JPH0362932A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
- Publication number
- JPH0362932A JPH0362932A JP1198314A JP19831489A JPH0362932A JP H0362932 A JPH0362932 A JP H0362932A JP 1198314 A JP1198314 A JP 1198314A JP 19831489 A JP19831489 A JP 19831489A JP H0362932 A JPH0362932 A JP H0362932A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lead frame
- pellet
- semiconductor
- wire
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/50—Bond wires
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W90/00—Package configurations
- H10W90/811—Multiple chips on leadframes
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/50—Bond wires
- H10W72/541—Dispositions of bond wires
- H10W72/5449—Dispositions of bond wires not being orthogonal to a side surface of the chip, e.g. fan-out arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/50—Bond wires
- H10W72/541—Dispositions of bond wires
- H10W72/547—Dispositions of multiple bond wires
- H10W72/5473—Dispositions of multiple bond wires multiple bond wires connected to a common bond pad
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/50—Bond wires
- H10W72/551—Materials of bond wires
- H10W72/552—Materials of bond wires comprising metals or metalloids, e.g. silver
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/50—Bond wires
- H10W72/551—Materials of bond wires
- H10W72/552—Materials of bond wires comprising metals or metalloids, e.g. silver
- H10W72/5522—Materials of bond wires comprising metals or metalloids, e.g. silver comprising gold [Au]
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/50—Bond wires
- H10W72/59—Bond pads specially adapted therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/851—Dispositions of multiple connectors or interconnections
- H10W72/874—On different surfaces
- H10W72/884—Die-attach connectors and bond wires
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/90—Bond pads, in general
- H10W72/921—Structures or relative sizes of bond pads
- H10W72/923—Bond pads having multiple stacked layers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/90—Bond pads, in general
- H10W72/931—Shapes of bond pads
- H10W72/932—Plan-view shape, i.e. in top view
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/90—Bond pads, in general
- H10W72/951—Materials of bond pads
- H10W72/952—Materials of bond pads comprising metals or metalloids, e.g. PbSn, Ag or Cu
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W74/00—Encapsulations, e.g. protective coatings
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W90/00—Package configurations
- H10W90/701—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
- H10W90/731—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of die-attach connectors
- H10W90/736—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of die-attach connectors between a chip and a stacked lead frame, conducting package substrate or heat sink
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W90/00—Package configurations
- H10W90/701—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
- H10W90/751—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
- H10W90/753—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between laterally-adjacent chips
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W90/00—Package configurations
- H10W90/701—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
- H10W90/751—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
- H10W90/756—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between a chip and a stacked lead frame, conducting package substrate or heat sink
Landscapes
- Wire Bonding (AREA)
- Die Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
この発明ぽ半導体装置に係わり、特に同一半導体装置内
にて、一つの半導体ペレットと、他の半導体ペレットと
をワイヤボンディングにて互いに電気的に接続した半導
体装置に関する。
にて、一つの半導体ペレットと、他の半導体ペレットと
をワイヤボンディングにて互いに電気的に接続した半導
体装置に関する。
(従来の技術)
同一半導体装置内にて、半導体ペレットと、半導体ペレ
ットとをワイヤボンディングにてそれぞれ電気的に接続
した従来の半導体装置を第8図および第9図に示す。第
8図、および第9図の各参照符号はそれぞれ対応するも
のとする。
ットとをワイヤボンディングにてそれぞれ電気的に接続
した従来の半導体装置を第8図および第9図に示す。第
8図、および第9図の各参照符号はそれぞれ対応するも
のとする。
まず、第8図に示す従来装置について説明する。
リードフレーム1(11,12)上に、半導体ベレッ)
2(2,,2□)が固着されている。これらの半導体ペ
レット2I 22には、それぞれアルミニウムからな
る電極4+ 4□が形成されている。これらの半導体
ペレット2.と、22との電気的接続の方法は、−旦、
ダミーリード1aを介して、金からなるワイヤ3.32
の2本のワイヤによって行なわれている。
2(2,,2□)が固着されている。これらの半導体ペ
レット2I 22には、それぞれアルミニウムからな
る電極4+ 4□が形成されている。これらの半導体
ペレット2.と、22との電気的接続の方法は、−旦、
ダミーリード1aを介して、金からなるワイヤ3.32
の2本のワイヤによって行なわれている。
このように、=旦、ダミーリード1aを介して、異なる
半導体ペレット4.と、4□とを、金ワイヤ3】 32
によって電気的に接続する理山として以下に説明する点
が上げられる。
半導体ペレット4.と、4□とを、金ワイヤ3】 32
によって電気的に接続する理山として以下に説明する点
が上げられる。
すなわち、第9図に示す従来装置のように、アルミニウ
ム電極4、と、4゜とを直接、金ワイヤ3で接続すると
、どちらか一方のアルミニウム電極に対して、金ワイヤ
3がウェッジボンディングされる箇所が必ず生じる。同
図では、アルミニウム電極4□に対して金ワイヤ3がウ
ェッジボンディングされている。このウェッジボンディ
ングされている箇所を7bとし、また、これと対応させ
て、ボールボンディングされている箇所を7aとして第
8図、および第9図に示す。このように、例えば金ワイ
ヤ3と、アルミニウム電極4□、すなわち、金とアルミ
ニウムの組み合わせでウェッジボンディングされてしま
うと、金と、アルミニウムとが互いに反応しあって合金
化が進行する。
ム電極4、と、4゜とを直接、金ワイヤ3で接続すると
、どちらか一方のアルミニウム電極に対して、金ワイヤ
3がウェッジボンディングされる箇所が必ず生じる。同
図では、アルミニウム電極4□に対して金ワイヤ3がウ
ェッジボンディングされている。このウェッジボンディ
ングされている箇所を7bとし、また、これと対応させ
て、ボールボンディングされている箇所を7aとして第
8図、および第9図に示す。このように、例えば金ワイ
ヤ3と、アルミニウム電極4□、すなわち、金とアルミ
ニウムの組み合わせでウェッジボンディングされてしま
うと、金と、アルミニウムとが互いに反応しあって合金
化が進行する。
この合金化の進行と共に、金ワイヤ3には、クラックが
発生、成長し、最期には金ワイヤ3の断線に至るという
、半導体装置の信頼性に著しい悪影響を及ぼす欠点があ
る。このため、従来の半導体装置では、第8図に示した
ように、−旦、ダミリード1aを介して、ここに対して
、ウェッジボンデングされる箇所7bがくるようにして
、半導体ペレット41と、4□とを、ワイヤボンディン
グにてそれぞれ電気的に接続を行なっているわけである
。ここで、ダミーリード1aを構成する材料としては、
例えばニッケルと鉄との合金等に銀メツキを施したもの
等が用いられる。例えば銀に対して、金がウェッジボン
ディングされている箇所7bにおける合金化は、上記の
ような金と、アルミニウムとの合金化に比較して、さほ
ど署しいものではない。
発生、成長し、最期には金ワイヤ3の断線に至るという
、半導体装置の信頼性に著しい悪影響を及ぼす欠点があ
る。このため、従来の半導体装置では、第8図に示した
ように、−旦、ダミリード1aを介して、ここに対して
、ウェッジボンデングされる箇所7bがくるようにして
、半導体ペレット41と、4□とを、ワイヤボンディン
グにてそれぞれ電気的に接続を行なっているわけである
。ここで、ダミーリード1aを構成する材料としては、
例えばニッケルと鉄との合金等に銀メツキを施したもの
等が用いられる。例えば銀に対して、金がウェッジボン
ディングされている箇所7bにおける合金化は、上記の
ような金と、アルミニウムとの合金化に比較して、さほ
ど署しいものではない。
尚、ボールボンディングされている箇所7aにおいては
、金とアルミニウムとの合金化は制限され、クラックの
発生に至るまで、合金化が進行することはほとんどない
。
、金とアルミニウムとの合金化は制限され、クラックの
発生に至るまで、合金化が進行することはほとんどない
。
しかしながら、第8図に示す従来装置では、ダミーリー
ド1aを必要とするために、半導体装置のピン数が増加
し、パッケージの大きさも増大するという不利益が生じ
ている。また、特にピン数、およびパッケージの大きさ
に制限のある半導体装置には、上記従来装置の使用が困
難であるという問題もある。
ド1aを必要とするために、半導体装置のピン数が増加
し、パッケージの大きさも増大するという不利益が生じ
ている。また、特にピン数、およびパッケージの大きさ
に制限のある半導体装置には、上記従来装置の使用が困
難であるという問題もある。
これらの点を解決する手段について、現在、様々な検討
がされている。例えばピン数、およびパッケージの大き
さを増加させずに、ダミーリードを使用する方法として
、ダミーリードを本来のビンの位置以外の箇所に形成し
、モールド後、切断する方法が検討されている。ところ
がこの方法では、ダミーリードの一部が必ずモールド外
に露出して残ってしまう。このため、表面リークが増大
し、安全現格上問題になる場合が多々ある。そこで、ダ
ミーリードの切断箇所をモールド外に露出させない方法
として、切断後、再度モールドを行なうダブルモールド
も考えられている。しかしながら、ダブルモールドは、
技術的に困難であり、フレーム設計の白山度も低下し、
コストアップになるという欠点を持っている。
がされている。例えばピン数、およびパッケージの大き
さを増加させずに、ダミーリードを使用する方法として
、ダミーリードを本来のビンの位置以外の箇所に形成し
、モールド後、切断する方法が検討されている。ところ
がこの方法では、ダミーリードの一部が必ずモールド外
に露出して残ってしまう。このため、表面リークが増大
し、安全現格上問題になる場合が多々ある。そこで、ダ
ミーリードの切断箇所をモールド外に露出させない方法
として、切断後、再度モールドを行なうダブルモールド
も考えられている。しかしながら、ダブルモールドは、
技術的に困難であり、フレーム設計の白山度も低下し、
コストアップになるという欠点を持っている。
また、ダミーリードを使用しない方法としては、半導体
ベレットに形成されている電極を構成する材料として、
金を用いる方法が検討されている。
ベレットに形成されている電極を構成する材料として、
金を用いる方法が検討されている。
しかしながら、この方法では、金と、半導体ペレット内
のシリコンとが互いに反応しあい、特にベレット内部の
素子の特性の変動を招くという問題がある。
のシリコンとが互いに反応しあい、特にベレット内部の
素子の特性の変動を招くという問題がある。
(発明が解決しようとする課題)
この発明は上記のような点に鑑みて為されたもので、半
導体ペレット同士をワイヤボンディングにて、互いに電
気的に接続することを、半導体装置のビン数増加、およ
びパッケージサイズ増大を招くことなく、かつ半導体装
置の信頼性を低下させることなく達成できる半導体装置
を提供することを目的とする。
導体ペレット同士をワイヤボンディングにて、互いに電
気的に接続することを、半導体装置のビン数増加、およ
びパッケージサイズ増大を招くことなく、かつ半導体装
置の信頼性を低下させることなく達成できる半導体装置
を提供することを目的とする。
[発明の構成]
(課題を解決するための手段)
この発明による第1の半導体装置によれば、(イ)ボン
ディングワイヤが接続される電極を備えた半導体ベレッ
トを複数個有する半導体装置において、 少なくとも1つの半導体ベレットが固着されたリードフ
レームを複数本有し、これらのリードフレームのうち少
なくとも1本のリードフレーム上に、ボンディングワイ
ヤが接続される電極として使用されるダミーペレットが
固着され、上記半導体ベレットの電極相互間が、上記ダ
ミーペレットの電極を介してそれぞれワイヤボンディン
グされていることを特徴とする。
ディングワイヤが接続される電極を備えた半導体ベレッ
トを複数個有する半導体装置において、 少なくとも1つの半導体ベレットが固着されたリードフ
レームを複数本有し、これらのリードフレームのうち少
なくとも1本のリードフレーム上に、ボンディングワイ
ヤが接続される電極として使用されるダミーペレットが
固着され、上記半導体ベレットの電極相互間が、上記ダ
ミーペレットの電極を介してそれぞれワイヤボンディン
グされていることを特徴とする。
また、第2の半導体装置によれば、(ロ)ボンディング
ワイヤが接続される電極を備えた半導体ベレットを複数
個有する半導体装置において、少なくとも1つの半導体
ベレットが固着された複数本の第1のリードフレームと
、所定電位が印加され、電極として使用される少なくと
も1本の第2のリードフレームとを有し、これら第1、
第2のリードフレームのうち少なくとも1本の第2のリ
ードフレーム上に、ボンディングワイヤが接続される電
極として使用されるダミーペレットが固着され、上記′
+導体ベレットの電極相互間が、上記ダミーペレットの
電極を介してそれぞれワイヤボンディングされているこ
とを特徴とする。
ワイヤが接続される電極を備えた半導体ベレットを複数
個有する半導体装置において、少なくとも1つの半導体
ベレットが固着された複数本の第1のリードフレームと
、所定電位が印加され、電極として使用される少なくと
も1本の第2のリードフレームとを有し、これら第1、
第2のリードフレームのうち少なくとも1本の第2のリ
ードフレーム上に、ボンディングワイヤが接続される電
極として使用されるダミーペレットが固着され、上記′
+導体ベレットの電極相互間が、上記ダミーペレットの
電極を介してそれぞれワイヤボンディングされているこ
とを特徴とする。
さらに、(イ)項あるいは(ロ)項記載の半導体装置に
おいて、(ハ)前記ワイヤを構成する材料と、ダミーペ
レットの電極を構成する材料とがおのおの同一材料であ
ることを特徴とする。
おいて、(ハ)前記ワイヤを構成する材料と、ダミーペ
レットの電極を構成する材料とがおのおの同一材料であ
ることを特徴とする。
さらに、(ハ)項記載の半導体装置において、前記ワイ
ヤを構成する材料、およびダミーペレットの電極を構成
する材料が金であることを特徴とする。
ヤを構成する材料、およびダミーペレットの電極を構成
する材料が金であることを特徴とする。
(作用)
上記のような半導体装置にあっては、リードフレーム上
に固着されている半導体ペレヅト同士をワイヤボンディ
ングにて電気的に接続する際、上記リードフレーム上に
固着されている電極としてのみ使用されるダミーペレッ
トを介することにより、半導体ベレットに存在する電極
に対するウェッジボンディングを回避することができ、
半導体ベレットの電極は、常にポールボンディングにて
ワイヤとの接続がなされるようになる。この結果、半導
体ベレットの電極を構成する材料には、ワイヤを構成す
る材料に関係なく素子の特性に影響を与えない材料を選
択することができ、半導体ペレット内に形成されている
素子の信頼性の低下を招くことはない。
に固着されている半導体ペレヅト同士をワイヤボンディ
ングにて電気的に接続する際、上記リードフレーム上に
固着されている電極としてのみ使用されるダミーペレッ
トを介することにより、半導体ベレットに存在する電極
に対するウェッジボンディングを回避することができ、
半導体ベレットの電極は、常にポールボンディングにて
ワイヤとの接続がなされるようになる。この結果、半導
体ベレットの電極を構成する材料には、ワイヤを構成す
る材料に関係なく素子の特性に影響を与えない材料を選
択することができ、半導体ペレット内に形成されている
素子の信頼性の低下を招くことはない。
また、ダミーペレットの電極は、常にウェッジボンディ
ングにてワイヤとの接続がなきれるが、ここには半導体
装置の動作に関係する素子は形成されないことから、電
極を構成する材料を、ワイヤ材料との合金化の進行がそ
れ程でもない材料に選択することができる。例えばワイ
ヤを構成する材料と同一材料とすることもできる。この
結果、ウェッジボンディングにて生じるワイヤ材料と、
電極材料との合金化によるワイヤの信頼性の低下、特に
クラックの発生および成長によって引き起こされる断線
に関する信頼性の低下が坐じることはなくなる。
ングにてワイヤとの接続がなきれるが、ここには半導体
装置の動作に関係する素子は形成されないことから、電
極を構成する材料を、ワイヤ材料との合金化の進行がそ
れ程でもない材料に選択することができる。例えばワイ
ヤを構成する材料と同一材料とすることもできる。この
結果、ウェッジボンディングにて生じるワイヤ材料と、
電極材料との合金化によるワイヤの信頼性の低下、特に
クラックの発生および成長によって引き起こされる断線
に関する信頼性の低下が坐じることはなくなる。
さらに、上記ダミーペレットの固着場所としては、半導
体ペレットが少なくとも1つ固着されているリードフレ
ーム、あるいは電極として使用されているリードフレー
ムが利用されることから、新たなリードフレームの増加
、すなわち、ピン数の増加を招くことはなく、半導体装
置のパッケージサイズが増大することもなくなる。
体ペレットが少なくとも1つ固着されているリードフレ
ーム、あるいは電極として使用されているリードフレー
ムが利用されることから、新たなリードフレームの増加
、すなわち、ピン数の増加を招くことはなく、半導体装
置のパッケージサイズが増大することもなくなる。
(実施例)
以下、図面を参照してこの発明の実施例に係わる半導体
装置について説明する。
装置について説明する。
第1図は、この発明の第1の実施例に係わる半導体装置
の、特にリードフレーム部分に着目して図示した平面図
である。
の、特にリードフレーム部分に着目して図示した平面図
である。
まず、第1図に示すように、リードフレーム1(11,
12)上には、半導体ペレット2(2゜2□)が固着さ
れている。リードフレーム1を構成する材料としては、
例えばニッケルと鉄との合金等に銀メツキを施したもの
である。上記半導体ペレット21.2゜には、それぞれ
、例えばアルミニウムからなる電極4、4□が形成され
ている。さらに、リードフレーム1□上には、ダミーペ
レット8が固着されている。
12)上には、半導体ペレット2(2゜2□)が固着さ
れている。リードフレーム1を構成する材料としては、
例えばニッケルと鉄との合金等に銀メツキを施したもの
である。上記半導体ペレット21.2゜には、それぞれ
、例えばアルミニウムからなる電極4、4□が形成され
ている。さらに、リードフレーム1□上には、ダミーペ
レット8が固着されている。
上記半導体ペレット2.と、22との電気的接続の方法
は、−旦、ダミーペレット8を介して、例えば金からな
るワイヤ3I 32の2本のワイヤによって行なわれて
いる。この時、例えば金ワイヤ3. 3□をワイヤボン
ディングする際、半導体ペレット21 2□上に存在す
る、例えばアルミニウムからなる電極4142に対して
は、常にボールボンディングされるようにする(このボ
ールボンディングされる箇所には7aの参照符号を付し
、図中に示す)。一方、ダミーペレット8上に存在する
電極(第1図では図示せず)に対しては、辞にウェッジ
ボンディングされるようにする(このウェッジボンディ
ングされる箇所には7bの参照符号を付し、図中に示す
)。
は、−旦、ダミーペレット8を介して、例えば金からな
るワイヤ3I 32の2本のワイヤによって行なわれて
いる。この時、例えば金ワイヤ3. 3□をワイヤボン
ディングする際、半導体ペレット21 2□上に存在す
る、例えばアルミニウムからなる電極4142に対して
は、常にボールボンディングされるようにする(このボ
ールボンディングされる箇所には7aの参照符号を付し
、図中に示す)。一方、ダミーペレット8上に存在する
電極(第1図では図示せず)に対しては、辞にウェッジ
ボンディングされるようにする(このウェッジボンディ
ングされる箇所には7bの参照符号を付し、図中に示す
)。
このように、本箱1の実施例では、例えば金ワイヤ3I
32のボンディングの状態を、半導体装置の動作に関
係する素子を持つ半導体ペレット2! 2□の電極4、
42にはボールボンディング、また、半導体装置の動作
に関係する素子を持たないダミーペレット8の電極には
ウェッジボンディングされるように限定する。この結果
、半導体ペレット2.2□の電極414□を構成する材
料には、素子に対する影響の少ない材料を、ワイヤ3I
32を構成する材料に関係なく選択することができる
ようになる。例えば第1の実施例中の電極材料はアルミ
ニウムであることから、半導体ペレット21.2□内に
、おのおの形成されている素子の信頼性の低下を招くこ
とはない。
32のボンディングの状態を、半導体装置の動作に関
係する素子を持つ半導体ペレット2! 2□の電極4、
42にはボールボンディング、また、半導体装置の動作
に関係する素子を持たないダミーペレット8の電極には
ウェッジボンディングされるように限定する。この結果
、半導体ペレット2.2□の電極414□を構成する材
料には、素子に対する影響の少ない材料を、ワイヤ3I
32を構成する材料に関係なく選択することができる
ようになる。例えば第1の実施例中の電極材料はアルミ
ニウムであることから、半導体ペレット21.2□内に
、おのおの形成されている素子の信頼性の低下を招くこ
とはない。
一方、ダミーペレット8の電極を構成する材料には、ワ
イヤ313□がウェッジボンディングされでも、ワイヤ
材料との合金化の進行がそれ程でもない材料を選択する
ことができるようになる。
イヤ313□がウェッジボンディングされでも、ワイヤ
材料との合金化の進行がそれ程でもない材料を選択する
ことができるようになる。
例えばダミーペレット8の電極を構成する材料は、リー
ドフレーム1を構成する材料、すなわち銀、ニッケルと
鉄との合金等に銀をメツキしたものでも良い。また、ワ
イヤ3132を構成する材料と同一材料を選択しても良
い。例えば第1の実施例中のワイヤ材料は、通常使用さ
れている金である。そこで、ダミーペレット8の電極は
金にて形成する。このように、ワイヤ3.32を構成す
る材料と、ダミーペレット8の電極を構成する材料とを
1.−11−材料とすることで、ウェッジボンディング
にて生じるワイヤ材料と、電極材料との合金化によるワ
イヤの信頼性の低下、特にクラックの発生および成長に
よって引き起こされる断線に関する信頼性の低下がいっ
そう回避され、ワイヤの信頼性がより向上する。
ドフレーム1を構成する材料、すなわち銀、ニッケルと
鉄との合金等に銀をメツキしたものでも良い。また、ワ
イヤ3132を構成する材料と同一材料を選択しても良
い。例えば第1の実施例中のワイヤ材料は、通常使用さ
れている金である。そこで、ダミーペレット8の電極は
金にて形成する。このように、ワイヤ3.32を構成す
る材料と、ダミーペレット8の電極を構成する材料とを
1.−11−材料とすることで、ウェッジボンディング
にて生じるワイヤ材料と、電極材料との合金化によるワ
イヤの信頼性の低下、特にクラックの発生および成長に
よって引き起こされる断線に関する信頼性の低下がいっ
そう回避され、ワイヤの信頼性がより向上する。
また、上記第1の実施例でのダミーペレット8の固着場
所としては、半導体ペレット2□が固着されているリー
ドフレーム11が利用されている。
所としては、半導体ペレット2□が固着されているリー
ドフレーム11が利用されている。
このことから、従来のようにダミーリードを設ける必要
はなくなり、リードフレームの増加、すなわち、ビン数
の増加を招くことはなく、半導体装置のパッケージサイ
ズが増大することはない。
はなくなり、リードフレームの増加、すなわち、ビン数
の増加を招くことはなく、半導体装置のパッケージサイ
ズが増大することはない。
次に、第2図および第3図を参照して、上記ダミーペレ
ット8の構造例について説明する。
ット8の構造例について説明する。
まず、第1の構造例としては、第2図に示すように、例
えばシリコンからなる基板8a上には、絶縁物として、
例えばシリコン酸化膜8bが形成され、このシリコン酸
化膜8b上には電極8Cが形成されている。電極8Cは
、上記シリコン酸化膜8bによって、ダミーペレットが
固着されるリードフレームと、互いに電気的に絶縁され
る構造となる。この電極8C上には、ワイヤ3が、ウェ
ッジボンディングの状態(図中の7bに示す)にて接続
されている。ここで、電極8Cを構成する材料としては
、ワイヤ材料との合金化の進行がそれ程でもない材料、
あるいは同一の材料を選択する。例えばワイヤ3を構成
する材料が金であったとすると、電極8Cを構成する材
料には、銀、あるいは金等を用いる。
えばシリコンからなる基板8a上には、絶縁物として、
例えばシリコン酸化膜8bが形成され、このシリコン酸
化膜8b上には電極8Cが形成されている。電極8Cは
、上記シリコン酸化膜8bによって、ダミーペレットが
固着されるリードフレームと、互いに電気的に絶縁され
る構造となる。この電極8C上には、ワイヤ3が、ウェ
ッジボンディングの状態(図中の7bに示す)にて接続
されている。ここで、電極8Cを構成する材料としては
、ワイヤ材料との合金化の進行がそれ程でもない材料、
あるいは同一の材料を選択する。例えばワイヤ3を構成
する材料が金であったとすると、電極8Cを構成する材
料には、銀、あるいは金等を用いる。
このような、第1の構造例の製造方法としては、シリコ
ン基板8a上に、シリコン酸化膜8bを形成し、さらに
、この上部に電極8cとなる銀や金等を蒸着させれば良
い。したがって、既存の半導体製造装置にて容易に形成
することができ、新たな設備投資を行なう必要はない。
ン基板8a上に、シリコン酸化膜8bを形成し、さらに
、この上部に電極8cとなる銀や金等を蒸着させれば良
い。したがって、既存の半導体製造装置にて容易に形成
することができ、新たな設備投資を行なう必要はない。
しかも、シリコンが主構成材料となっていることから、
ダミーペレット8の製造コストは、比較的安いものとな
る。
ダミーペレット8の製造コストは、比較的安いものとな
る。
さらに、上記シリコン基板8aは、例えば歩留り落ちし
たシリコンウェーハからのり出されたもので形成するこ
とも可能であり、シリコンウェーへの無駄のない有効利
用も達成可能である。
たシリコンウェーハからのり出されたもので形成するこ
とも可能であり、シリコンウェーへの無駄のない有効利
用も達成可能である。
また、この第1の構造例で、ワイヤ3の材料が金である
場合、電極8Cを構成する材料としては、金を用いるこ
とがより望ましい。なぜならば金は、銀に比較して加工
性に優れていること、ワイヤ3の材料が金であることか
ら、電極8Cの材料と、ワイヤ3と同一材料とすること
により、ワイヤの信頼性をいっそう向上させることがで
きるためである。
場合、電極8Cを構成する材料としては、金を用いるこ
とがより望ましい。なぜならば金は、銀に比較して加工
性に優れていること、ワイヤ3の材料が金であることか
ら、電極8Cの材料と、ワイヤ3と同一材料とすること
により、ワイヤの信頼性をいっそう向上させることがで
きるためである。
次に、第2の構造例を第3図に示して説明する。
第3図に示すように、絶縁物からなる誘電体基板8d上
に、直接、電極8cを形成しても良い。このような構造
であっても、電極8cは、上記誘電体基板8dによって
、ダミーペレットが固着されるリードフレームと、亙い
に電気的に絶縁されるようになる。また、この第2の構
造例でも、この電極8c上には、ワイヤ3が、ウェッジ
ボンディングの状態(図中の7bに示す)にて接続され
る。
に、直接、電極8cを形成しても良い。このような構造
であっても、電極8cは、上記誘電体基板8dによって
、ダミーペレットが固着されるリードフレームと、亙い
に電気的に絶縁されるようになる。また、この第2の構
造例でも、この電極8c上には、ワイヤ3が、ウェッジ
ボンディングの状態(図中の7bに示す)にて接続され
る。
ここで、ワイヤ3を構成する材料と、電極8cを構成す
る材料とは、上記第1の構造側同様、ワイヤ材料との合
金化の進行がそれ程でもない材料、あるいは同一の材料
を選択する。例えばワイヤ3を構成する材料が金であっ
たとすると、電極8cを構成する材料には、銀、あるい
は金等を用いる。
る材料とは、上記第1の構造側同様、ワイヤ材料との合
金化の進行がそれ程でもない材料、あるいは同一の材料
を選択する。例えばワイヤ3を構成する材料が金であっ
たとすると、電極8cを構成する材料には、銀、あるい
は金等を用いる。
この第2の構造例の場合でも、ワイヤ3の材料が金であ
る場合、電Th8cを構成する材料には、会を用いるこ
とがより望ましい。
る場合、電Th8cを構成する材料には、会を用いるこ
とがより望ましい。
次に、第4図を参照して、この発明の第2の実施例に係
わる半導体装置について説明する。
わる半導体装置について説明する。
第4図は、この発明の第2の実施例に係わる半導体装置
の、特にリードフレーム部分に着目して図示した平面図
である。第4図において、各参照する符号は第1図と対
応するものとする。
の、特にリードフレーム部分に着目して図示した平面図
である。第4図において、各参照する符号は第1図と対
応するものとする。
第4図に示すように、リードフレーム1 (1゜1□、
1.)上に、半導体ベレット2(2゜27123)がそ
れぞれ固着されている。リードフレーム1を構成する材
料としては、例えばニッケルと鉄との合金等に銀メツキ
を施したものである。上記半導体ベレット2には、それ
ぞれ、例えばアルミニウムからなる電極4(41〜46
)が形成されている。さらに、リードフレーム13上に
は、ダミーペレット8が、絶縁物5を介して固着されて
いる。
1.)上に、半導体ベレット2(2゜27123)がそ
れぞれ固着されている。リードフレーム1を構成する材
料としては、例えばニッケルと鉄との合金等に銀メツキ
を施したものである。上記半導体ベレット2には、それ
ぞれ、例えばアルミニウムからなる電極4(41〜46
)が形成されている。さらに、リードフレーム13上に
は、ダミーペレット8が、絶縁物5を介して固着されて
いる。
上記半導体ベレット21と、2□と、2.の各相互間の
電気的接続は、−旦、ダミーペレット8を介して、例え
ば金からなるワイヤ3I 32.3、の3本のワイヤに
よって行なわれる第1の手段と、さらにもう一つリード
フレーム11を介して、例えば金からなるワイヤ34.
39.36の3本のワイヤによって行なわれる第2の手
段との2種の手段が用いられている。この時、上記第1
の手段に係わる、例えば金ワイヤ3.〜3.をワイヤボ
ンディングする際、上記第1の実施例同様、例えばアル
ミニウムからなる電極4.43.4、に対しては、常に
ボールボンディングされるようにする(このボールボン
ディングされる箇所には7aの参照符号を付し、図中に
示す)。一方、ダミーペレット8上に存在する電極(第
4図では図示せず)に対しては、常にウェッジボンディ
ングされるようにする(このウェッジボンディングされ
る箇所には7bの参照符号を付し、図中に示す)。また
、第2の手段に係わる、例えば金ワイヤ34〜3I、を
ワイヤボンディングする際、例えばアルミニウムからな
る電極4□、44.46に対しては、常にボールボンデ
ィングされるようにする(このボールボンディングされ
る箇所には7aの参照符号を付し、図中に示す)。一方
、リードフレーム13に対しては、常にウェッジボンデ
ィングされるようにする(このウェッジボンディングさ
れる箇所には7bの参照符号を付し、図中に示す)。
電気的接続は、−旦、ダミーペレット8を介して、例え
ば金からなるワイヤ3I 32.3、の3本のワイヤに
よって行なわれる第1の手段と、さらにもう一つリード
フレーム11を介して、例えば金からなるワイヤ34.
39.36の3本のワイヤによって行なわれる第2の手
段との2種の手段が用いられている。この時、上記第1
の手段に係わる、例えば金ワイヤ3.〜3.をワイヤボ
ンディングする際、上記第1の実施例同様、例えばアル
ミニウムからなる電極4.43.4、に対しては、常に
ボールボンディングされるようにする(このボールボン
ディングされる箇所には7aの参照符号を付し、図中に
示す)。一方、ダミーペレット8上に存在する電極(第
4図では図示せず)に対しては、常にウェッジボンディ
ングされるようにする(このウェッジボンディングされ
る箇所には7bの参照符号を付し、図中に示す)。また
、第2の手段に係わる、例えば金ワイヤ34〜3I、を
ワイヤボンディングする際、例えばアルミニウムからな
る電極4□、44.46に対しては、常にボールボンデ
ィングされるようにする(このボールボンディングされ
る箇所には7aの参照符号を付し、図中に示す)。一方
、リードフレーム13に対しては、常にウェッジボンデ
ィングされるようにする(このウェッジボンディングさ
れる箇所には7bの参照符号を付し、図中に示す)。
このように、本節2の実施例においても、半導体装置の
動作に関係する素子を持つ半導体ペレット2.〜23の
電極41〜4t、に対しては、常にワイヤ31〜36が
ボールボンディング7aの状態にてボンディングされる
ようにする。また、半導体装置の動作に関係する素子を
持たないダミーペレット8の電極、およびリードフレー
ム1.に対しては、常にワイヤ3、〜36がウェッジボ
ンディング7bの状態にてボンディングされるようにす
る。この結果、上記第1の実施例同様、半導体ベレット
2□〜23内に、おのおの形成されている素子の信頼性
の低下は起こらず、ワイヤ31〜36の信頼性が低下す
ることもない。
動作に関係する素子を持つ半導体ペレット2.〜23の
電極41〜4t、に対しては、常にワイヤ31〜36が
ボールボンディング7aの状態にてボンディングされる
ようにする。また、半導体装置の動作に関係する素子を
持たないダミーペレット8の電極、およびリードフレー
ム1.に対しては、常にワイヤ3、〜36がウェッジボ
ンディング7bの状態にてボンディングされるようにす
る。この結果、上記第1の実施例同様、半導体ベレット
2□〜23内に、おのおの形成されている素子の信頼性
の低下は起こらず、ワイヤ31〜36の信頼性が低下す
ることもない。
また、本節2の実施例でのダミーペレット8の固着場所
としては、半導体ベレット23が固着されているリード
フレーム1.が利用されている。
としては、半導体ベレット23が固着されているリード
フレーム1.が利用されている。
このことから、従来のようにダミーリードを設ける必要
はない。さらに、上記リードフレーム1゜を製作する際
に、両隣に位置する他のリードフレーム11、および1
゜に対して、第4図に示すような所定の切り欠き部を設
けておく。そして、この切り欠き部内部に、上記リード
フレーム1.の一部が入り込むように製作すれば、平面
から見たリードフレーム面積の有効な利用、特にインナ
リード領域にかかる面積が有効に利用される。よって、
半導体装置のパッケージサイズの不用意なる増大を抑制
することができ、しかも、リードフレーム13と、リー
ドフレーム13、および1□上に固着されている半導体
ペレット28、および2□とのワイヤボンディングが容
易となる。
はない。さらに、上記リードフレーム1゜を製作する際
に、両隣に位置する他のリードフレーム11、および1
゜に対して、第4図に示すような所定の切り欠き部を設
けておく。そして、この切り欠き部内部に、上記リード
フレーム1.の一部が入り込むように製作すれば、平面
から見たリードフレーム面積の有効な利用、特にインナ
リード領域にかかる面積が有効に利用される。よって、
半導体装置のパッケージサイズの不用意なる増大を抑制
することができ、しかも、リードフレーム13と、リー
ドフレーム13、および1□上に固着されている半導体
ペレット28、および2□とのワイヤボンディングが容
易となる。
次に、第5図を参照して、上記ダミーペレット8の第3
の構造例について説明する。
の構造例について説明する。
第5図は、第4図に示したリードフレーム1゜のダミー
ペレット8が固着された領域の断面図である。第5図に
示すように、リードフレーム13上には、これの少なく
とも一部が絶縁物5によって被覆された状態の領域が存
在している。この絶縁物5上には、例えば絶縁ペースト
9によって、例えばシリコンからなる基板8aが接着さ
れている。このペースト9は、下地に絶縁物5のような
絶縁体がイj在している場合、導電性であっても購わな
い。基板8a上には、電極8cが形成されている。この
場合、電極8Cと、基板8aとは同電位の状態である。
ペレット8が固着された領域の断面図である。第5図に
示すように、リードフレーム13上には、これの少なく
とも一部が絶縁物5によって被覆された状態の領域が存
在している。この絶縁物5上には、例えば絶縁ペースト
9によって、例えばシリコンからなる基板8aが接着さ
れている。このペースト9は、下地に絶縁物5のような
絶縁体がイj在している場合、導電性であっても購わな
い。基板8a上には、電極8cが形成されている。この
場合、電極8Cと、基板8aとは同電位の状態である。
これらによって構成されたダミーペレット8は、上記絶
縁物5、および絶縁ペースト9によって、リードフレー
ム1.と、互いに電気的に絶縁される構造となる。この
電極8c上には、ワイヤ313□が、ウェッジボンディ
ングの状!!(図中の7bに示す)にて接続されている
。ここで、電極8Cを構成する材料としては、ワイヤ材
料との合金化の進行がそれ程でもない材料、あるいは同
一の材料を選択する。例えばワイヤ3を構成する材料が
金であったとすると、電極8Cを構成する材料には、銀
、あるいは金等を用いる。
縁物5、および絶縁ペースト9によって、リードフレー
ム1.と、互いに電気的に絶縁される構造となる。この
電極8c上には、ワイヤ313□が、ウェッジボンディ
ングの状!!(図中の7bに示す)にて接続されている
。ここで、電極8Cを構成する材料としては、ワイヤ材
料との合金化の進行がそれ程でもない材料、あるいは同
一の材料を選択する。例えばワイヤ3を構成する材料が
金であったとすると、電極8Cを構成する材料には、銀
、あるいは金等を用いる。
このような第3の構造例の特徴としては、リードフレー
ム13と、ダミーペレット8とが、絶縁物5によって互
いに絶線されている点から、基板8aと、電極8Cとの
絶縁を考慮する必要がなくなり、基板8aを構成する材
料の選択性が高まる点が上げられる。
ム13と、ダミーペレット8とが、絶縁物5によって互
いに絶線されている点から、基板8aと、電極8Cとの
絶縁を考慮する必要がなくなり、基板8aを構成する材
料の選択性が高まる点が上げられる。
この第3の構造例の場合でも、ワイヤ3の材料が金であ
る場合、電極8Cを構成する材料には金を用いることが
より望ましい。
る場合、電極8Cを構成する材料には金を用いることが
より望ましい。
次に、第6図を参照して、この発明の第3の実施例に係
わる半導体装置について説明する。
わる半導体装置について説明する。
第6図は、この発明の第3の実施例に係わる半導体装置
の、特にリードフレーム部分に着口して図示した平面図
である。第6図において、各参照する符号は第1図と対
応するものとする。
の、特にリードフレーム部分に着口して図示した平面図
である。第6図において、各参照する符号は第1図と対
応するものとする。
第6囚に示すように、第1のリードフレーム11上には
、半導体ベレット21が固着され、第2のリードフレー
ム1□上には、半導体ベレット22.23がそれぞれ固
着されている。これらの半導体ベレット2(21〜2.
)には、それぞれ、例えばアルミニウムからなる電極4
(41〜45)が形成されている。第3のリードフレー
ム13は、所定電位を供給する電極として使用されるリ
ードフレームである。第3のリードフレーム1.上には
、ダミーペレット8が固着されている。また、第1〜第
3のリードフレーム11〜1.を構成する材料としては
、第1、第2の実施例同様、例えばニッケルと鉄との合
金等に銀メツキを施したものである。
、半導体ベレット21が固着され、第2のリードフレー
ム1□上には、半導体ベレット22.23がそれぞれ固
着されている。これらの半導体ベレット2(21〜2.
)には、それぞれ、例えばアルミニウムからなる電極4
(41〜45)が形成されている。第3のリードフレー
ム13は、所定電位を供給する電極として使用されるリ
ードフレームである。第3のリードフレーム1.上には
、ダミーペレット8が固着されている。また、第1〜第
3のリードフレーム11〜1.を構成する材料としては
、第1、第2の実施例同様、例えばニッケルと鉄との合
金等に銀メツキを施したものである。
上記半導体ペレット2□と、2.との相互間の電気的接
続は、−旦、電極として使用されるリードフレーム1.
上に固着されたダミーペレット8を介して、例えば金か
らなるワイヤ3□、3□の2本のワイヤによって行なわ
れている。また、例えば金からなるワイヤ3.〜3.は
、第3のリードフレーム13に直接ウェッジボンディン
グされ、第3のリードフレーム13から、半導体ベレッ
ト21〜2.に対して、所定電位を供給する配線として
機能している。
続は、−旦、電極として使用されるリードフレーム1.
上に固着されたダミーペレット8を介して、例えば金か
らなるワイヤ3□、3□の2本のワイヤによって行なわ
れている。また、例えば金からなるワイヤ3.〜3.は
、第3のリードフレーム13に直接ウェッジボンディン
グされ、第3のリードフレーム13から、半導体ベレッ
ト21〜2.に対して、所定電位を供給する配線として
機能している。
このような場合でも、半導体ペレット2□と、2、とを
電気的に接続する、例えば金ワイヤ3、〜32をワイヤ
ボンディングする際に、上記第1、第2の実施例同様、
例えばアルミニウムからなる電極4□、45に対しては
、常にボールボンディングされるようにする(このボー
ルボンディングされる箇所には7aの参照符号を付し、
図中に示す)。−h′、ダミーペレット8上に存(Eす
る電極(第6図では図示せず)に対しては、常にウェッ
ジボンディングされるようにする(このウェッジボンデ
ィングされる箇所には7bの参照符号を付し、図中に示
す)。また、半導体ベレット21〜2、に対して所定電
位を供給する、例えば金ワイヤ33〜35をワイヤボン
ディングする際に、例えばアルミニウムからなる電極4
143.45に対しては、常にボールボンディングされ
るようにする(このボールボンディングされる箇所には
7aの参照符号を付し、図中に示す)。一方、リードフ
レーム1.に対しては、常にウェッジボンディングされ
るようにする(このウェッジボンディングされる箇所に
は7bの参照符号を付し、図中に示す)。
電気的に接続する、例えば金ワイヤ3、〜32をワイヤ
ボンディングする際に、上記第1、第2の実施例同様、
例えばアルミニウムからなる電極4□、45に対しては
、常にボールボンディングされるようにする(このボー
ルボンディングされる箇所には7aの参照符号を付し、
図中に示す)。−h′、ダミーペレット8上に存(Eす
る電極(第6図では図示せず)に対しては、常にウェッ
ジボンディングされるようにする(このウェッジボンデ
ィングされる箇所には7bの参照符号を付し、図中に示
す)。また、半導体ベレット21〜2、に対して所定電
位を供給する、例えば金ワイヤ33〜35をワイヤボン
ディングする際に、例えばアルミニウムからなる電極4
143.45に対しては、常にボールボンディングされ
るようにする(このボールボンディングされる箇所には
7aの参照符号を付し、図中に示す)。一方、リードフ
レーム1.に対しては、常にウェッジボンディングされ
るようにする(このウェッジボンディングされる箇所に
は7bの参照符号を付し、図中に示す)。
このように、水弟3の実施例においても、半導体装置の
動作に関係する素子を持つ半導体ペレット2.〜23の
電極41〜45に対しては、常にワイヤ31〜3.がボ
ールボンディング7aの状態にてボンディングされるよ
うにする。また、半導体装置の動作に関係する素子を持
たないダミーペレット8の電極、およびリードフレーム
1.に対しては、常にワイヤ3、〜3.がウェッジボン
ディング7bの状態にてボンディングされるようにする
。この結果、上記第1、第2の実施例同様、半導体ベレ
ット2、〜2.内に、おのおの形成されている素子の信
頼性の低下は起こらず、ワイヤ3、〜3.の信頼性が低
下することもない。
動作に関係する素子を持つ半導体ペレット2.〜23の
電極41〜45に対しては、常にワイヤ31〜3.がボ
ールボンディング7aの状態にてボンディングされるよ
うにする。また、半導体装置の動作に関係する素子を持
たないダミーペレット8の電極、およびリードフレーム
1.に対しては、常にワイヤ3、〜3.がウェッジボン
ディング7bの状態にてボンディングされるようにする
。この結果、上記第1、第2の実施例同様、半導体ベレ
ット2、〜2.内に、おのおの形成されている素子の信
頼性の低下は起こらず、ワイヤ3、〜3.の信頼性が低
下することもない。
また、水弟3の実施例でのダミーペレット8の固着場所
としては、所定電位が印加され、電極として使用されて
いる第2のリードフレーム1.が利用されている。つま
り、従来のように、新たにダミーリードを設ける必要は
ない。さらに、上記リードフレーム1.を製作する際に
、両隣に位置する他のリードフレーム11%および1□
に対して、第6図に示すように、あらかじめ小さめにし
ておく。例えば、電極として使用されているリードフレ
ーム1.に、図示するように装置内部の延長方向に半導
体ベレット2.が配置できるスペースが設けられるよう
に製作する。このように、リードフレーム1.が小さめ
に製作することにより、他のリードフレーム1. およ
び1゜に比較して、余剰となっている領域に、上記リー
ドフレーム12が一部入り込むように製作でき、平面か
ら見たリードフレーム面積のH効な利用、特にインナー
リード領域にかかる面積が有効に利用される。
としては、所定電位が印加され、電極として使用されて
いる第2のリードフレーム1.が利用されている。つま
り、従来のように、新たにダミーリードを設ける必要は
ない。さらに、上記リードフレーム1.を製作する際に
、両隣に位置する他のリードフレーム11%および1□
に対して、第6図に示すように、あらかじめ小さめにし
ておく。例えば、電極として使用されているリードフレ
ーム1.に、図示するように装置内部の延長方向に半導
体ベレット2.が配置できるスペースが設けられるよう
に製作する。このように、リードフレーム1.が小さめ
に製作することにより、他のリードフレーム1. およ
び1゜に比較して、余剰となっている領域に、上記リー
ドフレーム12が一部入り込むように製作でき、平面か
ら見たリードフレーム面積のH効な利用、特にインナー
リード領域にかかる面積が有効に利用される。
よって、半導体装置のパッケージサイズの不用意なる増
大を抑制することができ、しかも、リードフレーム1.
と、リードフレーム11、および12上に固着されてい
る半導体ペレット21〜2、とのワイヤボンディングも
容易となる。
大を抑制することができ、しかも、リードフレーム1.
と、リードフレーム11、および12上に固着されてい
る半導体ペレット21〜2、とのワイヤボンディングも
容易となる。
尚、この第3の実施例で説明した半導体ベレット同士の
電気的読手段は、同一半導体パッケージ中において、上
記第1、第2の実施例で説明した電気的接続手段と、混
用されても構わないことは勿論である。
電気的読手段は、同一半導体パッケージ中において、上
記第1、第2の実施例で説明した電気的接続手段と、混
用されても構わないことは勿論である。
さらに、ダミーペレット8の構造としては、例えば上述
した第1〜第3の構造例であって良い。
した第1〜第3の構造例であって良い。
このように、ダミーペレット8の構造を、第1〜第3の
構造例とすることで、所定電位が印加されているリード
フレーム1.と、ダミーペレット8上の電極とを電気的
に分離することができる。この結果、リードフレーム1
.の電位に関係なく、半導体ベレット22と、2.とを
、ダミーペレット8を介したワイヤボンディングにて、
それぞれ電気的に接続することが可能となる。
構造例とすることで、所定電位が印加されているリード
フレーム1.と、ダミーペレット8上の電極とを電気的
に分離することができる。この結果、リードフレーム1
.の電位に関係なく、半導体ベレット22と、2.とを
、ダミーペレット8を介したワイヤボンディングにて、
それぞれ電気的に接続することが可能となる。
次に、第7図を参照して、この発明の応用例に係わる半
導体装置について説明する。
導体装置について説明する。
第7図は、この発明の応用例に係わる半導体装置の、特
にリードフレーム部分に着目して図示した平面図である
。第7図において、各参照する符号は第1図と対応する
ものとする。
にリードフレーム部分に着目して図示した平面図である
。第7図において、各参照する符号は第1図と対応する
ものとする。
第7図に示すように、リードフレーム1゜1□、および
1.の3本のリードフレームのうち、中央に位置するリ
ードフレーム12上に半導体ベレット2が固着されてい
る。さらに、リードフレーム1□上には、ダミーペレッ
ト8が固着されている。また、このリードフレーム1□
には、所定の第1の電位が印加されているものとする。
1.の3本のリードフレームのうち、中央に位置するリ
ードフレーム12上に半導体ベレット2が固着されてい
る。さらに、リードフレーム1□上には、ダミーペレッ
ト8が固着されている。また、このリードフレーム1□
には、所定の第1の電位が印加されているものとする。
リードフレーム1□の両隣には、リードフレーム1゜お
よび1.が存在しており、リードフレーム1、には、上
記第1の電位を異なる所定の第2の電位が印加されてい
るものとする。
よび1.が存在しており、リードフレーム1、には、上
記第1の電位を異なる所定の第2の電位が印加されてい
るものとする。
このような状態でリードフレームII〜1.が配設され
、リードフレーム11の第2の電位を、第1の電位が印
加されているリードフレーム12を挟んで存在している
リードフレーム13に対して伝えたい場合、−旦、ダミ
ーペレット8を介して、ワイヤ31、および32の2本
のワイヤによって、リードフレーム1.と、リードフレ
ーム1□とを間電位になるよう接続する。
、リードフレーム11の第2の電位を、第1の電位が印
加されているリードフレーム12を挟んで存在している
リードフレーム13に対して伝えたい場合、−旦、ダミ
ーペレット8を介して、ワイヤ31、および32の2本
のワイヤによって、リードフレーム1.と、リードフレ
ーム1□とを間電位になるよう接続する。
このような応用例にかかる半導体装置であると、リード
フレーム1□上に固着されているダミーペレット8を介
して、リードフレーム1□の両隣に存(1ニジているリ
ードフレーム11と、1.とを、ワイヤ30.3□にて
接続している。すなわち、異なる電位が印加されている
リードフレームをワイヤが跨ぐことはない。この結果、
第2の電位が印加されているリードフレーム11から、
第1の電位が印加されているリードフレーム12を挟ん
で存在しているリードフレーム13に対して、短絡の恐
れを低減させて電気的接続を図ることができる。
フレーム1□上に固着されているダミーペレット8を介
して、リードフレーム1□の両隣に存(1ニジているリ
ードフレーム11と、1.とを、ワイヤ30.3□にて
接続している。すなわち、異なる電位が印加されている
リードフレームをワイヤが跨ぐことはない。この結果、
第2の電位が印加されているリードフレーム11から、
第1の電位が印加されているリードフレーム12を挟ん
で存在しているリードフレーム13に対して、短絡の恐
れを低減させて電気的接続を図ることができる。
また、この応用例に用いられるダミーペレット8の構造
は、上述した第1ないし第3の構造例と同様のものであ
って構わない。ただし、ダミーペレット8の電極を構成
する材料は、ワイヤ3を構成する材料との合金化がそれ
程でもない材料に限定してやる必要は。必ずしもない。
は、上述した第1ないし第3の構造例と同様のものであ
って構わない。ただし、ダミーペレット8の電極を構成
する材料は、ワイヤ3を構成する材料との合金化がそれ
程でもない材料に限定してやる必要は。必ずしもない。
これは、第7図に示すように、ワイヤ31.3□がウェ
ッジボンディングされる部分7bを、リードフレーム1
6、および1.側にくるようにし、ボールボンディング
される部分7aを、ダミーペレット8の電極側にくるよ
うにもできるためである。
ッジボンディングされる部分7bを、リードフレーム1
6、および1.側にくるようにし、ボールボンディング
される部分7aを、ダミーペレット8の電極側にくるよ
うにもできるためである。
以上、この発明の実施例かかる半導体装置、および応用
例にかかる半導体装置を説明してきたが、ワイヤの材料
、電極の材料等は、上述した金、銀、アルミニウム等に
限定されることはなく、種々変更して実施することが可
能である。この場合、第1〜第3の実施例にあっては、
ダミーペレットの電極の材料は、ワイヤの材料との合金
化がそれ程でもない材料が選択されることは言うまでも
ない。
例にかかる半導体装置を説明してきたが、ワイヤの材料
、電極の材料等は、上述した金、銀、アルミニウム等に
限定されることはなく、種々変更して実施することが可
能である。この場合、第1〜第3の実施例にあっては、
ダミーペレットの電極の材料は、ワイヤの材料との合金
化がそれ程でもない材料が選択されることは言うまでも
ない。
また、ダミーペレットを構成する基板の材料も、シリコ
ン等に限定されるものでははなく、シリコン以外の良導
体、あるいは絶縁物を用いても良いことは言うまでもな
い。
ン等に限定されるものでははなく、シリコン以外の良導
体、あるいは絶縁物を用いても良いことは言うまでもな
い。
[発明の効果コ
以上説明したようにこの発明によれば、同一半導体装置
内にて、半導体ペレット同士をワイヤボンディングにて
、亙いに電気的に接続することを、半導体装置のピン数
増加、およびパッケージサイズ増大を招くことなく、か
つ半導体装置の信頼性を低下させることなく達成できる
半導体装置が提供される。
内にて、半導体ペレット同士をワイヤボンディングにて
、亙いに電気的に接続することを、半導体装置のピン数
増加、およびパッケージサイズ増大を招くことなく、か
つ半導体装置の信頼性を低下させることなく達成できる
半導体装置が提供される。
第1図はこの発明の第1の実施例に係わる半導体装置の
平面図、第2図および第3図はダミーペレットの第1お
よび第2の構逍例を示す断面図、第4図はこの発明の第
2の実施例に係わる半導体装置の平面図、第5図はダミ
ーペレットの第3の構造例、第6図はこの発明の第3の
実施例に係わる半導体装置の平面図、第7図はこの発明
の応用例に係わる半導体装置の平面図、第8図および第
9図は従来の半導体装置の平面図である。 II〜13・・・リードフレーム、2,2.〜2゜・・
・半導体ペレット、3,31〜36・・・ワイヤ、41
〜4.、・・・電極、5・・・絶縁物、7a・・・ポー
ルボンディング箇所、7b・・・ウェッジボンディング
箇所、8a・・・基板、8b・・・絶線物、8C・・・
電極、8d・・・誘電体基板、9・・・絶縁ペースト。
平面図、第2図および第3図はダミーペレットの第1お
よび第2の構逍例を示す断面図、第4図はこの発明の第
2の実施例に係わる半導体装置の平面図、第5図はダミ
ーペレットの第3の構造例、第6図はこの発明の第3の
実施例に係わる半導体装置の平面図、第7図はこの発明
の応用例に係わる半導体装置の平面図、第8図および第
9図は従来の半導体装置の平面図である。 II〜13・・・リードフレーム、2,2.〜2゜・・
・半導体ペレット、3,31〜36・・・ワイヤ、41
〜4.、・・・電極、5・・・絶縁物、7a・・・ポー
ルボンディング箇所、7b・・・ウェッジボンディング
箇所、8a・・・基板、8b・・・絶線物、8C・・・
電極、8d・・・誘電体基板、9・・・絶縁ペースト。
Claims (5)
- (1)ボンディングワイヤが接続される電極を備えた半
導体ペレットを複数個有する半導体装置において、 少なくとも1つの半導体ペレットが固着されたリードフ
レームを複数本有し、これらのリードフレームのうち少
なくとも1本のリードフレーム上に、ボンディングワイ
ヤが接続される電極として使用されるダミーペレットが
固着され、上記半導体ペレットの電極相互間が、上記ダ
ミーペレットの電極を介してそれぞれワイヤボンディン
グされていることを特徴とする半導体装置。 - (2)ボンディングワイヤが接続される電極を備えた半
導体ペレットを複数個有する半導体装置において、 少なくとも1つの半導体ペレットが固着された複数本の
第1のリードフレームと、所定電位が印加され、電極と
して使用される少なくとも1本の第2のリードフレーム
とを有し、これら第1、第2のリードフレームのうち少
なくとも1本の第2のリードフレーム上に、ボンディン
グワイヤが接続される電極として使用されるダミーペレ
ットが固着され、上記半導体ペレットの電極相互間が、
上記ダミーペレットの電極を介してそれぞれワイヤボン
ディングされていることを特徴とする半導体装置。 - (3)前記ワイヤを構成する材料と、ダミーペレットの
電極を構成する材料とがおのおの同一材料であることを
特徴とする請求項(1)あるいは(2)記載の半導体装
置。 - (4)前記ワイヤを構成する材料、およびダミーペレッ
トの電極を構成する材料が金であることを特徴とする請
求項(3)記載の半導体装置。 - (5)所定第1電位が印加されている第1のリードフレ
ームから、上記所定第1電位を第2のリードフレームに
ワイヤボンディングによって供給する半導体装置におい
て、 上記第1のリードフレームと、第2のリードフレームと
の間に、所定第2電位が印加されている第3のリードフ
レームが設けられ、この第3のリードフレーム上にボン
ディングワイヤが接続される電極として使用されるダミ
ーペレットが固着され、このダミーペレットの電極を介
して、上記第1のリードフレームと、第2のリードフレ
ームとがワイヤボンディングにてそれぞれ電気的に接続
されていることを特徴とする半導体装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1198314A JPH0691119B2 (ja) | 1989-07-31 | 1989-07-31 | 半導体装置 |
| KR1019900011372A KR930010084B1 (ko) | 1989-07-31 | 1990-07-26 | 반도체장치 |
| US07/558,513 US5075758A (en) | 1989-07-31 | 1990-07-27 | Semiconductor device |
| DE69030411T DE69030411T2 (de) | 1989-07-31 | 1990-07-31 | Leiterrahmen für Halbleiteranordnung |
| EP90114692A EP0415106B1 (en) | 1989-07-31 | 1990-07-31 | Lead frames for semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1198314A JPH0691119B2 (ja) | 1989-07-31 | 1989-07-31 | 半導体装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0362932A true JPH0362932A (ja) | 1991-03-19 |
| JPH0691119B2 JPH0691119B2 (ja) | 1994-11-14 |
Family
ID=16389066
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1198314A Expired - Lifetime JPH0691119B2 (ja) | 1989-07-31 | 1989-07-31 | 半導体装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5075758A (ja) |
| EP (1) | EP0415106B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0691119B2 (ja) |
| KR (1) | KR930010084B1 (ja) |
| DE (1) | DE69030411T2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5442228A (en) * | 1992-04-06 | 1995-08-15 | Motorola, Inc. | Monolithic shielded integrated circuit |
| US6066890A (en) * | 1995-11-13 | 2000-05-23 | Siliconix Incorporated | Separate circuit devices in an intra-package configuration and assembly techniques |
| US5789816A (en) * | 1996-10-04 | 1998-08-04 | United Microelectronics Corporation | Multiple-chip integrated circuit package including a dummy chip |
| DE29924183U1 (de) | 1998-05-05 | 2002-03-28 | International Rectifier Corp., El Segundo, Calif. | Gehäuse und Leitungsrahmen für ein Halbleiterbauelement hoher Stromleitfähigkeit, mit großflächigen Verbindungsschlüssen und veränderter Form |
| US6476481B2 (en) | 1998-05-05 | 2002-11-05 | International Rectifier Corporation | High current capacity semiconductor device package and lead frame with large area connection posts and modified outline |
| US8148825B2 (en) * | 2007-06-05 | 2012-04-03 | Stats Chippac Ltd. | Integrated circuit package system with leadfinger |
| JP2010010653A (ja) * | 2008-05-26 | 2010-01-14 | Panasonic Corp | 回路基板、リードフレーム、半導体装置及びその製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62196839A (ja) * | 1986-02-24 | 1987-08-31 | Toshiba Corp | ハイブリツド型半導体装置 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1196452A (en) * | 1967-01-19 | 1970-06-24 | Lucas Industries Ltd | Semiconductor Circuits |
| US3736475A (en) * | 1969-10-02 | 1973-05-29 | Gen Electric | Substrate supported semiconductive stack |
| US3896473A (en) * | 1973-12-04 | 1975-07-22 | Bell Telephone Labor Inc | Gallium arsenide schottky barrier avalance diode array |
| US4303935A (en) * | 1977-12-13 | 1981-12-01 | Robert Bosch Gmbh | Semiconductor apparatus with electrically insulated heat sink |
-
1989
- 1989-07-31 JP JP1198314A patent/JPH0691119B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-07-26 KR KR1019900011372A patent/KR930010084B1/ko not_active Expired - Lifetime
- 1990-07-27 US US07/558,513 patent/US5075758A/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-07-31 EP EP90114692A patent/EP0415106B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-07-31 DE DE69030411T patent/DE69030411T2/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62196839A (ja) * | 1986-02-24 | 1987-08-31 | Toshiba Corp | ハイブリツド型半導体装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0415106B1 (en) | 1997-04-09 |
| KR930010084B1 (ko) | 1993-10-14 |
| EP0415106A2 (en) | 1991-03-06 |
| JPH0691119B2 (ja) | 1994-11-14 |
| EP0415106A3 (en) | 1992-04-15 |
| DE69030411T2 (de) | 1997-08-14 |
| US5075758A (en) | 1991-12-24 |
| KR910003797A (ko) | 1991-02-28 |
| DE69030411D1 (de) | 1997-05-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6541846B2 (en) | Dual LOC semiconductor assembly employing floating lead finger structure | |
| US8035221B2 (en) | Clip mount for integrated circuit leadframes | |
| KR0144164B1 (ko) | 엘오씨 반도체 패키지 및 반도체 장치를 패키징하는 방법 | |
| US20010048148A1 (en) | Semiconductor device and a method of manufacturing the same | |
| JPH0350758A (ja) | 樹脂封止型半導体装置 | |
| JPH0455341B2 (ja) | ||
| JPH05175409A (ja) | 樹脂封止型半導体装置 | |
| JPH0362932A (ja) | 半導体装置 | |
| US20060049523A1 (en) | Wire-bonding method for connecting wire-bond pads and chip and the structure formed thereby | |
| JP2538717B2 (ja) | 樹脂封止型半導体装置 | |
| JP2601228B2 (ja) | 樹脂封止型回路装置の製造方法 | |
| JP2810626B2 (ja) | 半導体装置 | |
| JPH0666354B2 (ja) | 半導体装置 | |
| JPH0754841B2 (ja) | 絶縁物封止型回路装置 | |
| JP2869596B2 (ja) | 樹脂封止型半導体装置 | |
| KR940008340B1 (ko) | 반도체 장치용 리이드 프레임 | |
| JPH0666351B2 (ja) | 半導体集積回路 | |
| JPS61137334A (ja) | 半導体装置 | |
| JPH0513658A (ja) | 半導体装置用リードフレーム | |
| JPH05291478A (ja) | 樹脂封止型半導体装置 | |
| JPH04151842A (ja) | 半導体装置 | |
| JPH06283659A (ja) | 半導体装置 | |
| JPS63266841A (ja) | 樹脂封止型半導体装置 | |
| JPH01189131A (ja) | ワイヤボンディング用リード細線 | |
| JPH047103B2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071114 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081114 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091114 Year of fee payment: 15 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091114 Year of fee payment: 15 |