCl3）、δppn：1.40（3H、ｄ、Ｊ＝6.8
Hz、−CHCH3）、2.07（3H、ｓ、
CH2S−）、4.37（1H、ｑ、Ｊ＝6.8Hz、−
CHCH3）、4.83（1H、dd、Ｊ＝６，１Hz、３
−Ｈ）、5.21（1H、ｄ、Ｊ＝１Hz、４−Ｈ）、
6.86（1H、ｓ、−ＣＨ＝ph2）、7.00〜7.80（15H、
ｍ、C6H5×３）、 (5) （3R，4R）−４−｛（1S）−３−（１−メチル
−1H−テトラゾール−５−イル）チオ−２−
オキソ−１−メチルプロポキシ｝−３−ベンヅ
アミド−１−（１−ジフエニルメトキシカルボ
ニル−１−ヒドロキシメチル）アゼチジン−２
−オンの生成 （3R，4R）−４−｛（1R）−３−（１−メチル
−Ｈ−テトラゾール−５−イル）チオ−２−オ
キソ−１−メチルプロポキシ｝−３−ベンヅア
ミド−１−（１−ジフエニルメルトキシカルボ
ニル−２−メチルプロプ−１−エニル）アゼチ
ジン−２−オン2.00ｇを塩化メチレン80mlに溶
解し、−60℃で溶液が青色になるまでオゾンを
導通する。 これに−60℃で亜鉛末0.40ｇ、酢酸0.4mlを
加え、０℃まで昇温し、同温度で再び亜鉛末
3.98ｇ酢酸3.60mlを加え、30分間撹拌する。 この反応混合物を過し、液を飽和重曹
水、次に水で洗浄し、MgSO4で乾燥後濃縮す
ると、次式 の表題化合物の1.10ｇ（57％）を得る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：3400，1776，1740，
1664，1604 (6) （3R，4R）−４−｛（1S）−３−（１−メチル
−1H−テトラゾール−５−イル）チオ−２−
オキソ−１−メチルプロポキシ｝−３−ベンヅ
アミド−１−（１−ジフエニルメトキシカルボ
ニル−１−クロルメチル）アゼチジン−２−オ
ンの生成 前項(5)の生成物の1.38ｇを塩化メチレン40ml
に溶解し、氷冷下ピリジン0.53ml塩化チオニル
0.48mlを加え、15分間撹拌し、氷水50mlにあけ
る。 有機層を分液し、飽和重曹水、次に水で洗浄
し、MgSO4で乾燥後濃縮すると、次式 の表題化合物の1.21ｇ（63％）を得る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1789，1752，1663，
1603、 (7) （3R，4R）−４−｛（1S）−３−（１−メチル
−1H−テトラゾール−５−イル）チオ−２−
オキソ−１−メチルプロポキシ｝−３−ベンヅ
アミド−１−（１−ジフエニルメトキシカルボ
ニル−１−トリフエニルホスホラニリデンメチ
ル）アゼチジン−２−オンの生成 前項(6)の生成物の1.20ｇをクロロホルム40ml
に溶解し、トリフエニルホスフイン0.57ｇ加
え、室温で15時間撹拌後、飽和重曹水で洗浄、
MgSO4で乾燥後濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフ
イー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（２：
１））で精製すると、表題化合物の0.86ｇ（53
％）を得る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1765，1735，1658，
1619、 参考例 ５ (1) （3R，4R）−４−｛（1S）−３−ヨード−２−
オキソ−１−メチルプロポキシ｝−３−ベンヅ
アミド−１−（１−ジフエニルメトキシカルボ
ニル−２−メチルプロプ−１−エニル）アゼチ
ジン−２−オン 参考例３の(3)項の生成物の1.32ｇをアセトン
30mlに溶解し、ヨー化ナトリウム0.9ｇを加え
室温で20分間撹拌し、濃縮する。 残留物を酢酸エチル20mlに溶解し、チオ硫酸
ナトリウム水溶液次に水で洗浄し、MgSO4で
乾燥後濃縮すると、次式 の表題化合物の1.32ｇ（86％）を得る。 NMR（CDCl3）、δppn：1.40（3H、ｄ、Ｊ＝6.8
Hz、−CHCH3）、2.07（3H、ｓ、
【式】）、
2.30（3H、ｓ、
【式】）、3.56，3.76（2H、
ABq、Ｊ＝10Hz、−CH2I）、4.44（1H、ｑ、
Ｊ＝6.8Hz、−CHCH3）、4.83（1H、dd、Ｊ、
＝７，１Hz、３−Ｈ）、5.08（1H、ｄ、Ｊ＝
１Hz、４−Ｈ）、6.90（1H、ｓ、−ＣＨ＝ph2）、
7.00〜7.90（15H、ｍ、C6H5×３） (2) （3R，4R）−４−｛（1S）−２−オキソ−１−
メチルプロポキシ｝−３−ベンヅアミド−１−
（１−ジフエニルメトキシカルボニル−２−メ
チルプロプ−１−エニル）アゼチジン−２−オ
ンの生成 前項(1)の生成物の1.32ｇを塩化メチレン15ml
に溶解後、氷冷下亜鉛末3.12ｇ、酢酸2.9mlを
加え、同温度で30分間撹拌し、過する。液
を飽和重曹水、次に水で洗浄し、MgSO4で乾
燥後濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフ
イー（展開溶液ベンゼン−酢酸エチル（４：
１））で精製すると次式 の表題化合物の0.75ｇ（70％）を得る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1771，1723，1665，
1604 NMR（CDCl3）、δppn：1.28（3H、ｄ、Ｊ＝７
Hz、−CHCH3）、1.90（3H、ｓ、−COCH3）、
2.03（3H、ｓ、
Ｊ＝6.8Hz、−CHCH3）、4.83（1H、dd、Ｊ、
＝７，１Hz、３−Ｈ）、5.08（1H、ｄ、Ｊ＝
１Hz、４−Ｈ）、6.90（1H、ｓ、−ＣＨ＝ph2）、
7.00〜7.90（15H、ｍ、C6H5×３） (2) （3R，4R）−４−｛（1S）−２−オキソ−１−
メチルプロポキシ｝−３−ベンヅアミド−１−
（１−ジフエニルメトキシカルボニル−２−メ
チルプロプ−１−エニル）アゼチジン−２−オ
ンの生成 前項(1)の生成物の1.32ｇを塩化メチレン15ml
に溶解後、氷冷下亜鉛末3.12ｇ、酢酸2.9mlを
加え、同温度で30分間撹拌し、過する。液
を飽和重曹水、次に水で洗浄し、MgSO4で乾
燥後濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフ
イー（展開溶液ベンゼン−酢酸エチル（４：
１））で精製すると次式 の表題化合物の0.75ｇ（70％）を得る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1771，1723，1665，
1604 NMR（CDCl3）、δppn：1.28（3H、ｄ、Ｊ＝７
Hz、−CHCH3）、1.90（3H、ｓ、−COCH3）、
2.03（3H、ｓ、
【式】）、2.25（3H、ｓ、
【式】）、4.17（1H、ｑ、Ｊ＝７Hz、−
CHCH3）、4.79（1H、dd、Ｊ＝７，１Hz、３
−Ｈ）、5.01（1H、ｄ，Ｊ＝１Hz、４−Ｈ）、
6.87（1H、ｓ、−ＣＨ＝ph2）、7.00〜7.80（15H、
ｍ、C6H5×３）、 (3) （3R，4R）−４−｛（1S）−２−オキソ−１−
メチルプロポキシ｝−３−ベンヅアミド−１−
（１−ジフエニルメトキシカルボニル−１−ヒ
ドロキシメチル）アゼチジン−２−オンの生成 前項(2)の生成物の210mgを塩化メチレン15ml
に溶解し、−60℃で溶液が青色になるまでオゾ
ンを導通する。この反応液に亜鉛末50mg、酢酸
0.05mlを加え、０℃まで昇温し、再び亜鉛末
510mg、酢酸0.5mlを加え同温度で30分間撹拌
し、過する。液を飽和重曹水、次に水で洗
浄し、MgSO4で乾燥後濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフ
イーで精製すると次式 の表題化合物の115mg（57％）を得る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：3450，1780，1745，
1724，1663 NMR（CDCl3）δppn：1.71，1.38（3H、ｄ、−
CHCH3）、2.00，2.04（3H、ｓ、−COCH3）、
4.30，4.45（1H、ｑ，−CHCH3）、4.67，4.70
（1H、dd、３−Ｈ）、4.76，4.94（1H、ｄ、４
−Ｈ）、5.30，5.40（1H、br、ｓ、−CHOH）、
6.88，6.90（1H、ｓ、−ＣＨ＝ph2）、7.00〜7.80
（15H、ｍ、C6H5×３）、 (4) （3R，4R）−４−｛（1S）−２−オキソ−１−
メチルプロポキシ｝−３−ベンゾアミド−１−
（１−ジフエニルメトキシカルボニル−１−ク
ロルメチル）アゼチジン−２−オンの生成 前項(3)の生成物の115mgを塩化メチレン２ml
に溶解し、氷冷下ピリジン32μ、塩化チオニ
ル31μを加え、同温度で30分間撹拌後氷水に
あける。 有機層を分液し、飽和重曹水、次に水で洗浄
し、MgSO4で乾燥後濃縮すると、表題化合物
の109mg（92％）を得る。 NMR（CDCl3）、δppn：1.26，1.28（3H、ｄ、−
CHCH3）、1.96（3H、ｓ、
−Ｈ）、5.01（1H、ｄ，Ｊ＝１Hz、４−Ｈ）、
6.87（1H、ｓ、−ＣＨ＝ph2）、7.00〜7.80（15H、
ｍ、C6H5×３）、 (3) （3R，4R）−４−｛（1S）−２−オキソ−１−
メチルプロポキシ｝−３−ベンヅアミド−１−
（１−ジフエニルメトキシカルボニル−１−ヒ
ドロキシメチル）アゼチジン−２−オンの生成 前項(2)の生成物の210mgを塩化メチレン15ml
に溶解し、−60℃で溶液が青色になるまでオゾ
ンを導通する。この反応液に亜鉛末50mg、酢酸
0.05mlを加え、０℃まで昇温し、再び亜鉛末
510mg、酢酸0.5mlを加え同温度で30分間撹拌
し、過する。液を飽和重曹水、次に水で洗
浄し、MgSO4で乾燥後濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフ
イーで精製すると次式 の表題化合物の115mg（57％）を得る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：3450，1780，1745，
1724，1663 NMR（CDCl3）δppn：1.71，1.38（3H、ｄ、−
CHCH3）、2.00，2.04（3H、ｓ、−COCH3）、
4.30，4.45（1H、ｑ，−CHCH3）、4.67，4.70
（1H、dd、３−Ｈ）、4.76，4.94（1H、ｄ、４
−Ｈ）、5.30，5.40（1H、br、ｓ、−CHOH）、
6.88，6.90（1H、ｓ、−ＣＨ＝ph2）、7.00〜7.80
（15H、ｍ、C6H5×３）、 (4) （3R，4R）−４−｛（1S）−２−オキソ−１−
メチルプロポキシ｝−３−ベンゾアミド−１−
（１−ジフエニルメトキシカルボニル−１−ク
ロルメチル）アゼチジン−２−オンの生成 前項(3)の生成物の115mgを塩化メチレン２ml
に溶解し、氷冷下ピリジン32μ、塩化チオニ
ル31μを加え、同温度で30分間撹拌後氷水に
あける。 有機層を分液し、飽和重曹水、次に水で洗浄
し、MgSO4で乾燥後濃縮すると、表題化合物
の109mg（92％）を得る。 NMR（CDCl3）、δppn：1.26，1.28（3H、ｄ、−
CHCH3）、1.96（3H、ｓ、
【式】）、2.08
（3H、ｓ、
【式】）、4.22、4.25（1H、
ｑ、−CHCH3）、4.67，4.72（1H、dd、３−
Ｈ）、5.31，5.47（1H、ｄ、４−Ｈ）、6.25
（1H、ｓ、−CHCl）、6.83，6.87（1H、ｓ、−
ＣＨ＝ph2）、7.00〜7.80（15H、ｍ、C6H5×
３）、 (5) （3R，4R）−４−｛（1S）−２−オキソ−１−
メチルプロポキシ｝−３−ベンヅアミド−１−
（１−ジフエニルメトキシカルボニル−１−ト
リフエニルホスホラニリデンメチル）アゼチジ
ン−２−オンの生成 前項(4)の生成物の195mgをクロロホルム３ml
に溶解し、トリフエニルホスフイン190mg、ト
リエチルアミン44mgを加え、室温で15時間撹拌
する。 反応液を氷水にあけ、有機層を分液し、飽和
重曹水、次に水で洗浄し、MgSO4で乾燥後濃
縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマドグラフ
イーで精製すると、表題化合物の144mg（53％）
を得る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1763，1720，1660，
1625 参考例 ６ （3R，4R）−４−｛（IR）−１−エトキシカルボ
ニルエトキシ｝−３−ベンヅアミド−１−（１−
ジフエニルメトキシカルボニル−２−メチルプ
ロプ−１−エニル）アゼチジン−２−オンの生
成 参考例１(1)で用いた（1R，5S）−３−フエニル
−６−（１−ジフエニルメトキシカルボニル−２
−メチルプロプ−１−エニル）−７−オキソ−４
−オキサ−２，６−ジアザビシクロ〔３，２，
０〕ヘプト−２−エン10ｇを、参考例１(1)で用い
たDL−α−乳酸エチルエステルに代えてＬ−
（＋）−乳酸エチルエステル35mlに溶解し、参考例
１(1)と同様にトリフルオロメタンスルホン酸0.5
mlを加え、室温で1.5時間撹拌し、重曹水200mlに
あけ、氷冷下30分間静置する。 水層を除き、生成した油状物を酢酸エチル70ml
に溶解し、飽和食塩水、次に水で洗浄し、
MgSO4で乾燥後濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（７：１））
で精製し、エチルエーテルから結晶化すると、参
考例１(1)で言う化合物(a)、すなわち表題化合物の
4.3ｇ（34％）を得る。参考例１(1)の場合より収
量が向上した。
Ｈ）、5.31，5.47（1H、ｄ、４−Ｈ）、6.25
（1H、ｓ、−CHCl）、6.83，6.87（1H、ｓ、−
ＣＨ＝ph2）、7.00〜7.80（15H、ｍ、C6H5×
３）、 (5) （3R，4R）−４−｛（1S）−２−オキソ−１−
メチルプロポキシ｝−３−ベンヅアミド−１−
（１−ジフエニルメトキシカルボニル−１−ト
リフエニルホスホラニリデンメチル）アゼチジ
ン−２−オンの生成 前項(4)の生成物の195mgをクロロホルム３ml
に溶解し、トリフエニルホスフイン190mg、ト
リエチルアミン44mgを加え、室温で15時間撹拌
する。 反応液を氷水にあけ、有機層を分液し、飽和
重曹水、次に水で洗浄し、MgSO4で乾燥後濃
縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマドグラフ
イーで精製すると、表題化合物の144mg（53％）
を得る。 IR（CHCl3）、νnax（cm-1）：1763，1720，1660，
1625 参考例 ６ （3R，4R）−４−｛（IR）−１−エトキシカルボ
ニルエトキシ｝−３−ベンヅアミド−１−（１−
ジフエニルメトキシカルボニル−２−メチルプ
ロプ−１−エニル）アゼチジン−２−オンの生
成 参考例１(1)で用いた（1R，5S）−３−フエニル
−６−（１−ジフエニルメトキシカルボニル−２
−メチルプロプ−１−エニル）−７−オキソ−４
−オキサ−２，６−ジアザビシクロ〔３，２，
０〕ヘプト−２−エン10ｇを、参考例１(1)で用い
たDL−α−乳酸エチルエステルに代えてＬ−
（＋）−乳酸エチルエステル35mlに溶解し、参考例
１(1)と同様にトリフルオロメタンスルホン酸0.5
mlを加え、室温で1.5時間撹拌し、重曹水200mlに
あけ、氷冷下30分間静置する。 水層を除き、生成した油状物を酢酸エチル70ml
に溶解し、飽和食塩水、次に水で洗浄し、
MgSO4で乾燥後濃縮する。 残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフイ
ー（展開溶媒ベンゼン−酢酸エチル（７：１））
で精製し、エチルエーテルから結晶化すると、参
考例１(1)で言う化合物(a)、すなわち表題化合物の
4.3ｇ（34％）を得る。参考例１(1)の場合より収
量が向上した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 〔式中、R1は水素原子又はメトキシ基を、R2は
低級アルキル基を、R3はメチル基、ハロメチル
基又は式−CH2−Ｓ−Het（但しHetは置換基を有
してもよい複素環式基を表わす）の基を表わし、
さらにＡは水素原子又はカルボキシル保護基を表
わす〕で示される、7β−アミノ−２−アルキル
−１−オキサ−１−デチア−セフアロスポリン化
合物。 ２ 次の一般式 〔式中、基RCO−はアシル基を示し、R2は低級
アルキル基を示し、R3はメチル基、ハロメチル
基又は式−CH2−Ｓ−Het（但しHetは置換基を有
してもよい複素環式基である）の基を示し、ph
はフエニル基を示し、A′はカルボキシル保護基
を示す〕のアゼチジノン化合物を環化して次式 （式中、RCO−，R2，R3，A′は前記と同じ意味
をもつ）のセフエム化合物を生成し、該化合物の
7α−アミノ基から基RCO−を公知反応で脱離さ
せて次式 （式中、R2，R3，A′は前記と同じ意味をもつ）
の化合物を生成し、該化合物を芳香族アルデヒド
と反応させて次式 （式中、R2，R3，A′は前記と同じ意味をもち、
R4は芳香族基を表わす）のシツフ塩基型の化合
物を生成し、この化合物のシツフ塩基化された
7α−アミノ基を、公知の立体配置反転反応、あ
るいは７位β−メトキシ化を伴う公知の立体配置
反転反応に付して次式 （式中、R1は水素原子又はメトキシ基を示し、
R2，R3，R4，A′は前記の意味をもつ）の化合物
を生成し、さらに該化合物からシツフ塩基の基
R4−CH＝を常法で切断し、さらに所要ならばカ
ルボキシル保護基（A′）を脱離させることを特
徴とする、一般式 （式中、R1，R2，R3は前記の意味をもち、Ａは
水素原子又はカルボキシル保護基を表わす）で示
される7β−アミノ−２−アルキル−１−オキサ
−１−デチア−セフアロスポリン化合物の製造
法。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57159548A JPS5951291A (ja) | 1982-09-16 | 1982-09-16 | オキサデチアセフアロスポリン中間体およびその製造法 |
| US06/515,422 US4534898A (en) | 1982-07-23 | 1983-07-20 | 1-Oxa-1-dethia-cephalosporin derivatives |
| PH29252A PH21016A (en) | 1982-07-23 | 1983-07-20 | 2-alkyl-1-oxa-dethia-cephalosporin derivatives and process for producing said compound |
| EP83107150A EP0099580B1 (en) | 1982-07-23 | 1983-07-21 | New 1-oxa-1-dethia-cephalosporin derivatives |
| DE8383107150T DE3374061D1 (en) | 1982-07-23 | 1983-07-21 | New 1-oxa-1-dethia-cephalosporin derivatives |
| IN911/CAL/83A IN159071B (ja) | 1982-07-23 | 1983-07-22 | |
| KR1019830003411A KR890001489B1 (ko) | 1982-07-23 | 1983-07-23 | 1-옥사-1-데티아-세팔로스포린 유도체 및 그 중간 화합물의 제조방법 |
| PH32495A PH21657A (en) | 1982-07-23 | 1985-07-09 | 7b-amino-2-alkyl-1-oxa-1 dethiacephalosporin compounds and process for preparing said compound |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57159548A JPS5951291A (ja) | 1982-09-16 | 1982-09-16 | オキサデチアセフアロスポリン中間体およびその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5951291A JPS5951291A (ja) | 1984-03-24 |
| JPH0354672B2 true JPH0354672B2 (ja) | 1991-08-20 |
Family
ID=15696147
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57159548A Granted JPS5951291A (ja) | 1982-07-23 | 1982-09-16 | オキサデチアセフアロスポリン中間体およびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5951291A (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2714880A1 (de) * | 1977-04-02 | 1978-10-26 | Hoechst Ag | Cephemderivate und verfahren zu ihrer herstellung |
| JPS56118085A (en) * | 1980-02-25 | 1981-09-16 | Takeda Chem Ind Ltd | 2-methylcephalosporin derivative and its preparation |
-
1982
- 1982-09-16 JP JP57159548A patent/JPS5951291A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5951291A (ja) | 1984-03-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0023097B1 (en) | De-arylmethylation of n-mono- or n-diarylmethyl-beta-lactams; novel azetizinones having anti-bacterial activity | |
| US4882429A (en) | Stereospecific preparation of (3S,4R,5R)-3-(1-hydroxyethyl)-4-benzoyloxy-azeridinones from L-(-)-theonine | |
| JPS6124396B2 (ja) | ||
| JPH0354672B2 (ja) | ||
| EP0061274B1 (en) | Process and intermediates for production of 1,1-dioxopenicillanoyloxymethyl 6-(2-amino-2-phenylacetamido)penicillanates | |
| JP2599610B2 (ja) | ２β―置換メチルペニシリン誘導体の製造法 | |
| US4057540A (en) | 4-Chloroazetidinone-1-(2',3'-dichloroisopropyl) acetates and process for preparing same | |
| KR890001489B1 (ko) | 1-옥사-1-데티아-세팔로스포린 유도체 및 그 중간 화합물의 제조방법 | |
| EP0096496B1 (en) | Preparation of penicillin and cephalosporin compounds and novel intermediates useful therein | |
| JPH0523271B2 (ja) | ||
| JP2602669B2 (ja) | ２β−ハロゲノ置換メチルペニシリン誘導体の製造法 | |
| EP0146900A2 (en) | Process for producing azetidinones | |
| US4640798A (en) | Intermediates for the preparation of penicillin and cephalosporin compounds | |
| JPH0128035B2 (ja) | ||
| CS196420B2 (en) | Method of producing 1-dethia-1-oxacephamderivatives | |
| JPH0354110B2 (ja) | ||
| KR800000412B1 (ko) | 세팔로스포린 에스텔의 제조방법 | |
| US4208325A (en) | Preparation of 1-oxapenicillins and 4-acyloxy azetidinone intermediates therefor | |
| JPH0352472B2 (ja) | ||
| JPH0516432B2 (ja) | ||
| JPH0323556B2 (ja) | ||
| JPH0140826B2 (ja) | ||
| JPS6153357B2 (ja) | ||
| JPS6219432B2 (ja) | ||
| JPH0625230A (ja) | セフエム誘導体およびその製造法 |