JPH0366315B2 - - Google Patents
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- JPH0366315B2 JPH0366315B2 JP21332982A JP21332982A JPH0366315B2 JP H0366315 B2 JPH0366315 B2 JP H0366315B2 JP 21332982 A JP21332982 A JP 21332982A JP 21332982 A JP21332982 A JP 21332982A JP H0366315 B2 JPH0366315 B2 JP H0366315B2
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Description
本発明は半合成アミノ糖抗生物質として有用な
新規化合物である、2′,3′−ジデオキシカナマイ
シンAに関する。 本発明者らは、アミノ配糖体抗生物質であるカ
ナマイシンAのデオキシ誘導体について、これま
で研究を進めて3′−デオキシカナマイシンA,
3′,4′−ジデオキシカナマイシンA,2′−デオキ
シカナマイシンAなどの合成に成功してきた(例
えば特開昭56−68698号,特開昭56−118098号,
特願昭56−113578号明細書参照)。 本発明者らは、カナマイシンAの2′−位誘導体
について更に研究を進め、新規な誘導体としての
2′,3′−ジデオキシカナマイシンAの合成を意図
して種々研究を重ねた結果、2′,3′−ジデオキシ
カナマイシンAを合成することに成功し、しかも
この合成した新規化合物が種々の耐性菌に有効な
半合成アミン配糖体抗生物質であることを認め本
発明を完成した。 すなわち、本発明者らは、カナマイシンAを出
発原料として用いて、これの2′位及び3′位のヒド
ロキシル基が遊離のまゝであるか又は2′,3′−デ
オキシ化に都合よく修飾されてあり且つ比較的反
応性のない5位ヒドロキシル基以外の4′,2″,
4″及び6″位のヒドロキシル基並びにすべてのアミ
ノ基が保護されてあるカナマイシンA保護誘導体
を巧みな手法で調製することに成功し、さらに該
保護体の2′位,3′位を化学反応に付して2′,3′−
ジデオキシ−2′−エノ−カナマイシンA保護誘導
体に導き、さらに還元反応に付して2′,3′−ジデ
オキシカナマイシンA保護誘導体に導き、次に常
法で脱護することによつて目的とする2′,3′−ジ
デオキシカナマイシンAを合成することに成功し
た。 従つて、本発明は次式 で表わされる2′,3′−ジデオキシカナマイシンA
又はこれの酸付加塩を提供するものである。 本発明の2′,3′−ジデオキシカナマイシンAは
白色粉末状の塩基性物質であり、その比旋光度は
〔α〕23 D+114゜(c1.0,水),融点は148〜162℃であ
り、その元素分析の実測値はC44.08%,H7.33
%,N10.72%でその分子式(C18H36N4O9・H2O
として)に一致した。 本発明の2′,3′−ジデオキシカナマイシンAは
通常、遊離塩基または水和物または炭酸塩として
得られるが、通常の方法により任意の無毒性酸付
加塩とすることができる。付加すべき酸としては
塩酸、硫酸、燐酸,硝酸などの無機酸、酢酸、リ
ンゴ酸、クエン酸、アスコルビン酸、メタンスル
ホン酸などの有機酸が用いられる。 2′,3′−ジデオキシカナマイシンAの抗菌スペ
クトルは次の第1表に示すとおりであり、カナマ
イシンAより耐性菌に対して高い抗菌力を示す。
マウスの静脈注射による急性毒性はいずれも
LD50値が100mg/Kg以上であり、諸種のグラム陽
性菌および陰性菌の感染症の治療に用いられる。
新規化合物である、2′,3′−ジデオキシカナマイ
シンAに関する。 本発明者らは、アミノ配糖体抗生物質であるカ
ナマイシンAのデオキシ誘導体について、これま
で研究を進めて3′−デオキシカナマイシンA,
3′,4′−ジデオキシカナマイシンA,2′−デオキ
シカナマイシンAなどの合成に成功してきた(例
えば特開昭56−68698号,特開昭56−118098号,
特願昭56−113578号明細書参照)。 本発明者らは、カナマイシンAの2′−位誘導体
について更に研究を進め、新規な誘導体としての
2′,3′−ジデオキシカナマイシンAの合成を意図
して種々研究を重ねた結果、2′,3′−ジデオキシ
カナマイシンAを合成することに成功し、しかも
この合成した新規化合物が種々の耐性菌に有効な
半合成アミン配糖体抗生物質であることを認め本
発明を完成した。 すなわち、本発明者らは、カナマイシンAを出
発原料として用いて、これの2′位及び3′位のヒド
ロキシル基が遊離のまゝであるか又は2′,3′−デ
オキシ化に都合よく修飾されてあり且つ比較的反
応性のない5位ヒドロキシル基以外の4′,2″,
4″及び6″位のヒドロキシル基並びにすべてのアミ
ノ基が保護されてあるカナマイシンA保護誘導体
を巧みな手法で調製することに成功し、さらに該
保護体の2′位,3′位を化学反応に付して2′,3′−
ジデオキシ−2′−エノ−カナマイシンA保護誘導
体に導き、さらに還元反応に付して2′,3′−ジデ
オキシカナマイシンA保護誘導体に導き、次に常
法で脱護することによつて目的とする2′,3′−ジ
デオキシカナマイシンAを合成することに成功し
た。 従つて、本発明は次式 で表わされる2′,3′−ジデオキシカナマイシンA
又はこれの酸付加塩を提供するものである。 本発明の2′,3′−ジデオキシカナマイシンAは
白色粉末状の塩基性物質であり、その比旋光度は
〔α〕23 D+114゜(c1.0,水),融点は148〜162℃であ
り、その元素分析の実測値はC44.08%,H7.33
%,N10.72%でその分子式(C18H36N4O9・H2O
として)に一致した。 本発明の2′,3′−ジデオキシカナマイシンAは
通常、遊離塩基または水和物または炭酸塩として
得られるが、通常の方法により任意の無毒性酸付
加塩とすることができる。付加すべき酸としては
塩酸、硫酸、燐酸,硝酸などの無機酸、酢酸、リ
ンゴ酸、クエン酸、アスコルビン酸、メタンスル
ホン酸などの有機酸が用いられる。 2′,3′−ジデオキシカナマイシンAの抗菌スペ
クトルは次の第1表に示すとおりであり、カナマ
イシンAより耐性菌に対して高い抗菌力を示す。
マウスの静脈注射による急性毒性はいずれも
LD50値が100mg/Kg以上であり、諸種のグラム陽
性菌および陰性菌の感染症の治療に用いられる。
【表】
本発明の2′,3′−ジデオキシカナマイシンAの
合成は、カナマイシンAから出発するが、大別2
つのルートを経る製法で行われ得る。 その第1の製法は次のような工程から成る。先
づカナマイシンA(化合物)に対して水中で
NaOHの存在下にクロル炭酸エチルを作用させ
て、カナマイシンAのすべてのアミノ基をエトキ
シカルボニル基で保護し(工程1)、さらにピリ
ジン中で塩化ベンゾイルを作用させて5位ヒドロ
キシル基以外のすべてのヒドロキシル基をベンゾ
イル基で閉塞し(工程2)、さらにピリジン中で
ヒドラジンヒドラートを作用させて2′位ヒドロキ
シル基から選択的にベンゾイル基を脱離させる
(工程3)(本出願人の出願人に係る特願昭56−
113578号明細書参照)。 これによつて、5位及び2位ヒドロキシル基以
外のすべてヒドロキシル基とすべてのアミノ基と
が保護されてあるカナマイシンA誘導体として、
3′,4′,2″,4″,6″−ペンタ−O−ベンゾイル−
テトラ−N−エトキシカルボニルカナマイシンA
(化合物)が調製される。 この保護誘導体をピリジン中でスルホニル化
剤、例えば塩化メシルと反応させて2′位ヒドロキ
シル基をスルホニル化例えばメシル化し(工程
4)、得られた2′−O−メシル体(化合物)を
メタノール−ジオキサン中でアルカリアルコラー
ト(例えばナトリウムメチラート)で処理する
(工程5)と、2′−メチルスルホニルオキシ基と
3′−ベンゾイルオキシ基とに作用してエポキシド
環が形成され(エポキシ化)且つ同時に他の位置
のすべてのO−ベンゾイル基が脱離され、これに
よつて2′,3′−アンヒドロ−2′−エピ−テトラ−
N−エトキシカルボニルカナマイシンAが形成さ
れる。これを再びピリジン中で塩化ベンゾイルと
反応させて(工程6)、5位ヒドロキシル基以外
のすべてのヒドロキシル基をベンゾイル化して
2′,3′−アンヒドロ−4′,2″,4″,6″−テトラ−
O−ベンゾイル−2′−エピ−テトラ−N−エトキ
シカルボニルカナマイシンA(化合物)に導く。 次にこの2′−エピ化合物に対してヨウ化アルカ
リ、例えばヨウ化ナトリウムをアセトン中で加熱
下に作用させる(工程7)と、エポキシド環は開
環して3′位がヨウ化された化合物として、4′,2″,
4″,6″−テトラ−O−ベンゾイル−3′−デオキシ
−2′,3′−ジ−エピ−3′−ヨード−テトラ−N−
エトキシカルボニルカナマイシンA(化合物)
が生成される。この化合物に対してピリジン中で
4−ジメチルアミノピリジン及び塩化メシルをト
リエチルアミンの存在に作用させる(工程8)
と、2′−エノ化が起り、4′,2″,4″,6″−テトラ
−O−ベンゾイル−2′,3′−ジデオキシ−2′−エ
ノ−テトラ−N−エトキシカルボニルカナマイシ
ンA(化合物)が生成される。この2′−エノ体
をアルカリ・アルコラート例えばメタノール中の
ナトリウムメチラートで処理する(工程9)と、
O−ベンゾイル基が脱離される。さらにこの脱ベ
ンゾイル体を水酸化ナトリウム水溶液で処理する
(工程10)と、N−エトキシカルボニル基が脱離
されて脱保護が完了する。これにより、2′,3′−
ジデオキシ−2′−エノカナマイシンA(化合物)
(これは新規化合物である)が生成される。これ
を水中で酸化白金,パラジウム,等の水添触媒存
在下に水素で還元する(工程11)と、目的の2′,
3′−ジデオキシカナマイシンA(化合物)が得
られる。 上記の第1の製法の概要を次のチヤートで図示
する。 但し、図中でCbeはエトキシカルボニル基,Bz
はベンゾイル基,Msはメシル基(すなわちメチ
ルスルホニル基)を表わす。 上記の第1の製法において、カナマイシンAの
アミノ基を保護するためのエトキシカルボニル基
を導入する反応の工程1も、ベンゾイル基を保護
するためのヒドロキシル基に導入する反応の工程
2も慣用の保護法で実施できる。2′−O−ベンゾ
イル基を選択的に脱離させるヒドラジン−ピリジ
ン処理のための工程3の実施法の詳細は特願昭56
−113578号細書に記載されてある。 更に、化合物の2′−ヒドロキシル基をスルホ
ニル化する工程4においては、スルホニル化試薬
としては、メシルクロライドの他、トシルクロラ
イド,ベンジルスルホニルクロライドが使用でき
る。溶媒として、ピリジンの他、トリエチルアミ
ン(スルホニル化試薬の2〜10倍モル量で用い
る)を含むジクロルメタンの使用が可能である。
スルホニル化は温度条件が−10〜80℃で反応は進
行するが、好ましくは15〜30℃である。 化合物の2′,3′位のエポキシ化を行う工程5
については、低級アルカノールとアルカリ金属例
えばナトリウムまたはカリウムのアルコラートを
化合物の5〜20倍モルの量で使用する。溶媒と
しては低級アルカノールまたは低級アルカノール
とテトラヒドロフラン,ジオキサン,DMF等が
使用でき、温度条件は0〜50℃が好ましい。脱保
護されたヒドロキシル基のO−保護化を再び行な
う工程6では、ベンゾイルクロライド,アセチル
クロライド,無水安息香酸,無水酢酸等を原料の
5〜15倍モルの量で使用する。溶媒としてはピリ
ジン,トリエチルアミン/ジクロルメタン(トリ
エチルアミンは試薬の2〜10倍モルの量)が使用
でき、温度条件は−10〜60℃が好ましい。 得られた化合物の3′位のヨード化を行う工程
7では、沃化試薬として、ヨウ化ナトリウム、ヨ
ウ化カリウム等が化合物の4〜10倍モルの量で
使用できる。このとき、酸触媒として、ギ酸,H
―(CH2)o−CO2H(n=1〜4)などの低級脂肪
酸または、低級脂肪酸とそのナトリウム塩よりな
る緩衝剤を使用するのが好ましい。溶剤として
は、アセトン,テトラヒドロフラン,ジオキサ
ン,ジメチルホルムアミドが使用でき、温度条件
は50〜120℃が好ましい。 得られた化合物の2′−エノ化を行う工程8で
は、4−ジメチルアミノピリジン(化合物の
0.2〜3倍モルの量),4−ジメチルアミノピリジ
ン(化合物の0.2〜3倍モルの量)とトリエチ
ルアミン(化合物の1.5〜3倍モルの量)等の
塩基の存在下にメシルクロリド,ベンジルスルホ
ニルクロリド,トシルクロリド,トリフルオロメ
チルスルホニルクロリド(化合物の3〜7倍モ
ルの量)等のクロライドを反応させる。塩基は必
ずしも必要ない。溶媒としてはピリジンが用いら
れ、温度条件は10〜120℃(塩基を用いない時は
90〜120℃)が好ましい。 得られた化合物からO−脱保護する工程9で
は、反応剤として低級アルカノールとアルカリ金
属アルコラート例えばナトリウムまたはカリウム
のアルコラート(化合物の3〜7倍モルの量)
を使用し、温度条件は0〜50℃が好ましい。 続いてN−脱保護化の工程10では、水酸化ナト
リウム,水酸化カリウム,水酸化バリウム(化合
物のO−脱保護体の30〜100倍モルの量)の水
溶液を作用させる。温度は80〜100℃で行うのが
好ましい。 得られた化合物の還元の工程11では、2′−エ
ノである二重結合の水素付加が行われ、これは酸
化白金の存在下に水素(水素圧は常圧〜3気圧)
で実施される。温度条件は10〜50℃が好ましい。
水素添加によつて化合物の二重結合が飽和さ
れ、2′,3′−ジデオキシカナマイシンAを生成す
る。 2′,3′−ジデオキシカナマイシンAの第2の製
法は次の如き工程から成る。 すなわち、カナマイシンAに対して水中で約1
モル比のベンジルオキシカルボニル・クロライド
を作用させてカナマイシンAの6′位アミノ基を選
択的に保護する(工程1)(Carbohydrate
Research,89巻91〜101頁(1981)参照)。次に、
得られた6′−N−ベンジルオキシカルボニルカナ
マイシンAに対してピリジン中で約3モル比のト
シルクロライドを作用させ、これによつて残余の
アミノ基をトシル基で保護する(工程2)(前出
Carbohydrate Research参照)と、6′−N−ベン
ジルオキシカルボニル−1,3,3″−トリ−N−
トシルカナマイシンA(化合物)を調製でき
る。 この化合物の4″位及び6″位のヒドロキシル
基2個を同時に保護するために、4″,6″−O−ベ
ンジリデン化を行う(工程3)。この際のベンジ
リデン基の導入はベンズアルデヒドジメチルアセ
タールをp−トルエンスルホン酸の存在下に作用
させるか又はベンズアルデヒドを塩化亜鉛の存在
下に作用させるか等の既知の手法で行い得る。こ
れによつて6′−N−ベンジルオキシカルボニル−
4″,6″−O−ベンジリデン−1,3,3″−トリ−
N−トシル−カナマイシンA(化合物X)が生成
される。 この化合物XをDMF中で水素化ナトリウムで
処理理する(工程4)と、4′−ヒドロキシル基と
6′−ベンジルオキシカルボニルアミノ基とが互に
反応して4′,6′−カルバメート環を生成し、これ
によつて4′,6′−O,N−保護化が達せられる。
この際、4″,6″−O−ベンジリデン−6′−N:
4′−O−カルボニル−1,3,3″−トリ−N−ト
シルカナマイシンA(化合物XI)が生成される。 化合物XIに対して、2′位及び3′位のヒドロキシ
ル基を選択的に閉塞するために、制御された反応
条件下で例えばジクロロメタン中で1,1−ジメ
トキシシクロヘキサンを作用させる(工程5)
と、2′,3′−O−シクロヘキシリデン化が行わ
れ、4″,6″−O−ベンジリデン−6′−N:4′−O
−カルボニル−2′,3′−O−シクロヘキシリデン
−1,3,3″−トリ−N−トシルカナマイシンA
(化合物XII)が生成される。 次に化合物XIIに対して、2″−ヒドロキシル基を
保護するために無水酢酸でアセチル化を行う(工
程6)と、2″−O−アセチル−4″,6″−O−ベン
ジリデン−6′−N:4′−O−カルボニル−2′,
3′−O−シクロヘキシリデン−1,3,3′−トリ
−N−トシルカナマイシンA(化合物)が生
成される。 更に、化合物における閉塞された2′位,
3′位のヒドロキシル基を遊離させるために80%酢
酸水溶液で加水分解させる(工程7)と、2′,
3′−O−シクロヘキシリデン基が脱離されて2″−
O−アセチル−4″,6″−O−ベンジリデン−6′−
N:4′−O−カルボニル−1,3,3′−トリ−N
−トシルカナマイシンA(化合物)が生成さ
れる。 この化合物の2′位,3′位のヒドロキシル基
をトリフルオロメチルスルホニル化するためにピ
リジン中で無水トリフルオロメチルスルホニル
(CF3SO2)2と反応させる(工程8)と、2″−O−
アセチル−4″,6″−O−ベンジリデン−6′−N:
4′−O−カルボニル−2′,3′−ジ−O−トリフル
オロメチルスルホニル−1,3,3″−トリ−N−
トシルカナマイシンA(化合物)が生成され
る。 更に化合物をDMF中でイミダゾールの存
在下にヨウ化アルカリ金属で処理すると2′−エノ
化が行われる(工程9)。これによつて、2″−O
−アセチル−4″,6″−O−ベンジリデン−6′−
N:4′−O−カルボニル−2′,3′−ジデオキシ−
2′−エノ−1,3,3″−トリ−N−トシルカナマ
イシンA(化合物)が生成される。この化合
物を酸化白金触媒の存在下に水素で還元する
(工程10)と、2′−エノである二重結合は水素添
加されて2″−O−アセチル−4″,6″−O−ベンジ
リデン−6′−N:4′−O−カルボニル−2′,3′−
ジデオキシ−1,3,3″−トリ−N−トシルカナ
マイシンA(化合物)が生成される。 化合物をTHF中で水酸化アルカリで処理
すると、4′,6′−カルバメート環が開裂されると
共に2″−O−アセチル基も脱離され(工程11),
4″,6″−O−ベンジリデン−2′,3′−ジデオキシ
−1,3,3″−トリ−N−トシルカナマイシンA
(化合物)が生成される。 この化合物から保護基をすべて脱離させる
ために液体アンモニア中でアルカリ金属で処理す
る(工程12)と、トシル基と4″,6″−O−ベンジ
リデン基とが一挙に除去されて目的の2′,3′−ジ
デオキシカナマイシンAが得られる。 上記の第2の製法の概要を次のチヤートで図示
する。 但し図中でZはベンジルオキシカルボニル基,
Tsはトシル基,Acはアセチル基,Tfはトリフル
オロメチルスルホニル基を示す。 上記の第2の製法において、カナマイシンAの
6′−アミノ基を保護するためのベンジルオキシカ
ルボニル基を導入する反応の工程1も、他のアミ
ノ基にトシル基を導入する反応の工程2も、既知
の手法で実施できる。 更に、工程3における4″,6″−O−ベンジリデ
ン化のためにはベンズアルデヒドジメチルアセタ
ールとp−トルエンスルホン酸,あるいはベンズ
アルデヒドと塩化亜鉛を作用させる。溶媒とし
て、ジメチルホルムアミドが用いられ、温度条件
は10〜30℃が好ましい。工程4における4′,6′−
カルバメート化のためには、水素化ナトリリウム
が化合物の5〜15倍モルの量で反応され、溶媒
としてはジメチルホルムアミドを使い、温度条件
は10〜40℃が好ましい。工程5における2′,3′−
O−シクロヘキシリデン化では、1,1−ジメト
キシシクロヘキサンが作用され、そのとき、トリ
フルオロ酢酸,トリクロル酢酸,p−トルエンス
ルホン酸等の酸触媒とモレキユラーシーブス4A
または5A等の脱メタノール剤が存在させられる。
溶媒としてはジメチルホルムアミド,ジクロルメ
タン−ジメチルホルムアミド混合溶媒が使用され
る。 工程6における2″−O−アセチル化では、無水
酢酸,アセチルクロリドが使用されるが、無水安
息香酸、ベンゾイルクロリド(化合物XIIの2〜10
倍モル)を用いてベンゾイル化しても2″−O−保
護が達成できる。2″−O−アシル化(アセチル
化)用の溶媒としては、ピリジン,トリエチルア
ミン/ジクロルメタン(トリエチルアミンは化合
物XIIの2〜10倍モル)が使用でき、温度条件は10
〜50℃が好ましい。 工程7における2′,3′−O−脱保護化のために
は、50〜90%酢酸水,0.2〜1.0%トリフルオロ酢
酸またはトリクロロ酢酸が適当であり、温度条件
は20〜50℃が好ましい。 工程8において2′位と3′位のヒドロキシル基の
トリフルオロメチルスルフオニル化のためには、
無水トリフロロメタンスルホニル,トリフロロメ
タンスルホニルクロリド(化合物の3〜10倍
モル)が使用できる。溶媒としてはピリジンが適
当で、温度条件は−10〜30℃が好ましい。 工程9における2′−エノ化のためにはヨウ化ナ
トリウム,ヨウ化カリウム,ヨウ化ナトリウムま
たはヨウ化カリウム/イミダゾール,ヨウ化ナト
リウムまたはヨウ化カリウム/亜鉛(ヨウ化ナト
リウム,ヨウ化カリウムは化合物の50〜100
倍モル,イミダゾールは化合物の3〜10倍モ
ル)を反応させる。温度条件は80〜120℃が好ま
しい。 工程10における還元反応は、酸化白金の存在下
に水素(水素圧は常圧〜5気圧)で行われ、溶媒
はテトラヒドロフラン,ジオキサン,メタノール
またはこれらの含水系が使用できる。 工程11における4′,6′−カルバメート環の開裂
による脱保護化のためには、水酸化ナトリウム,
水酸化カリウム,水酸化バリウムを用いて加水分
解が行われる。この際、溶媒として、含水のテト
ラヒドロフラン,ジオキサン,ジメトキシエタン
(溶媒:H2O=2:1の含水系)が適当で、温度
条件は20〜70℃である。 工程12においては、化合物のアミノ基と水
酸基から脱保護するためアルカリ金属例えばナト
リウムまたはカリウムで液体アンモニア中で既知
の手法で処理する。温度条件は−70〜−40℃が適
当である。こうして、目的の2′,3′−ジデオキシ
カナマイシンAが生成される。 次に実施例によつて本発明を説明する。実施例
1は第1の製法により、実施例2は第2の製法に
より本発明の目的化合物を合成する例を示す。 実施例 1 (1) テトラ−N−エトキシカルボニルカナマイシ
ンAの生成(工程1) カナマイシンA硫酸塩40gを2N−NaOH水溶
液400mlとメタノール200mlとの混液にとかし、そ
の溶液中にクロル炭酸エチル69mlを滴下し、室温
下で4時間撹拌した。析出物を過し水洗後、乾
燥した。収量45.7g(86%) m.p.266〜267℃(分解) 〔α〕25 D+48.3゜(e0.5,DMF) 元素分析 計算値(C30H52N4O19): C46.62,H6.80,N7.25% 実測値:C45.92,H6.79,N7.05% (2) ヘキサ−O−ベンゾイル−テトラ−N−エト
キシカルボニルカナマイシンAの生成(工程
2) 前項(1)で得たテトラ−N−エトキシカルボニル
カナマイシンAの7.73gのピリジン200ml溶液に
塩化ベンゾイル12.2mlを加え、5℃で一夜放置し
てO−ベンゾイル化を行つた。水1mlを加えた
後、溶媒を減圧留去し、残渣に酢酸エチル300ml
を加え、水洗後、飽和重曹水で洗い最後に水洗を
2回した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した後
減圧濃縮し、表題化合物13.6g(97.3%)を得
た。 m.p.195〜215℃ 〔α〕25 D+100.7℃(C0.9,CHCl3) 元素分析 計算値(C72H76N4O25): C61.87,H5.49,N4.01% 実測値:C61.78,H5.42,N3.87% (3) 3′,4′,2″,4″,6″−ペンタ−O−ベンゾイ
ル−テトラ−N−エトキシカルボニル−カナマ
イシンA(化合物)の生成(工程3) 前項(2)の生成物の42gをピリジン60mlにとかし
た溶液にヒドラジンヒドラート0.48mlを加え、室
温下に一夜放置して2′−O−ベンゾイル基を選択
的に脱離する反応を行つた。アセトン2mlを加え
た後、溶媒を、減圧留去し、残渣に酢酸エチル
150mlを加えた。水洗後、1N−KHSO4水溶液で
洗い、次いで飽和重曹水で洗い、最後に2回水洗
した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を
減圧留去して、粗物質3.8gを得た。これをシリ
カゲル(75g)クロマトグラフイで精製し、表題
物質2.6g(67%)を得た。 m.p.193〜202℃ 〔α〕25 D+85.5゜(c.1.0,CHCl3) 元素分析 計算値(C65H72N4O24): C60.35,H5.62,N4.33% 実測値:C59.41,H5.51,N4.32% (4) 3′,4′,2″,4″,6″−ペンタ−O−ベンゾイ
ル−2′−O−メチルスルホニル−テトラ−N−
エトキシカルボニルカナマイシンA(化合物)
の生成(工程3) 前項(3)の生成物の(3.0g,2.32ミリモル)を
ピリジン(30ml)に溶解し、塩化メシル(0.63
ml,8.08ミリモル)を加え、室温で1時間撹拌す
る。水(0.2ml)を加えた後、溶媒を減圧下に留
去し、残留物を酢酸エチル100mlに溶解する。こ
れを水洗(50ml×1),飽和重曹水(50ml),水洗
(50ml×2)した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、
溶媒を減圧下に留去する。得られる粗物質をシリ
カゲルクロマトグラフイーで精製(ワコーゲルC
−200 60g,CHCl3:CH3OH=50:1)すると
表題化合物(2.98g,93.7%)が得られる。 m.p.167〜178℃ 〔α〕24 D+101.7゜(c.1.0,CHCl3) NMR(CDCl3)δ:2.7(3H,s,−SO2CH3)7.2
〜8.2(25H,m,C6H5CO−) 元素分析(C66H74N4O26S): 計算値 C57.79,H5.45,N4.09,S2.33% 実測値 C57.82,H5.44,N4.01,S2.39% (5) 2′,3′−アンヒドロ−4′,2″.4″,6″−テト
ラ
−O−ベンゾイル−2′−エピ−テトラ−N−エ
トキシカルボニルカナマイシン(化合物)の
生成(工程5〜6) 前項(4)の化合物の(2.84g,2.07ミリモル)
をメタノール(60ml),ジオキサン(60ml)の混
液に溶解し、ナトリウムメチラート(28%メタノ
ール溶液,4ml,20.7ミリモル)を加え、室温下
に18時間撹拌する。氷冷下に1N−塩酸で中和し
た後、溶媒を減圧下に留去する。残留物をピリジ
ン(100ml)に溶解し、塩化ベンゾイル(2.5ml,
21.5ミリモル)を加え、室温下に60分間撹拌す
る。水(0.5ml)を加えた後、溶媒を減圧下に留
去し、残留物を酢酸エチル(70ml)に溶解する。
これを水洗(50ml×1),飽和重曹水(50ml×
2),水洗(50ml×2)した後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。溶媒を留去して得られた残留物
(2.42g)をシリカゲルクロマトグラフイー(ワ
コーゲルC−200 50g,CHCl3:CH3OH=50:
1)で分離精製すると表題化合物(1.98g,82
%)が得られた。 m.p.133〜146℃ 〔α〕20 D+74.5゜(c1.0,CHCl3) 元素分析(C58H66N4O22): 計算値 C59.47,H5.69,N4.78% 実測値 C59.66,H5.71,N4.56% (6) 4′,2″,4″,6″−テトラ−O−ベンゾイル−
3′−デオキシ−2′,3′−ジ−エピ−3′−ヨード
−テトラ−N−エトキシカルボニルカナマイシ
ンA(化合物)の生成(工程7) 前項(5)の化合物の(1.85g,1.58ミリモル)
をアセトン(45ml)に溶解し、ヨウ化ナトリウム
(1.36g,9.07ミリモル),酢酸(1.26ml)を加え、
撹拌還流下に8時間反応させる。放冷後、溶媒を
減圧下に留去し、残留物を酢酸エチル(70ml)に
溶解する。これを水洗(50ml×2)し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。溶媒を留去して得られた残
留物(2.0g)をシリカゲルクロマトグラフイー
(ワコーゲルC−200 50g,CHCl3:CH3OH=
45:1)で分離精製すると表題化合物V(1.54g,
75%)が得られた。 m.p.150〜155℃ 〔α〕20 D+33.0゜(c0.8,CHCl3) 元素分析(C58H67N4O22I): 計算値 C53.61,H5.21,N4.31,I9.78% 実測値 C53.46,H5.20,N4.23,I10.01% (7) 4′,2″,4″,6″−テトラ−O−ベンゾイル−
2′,3′−ジデオキシ−2′−エノ−テトラ−N−
エトキシカルボニルカナマイシンA(化合物)
の生成(工程8) 前項(6)の化合物の(1.0g,0.77ミリモル)
をピリジン(20ml)に溶解し、4−ジメチルアミ
ノピリジン(90mg,0.74ミリモル),トリエチル
アミン(1ml),塩化メシル(0.3ml,3.8ミリモ
ル)を加えて、室温下に5時間撹拌する。これを
氷水(50ml)に投入し、析出物を酢酸エチル(70
ml)で抽出する。有機層を1N−硫酸水素カリウ
ム溶液(50ml),水洗(50ml),飽和重曹水(20
ml),水洗(50ml×2)した後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。溶媒を留去して得られた残留物
(0.85g)をシリカゲルクロマトグラフイー(ワ
コーゲルC−200 20g,CHCl3:CH3OH=50:
1)で分離精製すると表題化合物(0.65g,73
%)が得られた。 m.p.151〜158℃(dec) 〔α〕22 D+77.5(c0.8,CHCl3) 元素分析(C58H66N4O21) 計算値 C60.30,H5.77,N4.85% 実測値 C60.11,H5.76,N4.80% (8) 2′,3′−ジデオキシ−2′−エノ−カナマイシ
ンA(化合物)の生成(工程9〜10) 前項(7)の化合物の(500mg,0.43ミリモル)
をメタノール(10ml)に溶解し、ナトリウムメチ
ラート(28%メタノール溶液0.3ml,1.5ミリモ
ル)を加え、室温下に30分間静置する。溶媒を減
圧下に留去し、得られた残留物に水(5ml),水
酸化ナトリウム(1.5g)を加える。これを100℃
で3時間撹拌し、放冷後、水(100ml)を加え、
濃塩酸を加えて中和する。これをアンバーライト
CG−50(NH+ 4型20ml,0.3N−アンモニア水溶液)
で分離精製すると表題化合物(135mg,70%)
が得られた。 m.p.165〜173℃ 〔α〕22 D+106.4゜(c0.7,H2O) NMR(D2O)δ:6.00(1H,d,J=10Hz,3′−
H), 5.82(1H,m,2′−H), 5.43(1H,m,1′−H), 5.00(1H,d,J=4Hz,1″−H) 3.45(1H,q,J=4,10Hz H−2″), 2.96(1H,t,J=10Hz,H−3″) 元素分析(C18H34N4O9・H2O) 計算値 C46.14,H7.76,N11.96% 実測値 C46.25,H7.77,N11.82% (9) 2′,3′−ジデオキシカナマイシンA(化合物
)の生成(工程11) 前項(8)の化合物の(100mg,0.22ミリモル)
を水(5ml)に溶解し、酸化白金(10mg)を加
え、室温常圧下に3時間、接触還元を行う。不溶
物を去し、液をアンバーライトCG−50
(NH+ 4型3ml,0.3N−アンモニア水)で精製する
と表題化合物(84mg,83%)が得られた。 m.p.148〜162℃ 〔α〕23 D+114゜(c1.0,水)13 C−NMR(D2O中,PD10で測定): 1″−C 100.9(ppm) 1−C 51.4 1′−C 98.8 3−C 50.1 6−C 88.8 6′−C 42.6 4−C 86.1 2−C 36.5 5−C 75.6 3′−C 29.3 5′−C 73.0 2′−C 26.8 2″−C 72.8 5″−C 72.7 4″−C 70.2 4′−C 67.7 6″−C 61.1 3″−C 55.1 実施例 2 (1) 6′−N−ベンジルオキシカルボニル−4″,
6″−O−ベンジリデン−1,3,3″−トリ−N
−トシルカナマイシンA(化合物)の製造
(工程1〜3) 6′−N−ベンジルオキシカルボニル−1,3,
3″−トリ−トシルカナマイシンA(化合物)を
Carbohydrate Research,89巻91−101,(1981)
の方法によりカナマイシンAから調製し、これの
1.58g(1.46ミリモル)を無水N,N−ジメチル
ホルムアミド(DMF)8mlに溶解し、ベンズア
ルデヒド・ジメチルアセタール0.27ml(1.2モル
比)とパラトルエンスルホン酸・一水塩55mgを加
え、室温で反応させた。7時間後、ベンズアルデ
ヒド・ジメチルアセタール0.13ml(0.6モル比)
を追加した。30時間後、氷冷した飽和炭酸水素ナ
トリウム水320mlにいれた。生じた白沈を取し、
水で洗い、さらにエチルエーテルで洗い、得られ
た物質を乾燥して、1.60gの淡黄色固体として表
題化合物Xを得た。 〔α〕23 D−22゜(c0.5,テトラヒドロフラン) 元素分析値 C54H64N4O19S3として 計算値 C55.47,H5.52,N4.79,S8.23% 実測値 C55.30,H5.49,N4.84,S8.28 (2) 4″,6″−O−ベンジリデン−6′−N;4′−O
−カルボニル−1,3,3″−トリ−N−トシル
カナマイシンA(化合物XI)の製造(工程4) 前項の化合物Xの4.65g(3.98ミリモル)を無
水DMF93mlに溶解し、0℃,窒素雰囲気下に、
80%の油性水酸化ナトリウム1.72g(9倍モル)
を加え、激しく撹拌しながら1時間0℃で反応さ
せた後、さらに室温で1晩反応させた。0℃下に
25%酢酸水14.8ml(NaHに対して1.7倍モル)を
加え、減圧濃縮した。残渣に水を加えて、形成さ
れた固体を、取し、水洗し、乾燥した。さらに
エチルエーテルで洗浄後、乾燥して表題化合物XI
を3.97g得た。 〔α〕22 D−43゜(c1.0,アセトン) 元素分析値 C47H56N4O18S3として 計算値 C53.20,H5.32,N5.28,S9.07% 実測値 C52.85,H5.39,N5.26,S8.81 (3) 4″,6″−O−ベンジリデン−6′−N;4′−O
−カルボニル−2′,3′−シクロヘキシリデン−
1,3,3″−トリ−N−トシルカナマイシンA
(化合物XII)の製造(工程5) 前項の化合物XIの3.97g(3.74ミリモル)を無
水DMF20mlに溶解させ、無水ジクロルメタン400
ml,1,1−ジメトキシシクロヘキサン10.8ml
(20倍モル)を加え、10分間加熱還流させた後、
トリフロロ酢酸2.1ml(5倍モル)を加え、モレ
キユラーシーブ5Aを還流途中に入れた装置をつ
けて還流を6時間続けた。反応後、減圧濃縮し、
残渣を氷冷した飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に
入れ、生じた沈澱を取した。この沈澱をエチル
エーテル、さらに水でよく洗い、乾燥し、表題化
合物XIIを淡黄色固体として、4.15gを得た。 〔α〕23 D−33゜(c0.6,アセトン) 元素分析値 C53H64N4O18S3として 計算値 C55.78,H5.65,N4.91,S8.43% 実測値 C55.47,H5.77,N4.88,S8.30 (4) 2″−O−アセチル−4″,6″−O−ベンジリデ
ン−6′−N;4′−−O−カルボニル−2′,3′−
O−シクロヘキシリデン−1,3,3″−トリ−
N−トシルカナマイシンA(化合物)の製
造(工程6) 前項の化合物XIIの5.26g(4.6ミリモル)を無
水ピリジン105mlに溶解し、0℃にて無水酢酸4.8
ml(10倍モル)を加え、室温に戻して、1晩反応
させた。反応液を大量の飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液中にいれ、生じた白色沈澱を取し、乾燥
して5.52gの粗生成物を得た。これをシリカゲル
クロマトグラフイー(ワコーゲルC−200,展開
系,クロロホルム:アセトン=10:7→10:8→
10:9使用)により精製し、3.51gの表題化合物
をガラス状固体として得た。 〔α〕22 D+40゜(c1.0,アセトン) 元素分析値 C55H66N4O19S3として 計算値 C55.82,H5.62,N4.73,S8.13% 実測値 C55.47,H5.75,N4.75,S7.92 (5) 2″−O−アセチル−4″,6″−O−ベンジリデ
ン−6′−N;4′−O−カルボニル−1,3,
3″−トリ−N−トシルカナマイシンA(化合物
)の製造(工程7) 前項の化合物の1.88g(1.59ミリモル)に
80%酢酸水38mlを加え、懸濁液を激しく撹拌しな
がら、40℃で3.5時間反応させ、反応液を、大量
の飽和炭酸水素ナトリウム水溶液中にいれ、生じ
た沈澱を取し、水洗し、乾燥して粗生成物1.44
gを得た。これをシリカゲルクロマトグラフイー
(ワコーゲルC−200,展開系クロロホルム:アセ
トン=1:1→1:2→アセトン)で精製し、表
題化合物の0.99gをガラス状固体として得
た。 〔α〕23 D−8゜(c1.0,アセトン) 元素分析値 C49H58N4O19S3として 計算値 C53.35,H5.30,N5.08,S8.72% 実測値 C53.34,H5.21,N5.13,S8.66 (6) 2″−O−アセチル−4″,6″−O−ベンジリデ
ン−6′−N;4′−O−カルボニル−2′,3′−ジ
−O−トリフルオロメチルスルホニル−1,
3,3″−トリ−N−トシルカナマイシンA(化
合物)の製造(工程8) 前項の化合物の887mgを無水ピリジン17.7
mlに溶解し、0℃窒素雰囲気下に、無水トリフロ
ロメタンスルホニル,1.13ml(比重1.68として8.4
倍モル)を加え、0℃で4時間反応させた。反応
液を氷冷した飽和炭酸水素ナトリウム水溶液にい
れ、生じた沈澱を取,水洗し、乾燥して、1.01
gの表題化合物を淡黄色固体として得た。 〔α〕23 D−32゜(c1.0,アセトン) 元素分析値 C51H56N4O23S5F6として 計算値 C44.80,H4.13,N4.10,S11.73% 実測値 C44.94,H4.32,N4.21,S11.42 (7) 2″−O−アセチル−4″,6″−O−ベンジリデ
ン−6′−N;4′−O−カルボニル−2′,3′−ジ
デオキシ−2′−エノ−1,3,3″−トリ−N−
トシルカナマイシンA(化合物)の製造
(工程9) 前項の化合物の60mg,無水ヨウ化ナトリウ
ム600mg,イミダゾール20.9mg(7倍モル)に無
水DMF1.2mlを加え、100℃で激しく撹拌しなが
ら45分間反応させた。(1〜2分で均一になる。)
熱いうちに反応液にクロロホルム12mlを加え、有
機層をとり減圧濃縮し、残渣を得た。これをクロ
ロホルムで抽出し、クロロホルム層を順次、
0.1Mチオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液、水で洗浄し、芒硝乾燥後、濃
縮乾固して、表題化合物をガラス状固体とし
て47mg得た。 (8) 2″−O−アセチル−4″,6″−O−ベンジリデ
ン−6′−N;4′−O−カルボニル−2′,3′−ジ
デオキシ−1,3,3″−トリ−N−トシルカナ
マイシンA(化合物)の製造(工程10) 酸化白金21.2mgにTHF−水(2:1)2mlを
加え、水素圧3Kg/cm2下に30分間振とうして、触
媒を活性化した。これに前項の化合物の100
mgを加え、水素圧3.5Kg/cm2の水素下に振とうし
て、45分間反応させた。反応液を過し、液を
濃縮乾固し、表題化合物の96mgをガラス状固
体として得た。 〔α〕23 D+10゜(c1.0,アセトン) 元素分析値 C49H58N4O17S3として 計算値 C54.94,H5.46,N5.23,S8.98% 実測値 C54.58,H5.54,N5.02,S8.70 (9) 4″,6″−O−ベンジリデン−2′,3′−ジデオ
キシ−1,3,3″−トリ−N−トシルカナマイ
シンA(化合物)の製造(工程11) 前項の化合物の178mgにTHF−3N−
NaOH(2:1)3.6mlを加え(2層になる。)撹
拌しながら50℃で2.5時間反応させた。反応液を
減圧濃縮し、残渣をダウエツクス50W×2(NH+ 4
型)レジン10mlにて、メタノール−3Nアンモニ
ア水(2::1)で展開し、溶出したニンヒドリ
ン陽性部分を合わせて、濃縮乾固し、表題化合物
の166.7mgを得た。 (10) 2′,3′−ジデオキシカナマイシンA(化合物
)の製造(工程12) 前項の化合物の166.7mgを−50℃の液体ア
ンモニア15mlに溶解し、金属ナトリウム0.2gを
加え、1時間放置した後、反応液に1%の水を含
むTHF水を加えて、残留のナトリウムを除き、
温度を徐々に室温まで上昇させて、アンモニアを
留去せしめた。残渣をダウエツクス50W×2
(NH+ 4型)レジンカラムにつめ、1Nアンモニア
水で溶出し、ニンヒドリン活性部分を集め、濃縮
乾固し、表題化合物の63.4mgを得た。 〔α〕23 D+114゜(c1.0,水) 融点 148〜162℃ 元素分析値 C18H36N4O9・H2Oとして 計算値 C44.35,H4.44,N10.89% 実測値 C44.08,H7.33,N10.72 ペーパークロマトグラフイー(Toyo紙No.50,
ブタノール:ピリジン:水:酢酸=6:4:3:
1,下降法64時間展開)にてRfカナマイシン
A2.0である。
合成は、カナマイシンAから出発するが、大別2
つのルートを経る製法で行われ得る。 その第1の製法は次のような工程から成る。先
づカナマイシンA(化合物)に対して水中で
NaOHの存在下にクロル炭酸エチルを作用させ
て、カナマイシンAのすべてのアミノ基をエトキ
シカルボニル基で保護し(工程1)、さらにピリ
ジン中で塩化ベンゾイルを作用させて5位ヒドロ
キシル基以外のすべてのヒドロキシル基をベンゾ
イル基で閉塞し(工程2)、さらにピリジン中で
ヒドラジンヒドラートを作用させて2′位ヒドロキ
シル基から選択的にベンゾイル基を脱離させる
(工程3)(本出願人の出願人に係る特願昭56−
113578号明細書参照)。 これによつて、5位及び2位ヒドロキシル基以
外のすべてヒドロキシル基とすべてのアミノ基と
が保護されてあるカナマイシンA誘導体として、
3′,4′,2″,4″,6″−ペンタ−O−ベンゾイル−
テトラ−N−エトキシカルボニルカナマイシンA
(化合物)が調製される。 この保護誘導体をピリジン中でスルホニル化
剤、例えば塩化メシルと反応させて2′位ヒドロキ
シル基をスルホニル化例えばメシル化し(工程
4)、得られた2′−O−メシル体(化合物)を
メタノール−ジオキサン中でアルカリアルコラー
ト(例えばナトリウムメチラート)で処理する
(工程5)と、2′−メチルスルホニルオキシ基と
3′−ベンゾイルオキシ基とに作用してエポキシド
環が形成され(エポキシ化)且つ同時に他の位置
のすべてのO−ベンゾイル基が脱離され、これに
よつて2′,3′−アンヒドロ−2′−エピ−テトラ−
N−エトキシカルボニルカナマイシンAが形成さ
れる。これを再びピリジン中で塩化ベンゾイルと
反応させて(工程6)、5位ヒドロキシル基以外
のすべてのヒドロキシル基をベンゾイル化して
2′,3′−アンヒドロ−4′,2″,4″,6″−テトラ−
O−ベンゾイル−2′−エピ−テトラ−N−エトキ
シカルボニルカナマイシンA(化合物)に導く。 次にこの2′−エピ化合物に対してヨウ化アルカ
リ、例えばヨウ化ナトリウムをアセトン中で加熱
下に作用させる(工程7)と、エポキシド環は開
環して3′位がヨウ化された化合物として、4′,2″,
4″,6″−テトラ−O−ベンゾイル−3′−デオキシ
−2′,3′−ジ−エピ−3′−ヨード−テトラ−N−
エトキシカルボニルカナマイシンA(化合物)
が生成される。この化合物に対してピリジン中で
4−ジメチルアミノピリジン及び塩化メシルをト
リエチルアミンの存在に作用させる(工程8)
と、2′−エノ化が起り、4′,2″,4″,6″−テトラ
−O−ベンゾイル−2′,3′−ジデオキシ−2′−エ
ノ−テトラ−N−エトキシカルボニルカナマイシ
ンA(化合物)が生成される。この2′−エノ体
をアルカリ・アルコラート例えばメタノール中の
ナトリウムメチラートで処理する(工程9)と、
O−ベンゾイル基が脱離される。さらにこの脱ベ
ンゾイル体を水酸化ナトリウム水溶液で処理する
(工程10)と、N−エトキシカルボニル基が脱離
されて脱保護が完了する。これにより、2′,3′−
ジデオキシ−2′−エノカナマイシンA(化合物)
(これは新規化合物である)が生成される。これ
を水中で酸化白金,パラジウム,等の水添触媒存
在下に水素で還元する(工程11)と、目的の2′,
3′−ジデオキシカナマイシンA(化合物)が得
られる。 上記の第1の製法の概要を次のチヤートで図示
する。 但し、図中でCbeはエトキシカルボニル基,Bz
はベンゾイル基,Msはメシル基(すなわちメチ
ルスルホニル基)を表わす。 上記の第1の製法において、カナマイシンAの
アミノ基を保護するためのエトキシカルボニル基
を導入する反応の工程1も、ベンゾイル基を保護
するためのヒドロキシル基に導入する反応の工程
2も慣用の保護法で実施できる。2′−O−ベンゾ
イル基を選択的に脱離させるヒドラジン−ピリジ
ン処理のための工程3の実施法の詳細は特願昭56
−113578号細書に記載されてある。 更に、化合物の2′−ヒドロキシル基をスルホ
ニル化する工程4においては、スルホニル化試薬
としては、メシルクロライドの他、トシルクロラ
イド,ベンジルスルホニルクロライドが使用でき
る。溶媒として、ピリジンの他、トリエチルアミ
ン(スルホニル化試薬の2〜10倍モル量で用い
る)を含むジクロルメタンの使用が可能である。
スルホニル化は温度条件が−10〜80℃で反応は進
行するが、好ましくは15〜30℃である。 化合物の2′,3′位のエポキシ化を行う工程5
については、低級アルカノールとアルカリ金属例
えばナトリウムまたはカリウムのアルコラートを
化合物の5〜20倍モルの量で使用する。溶媒と
しては低級アルカノールまたは低級アルカノール
とテトラヒドロフラン,ジオキサン,DMF等が
使用でき、温度条件は0〜50℃が好ましい。脱保
護されたヒドロキシル基のO−保護化を再び行な
う工程6では、ベンゾイルクロライド,アセチル
クロライド,無水安息香酸,無水酢酸等を原料の
5〜15倍モルの量で使用する。溶媒としてはピリ
ジン,トリエチルアミン/ジクロルメタン(トリ
エチルアミンは試薬の2〜10倍モルの量)が使用
でき、温度条件は−10〜60℃が好ましい。 得られた化合物の3′位のヨード化を行う工程
7では、沃化試薬として、ヨウ化ナトリウム、ヨ
ウ化カリウム等が化合物の4〜10倍モルの量で
使用できる。このとき、酸触媒として、ギ酸,H
―(CH2)o−CO2H(n=1〜4)などの低級脂肪
酸または、低級脂肪酸とそのナトリウム塩よりな
る緩衝剤を使用するのが好ましい。溶剤として
は、アセトン,テトラヒドロフラン,ジオキサ
ン,ジメチルホルムアミドが使用でき、温度条件
は50〜120℃が好ましい。 得られた化合物の2′−エノ化を行う工程8で
は、4−ジメチルアミノピリジン(化合物の
0.2〜3倍モルの量),4−ジメチルアミノピリジ
ン(化合物の0.2〜3倍モルの量)とトリエチ
ルアミン(化合物の1.5〜3倍モルの量)等の
塩基の存在下にメシルクロリド,ベンジルスルホ
ニルクロリド,トシルクロリド,トリフルオロメ
チルスルホニルクロリド(化合物の3〜7倍モ
ルの量)等のクロライドを反応させる。塩基は必
ずしも必要ない。溶媒としてはピリジンが用いら
れ、温度条件は10〜120℃(塩基を用いない時は
90〜120℃)が好ましい。 得られた化合物からO−脱保護する工程9で
は、反応剤として低級アルカノールとアルカリ金
属アルコラート例えばナトリウムまたはカリウム
のアルコラート(化合物の3〜7倍モルの量)
を使用し、温度条件は0〜50℃が好ましい。 続いてN−脱保護化の工程10では、水酸化ナト
リウム,水酸化カリウム,水酸化バリウム(化合
物のO−脱保護体の30〜100倍モルの量)の水
溶液を作用させる。温度は80〜100℃で行うのが
好ましい。 得られた化合物の還元の工程11では、2′−エ
ノである二重結合の水素付加が行われ、これは酸
化白金の存在下に水素(水素圧は常圧〜3気圧)
で実施される。温度条件は10〜50℃が好ましい。
水素添加によつて化合物の二重結合が飽和さ
れ、2′,3′−ジデオキシカナマイシンAを生成す
る。 2′,3′−ジデオキシカナマイシンAの第2の製
法は次の如き工程から成る。 すなわち、カナマイシンAに対して水中で約1
モル比のベンジルオキシカルボニル・クロライド
を作用させてカナマイシンAの6′位アミノ基を選
択的に保護する(工程1)(Carbohydrate
Research,89巻91〜101頁(1981)参照)。次に、
得られた6′−N−ベンジルオキシカルボニルカナ
マイシンAに対してピリジン中で約3モル比のト
シルクロライドを作用させ、これによつて残余の
アミノ基をトシル基で保護する(工程2)(前出
Carbohydrate Research参照)と、6′−N−ベン
ジルオキシカルボニル−1,3,3″−トリ−N−
トシルカナマイシンA(化合物)を調製でき
る。 この化合物の4″位及び6″位のヒドロキシル
基2個を同時に保護するために、4″,6″−O−ベ
ンジリデン化を行う(工程3)。この際のベンジ
リデン基の導入はベンズアルデヒドジメチルアセ
タールをp−トルエンスルホン酸の存在下に作用
させるか又はベンズアルデヒドを塩化亜鉛の存在
下に作用させるか等の既知の手法で行い得る。こ
れによつて6′−N−ベンジルオキシカルボニル−
4″,6″−O−ベンジリデン−1,3,3″−トリ−
N−トシル−カナマイシンA(化合物X)が生成
される。 この化合物XをDMF中で水素化ナトリウムで
処理理する(工程4)と、4′−ヒドロキシル基と
6′−ベンジルオキシカルボニルアミノ基とが互に
反応して4′,6′−カルバメート環を生成し、これ
によつて4′,6′−O,N−保護化が達せられる。
この際、4″,6″−O−ベンジリデン−6′−N:
4′−O−カルボニル−1,3,3″−トリ−N−ト
シルカナマイシンA(化合物XI)が生成される。 化合物XIに対して、2′位及び3′位のヒドロキシ
ル基を選択的に閉塞するために、制御された反応
条件下で例えばジクロロメタン中で1,1−ジメ
トキシシクロヘキサンを作用させる(工程5)
と、2′,3′−O−シクロヘキシリデン化が行わ
れ、4″,6″−O−ベンジリデン−6′−N:4′−O
−カルボニル−2′,3′−O−シクロヘキシリデン
−1,3,3″−トリ−N−トシルカナマイシンA
(化合物XII)が生成される。 次に化合物XIIに対して、2″−ヒドロキシル基を
保護するために無水酢酸でアセチル化を行う(工
程6)と、2″−O−アセチル−4″,6″−O−ベン
ジリデン−6′−N:4′−O−カルボニル−2′,
3′−O−シクロヘキシリデン−1,3,3′−トリ
−N−トシルカナマイシンA(化合物)が生
成される。 更に、化合物における閉塞された2′位,
3′位のヒドロキシル基を遊離させるために80%酢
酸水溶液で加水分解させる(工程7)と、2′,
3′−O−シクロヘキシリデン基が脱離されて2″−
O−アセチル−4″,6″−O−ベンジリデン−6′−
N:4′−O−カルボニル−1,3,3′−トリ−N
−トシルカナマイシンA(化合物)が生成さ
れる。 この化合物の2′位,3′位のヒドロキシル基
をトリフルオロメチルスルホニル化するためにピ
リジン中で無水トリフルオロメチルスルホニル
(CF3SO2)2と反応させる(工程8)と、2″−O−
アセチル−4″,6″−O−ベンジリデン−6′−N:
4′−O−カルボニル−2′,3′−ジ−O−トリフル
オロメチルスルホニル−1,3,3″−トリ−N−
トシルカナマイシンA(化合物)が生成され
る。 更に化合物をDMF中でイミダゾールの存
在下にヨウ化アルカリ金属で処理すると2′−エノ
化が行われる(工程9)。これによつて、2″−O
−アセチル−4″,6″−O−ベンジリデン−6′−
N:4′−O−カルボニル−2′,3′−ジデオキシ−
2′−エノ−1,3,3″−トリ−N−トシルカナマ
イシンA(化合物)が生成される。この化合
物を酸化白金触媒の存在下に水素で還元する
(工程10)と、2′−エノである二重結合は水素添
加されて2″−O−アセチル−4″,6″−O−ベンジ
リデン−6′−N:4′−O−カルボニル−2′,3′−
ジデオキシ−1,3,3″−トリ−N−トシルカナ
マイシンA(化合物)が生成される。 化合物をTHF中で水酸化アルカリで処理
すると、4′,6′−カルバメート環が開裂されると
共に2″−O−アセチル基も脱離され(工程11),
4″,6″−O−ベンジリデン−2′,3′−ジデオキシ
−1,3,3″−トリ−N−トシルカナマイシンA
(化合物)が生成される。 この化合物から保護基をすべて脱離させる
ために液体アンモニア中でアルカリ金属で処理す
る(工程12)と、トシル基と4″,6″−O−ベンジ
リデン基とが一挙に除去されて目的の2′,3′−ジ
デオキシカナマイシンAが得られる。 上記の第2の製法の概要を次のチヤートで図示
する。 但し図中でZはベンジルオキシカルボニル基,
Tsはトシル基,Acはアセチル基,Tfはトリフル
オロメチルスルホニル基を示す。 上記の第2の製法において、カナマイシンAの
6′−アミノ基を保護するためのベンジルオキシカ
ルボニル基を導入する反応の工程1も、他のアミ
ノ基にトシル基を導入する反応の工程2も、既知
の手法で実施できる。 更に、工程3における4″,6″−O−ベンジリデ
ン化のためにはベンズアルデヒドジメチルアセタ
ールとp−トルエンスルホン酸,あるいはベンズ
アルデヒドと塩化亜鉛を作用させる。溶媒とし
て、ジメチルホルムアミドが用いられ、温度条件
は10〜30℃が好ましい。工程4における4′,6′−
カルバメート化のためには、水素化ナトリリウム
が化合物の5〜15倍モルの量で反応され、溶媒
としてはジメチルホルムアミドを使い、温度条件
は10〜40℃が好ましい。工程5における2′,3′−
O−シクロヘキシリデン化では、1,1−ジメト
キシシクロヘキサンが作用され、そのとき、トリ
フルオロ酢酸,トリクロル酢酸,p−トルエンス
ルホン酸等の酸触媒とモレキユラーシーブス4A
または5A等の脱メタノール剤が存在させられる。
溶媒としてはジメチルホルムアミド,ジクロルメ
タン−ジメチルホルムアミド混合溶媒が使用され
る。 工程6における2″−O−アセチル化では、無水
酢酸,アセチルクロリドが使用されるが、無水安
息香酸、ベンゾイルクロリド(化合物XIIの2〜10
倍モル)を用いてベンゾイル化しても2″−O−保
護が達成できる。2″−O−アシル化(アセチル
化)用の溶媒としては、ピリジン,トリエチルア
ミン/ジクロルメタン(トリエチルアミンは化合
物XIIの2〜10倍モル)が使用でき、温度条件は10
〜50℃が好ましい。 工程7における2′,3′−O−脱保護化のために
は、50〜90%酢酸水,0.2〜1.0%トリフルオロ酢
酸またはトリクロロ酢酸が適当であり、温度条件
は20〜50℃が好ましい。 工程8において2′位と3′位のヒドロキシル基の
トリフルオロメチルスルフオニル化のためには、
無水トリフロロメタンスルホニル,トリフロロメ
タンスルホニルクロリド(化合物の3〜10倍
モル)が使用できる。溶媒としてはピリジンが適
当で、温度条件は−10〜30℃が好ましい。 工程9における2′−エノ化のためにはヨウ化ナ
トリウム,ヨウ化カリウム,ヨウ化ナトリウムま
たはヨウ化カリウム/イミダゾール,ヨウ化ナト
リウムまたはヨウ化カリウム/亜鉛(ヨウ化ナト
リウム,ヨウ化カリウムは化合物の50〜100
倍モル,イミダゾールは化合物の3〜10倍モ
ル)を反応させる。温度条件は80〜120℃が好ま
しい。 工程10における還元反応は、酸化白金の存在下
に水素(水素圧は常圧〜5気圧)で行われ、溶媒
はテトラヒドロフラン,ジオキサン,メタノール
またはこれらの含水系が使用できる。 工程11における4′,6′−カルバメート環の開裂
による脱保護化のためには、水酸化ナトリウム,
水酸化カリウム,水酸化バリウムを用いて加水分
解が行われる。この際、溶媒として、含水のテト
ラヒドロフラン,ジオキサン,ジメトキシエタン
(溶媒:H2O=2:1の含水系)が適当で、温度
条件は20〜70℃である。 工程12においては、化合物のアミノ基と水
酸基から脱保護するためアルカリ金属例えばナト
リウムまたはカリウムで液体アンモニア中で既知
の手法で処理する。温度条件は−70〜−40℃が適
当である。こうして、目的の2′,3′−ジデオキシ
カナマイシンAが生成される。 次に実施例によつて本発明を説明する。実施例
1は第1の製法により、実施例2は第2の製法に
より本発明の目的化合物を合成する例を示す。 実施例 1 (1) テトラ−N−エトキシカルボニルカナマイシ
ンAの生成(工程1) カナマイシンA硫酸塩40gを2N−NaOH水溶
液400mlとメタノール200mlとの混液にとかし、そ
の溶液中にクロル炭酸エチル69mlを滴下し、室温
下で4時間撹拌した。析出物を過し水洗後、乾
燥した。収量45.7g(86%) m.p.266〜267℃(分解) 〔α〕25 D+48.3゜(e0.5,DMF) 元素分析 計算値(C30H52N4O19): C46.62,H6.80,N7.25% 実測値:C45.92,H6.79,N7.05% (2) ヘキサ−O−ベンゾイル−テトラ−N−エト
キシカルボニルカナマイシンAの生成(工程
2) 前項(1)で得たテトラ−N−エトキシカルボニル
カナマイシンAの7.73gのピリジン200ml溶液に
塩化ベンゾイル12.2mlを加え、5℃で一夜放置し
てO−ベンゾイル化を行つた。水1mlを加えた
後、溶媒を減圧留去し、残渣に酢酸エチル300ml
を加え、水洗後、飽和重曹水で洗い最後に水洗を
2回した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した後
減圧濃縮し、表題化合物13.6g(97.3%)を得
た。 m.p.195〜215℃ 〔α〕25 D+100.7℃(C0.9,CHCl3) 元素分析 計算値(C72H76N4O25): C61.87,H5.49,N4.01% 実測値:C61.78,H5.42,N3.87% (3) 3′,4′,2″,4″,6″−ペンタ−O−ベンゾイ
ル−テトラ−N−エトキシカルボニル−カナマ
イシンA(化合物)の生成(工程3) 前項(2)の生成物の42gをピリジン60mlにとかし
た溶液にヒドラジンヒドラート0.48mlを加え、室
温下に一夜放置して2′−O−ベンゾイル基を選択
的に脱離する反応を行つた。アセトン2mlを加え
た後、溶媒を、減圧留去し、残渣に酢酸エチル
150mlを加えた。水洗後、1N−KHSO4水溶液で
洗い、次いで飽和重曹水で洗い、最後に2回水洗
した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を
減圧留去して、粗物質3.8gを得た。これをシリ
カゲル(75g)クロマトグラフイで精製し、表題
物質2.6g(67%)を得た。 m.p.193〜202℃ 〔α〕25 D+85.5゜(c.1.0,CHCl3) 元素分析 計算値(C65H72N4O24): C60.35,H5.62,N4.33% 実測値:C59.41,H5.51,N4.32% (4) 3′,4′,2″,4″,6″−ペンタ−O−ベンゾイ
ル−2′−O−メチルスルホニル−テトラ−N−
エトキシカルボニルカナマイシンA(化合物)
の生成(工程3) 前項(3)の生成物の(3.0g,2.32ミリモル)を
ピリジン(30ml)に溶解し、塩化メシル(0.63
ml,8.08ミリモル)を加え、室温で1時間撹拌す
る。水(0.2ml)を加えた後、溶媒を減圧下に留
去し、残留物を酢酸エチル100mlに溶解する。こ
れを水洗(50ml×1),飽和重曹水(50ml),水洗
(50ml×2)した後、硫酸マグネシウムで乾燥し、
溶媒を減圧下に留去する。得られる粗物質をシリ
カゲルクロマトグラフイーで精製(ワコーゲルC
−200 60g,CHCl3:CH3OH=50:1)すると
表題化合物(2.98g,93.7%)が得られる。 m.p.167〜178℃ 〔α〕24 D+101.7゜(c.1.0,CHCl3) NMR(CDCl3)δ:2.7(3H,s,−SO2CH3)7.2
〜8.2(25H,m,C6H5CO−) 元素分析(C66H74N4O26S): 計算値 C57.79,H5.45,N4.09,S2.33% 実測値 C57.82,H5.44,N4.01,S2.39% (5) 2′,3′−アンヒドロ−4′,2″.4″,6″−テト
ラ
−O−ベンゾイル−2′−エピ−テトラ−N−エ
トキシカルボニルカナマイシン(化合物)の
生成(工程5〜6) 前項(4)の化合物の(2.84g,2.07ミリモル)
をメタノール(60ml),ジオキサン(60ml)の混
液に溶解し、ナトリウムメチラート(28%メタノ
ール溶液,4ml,20.7ミリモル)を加え、室温下
に18時間撹拌する。氷冷下に1N−塩酸で中和し
た後、溶媒を減圧下に留去する。残留物をピリジ
ン(100ml)に溶解し、塩化ベンゾイル(2.5ml,
21.5ミリモル)を加え、室温下に60分間撹拌す
る。水(0.5ml)を加えた後、溶媒を減圧下に留
去し、残留物を酢酸エチル(70ml)に溶解する。
これを水洗(50ml×1),飽和重曹水(50ml×
2),水洗(50ml×2)した後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。溶媒を留去して得られた残留物
(2.42g)をシリカゲルクロマトグラフイー(ワ
コーゲルC−200 50g,CHCl3:CH3OH=50:
1)で分離精製すると表題化合物(1.98g,82
%)が得られた。 m.p.133〜146℃ 〔α〕20 D+74.5゜(c1.0,CHCl3) 元素分析(C58H66N4O22): 計算値 C59.47,H5.69,N4.78% 実測値 C59.66,H5.71,N4.56% (6) 4′,2″,4″,6″−テトラ−O−ベンゾイル−
3′−デオキシ−2′,3′−ジ−エピ−3′−ヨード
−テトラ−N−エトキシカルボニルカナマイシ
ンA(化合物)の生成(工程7) 前項(5)の化合物の(1.85g,1.58ミリモル)
をアセトン(45ml)に溶解し、ヨウ化ナトリウム
(1.36g,9.07ミリモル),酢酸(1.26ml)を加え、
撹拌還流下に8時間反応させる。放冷後、溶媒を
減圧下に留去し、残留物を酢酸エチル(70ml)に
溶解する。これを水洗(50ml×2)し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥する。溶媒を留去して得られた残
留物(2.0g)をシリカゲルクロマトグラフイー
(ワコーゲルC−200 50g,CHCl3:CH3OH=
45:1)で分離精製すると表題化合物V(1.54g,
75%)が得られた。 m.p.150〜155℃ 〔α〕20 D+33.0゜(c0.8,CHCl3) 元素分析(C58H67N4O22I): 計算値 C53.61,H5.21,N4.31,I9.78% 実測値 C53.46,H5.20,N4.23,I10.01% (7) 4′,2″,4″,6″−テトラ−O−ベンゾイル−
2′,3′−ジデオキシ−2′−エノ−テトラ−N−
エトキシカルボニルカナマイシンA(化合物)
の生成(工程8) 前項(6)の化合物の(1.0g,0.77ミリモル)
をピリジン(20ml)に溶解し、4−ジメチルアミ
ノピリジン(90mg,0.74ミリモル),トリエチル
アミン(1ml),塩化メシル(0.3ml,3.8ミリモ
ル)を加えて、室温下に5時間撹拌する。これを
氷水(50ml)に投入し、析出物を酢酸エチル(70
ml)で抽出する。有機層を1N−硫酸水素カリウ
ム溶液(50ml),水洗(50ml),飽和重曹水(20
ml),水洗(50ml×2)した後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。溶媒を留去して得られた残留物
(0.85g)をシリカゲルクロマトグラフイー(ワ
コーゲルC−200 20g,CHCl3:CH3OH=50:
1)で分離精製すると表題化合物(0.65g,73
%)が得られた。 m.p.151〜158℃(dec) 〔α〕22 D+77.5(c0.8,CHCl3) 元素分析(C58H66N4O21) 計算値 C60.30,H5.77,N4.85% 実測値 C60.11,H5.76,N4.80% (8) 2′,3′−ジデオキシ−2′−エノ−カナマイシ
ンA(化合物)の生成(工程9〜10) 前項(7)の化合物の(500mg,0.43ミリモル)
をメタノール(10ml)に溶解し、ナトリウムメチ
ラート(28%メタノール溶液0.3ml,1.5ミリモ
ル)を加え、室温下に30分間静置する。溶媒を減
圧下に留去し、得られた残留物に水(5ml),水
酸化ナトリウム(1.5g)を加える。これを100℃
で3時間撹拌し、放冷後、水(100ml)を加え、
濃塩酸を加えて中和する。これをアンバーライト
CG−50(NH+ 4型20ml,0.3N−アンモニア水溶液)
で分離精製すると表題化合物(135mg,70%)
が得られた。 m.p.165〜173℃ 〔α〕22 D+106.4゜(c0.7,H2O) NMR(D2O)δ:6.00(1H,d,J=10Hz,3′−
H), 5.82(1H,m,2′−H), 5.43(1H,m,1′−H), 5.00(1H,d,J=4Hz,1″−H) 3.45(1H,q,J=4,10Hz H−2″), 2.96(1H,t,J=10Hz,H−3″) 元素分析(C18H34N4O9・H2O) 計算値 C46.14,H7.76,N11.96% 実測値 C46.25,H7.77,N11.82% (9) 2′,3′−ジデオキシカナマイシンA(化合物
)の生成(工程11) 前項(8)の化合物の(100mg,0.22ミリモル)
を水(5ml)に溶解し、酸化白金(10mg)を加
え、室温常圧下に3時間、接触還元を行う。不溶
物を去し、液をアンバーライトCG−50
(NH+ 4型3ml,0.3N−アンモニア水)で精製する
と表題化合物(84mg,83%)が得られた。 m.p.148〜162℃ 〔α〕23 D+114゜(c1.0,水)13 C−NMR(D2O中,PD10で測定): 1″−C 100.9(ppm) 1−C 51.4 1′−C 98.8 3−C 50.1 6−C 88.8 6′−C 42.6 4−C 86.1 2−C 36.5 5−C 75.6 3′−C 29.3 5′−C 73.0 2′−C 26.8 2″−C 72.8 5″−C 72.7 4″−C 70.2 4′−C 67.7 6″−C 61.1 3″−C 55.1 実施例 2 (1) 6′−N−ベンジルオキシカルボニル−4″,
6″−O−ベンジリデン−1,3,3″−トリ−N
−トシルカナマイシンA(化合物)の製造
(工程1〜3) 6′−N−ベンジルオキシカルボニル−1,3,
3″−トリ−トシルカナマイシンA(化合物)を
Carbohydrate Research,89巻91−101,(1981)
の方法によりカナマイシンAから調製し、これの
1.58g(1.46ミリモル)を無水N,N−ジメチル
ホルムアミド(DMF)8mlに溶解し、ベンズア
ルデヒド・ジメチルアセタール0.27ml(1.2モル
比)とパラトルエンスルホン酸・一水塩55mgを加
え、室温で反応させた。7時間後、ベンズアルデ
ヒド・ジメチルアセタール0.13ml(0.6モル比)
を追加した。30時間後、氷冷した飽和炭酸水素ナ
トリウム水320mlにいれた。生じた白沈を取し、
水で洗い、さらにエチルエーテルで洗い、得られ
た物質を乾燥して、1.60gの淡黄色固体として表
題化合物Xを得た。 〔α〕23 D−22゜(c0.5,テトラヒドロフラン) 元素分析値 C54H64N4O19S3として 計算値 C55.47,H5.52,N4.79,S8.23% 実測値 C55.30,H5.49,N4.84,S8.28 (2) 4″,6″−O−ベンジリデン−6′−N;4′−O
−カルボニル−1,3,3″−トリ−N−トシル
カナマイシンA(化合物XI)の製造(工程4) 前項の化合物Xの4.65g(3.98ミリモル)を無
水DMF93mlに溶解し、0℃,窒素雰囲気下に、
80%の油性水酸化ナトリウム1.72g(9倍モル)
を加え、激しく撹拌しながら1時間0℃で反応さ
せた後、さらに室温で1晩反応させた。0℃下に
25%酢酸水14.8ml(NaHに対して1.7倍モル)を
加え、減圧濃縮した。残渣に水を加えて、形成さ
れた固体を、取し、水洗し、乾燥した。さらに
エチルエーテルで洗浄後、乾燥して表題化合物XI
を3.97g得た。 〔α〕22 D−43゜(c1.0,アセトン) 元素分析値 C47H56N4O18S3として 計算値 C53.20,H5.32,N5.28,S9.07% 実測値 C52.85,H5.39,N5.26,S8.81 (3) 4″,6″−O−ベンジリデン−6′−N;4′−O
−カルボニル−2′,3′−シクロヘキシリデン−
1,3,3″−トリ−N−トシルカナマイシンA
(化合物XII)の製造(工程5) 前項の化合物XIの3.97g(3.74ミリモル)を無
水DMF20mlに溶解させ、無水ジクロルメタン400
ml,1,1−ジメトキシシクロヘキサン10.8ml
(20倍モル)を加え、10分間加熱還流させた後、
トリフロロ酢酸2.1ml(5倍モル)を加え、モレ
キユラーシーブ5Aを還流途中に入れた装置をつ
けて還流を6時間続けた。反応後、減圧濃縮し、
残渣を氷冷した飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に
入れ、生じた沈澱を取した。この沈澱をエチル
エーテル、さらに水でよく洗い、乾燥し、表題化
合物XIIを淡黄色固体として、4.15gを得た。 〔α〕23 D−33゜(c0.6,アセトン) 元素分析値 C53H64N4O18S3として 計算値 C55.78,H5.65,N4.91,S8.43% 実測値 C55.47,H5.77,N4.88,S8.30 (4) 2″−O−アセチル−4″,6″−O−ベンジリデ
ン−6′−N;4′−−O−カルボニル−2′,3′−
O−シクロヘキシリデン−1,3,3″−トリ−
N−トシルカナマイシンA(化合物)の製
造(工程6) 前項の化合物XIIの5.26g(4.6ミリモル)を無
水ピリジン105mlに溶解し、0℃にて無水酢酸4.8
ml(10倍モル)を加え、室温に戻して、1晩反応
させた。反応液を大量の飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液中にいれ、生じた白色沈澱を取し、乾燥
して5.52gの粗生成物を得た。これをシリカゲル
クロマトグラフイー(ワコーゲルC−200,展開
系,クロロホルム:アセトン=10:7→10:8→
10:9使用)により精製し、3.51gの表題化合物
をガラス状固体として得た。 〔α〕22 D+40゜(c1.0,アセトン) 元素分析値 C55H66N4O19S3として 計算値 C55.82,H5.62,N4.73,S8.13% 実測値 C55.47,H5.75,N4.75,S7.92 (5) 2″−O−アセチル−4″,6″−O−ベンジリデ
ン−6′−N;4′−O−カルボニル−1,3,
3″−トリ−N−トシルカナマイシンA(化合物
)の製造(工程7) 前項の化合物の1.88g(1.59ミリモル)に
80%酢酸水38mlを加え、懸濁液を激しく撹拌しな
がら、40℃で3.5時間反応させ、反応液を、大量
の飽和炭酸水素ナトリウム水溶液中にいれ、生じ
た沈澱を取し、水洗し、乾燥して粗生成物1.44
gを得た。これをシリカゲルクロマトグラフイー
(ワコーゲルC−200,展開系クロロホルム:アセ
トン=1:1→1:2→アセトン)で精製し、表
題化合物の0.99gをガラス状固体として得
た。 〔α〕23 D−8゜(c1.0,アセトン) 元素分析値 C49H58N4O19S3として 計算値 C53.35,H5.30,N5.08,S8.72% 実測値 C53.34,H5.21,N5.13,S8.66 (6) 2″−O−アセチル−4″,6″−O−ベンジリデ
ン−6′−N;4′−O−カルボニル−2′,3′−ジ
−O−トリフルオロメチルスルホニル−1,
3,3″−トリ−N−トシルカナマイシンA(化
合物)の製造(工程8) 前項の化合物の887mgを無水ピリジン17.7
mlに溶解し、0℃窒素雰囲気下に、無水トリフロ
ロメタンスルホニル,1.13ml(比重1.68として8.4
倍モル)を加え、0℃で4時間反応させた。反応
液を氷冷した飽和炭酸水素ナトリウム水溶液にい
れ、生じた沈澱を取,水洗し、乾燥して、1.01
gの表題化合物を淡黄色固体として得た。 〔α〕23 D−32゜(c1.0,アセトン) 元素分析値 C51H56N4O23S5F6として 計算値 C44.80,H4.13,N4.10,S11.73% 実測値 C44.94,H4.32,N4.21,S11.42 (7) 2″−O−アセチル−4″,6″−O−ベンジリデ
ン−6′−N;4′−O−カルボニル−2′,3′−ジ
デオキシ−2′−エノ−1,3,3″−トリ−N−
トシルカナマイシンA(化合物)の製造
(工程9) 前項の化合物の60mg,無水ヨウ化ナトリウ
ム600mg,イミダゾール20.9mg(7倍モル)に無
水DMF1.2mlを加え、100℃で激しく撹拌しなが
ら45分間反応させた。(1〜2分で均一になる。)
熱いうちに反応液にクロロホルム12mlを加え、有
機層をとり減圧濃縮し、残渣を得た。これをクロ
ロホルムで抽出し、クロロホルム層を順次、
0.1Mチオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液、水で洗浄し、芒硝乾燥後、濃
縮乾固して、表題化合物をガラス状固体とし
て47mg得た。 (8) 2″−O−アセチル−4″,6″−O−ベンジリデ
ン−6′−N;4′−O−カルボニル−2′,3′−ジ
デオキシ−1,3,3″−トリ−N−トシルカナ
マイシンA(化合物)の製造(工程10) 酸化白金21.2mgにTHF−水(2:1)2mlを
加え、水素圧3Kg/cm2下に30分間振とうして、触
媒を活性化した。これに前項の化合物の100
mgを加え、水素圧3.5Kg/cm2の水素下に振とうし
て、45分間反応させた。反応液を過し、液を
濃縮乾固し、表題化合物の96mgをガラス状固
体として得た。 〔α〕23 D+10゜(c1.0,アセトン) 元素分析値 C49H58N4O17S3として 計算値 C54.94,H5.46,N5.23,S8.98% 実測値 C54.58,H5.54,N5.02,S8.70 (9) 4″,6″−O−ベンジリデン−2′,3′−ジデオ
キシ−1,3,3″−トリ−N−トシルカナマイ
シンA(化合物)の製造(工程11) 前項の化合物の178mgにTHF−3N−
NaOH(2:1)3.6mlを加え(2層になる。)撹
拌しながら50℃で2.5時間反応させた。反応液を
減圧濃縮し、残渣をダウエツクス50W×2(NH+ 4
型)レジン10mlにて、メタノール−3Nアンモニ
ア水(2::1)で展開し、溶出したニンヒドリ
ン陽性部分を合わせて、濃縮乾固し、表題化合物
の166.7mgを得た。 (10) 2′,3′−ジデオキシカナマイシンA(化合物
)の製造(工程12) 前項の化合物の166.7mgを−50℃の液体ア
ンモニア15mlに溶解し、金属ナトリウム0.2gを
加え、1時間放置した後、反応液に1%の水を含
むTHF水を加えて、残留のナトリウムを除き、
温度を徐々に室温まで上昇させて、アンモニアを
留去せしめた。残渣をダウエツクス50W×2
(NH+ 4型)レジンカラムにつめ、1Nアンモニア
水で溶出し、ニンヒドリン活性部分を集め、濃縮
乾固し、表題化合物の63.4mgを得た。 〔α〕23 D+114゜(c1.0,水) 融点 148〜162℃ 元素分析値 C18H36N4O9・H2Oとして 計算値 C44.35,H4.44,N10.89% 実測値 C44.08,H7.33,N10.72 ペーパークロマトグラフイー(Toyo紙No.50,
ブタノール:ピリジン:水:酢酸=6:4:3:
1,下降法64時間展開)にてRfカナマイシン
A2.0である。
Claims (1)
- 1 2′,3′−ジデオキシカナマイシンAまたはそ
の酸付加塩。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21332982A JPS59104396A (ja) | 1982-12-07 | 1982-12-07 | 新規抗生物質2′,3′−ジデオキシカナマイシン |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21332982A JPS59104396A (ja) | 1982-12-07 | 1982-12-07 | 新規抗生物質2′,3′−ジデオキシカナマイシン |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59104396A JPS59104396A (ja) | 1984-06-16 |
| JPH0366315B2 true JPH0366315B2 (ja) | 1991-10-16 |
Family
ID=16637349
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21332982A Granted JPS59104396A (ja) | 1982-12-07 | 1982-12-07 | 新規抗生物質2′,3′−ジデオキシカナマイシン |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59104396A (ja) |
-
1982
- 1982-12-07 JP JP21332982A patent/JPS59104396A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59104396A (ja) | 1984-06-16 |
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