JPH0362308A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は磁気記録媒体に関する。更に詳細には、本発明
は改良された基板フィルムを有する磁気記録媒体に関す
る。

［従来の技術］ 近年磁気記録の高密度化に伴い、垂直磁気記録方式の研
究が活発に行われている。このような垂直磁気記録方式
に適した媒体の１つに真空蒸着法やスパッタリング法な
どの方法によって作製されるＣｏ−Ｃｒ１直磁気記録媒
体がある。

このＣｏ　−Ｃｒ　−１直磁気記録媒体を用いて磁気テ
ープ、フロッピーディスクなど高分子フィルムを基板と
する媒体を作製するには、長尺で薄いフィルムをローラ
で巻き取りつつ膜形成を行う必要がある。しかし′この
ような薄いフィルムを巻き取る技術は非常に難しく、少
しでも張力が不均質になると皺が発生する。

特に垂直磁気記録方式はスペーシングの影響が大きく、
極めて表面外の良好なフィルムを用いる必要があるため
、フィルム−ローラ間の摩耗や張り付きが大きくなり、
皺が発生しゃすい。

また、良好な屯直磁気特性を有するＣｏ−Ｃｒ垂直磁化
膜を作製するには基板を加熱するか、あるいは、蒸着粒
子のエネルギーを大きくする必要がある。どちらにせよ
基板フィルムは膜作製時に一時的に高温になる。このよ
うにフィルムが高温になるとますます皺が発生しやすく
なり平坦な媒体が得られないという問題があった。

［発明が解決しようとする課題］ この発明は、上記従来技術が持っていた蒸着膜の皺の発
生という欠点を解消し、以て信頼性に優れた磁気記録媒
体を提供することを目的とする。

［課題を解決するための手段］ １〕１１記目的を達成するために、本発明では、高分子
フィルムを基板とするＣｏ−Ｃｒ垂直磁気記録媒体にお
いて、前記高分子フィルムの１５０°Ｃ〜３００℃にお
ける引張弾性率が１５０　ｋ　ｇ／ｍｍ２以トであるこ
とを特徴とする磁気記録媒体を提供する。

高分子フィルムの１５０〜３００℃における引張弾性率
は３５０　ｋ　ｇ／ａ＋ｎ＋２以上であることが杼まし
い。

また、高分子・フィルムの中心線平均粗さＲａが１００
入以ｆで、表面粗さの最大高さＲｎ＋ａｘが２００Å以
ドであるとか好ましい。

［作用コ 膜作製時のフィルム温度は基板加熱のため、あるいは高
エネルギー粒子による衝撃により瞬間的には１５０℃〜
３００℃の高温になる。高分子フィルムの弾性率は温度
が上昇すると共に小さくなり、３００℃で常温の半分以
ドになる。本発明者はこのような高温での弾性率が１５
０ｋｇ／Ｉ！１Ｉ１１２以上さらに好ましくは３５０　
ｋ　ｇ／ｍｍ２以−Ｌの基板フィルムを用いると蒸着時
にフィルムに発生する皺が解消され・ることを見いだし
た。これは弾性率が人きいとフィルムが変形しにくくな
り、さらにローラとの接触面積が減少し、摩耗が小さく
なるためと考えられる。

また、垂直磁気記録のスペーシング依存性を考慮して、
表面粗さがＲａで１００Å以下、最大高さＲｍａｘで２
００Åの高分子フィルムを用いると高品質の磁気記録媒
体が得られる。

［実施例］ 以ｆ１実施例により本発明を史に詳細に説明する。

実丑艷ＬＬ 第１図に示されるような真空蒸着装置を用いてＣｏ−Ｃ
ｒ垂直磁気記録媒体を作製した。供給ロール１から送り
出されたフィルム基板４は加熱ロール２を介して巻取ロ
ール３に巻き取られる。この時加熱ロール下部にある蒸
発源６のＣｏ及びＣｒが電子銃５からの電子ビームによ
り加熱溶解され、Ｃ０−Ｃｒ垂直磁化膜が形成される。

基板フィルム４としては第２図に示す引張弾性率を有す
る膜厚２０μｍのポリイミドフィルムを用いた。Ｃｏ−
Ｃｒ膜の膜厚は２０００Å、組成は重量比でＣｏ　：　
Ｃｒ＝８０　：　２０であった。蒸着速度は１ｏｏｏ入
／　Ｓｅｃ　％フィルム送り速度は２ｍ／ｍａｉｎ　ｓ
加熱ロールの温度は２５０℃であった。

実丑載虹と 第３図に示すようなスパッタリング装置を用いてＣｏ−
Ｃｒｙ直磁気記録媒体を作製した。供給ロール１０から
送り出されたフィルム基板１４は加熱ロール１２を介し
て巻取ロール１３に巻き取られる。この時加熱ロールド
部にあるターゲット１５から高周波マグネトロンスパッ
タリングによりＣｏ−Ｃｒ１直磁化膜が形成される。ス
パッタリング処理の際しては、ガス導入口１６から反応
室内にＡｒガスを導入した。

基板フィルムとしては第４図に示す引張弾性率を有する
膜厚１０μｍのポリイミドフィルムを用いた。Ｃｏ−Ｃ
ｒ膜の膜厚は２０００Å、組成は重量比でＣｏ　：　Ｃ
ｒ＝８０　：　２０であった。膜形成速度は５０入′／
５ｅｃ１フィルム送り速度は１５Ｃ■／ｌｌ１ｎ、加熱
ロールの温度は１５０℃であった。

比挽牲上 括板フィルムとして第５図に示す弾性率をイアする膜厚
２０μｍのポリイミドフィルムを用いた他は実施例１と
同様にしてＣｏ−ＣｒＩ：直磁化膜を作製した。

化上αＬと 基板フィルムとして第６図に示す弾性率を有する膜厚１
０μｍのポリイミドフィルムを用いた他は実施例２と同
様にしてＣｏ−ＣｒＩ直磁直脱化膜製した。

各Ｃｏ−Ｃｒ垂直磁化膜の作製中に、ポリイミドフィル
ムに皺が発生する状態を肉眼で観察した。

観察結果をド記の表１に要約して示す。

前記の結果から明らかなように、１５０°Ｃ〜３００℃
で１５０　ｋ　ｇ／ｒａｍ２以上の引張弾性率を有する
高分子フィルムを基板として使用すると、成膜時に基板
フィルムに皺が発生せず、優れた品質の磁気記録媒体が
得られる。

以上；、ポリイミドフィルムについて本発明を説明して
きたが、本発明で使用できる高分子フィルムはこれに限
定されることなく、１５０℃〜３００℃で１５０　ｋ　
ｇ／ｍｍ２以ヒの引張弾性率を有する高分子フィルムで
あればその他のフィルム、例えば、ポリエステルフィル
ム、ポリエチレンテレフタレートフィルムなども奸適に
使用できる。

また、成膜方法も真空蒸着およびスパッタリングに限ら
ず、薄膜型磁気記録媒体の作製に使用されるベーパデポ
ジション法ならば何れも実施可能である。

乗置磁気記録媒体の作製に使用される強磁性体も、ｃｏ
−Ｃｒ゛に限定されず、ＦｅやＮｉあるいはこれらの合
金類も同様に使用することができる。

また、垂直磁気記録媒体に限らず、面内磁化膜の薄膜型
磁気記録媒体の作製においても本発明の高分子フィルム
基板を使用すれば皺が発生しない高品質の磁気記録媒体
を得ることが出来る。

［発明の効果コ 以−ヒ説明したように、１５０℃〜３００℃における引
張弾性率が１５０　ｋ　ｇ／ｍｍ２以上の高分子フィル
ムを基板として使用することにより成膜中に皺が発生し
ない高品質の磁気記録媒体を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の磁気記録媒体の作製に使用される真空
蒸着装置の一例を示す概要図であり、第２図は本発明の
実施例１の磁気記録媒体の作製に使用されたポリイミド
フィルムの温度と引張弾性率との関係を示す特性図であ
り、第３図は本発明の磁気記録媒体の作製に使用される
スパッタリング装置の一例を示す概要図であり、第４図
は本発明の実施例２の磁気記録媒体の作製に使用された
ポリイミドフィルムの温度と引張弾性率との関係を示す
特性図であり、第５図は比較例１における磁気記録媒体
の作製に使用されたポリイミドフィルムの温度と引張弾
性率との関係を示す特性図であり、第６図は比較例２に
おける磁気記録媒体の作製に使用されたポリイミドフィ
ルムの温度と引張弾性率との関係を示す特性図である。 ｌ、１１・・・供給ロール ２．１２・・・加熱ロール ３．１３・・・巻取ロール ４．１４・・・高分子フィルム基板 ５・・・電子銃 ６・・・蒸発源 １５・・・ターゲット １６・・・ガス導入口

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）高分子フィルムを基板とするＣｏ−Ｃｒ垂直磁気
   記録媒体において、前記高分子フィルムの１５０℃〜３
   ００℃における引張弾性率が１５０ｋｇ／ｍｍ＾２以上
   であることを特徴とする磁気記録媒体。
2. （２）前記高分子フィルムの１５０℃〜３００℃におけ
   る引張弾性率が３５０ｋｇ／ｍｍ＾２以上であることを
   特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。
3. （３）前記高分子フィルムの中心線平均粗さＲａが１０
   ０Å以上であることを特徴とする請求項１または２記載
   の磁気記録媒体。
4. （４）前記高分子フィルムの表面粗さの最大高さＲ＿ｍ
   ＿ａ＿ｘが２００Å以下であることを特徴とする請求項
   １または２記載の磁気記録媒体。