JPH0357533B2 - - Google Patents
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- JPH0357533B2 JPH0357533B2 JP57232698A JP23269882A JPH0357533B2 JP H0357533 B2 JPH0357533 B2 JP H0357533B2 JP 57232698 A JP57232698 A JP 57232698A JP 23269882 A JP23269882 A JP 23269882A JP H0357533 B2 JPH0357533 B2 JP H0357533B2
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Description
【発明の詳細な説明】
発明の背景
技術分野
本発明は、磁気記録媒体、特にいわゆる斜め蒸
着法による連続薄膜型の磁性層を有する磁気記録
媒体に関する。 先行技術とその問題点 ビデオ用、オーデイオ用の磁気記録媒体とし
て、テープ化して巻回したときのコンパクト性か
ら、連続薄膜型の磁性層を有するものの開発が活
発に行われている。 このような連続薄膜型の媒体の磁性層として
は、特性上、基体法線に対し所定の傾斜面にて蒸
着を行う、いわゆる斜め蒸着法によつて形成した
Co、Co−Ni、Co−Ｏ、Co−Ni−Ｏ系等の蒸着
膜が最も好適である。 このような斜め蒸着法による薄膜磁性層は、基
体主面の法線に対して傾斜し、その長手方向径が
磁性層厚さ方向全域に及ぶ、柱状結晶粒子の集合
体として形成される。そして、Co，Ni等は、柱
状結晶粒子中に存在し、また、必要に応じ導入さ
れるＯは、柱状結晶粒子の表面に、酸化物を形成
して存在するものである。 しかし、このような磁性層は、酸化され易く、
耐食性に欠けるという欠点がある。 また、膜強度が低く、特にビデオ用の媒体で
は、スチルと称される静止画像モードでの耐久時
間が小さいという欠点がある。 これに対し、上記のような磁性層上に、各種有
機、無機の薄膜保護層を設層することが行われて
いる。 しかし、このようなときには、耐食性は向上し
ても、当然のことながら、磁性層の膜強度が向上
するものではなく、また、保護層設層によるスペ
ーシングロスのため、電磁変換特性が低下し、出
力およびＳ／Ｎ比が低下する。 また、上記のような磁性層上に下地層を設層し
て、膜の被着強度を向上することも行われている
が、膜の強度、耐食性、さらには走行性等の点で
未だ不十分である。 さらに、上記のような組成の連続薄膜からなる
磁性層であつて、いわゆる垂直蒸着、スパツタリ
ング、メツキ等によつて形成され、基体主面の法
線に沿つて配列された柱状結晶粒子の集合体から
なるものも知られている。そして、このような磁
性層にも、各種の保護層や下地層を形成する旨が
提案されている。 しかし、これらでも、膜強度、耐食性、走行性
等の特性をすべて改善するものは存在しない。 発明の目的 本発明は、このような実状に鑑みなされたもの
であつて、この主たる目的は、斜め蒸着法によつ
て形成されたCoを主成分とする磁性層を有する
磁気記録媒体において、膜強度が向上し、耐食性
が向上し、走行性のよい媒体を実現することにあ
る。 このような目的は、以下の本発明によつて達成
される。 すなわち本発明は、基体上に、Co、または、
CoならびにNi、CrおよびＯのうち１〜３種を含
む磁性層を有し、この磁性層が、基体側から順
に、基体主面法線に対して±10゜以内の角度の範
囲内にある結晶粒子の集合体からなる第１部分、
基体主面法線に対して30゜以上の角度で傾斜して
いる柱状結晶粒子の集合体からなる第２部分、お
よび基体主面法線に対して±10゜以内の角度の範
囲内にある結晶粒子の集合体からなる第３部分か
ら形成されていることを特徴とする磁気記録媒体
である。 発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明
する。 本発明の磁気記録媒体は、基体上に磁性層を有
する。 磁性層はCoを必須成分とし、通常、Co，Co＋
Ni，Co＋ＯまたはCo＋Ni＋Ｏからなる。 すなわち、Co単独からなつてもよく、CoとNi
からなつてもよい。Co＋Niである場合、Co／Ni
の重量比は、1.5以上であることが好ましい。 さらに、CoまたはCo＋Niに加え、Ｏが含まれ
ていてもよい。Ｏが含まれたときには、電磁変換
特性や走行耐久性の点で、より好ましい結果をう
る。 このような場合、Ｏ／Co（Niが含まれない場
合）あるいはＯ／（Co＋Ni）の原子比は0.2以
下、特に0.01〜0.1であることが好ましい。 一方、磁性層中には、Co，Co＋Ni，Co＋Ｏあ
るいはCo＋Ni＋Ｏに加え、Crが含有されると、
より一層好ましい結果を得る。 これは、電磁変換特性が向上し、出力および
Ｓ／Ｎ比が向上し、さらに膜強度が向上するから
である。 このような場合、Cr／Co（Niが含まれない場
合）あるいはCr／（Co＋Ni）の重量比は、0.001
〜0.1であることが好ましい。 この場合Cr／CoあるいはCr／（Co＋Ni）の重
量比は、0.005〜0.5であると、より一層好ましい
結果を得る。 なお、このような磁性層中には、さらに他の微
量成分、特に遷移元素、例えばFe，Mn，Ｖ，
Zn，Nb，Ta，Zr，Ti，Mo，Ｗ，Cu等が含まれ
ていてもよい。 このようなトータル組成をもつ磁性層は、第１
部分、第２部分および第３部分から形成されてい
る。 第３部分は、基体主面の法線に対して傾斜して
いない結晶粒子の集合体からなる。 この場合、傾斜していないとは、前記法線に対
して、±10゜以内の範囲にて傾斜していてもよいこ
とを含む意味である。 そして、各粒子の長手方向径は、通常、第３部
分の厚さ方向全域に亘る長さをもつ。なお、場合
によつては、粒子が厚さ方向全域に亘つて成長し
ていなくてもよい。 また、その短径は50〜500A程度である。 このような粒子中には、Co，Ni，Cr等が含有
される。そして、Ｏが含有されるとき、この粒子
表面には、金属と結合した状態で含まれるもので
ある。 このような第３部分は、50〜500A、より好ま
しくは100〜300Aの厚さであることが好ましい。 これは、50A未満となると、耐食性で十分な特
性が得られず、500Aをこえると、電磁変換特性
が不十分となることからである。 これに対し、第２部分は、基体主面の法線に対
して傾斜している結晶粒子の集合体からなる。 このような場合、第２部分の柱状結晶粒子は、
基体の主面の法線に対して、30゜以上の角度で傾
斜していることが好ましい。 また、各柱状結晶粒子は、第２部分の厚さ方向
全域に亘る長さをもち、その短径は、50〜500A
程度とされる。 そして、CoおよびNi，Cr等は、この結晶粒子
内に存在し、Ｏは各柱状結晶粒子の表面に主とし
て存在するものである。 このような第２部分は、500〜5000A、より好
ましくは700〜3000Aの厚さであることが好まし
い。 これは、この範囲を外れると十分な電磁変換特
性が得られないからである。 第１部分は、第３部分と同様、基体主面の法線
に対して傾斜していない結晶粒子の集合体からな
る。 この場合、傾斜していないとは、前記法線に対
して、±10゜以内の範囲にて法線していてもよいこ
とを意味する。 そして、各静止画像の長手方向径は、通常、第
１部分の厚さ方向全域に亘る長さをもつ。なお、
場合によつては、粒子が厚さ方向全域に亘つて成
長していなくてもよい。 また、その短径は50〜500A程度である。 このような粒子中には、Co，Ni，Cr等が含有
される。そして、Ｏが含有されるとき、この粒子
表面には、酸化物の形で含まれるものである。 このような第１部分は、50〜2000A、より好ま
しくは500〜1000Aであることが好ましい。 これは、50A未満となると、十分な膜強度が得
られず。また2000Aをこえると、電磁変換特性に
悪い影響が出るからである。 このような第１〜第３部分からなる磁性層のト
ータル厚は、通常、600〜5000Aとされる。 このような第１〜第３部分からなる磁性層は、
通常、基体上に直接設層される。ただ、場合によ
つては、所定の下地層を介して設層されてもよ
い。 この場合、第１部分および第３部分を設層する
には、通常スパツタリングないしいわゆる垂直蒸
着法によつて形成される。また、メツキによつて
形成してもよい。この場合、その被着条件は、広
範に選択できる。また、被着後にＯ導入のための
各種後処理を施すこともできる。 一方、第２部分は、通常、斜め蒸着法によつて
形成される。 用いる斜め蒸着法としては、公知の方法を用い
ればよく、基体主面の法線に対する入射角の最小
値は30゜以上とすることが好ましい。 なお、蒸着条件や後処理法等としては、公知の
方式に従えばよい。この場合、後処理法として
は、層中へのＯ導入のための各種処理法などがあ
る。 用いる基体には特に制限はないが、特に可とう
性の基体、特にポリエステル、ポリイミド等の樹
脂製のものであることが好ましい。 また、その厚さは、種々のものであつてよい
が、５〜20μmであることが好ましい。 そして、その磁性層形成面の裏面表面あらさ高
さのRMS値は、0.05μm以上であることが好まし
い。 これにより、電磁変換特性が向上する。 このような構成からなる本発明の媒体には、必
要に応じ、磁性層上に、さらに各種有機および無
機材料からなる最上層が形成されていてもよい。 発明の具体的作用効果 本発明の磁気記録媒体は、ビデオ用、オーデイ
オ用等の磁気記録媒体として有用である。 本発明によれば、耐酸化性、耐湿性等の耐食性
がきわめて高くなる。 また、膜強度がきわめて高くなり、スチルモー
ドでの耐久時間もきわめて長くなる。 そして、電磁変換特性の低下がなく、出力およ
びＳ／Ｎ比は高い。 さらに、走行摩擦は小さく、走行耐久性も高
い。 発明の具体的実施例 以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明を
さらに詳細に説明する。 実施例 １ 12μm厚のポリエチレンテレフタレート
（PET）フイルム上に、下記の第１〜第３部分を
順次積層、形成して、本発明の媒体に属するサン
プルAOを得た。 １） 第１部分 Co／Niの重量比４のCoNi合金を用い、PAr
＝１×10-1Pa，PO2＝１×10-1Paにて、RFス
パツタリングを行い、膜厚0.05μmの膜を形成
した。 ２） 第２部分 上記のCoNi合金を用い、斜め蒸着法により、
膜厚0.15μmの膜を形成した。この場合、蒸着
の際の入射角は50゜とし、雰囲気は、PAr＝２×
10-2Pa，PO2＝２×10-2Paとした。 ３） 第３部分 上記のCoNi合金を用い、PAr＝＝１×
10-1Pa，PO2＝１×10-1Paにて、RFスパツタ
リングにより、膜厚0.03μm膜を形成した。 この場合、第１〜第３部分とも、組成は
Co／Ni＝４（重量比），Ｏ／（Co＋Ni）＝0.02
（原子比）であつた。 また、各部分とも、厚さ方向全域に亘つて成
長した100〜200A径の柱状結晶粒子の集合体か
らなつていた。この場合、第１および第３部分
では、柱状結晶は、ほぼ基体主面と垂直をな
し、また、第２部分では、基体主面の法線と
40゜の角度で傾斜していた。 さらに、各部分とも、イオンミリングを行いな
がら、オージエ分光分析を行つたところ、Co，
Niは柱状結晶内部に存在し、Ｏは酸化物の形で、
結晶表面に存在していた。 これとは別に、上記１）〜３）の各部分の一部
の形成を省略して、下記表１に示されるサンプル
A1〜A3を得た。 これら各サンプルにつき、50℃、相対湿度98％
にて７日間放置し、振動式磁力計でサンプル１cm2
あたりの磁束量の変化△φmを測定し、耐食性を
評価した。 また、市販のVTR装置を用いて、スチル再生
テストを行い、再生出力が当初の1/2になるまで
の時間を測定して、膜強度を評価した。 これらの結果を表１に示す。 なお、表１には、上記第１部分を、Tiおよび
AlのPAr＝２×10-2Pa，PO2＝0.5×10-2Pa下での
垂直蒸着による0.1μmの膜にかえたサンプルA4、
A5の結果が併記される。 また、第１に示されるサンプルA6は、サンプ
ルA0における上記第１部分および第３部分を、
それぞれ、下記比較用の第１部分および第３部分
にかえたものである。 さらに、サンプルA7は、サンプルA3における
上記第３部分を、下記比較第３部分にかえたもの
である。 1′） 比較第１部分 上記の第２部分の斜め蒸着法による成膜にお
いて、入射角をかえ、傾斜角20゜の100〜200A
の柱状粒子が膜厚0.05μmの膜を形成した。 3′） 比較第３部分 上記比較第１部分と同様、傾斜角20゜の膜厚
0.03μmの膜を形成した。 これらの結果も、表１に併記される。
着法による連続薄膜型の磁性層を有する磁気記録
媒体に関する。 先行技術とその問題点 ビデオ用、オーデイオ用の磁気記録媒体とし
て、テープ化して巻回したときのコンパクト性か
ら、連続薄膜型の磁性層を有するものの開発が活
発に行われている。 このような連続薄膜型の媒体の磁性層として
は、特性上、基体法線に対し所定の傾斜面にて蒸
着を行う、いわゆる斜め蒸着法によつて形成した
Co、Co−Ni、Co−Ｏ、Co−Ni−Ｏ系等の蒸着
膜が最も好適である。 このような斜め蒸着法による薄膜磁性層は、基
体主面の法線に対して傾斜し、その長手方向径が
磁性層厚さ方向全域に及ぶ、柱状結晶粒子の集合
体として形成される。そして、Co，Ni等は、柱
状結晶粒子中に存在し、また、必要に応じ導入さ
れるＯは、柱状結晶粒子の表面に、酸化物を形成
して存在するものである。 しかし、このような磁性層は、酸化され易く、
耐食性に欠けるという欠点がある。 また、膜強度が低く、特にビデオ用の媒体で
は、スチルと称される静止画像モードでの耐久時
間が小さいという欠点がある。 これに対し、上記のような磁性層上に、各種有
機、無機の薄膜保護層を設層することが行われて
いる。 しかし、このようなときには、耐食性は向上し
ても、当然のことながら、磁性層の膜強度が向上
するものではなく、また、保護層設層によるスペ
ーシングロスのため、電磁変換特性が低下し、出
力およびＳ／Ｎ比が低下する。 また、上記のような磁性層上に下地層を設層し
て、膜の被着強度を向上することも行われている
が、膜の強度、耐食性、さらには走行性等の点で
未だ不十分である。 さらに、上記のような組成の連続薄膜からなる
磁性層であつて、いわゆる垂直蒸着、スパツタリ
ング、メツキ等によつて形成され、基体主面の法
線に沿つて配列された柱状結晶粒子の集合体から
なるものも知られている。そして、このような磁
性層にも、各種の保護層や下地層を形成する旨が
提案されている。 しかし、これらでも、膜強度、耐食性、走行性
等の特性をすべて改善するものは存在しない。 発明の目的 本発明は、このような実状に鑑みなされたもの
であつて、この主たる目的は、斜め蒸着法によつ
て形成されたCoを主成分とする磁性層を有する
磁気記録媒体において、膜強度が向上し、耐食性
が向上し、走行性のよい媒体を実現することにあ
る。 このような目的は、以下の本発明によつて達成
される。 すなわち本発明は、基体上に、Co、または、
CoならびにNi、CrおよびＯのうち１〜３種を含
む磁性層を有し、この磁性層が、基体側から順
に、基体主面法線に対して±10゜以内の角度の範
囲内にある結晶粒子の集合体からなる第１部分、
基体主面法線に対して30゜以上の角度で傾斜して
いる柱状結晶粒子の集合体からなる第２部分、お
よび基体主面法線に対して±10゜以内の角度の範
囲内にある結晶粒子の集合体からなる第３部分か
ら形成されていることを特徴とする磁気記録媒体
である。 発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明
する。 本発明の磁気記録媒体は、基体上に磁性層を有
する。 磁性層はCoを必須成分とし、通常、Co，Co＋
Ni，Co＋ＯまたはCo＋Ni＋Ｏからなる。 すなわち、Co単独からなつてもよく、CoとNi
からなつてもよい。Co＋Niである場合、Co／Ni
の重量比は、1.5以上であることが好ましい。 さらに、CoまたはCo＋Niに加え、Ｏが含まれ
ていてもよい。Ｏが含まれたときには、電磁変換
特性や走行耐久性の点で、より好ましい結果をう
る。 このような場合、Ｏ／Co（Niが含まれない場
合）あるいはＯ／（Co＋Ni）の原子比は0.2以
下、特に0.01〜0.1であることが好ましい。 一方、磁性層中には、Co，Co＋Ni，Co＋Ｏあ
るいはCo＋Ni＋Ｏに加え、Crが含有されると、
より一層好ましい結果を得る。 これは、電磁変換特性が向上し、出力および
Ｓ／Ｎ比が向上し、さらに膜強度が向上するから
である。 このような場合、Cr／Co（Niが含まれない場
合）あるいはCr／（Co＋Ni）の重量比は、0.001
〜0.1であることが好ましい。 この場合Cr／CoあるいはCr／（Co＋Ni）の重
量比は、0.005〜0.5であると、より一層好ましい
結果を得る。 なお、このような磁性層中には、さらに他の微
量成分、特に遷移元素、例えばFe，Mn，Ｖ，
Zn，Nb，Ta，Zr，Ti，Mo，Ｗ，Cu等が含まれ
ていてもよい。 このようなトータル組成をもつ磁性層は、第１
部分、第２部分および第３部分から形成されてい
る。 第３部分は、基体主面の法線に対して傾斜して
いない結晶粒子の集合体からなる。 この場合、傾斜していないとは、前記法線に対
して、±10゜以内の範囲にて傾斜していてもよいこ
とを含む意味である。 そして、各粒子の長手方向径は、通常、第３部
分の厚さ方向全域に亘る長さをもつ。なお、場合
によつては、粒子が厚さ方向全域に亘つて成長し
ていなくてもよい。 また、その短径は50〜500A程度である。 このような粒子中には、Co，Ni，Cr等が含有
される。そして、Ｏが含有されるとき、この粒子
表面には、金属と結合した状態で含まれるもので
ある。 このような第３部分は、50〜500A、より好ま
しくは100〜300Aの厚さであることが好ましい。 これは、50A未満となると、耐食性で十分な特
性が得られず、500Aをこえると、電磁変換特性
が不十分となることからである。 これに対し、第２部分は、基体主面の法線に対
して傾斜している結晶粒子の集合体からなる。 このような場合、第２部分の柱状結晶粒子は、
基体の主面の法線に対して、30゜以上の角度で傾
斜していることが好ましい。 また、各柱状結晶粒子は、第２部分の厚さ方向
全域に亘る長さをもち、その短径は、50〜500A
程度とされる。 そして、CoおよびNi，Cr等は、この結晶粒子
内に存在し、Ｏは各柱状結晶粒子の表面に主とし
て存在するものである。 このような第２部分は、500〜5000A、より好
ましくは700〜3000Aの厚さであることが好まし
い。 これは、この範囲を外れると十分な電磁変換特
性が得られないからである。 第１部分は、第３部分と同様、基体主面の法線
に対して傾斜していない結晶粒子の集合体からな
る。 この場合、傾斜していないとは、前記法線に対
して、±10゜以内の範囲にて法線していてもよいこ
とを意味する。 そして、各静止画像の長手方向径は、通常、第
１部分の厚さ方向全域に亘る長さをもつ。なお、
場合によつては、粒子が厚さ方向全域に亘つて成
長していなくてもよい。 また、その短径は50〜500A程度である。 このような粒子中には、Co，Ni，Cr等が含有
される。そして、Ｏが含有されるとき、この粒子
表面には、酸化物の形で含まれるものである。 このような第１部分は、50〜2000A、より好ま
しくは500〜1000Aであることが好ましい。 これは、50A未満となると、十分な膜強度が得
られず。また2000Aをこえると、電磁変換特性に
悪い影響が出るからである。 このような第１〜第３部分からなる磁性層のト
ータル厚は、通常、600〜5000Aとされる。 このような第１〜第３部分からなる磁性層は、
通常、基体上に直接設層される。ただ、場合によ
つては、所定の下地層を介して設層されてもよ
い。 この場合、第１部分および第３部分を設層する
には、通常スパツタリングないしいわゆる垂直蒸
着法によつて形成される。また、メツキによつて
形成してもよい。この場合、その被着条件は、広
範に選択できる。また、被着後にＯ導入のための
各種後処理を施すこともできる。 一方、第２部分は、通常、斜め蒸着法によつて
形成される。 用いる斜め蒸着法としては、公知の方法を用い
ればよく、基体主面の法線に対する入射角の最小
値は30゜以上とすることが好ましい。 なお、蒸着条件や後処理法等としては、公知の
方式に従えばよい。この場合、後処理法として
は、層中へのＯ導入のための各種処理法などがあ
る。 用いる基体には特に制限はないが、特に可とう
性の基体、特にポリエステル、ポリイミド等の樹
脂製のものであることが好ましい。 また、その厚さは、種々のものであつてよい
が、５〜20μmであることが好ましい。 そして、その磁性層形成面の裏面表面あらさ高
さのRMS値は、0.05μm以上であることが好まし
い。 これにより、電磁変換特性が向上する。 このような構成からなる本発明の媒体には、必
要に応じ、磁性層上に、さらに各種有機および無
機材料からなる最上層が形成されていてもよい。 発明の具体的作用効果 本発明の磁気記録媒体は、ビデオ用、オーデイ
オ用等の磁気記録媒体として有用である。 本発明によれば、耐酸化性、耐湿性等の耐食性
がきわめて高くなる。 また、膜強度がきわめて高くなり、スチルモー
ドでの耐久時間もきわめて長くなる。 そして、電磁変換特性の低下がなく、出力およ
びＳ／Ｎ比は高い。 さらに、走行摩擦は小さく、走行耐久性も高
い。 発明の具体的実施例 以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明を
さらに詳細に説明する。 実施例 １ 12μm厚のポリエチレンテレフタレート
（PET）フイルム上に、下記の第１〜第３部分を
順次積層、形成して、本発明の媒体に属するサン
プルAOを得た。 １） 第１部分 Co／Niの重量比４のCoNi合金を用い、PAr
＝１×10-1Pa，PO2＝１×10-1Paにて、RFス
パツタリングを行い、膜厚0.05μmの膜を形成
した。 ２） 第２部分 上記のCoNi合金を用い、斜め蒸着法により、
膜厚0.15μmの膜を形成した。この場合、蒸着
の際の入射角は50゜とし、雰囲気は、PAr＝２×
10-2Pa，PO2＝２×10-2Paとした。 ３） 第３部分 上記のCoNi合金を用い、PAr＝＝１×
10-1Pa，PO2＝１×10-1Paにて、RFスパツタ
リングにより、膜厚0.03μm膜を形成した。 この場合、第１〜第３部分とも、組成は
Co／Ni＝４（重量比），Ｏ／（Co＋Ni）＝0.02
（原子比）であつた。 また、各部分とも、厚さ方向全域に亘つて成
長した100〜200A径の柱状結晶粒子の集合体か
らなつていた。この場合、第１および第３部分
では、柱状結晶は、ほぼ基体主面と垂直をな
し、また、第２部分では、基体主面の法線と
40゜の角度で傾斜していた。 さらに、各部分とも、イオンミリングを行いな
がら、オージエ分光分析を行つたところ、Co，
Niは柱状結晶内部に存在し、Ｏは酸化物の形で、
結晶表面に存在していた。 これとは別に、上記１）〜３）の各部分の一部
の形成を省略して、下記表１に示されるサンプル
A1〜A3を得た。 これら各サンプルにつき、50℃、相対湿度98％
にて７日間放置し、振動式磁力計でサンプル１cm2
あたりの磁束量の変化△φmを測定し、耐食性を
評価した。 また、市販のVTR装置を用いて、スチル再生
テストを行い、再生出力が当初の1/2になるまで
の時間を測定して、膜強度を評価した。 これらの結果を表１に示す。 なお、表１には、上記第１部分を、Tiおよび
AlのPAr＝２×10-2Pa，PO2＝0.5×10-2Pa下での
垂直蒸着による0.1μmの膜にかえたサンプルA4、
A5の結果が併記される。 また、第１に示されるサンプルA6は、サンプ
ルA0における上記第１部分および第３部分を、
それぞれ、下記比較用の第１部分および第３部分
にかえたものである。 さらに、サンプルA7は、サンプルA3における
上記第３部分を、下記比較第３部分にかえたもの
である。 1′） 比較第１部分 上記の第２部分の斜め蒸着法による成膜にお
いて、入射角をかえ、傾斜角20゜の100〜200A
の柱状粒子が膜厚0.05μmの膜を形成した。 3′） 比較第３部分 上記比較第１部分と同様、傾斜角20゜の膜厚
0.03μmの膜を形成した。 これらの結果も、表１に併記される。
【表】
表１に示される結果から、本発明の効果があ
きらかである。 なお、サンプルA0は、実走行において、ま
つたく問題がなかつた。 実施例 ２ 実施例１の、CoNi合金を、Co／Ni／Cr＝75／
20／５（重量比）の、CoNiCr合金にかえて、下
記のようにして、第１〜第３部分を形成して、表
２に示される、サンプルB0〜B3を得た。 １） 第１部分 PAr＝１×10-1Pa，PO2＝１×10-1PaでのRF
スパツタリングによる、0.1μm厚の膜。Co／
Ni／Cr＝75／20／５（重量比）、Ｏ／（Co＋
Ni）＝0.02（原子比）。 ２） 第２部分 PAr＝２×10-2Pa，PO2＝1.5×10-2Paでの、
入射角45゜の斜め蒸着法による0.2μmの膜。
Co／Ni／Cr＝75／20／５（重量比）、Ｏ／（Co
＋Ni）＝0.02（原子比）。 ３） 第３部分 上記第１部分と同一の条件下での、0.02μm
厚の膜。 これらの結果を表２に示す。
きらかである。 なお、サンプルA0は、実走行において、ま
つたく問題がなかつた。 実施例 ２ 実施例１の、CoNi合金を、Co／Ni／Cr＝75／
20／５（重量比）の、CoNiCr合金にかえて、下
記のようにして、第１〜第３部分を形成して、表
２に示される、サンプルB0〜B3を得た。 １） 第１部分 PAr＝１×10-1Pa，PO2＝１×10-1PaでのRF
スパツタリングによる、0.1μm厚の膜。Co／
Ni／Cr＝75／20／５（重量比）、Ｏ／（Co＋
Ni）＝0.02（原子比）。 ２） 第２部分 PAr＝２×10-2Pa，PO2＝1.5×10-2Paでの、
入射角45゜の斜め蒸着法による0.2μmの膜。
Co／Ni／Cr＝75／20／５（重量比）、Ｏ／（Co
＋Ni）＝0.02（原子比）。 ３） 第３部分 上記第１部分と同一の条件下での、0.02μm
厚の膜。 これらの結果を表２に示す。
【表】
表２に示される結果から、本発明の効果があ
きらかである。 なお、サンプルB0は、実走行においても、
まつたく問題がなかつた。
きらかである。 なお、サンプルB0は、実走行においても、
まつたく問題がなかつた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 基体上に、Co、または、CoならびにNi、Cr
およびＯのうちの１〜３種を含む磁性層を有し、
この磁性層が、基体側から順に、基体主面法線に
対して±10゜以内の角度の範囲内にある結晶粒子
の集合体からなる第１部分、基体主面法線に対し
て30゜以上の角度で傾斜している柱状結晶粒子の
集合体からなる第２部分、および基体主面法線に
対して±10゜以内の角度の範囲内にある結晶粒子
の集合体からなる第３部分から形成されているこ
とを特徴とする磁気記録媒体。 ２ 第１部分の厚さが50〜2000Aである特許請求
の範囲第１項に記載の磁気記録媒体。 ３ 第２部分の厚さが500〜5000Aである特許請
求の範囲第１項または第２項に記載の磁気記録媒
体。 ４ 第３部分の厚さが50〜500Aである特許請求
の範囲第１項ないし第３項のいずれかに記載の磁
気記録媒体。 ５ 磁性層の厚さが600〜5000Aである特許請求
の範囲第１項ないし第４項のいずれかに記載の磁
気記録媒体。 ６ 磁性層がNiを含み、Co／Niの重量比が1.5以
上である特許請求の範囲第１項ないし第５項のい
ずれかに記載の磁気記録媒体。 ７ 磁性層がCrを含み、Cr／（CoまたはCo＋
Ni）の重量比が0.001〜0.1である特許請求の範囲
第１項ないし第６項のいずれかに記載の磁気記録
媒体。 ８ 磁性層がＯを含み、Ｏ／（CoまたはCo＋
Ni）の重量比が0.2以下である特許請求の範囲第
１項ないし第７項のいずれかに記載の磁気記録媒
体。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57232698A JPS59119534A (ja) | 1982-12-26 | 1982-12-26 | 磁気記録媒体 |
| US06/562,002 US4548871A (en) | 1982-12-26 | 1983-12-16 | Magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57232698A JPS59119534A (ja) | 1982-12-26 | 1982-12-26 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59119534A JPS59119534A (ja) | 1984-07-10 |
| JPH0357533B2 true JPH0357533B2 (ja) | 1991-09-02 |
Family
ID=16943365
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57232698A Granted JPS59119534A (ja) | 1982-12-26 | 1982-12-26 | 磁気記録媒体 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4548871A (ja) |
| JP (1) | JPS59119534A (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5198309A (en) * | 1984-11-14 | 1993-03-30 | Nihon Shinku Gijutsu Kabushiki Kaisha | Magnetic recording member |
| JPS61217925A (ja) * | 1985-03-23 | 1986-09-27 | Victor Co Of Japan Ltd | 磁気記録媒体 |
| US4677032A (en) * | 1985-09-23 | 1987-06-30 | International Business Machines Corporation | Vertical magnetic recording media with multilayered magnetic film structure |
| US5082750A (en) * | 1988-10-21 | 1992-01-21 | Kubota Ltd. | Magnetic recording medium of thin metal film type |
| US5316631A (en) * | 1989-02-16 | 1994-05-31 | Victor Company Of Japan, Ltd. | Method for fabricating a magnetic recording medium |
| JP2897840B2 (ja) * | 1990-05-10 | 1999-05-31 | ティーディーケイ株式会社 | 磁気記録媒体 |
| EP0477641A3 (en) * | 1990-09-11 | 1993-05-05 | Tdk Corporation | Magnetic recording medium for digital recording |
| JPH0573881A (ja) * | 1991-09-17 | 1993-03-26 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6037970B2 (ja) * | 1976-11-12 | 1985-08-29 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体の製法 |
| JPS6033289B2 (ja) * | 1979-07-18 | 1985-08-02 | 松下電器産業株式会社 | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
| JPS56134321A (en) * | 1980-03-21 | 1981-10-21 | Olympus Optical Co Ltd | Magnetic recording medium |
| JPS56134317A (en) * | 1980-03-25 | 1981-10-21 | Tdk Corp | Magnetic recording medium |
| JPS56143519A (en) * | 1980-04-08 | 1981-11-09 | Tdk Corp | Magnetic recording medium and manufacturing device |
| JPS56148729A (en) * | 1980-04-21 | 1981-11-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording medium |
| JPS5720919A (en) * | 1980-07-15 | 1982-02-03 | Tdk Corp | Magnetic recording medium and its manufacture |
| JPS5728309A (en) * | 1980-07-28 | 1982-02-16 | Tdk Corp | Magnetic recording medium |
| JPS5798133A (en) * | 1980-12-05 | 1982-06-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium |
| JPS5814324A (ja) * | 1981-07-17 | 1983-01-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1982
- 1982-12-26 JP JP57232698A patent/JPS59119534A/ja active Granted
-
1983
- 1983-12-16 US US06/562,002 patent/US4548871A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4548871A (en) | 1985-10-22 |
| JPS59119534A (ja) | 1984-07-10 |
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