JPH0366022A - 薄膜型磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は薄膜型磁気記録媒体に関する。更に詳細には、
本発明は改良された基板フィルムを有する薄膜型磁気記
録媒体に関する。

［従来の技術］ 従来から一般に普及している磁気記録媒体は、針状の磁
性粉と高分子結合剤とを主体とする磁性塗料を非磁性基
体上に塗布して磁性層を形成した塗布型の磁気記録媒体
である。

現在、磁気記録再生装置はますます高密度化の傾向にあ
り、短波長記録特性に優れた磁気記録媒体が要望されて
いる。

しかし、塗布型磁気記録媒体における短波長記録特性の
改善には限界がある。これに対して、ＣｏＣｒなどのＣ
ｏを主成分とする強磁性体を真空蒸着、スパッタリング
、またはイオンブレーティング等のいわゆる物理蒸着法
によって非磁性基体ヒに胎成する金属薄膜型の磁気ｊ己
録媒体は、その磁性層中に非磁性の結合剤が混入されて
いないので著しく高い残留磁束密度をＩＩＪることかで
き、かつ、磁外層を極めて薄く形成することができるた
めに、高出力で短波長応答性に優れているという利点を
有する。この特徴により、最近は薄膜型磁気記録媒体が
磁気媒体の−Ｅ流となりつつある。

［発明が解決しようとする課題］ 近年磁気記録の高密度化に伴い、薄膜型の垂直磁気記録
方式の研究が活発に行われている。この薄膜型の垂直磁
気記録媒体を用いて磁気テープ、フロッピーディスクな
ど高分子フィルムを基板とする媒体を作製するには、長
尺で薄いフィルムをローラで巻き取りつつ膜形成を行う
必要がある。

しかしこのような薄いフィルムを巻き取る技術は非常に
難しく、少しでも張力が不均質になると皺が発生する。

特に垂直磁気記録方式はスペーシングの影響が大きく、
極めて表面性の良好なフィルムを用いる必要があるため
、フィルム−ローラ間の摩耗や張り付きが大きくなり、
皺が発生しやすい。

また、良好な垂直磁気特性を有するＣｏ−Ｃｒ垂直磁化
膜を作製するには基板を加熱するか、あるいは、蒸着粒
子のエネルギーを大きくする必要がある。どちらにせよ
基板フィルムは膜作製時に−・時的に高温になる。この
ようにフィルムが高温になるとますます皺が発生しやす
くなり平坦な媒体が得られないという問題があった。

この発明は、上記従来技術が持っていた蒸着膜の皺の発
生という欠点を解消し、以て信頼性に優れた薄膜型磁気
記録媒体を提供することを目的とする。

［課題を解決するための手段］ 前記目的を達成するために、本発明では、高分子フィル
ムを基板とする薄膜型磁気記録媒体において、前記高分
子フィルムを加熱したステンレススチール（ＳＵＳ）の
甲板のＥに乗せ、この−ヒに中心線表面粗さＲａが０．
１μｍ１表面高さの最大高さＲ■ａｘが０．４μｍの表
面粗さを有する直径１２１ｈ重さ２０ｇのＳＵＳ円柱を
乗せて前記フィルムと円柱の底面を滑らせた時の静摩擦
係数がフィルム温度１５０℃〜３００℃で０．６以ドで
あることを特徴とする薄膜型磁気記録媒体を提供する。

薄膜型磁気記録媒体は例えば、Ｃｏ−Ｃｒ垂直磁気記録
媒体である。

高分子フィルムの中心線平均粗さＲａが１００Å以下で
、表面粗さの最大高さＲｍａｘが２００Å以下であるこ
とが好ましい。

［作用］ 薄膜型磁気記録媒体の製造において皺の発生が特に問題
になるのは、成膜時の温度が比較的高い場合である。例
えば、ｃｏ−Ｃｒ垂直磁化膜の膜作製時のフィルム温度
は基板加熱のため、あるいは高エネルギー粒子による衝
撃により瞬間的には１５０℃〜３００℃の高温になる。

本発明者は、このような高温状態でのフィルム−３ＵＳ
間の静摩擦係数が０．６以下の基板フィルムを用いると
蒸着時にフィルムに発生する皺が解消されることを見い
だした。

これは、フィルムが加熱されて膨張した時に摩擦が大き
いと、フィルムとローラが滑らず、膨張したフィルムの
分だけ上に持ち上がって皺になっているためと考えられ
る。また、垂直磁気記録のスペーシング依存性を考慮し
て、表面粗さがＲａで１００Å以下、最大高さＲＩｌａ
ｘで２００Åの高分子フィルムを用いると高品質の薄膜
型磁気記録媒体が得られる。

［実施例］ 以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。

実丑艷（Ｌ 第１図に示されるような真空蒸着装置を用いてＣｏ−Ｃ
ｒ垂直磁気記録媒体を作製した。供給ロール１から送り
出されたフィルム基板４は加熱ロール２を介して巻取ロ
ール３に巻き取られる。この時加熱ロール下部にある蒸
発源６のＧｏ及びＣｒが電子銃５からの電子ビームによ
り加熱溶解され、Ｃｏ−Ｃｒ１：直磁化膜が形成される
。

基板フィルム４としては第２図に示す静摩擦係数を有す
る膜厚２０μｍのポリイミドフィルムを用いた。Ｃｏ−
Ｃｒ膜の膜厚は２０００Å、組成は重量比でＣｏ　：　
Ｃｒ＝８０　：　２０であった。蒸着速度は１０００＾
／ｓｅｃ、フィルム送り速度は２ｍ／ｍｔｎ　、加熱ロ
ールの温度は２５０℃であった。

実丑律１４ 第３図に示すようなスパッタリング装置を用いてＣｏ−
Ｃｒ垂直磁気記録媒体を作製した。供給ロール１０から
送り出されたフィルム基板１４は加熱ロール１２を介し
て巻取ロール１３に巻き取られる。この時加熱ロール下
部にあるターゲット１５から高周波マグネトロンスパッ
タリングによりＣｏ−Ｃｒ垂直磁化膜が形成される。ス
パッタリング処理の際しては、ガス導入口１６から反応
室内にＡｒガスを導入した。

基板フィルムとしては第４図に示す静摩擦係数を有する
膜厚１０μｍのポリイミドフィルムを用いた。Ｃｏ−Ｃ
ｒ膜の膜厚は２０００Å、組成は重量比でＣｏ　：　Ｃ
ｒ＝８０　：　２０であった。膜形成速度は５０入／５
ｅｃｓフィルム送り速度は１５゜ｍ／ｗｉｎ　１加熱ロ
ールの温度は１５０℃であった。

止嵯旌上 基板フィルムとして第５図に示す静摩擦係数を有する膜
厚２０μｍのポリイミドフィルムを用いた他は実施例１
と同様にしてＣｏ−Ｃｒ垂直磁化膜を作製した。

比較１」一 基板フィルムとして第６図に示す静摩擦係数を一有する
膜厚１０μｍのポリイミドフィルムを用いた他は実施例
２と同様にしてＣｏ−Ｃｒ垂直磁化膜を作製した。

各Ｃｏ−Ｃｒ垂直磁化膜の作製中に、ポリイミドフィル
ムに皺が発生する状態を肉眼で観察した。

観察結果を下記の表１に要約して示す。

（以下余白） 表」− 前記の結果から明らかなように、静摩擦係数が０．６以
下の高分子フィルムを基板として使用すると、成膜時に
基板フィルムに皺が発生せず、優れた品質の磁気記録媒
体が得られる。

以上、ポリイミドフィルムについて本発明を説明してき
たが、本発明で使用できる高分子フィルムはこれに限定
されることなく、１５０℃〜３００℃で０．６以下の静
摩擦係数を有する高分子フィルムであればその他のフィ
ルム、例えば、ポリフェニレンサルファイドフィルム、
ポリアミドフィルムなども好適に使用できる。

また、成膜方法も真空蒸着およびスパッタリングに限ら
ず、薄膜型磁気記録媒体の作製に使用されるベーパデポ
ジション法ならば何れも実施可能である。

暇直磁気記録媒体の作製に使用される強磁性体も、Ｃｏ
−Ｃｒに限定されず、ＦｅやＮｉあるいはこれらの合金
類も同様に使用することができる。

また、垂直磁気記録媒体に限らず、成膜時の温度が１５
０℃〜３００℃になるような斜め蒸着膜の薄膜型磁気記
録媒体の作製においても本発明の高分子フィルム基板を
使用すれば皺が発生しない高品質の磁気記録媒体を得る
ことが出来る。

［発明の効果］ 以上説明したように、１５０℃〜３００℃における静摩
擦係数が０．６以下の高分子フィルムを基板として使用
することにより成膜中に皺が発生しない高品質の薄膜型
磁気記録媒体特に、垂直磁気記録媒体を得ることができ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の磁気記録媒体の作製に使用される真空
蒸着装置の−・例を示す概要図であり、第２図は本発明
の実施例１の磁気記録媒体の作製に使用されたポリイミ
ドフィルムの温度と静摩擦係数との関係を示す特性図で
あり、第３図は本発明の磁気記録媒体の作製に使用され
るスパッタリング装置の一例を示す概要図であり、第４
図は本発明の実施例２の磁気記録媒体の作製に使用され
たポリイミドフィルムの温度と静摩擦係数との関係を示
す特性図であり、第５図は比較例１における磁気記録媒
体の作製に使用されたポリイミドフィルムの温度と静摩
擦係数との関係を示す特性図であり、第６図は比較例２
における磁気記録媒体の作製に使用されたポリイミドフ
ィルムの温度と静摩擦係数との関係を示す特性図である
。 １．１１・・・供給ロール ２．１２・・・加熱ロール ３．１３・・・巻取ロール ４．１４・・・高分子フィルム基板 ５・・・電子銃 ６・・・蒸発諒 １５・・・ターゲット １６・・・ガス導入［１

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）高分子フィルムを基板とする薄膜型磁気記録媒体
   において、前記高分子フィルムを加熱したステンレスス
   チール（ＳＵＳ）の平板の上に乗せ、この上に中心線表
   面粗さＲａが０．１μｍ、表面高さの最大高さＲｍａｘ
   が０．４μｍの表面粗さを有する直径１２ｍｍ、重さ２
   ０ｇのＳＵＳ円柱を乗せて前記フィルムと円柱の底面を
   滑らせた時の静摩擦係数がフィルム温度１５０℃〜３０
   ０℃で０．６以下であることを特徴とする薄膜型磁気記
   録媒体。
2. （２）Ｃｏ−Ｃｒ垂直磁気記録媒体であることを特徴と
   する請求項１記載の薄膜型磁気記録媒体。
3. （３）前記高分子フィルムの中心線平均粗さＲａが１０
   ０Å以下であることを特徴とする請求項１または２記載
   の薄膜型磁気記録媒体。
4. （４）前記高分子フィルムの表面粗さの最大高さＲｍａ
   ｘが２００Å以下であることを特徴とする請求項１また
   は２記載の薄膜型磁気記録媒体。