JPH0372157B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0372157B2 JPH0372157B2 JP11092685A JP11092685A JPH0372157B2 JP H0372157 B2 JPH0372157 B2 JP H0372157B2 JP 11092685 A JP11092685 A JP 11092685A JP 11092685 A JP11092685 A JP 11092685A JP H0372157 B2 JPH0372157 B2 JP H0372157B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- etching
- etched
- base sheet
- sheets
- present
- Prior art date
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- Expired
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は金属板等のシート状材料のエツチング
方法に関する。
方法に関する。
従来は金属板等のシート状材料のエツチングに
おいて、片面だけのエツチングで逐行できる場
合、例えば、基材シートを貫通する必要のない場
合でも、基材シートの両側からエツチングして、
貫通を目的とする工程と同じ工程を用い、ただエ
ツチング剤を片面に対してのみ噴霧する方法を使
用していた。
おいて、片面だけのエツチングで逐行できる場
合、例えば、基材シートを貫通する必要のない場
合でも、基材シートの両側からエツチングして、
貫通を目的とする工程と同じ工程を用い、ただエ
ツチング剤を片面に対してのみ噴霧する方法を使
用していた。
例えば第2図aに示すように、まず整面等の前
処理した基材シート1を用意した後、基材シート
全面にレジスト膜3aを形成し(第2図b参照)、
ついで所定のマスクパターンを介して露光、現像
し、エツチングすべき金属面のみを露出させる
(第2図c)。ついでエツチング液5を吹きつけ、
この金属露出面をハーフエツチングして、目的と
するエツチング孔4を形成する(第2図d)。最
後に残存しているレジスト膜を溶解・除去して、
エツチング工程を完了させる(第2図e)。
処理した基材シート1を用意した後、基材シート
全面にレジスト膜3aを形成し(第2図b参照)、
ついで所定のマスクパターンを介して露光、現像
し、エツチングすべき金属面のみを露出させる
(第2図c)。ついでエツチング液5を吹きつけ、
この金属露出面をハーフエツチングして、目的と
するエツチング孔4を形成する(第2図d)。最
後に残存しているレジスト膜を溶解・除去して、
エツチング工程を完了させる(第2図e)。
しかしこの従来の方法では、エツチングは片面
だけでよい場合も作業能率上あるいはエツチング
剤、剥膜等の材料コストなどの点で両面エツチン
グの場合と変らないなどの問題があつた。
だけでよい場合も作業能率上あるいはエツチング
剤、剥膜等の材料コストなどの点で両面エツチン
グの場合と変らないなどの問題があつた。
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであつ
て、製造コストが安く、かつ生産性を向上させ得
るエツチング方法を提供することを目的とする。
て、製造コストが安く、かつ生産性を向上させ得
るエツチング方法を提供することを目的とする。
即ち本発明は、被エツチング基材シートの一対
をそれぞれ被エツチング面が露出するようにして
重ね合せ、この積層された基材シート相互間を液
密に保つようにして剥離自在に接着し、ついで上
記被エツチング面に形成された耐エツチングパタ
ーンをマスクとして双方の被エツチング面をエツ
チング処理したのち、積層された被エツチング基
材シート間を剥離することを特徴とするエツチン
グ方法を提供するものである。
をそれぞれ被エツチング面が露出するようにして
重ね合せ、この積層された基材シート相互間を液
密に保つようにして剥離自在に接着し、ついで上
記被エツチング面に形成された耐エツチングパタ
ーンをマスクとして双方の被エツチング面をエツ
チング処理したのち、積層された被エツチング基
材シート間を剥離することを特徴とするエツチン
グ方法を提供するものである。
さらに本発明はエツチング処理がハーフエツチ
ングであるエツチング方法を提供する。
ングであるエツチング方法を提供する。
なお本明細書において、ハーフエツチングとは
被エツチング基材シートを厚み方向に完全に貫通
させずに途中の段階までエツチングをおこなうこ
とを意味する。
被エツチング基材シートを厚み方向に完全に貫通
させずに途中の段階までエツチングをおこなうこ
とを意味する。
また、被エツチング基材シートは金属に限ら
ず、ガラス質のもの、セラミツク、プラスチツク
等、エツチング適性(ウエツトエツチングおよび
ドライエツチングを含めて)を有するもの全てを
含む。エツチング剤は上記基材シートの材質に応
じて適宜選択すればよい。エツチングに際し、マ
スクとして用いられる耐エツチング剤について
も、使用されるエツチング剤との関連で適宜選択
される。基材シート相互の接着はエツチング時の
温度、エツチング液に耐え、かつ易剥離性の接着
剤(例えば両面接着テープ)を用い、積層基材シ
ート間にエツチング液が浸透しないようにして行
われる。
ず、ガラス質のもの、セラミツク、プラスチツク
等、エツチング適性(ウエツトエツチングおよび
ドライエツチングを含めて)を有するもの全てを
含む。エツチング剤は上記基材シートの材質に応
じて適宜選択すればよい。エツチングに際し、マ
スクとして用いられる耐エツチング剤について
も、使用されるエツチング剤との関連で適宜選択
される。基材シート相互の接着はエツチング時の
温度、エツチング液に耐え、かつ易剥離性の接着
剤(例えば両面接着テープ)を用い、積層基材シ
ート間にエツチング液が浸透しないようにして行
われる。
以下本発明を第1図及び第3図に図示した一実
施例を参照して説明する。
施例を参照して説明する。
まず第1図aに示す如く、被エツチング基材シ
ート(例えば金属板)1をそれぞれ被エツチング
面が露出するようにして重ね合せ、その間に接着
剤(例えば感圧型接着剤)2を望ましくは第1図
bの如く、両縁部にのみ介在させて、相互に剥離
自在に接着する。
ート(例えば金属板)1をそれぞれ被エツチング
面が露出するようにして重ね合せ、その間に接着
剤(例えば感圧型接着剤)2を望ましくは第1図
bの如く、両縁部にのみ介在させて、相互に剥離
自在に接着する。
このようにして互いに接着させた基材シートの
積層体6の両面全面に耐エツチング剤3aを塗布
し(第1図c)、ついで部分露光と現像により、
耐エツチングパターン3bを形成する(第1図
d)。次にこのように両面に耐エツチングパター
ン3bを形成した積層体6を第3図に示す如く、
エツチング槽8に連続的に導入する。ここで積層
体6はこの槽8内の導入路7の上下方向に配置さ
れ、多数のノズルを有するシヤワー装置10によ
り、エツチング液5を吹きつけられ、その結果、
第1図eに示す如く、各基材シートはエツチング
パターン3bの開口部から、例えばハーフエツチ
ングされ、エツチング孔4が形成される。エツチ
ング槽8を通過した基材シート積層体6は、続い
て洗浄槽9に導入され、シヤワー装置11により
洗浄液が吹きつけられ、エツチング液が除去され
る。ついで基材シート積層体6は第3図に示す如
く適当な剥離装置13により各基材シート単位1
4に分離され(第1図f)、エツチング工程を終
える。エツチングパターンはこのように各基材シ
ート単位に分離されたのち、又は分離される前に
適当な溶剤により除去される。
積層体6の両面全面に耐エツチング剤3aを塗布
し(第1図c)、ついで部分露光と現像により、
耐エツチングパターン3bを形成する(第1図
d)。次にこのように両面に耐エツチングパター
ン3bを形成した積層体6を第3図に示す如く、
エツチング槽8に連続的に導入する。ここで積層
体6はこの槽8内の導入路7の上下方向に配置さ
れ、多数のノズルを有するシヤワー装置10によ
り、エツチング液5を吹きつけられ、その結果、
第1図eに示す如く、各基材シートはエツチング
パターン3bの開口部から、例えばハーフエツチ
ングされ、エツチング孔4が形成される。エツチ
ング槽8を通過した基材シート積層体6は、続い
て洗浄槽9に導入され、シヤワー装置11により
洗浄液が吹きつけられ、エツチング液が除去され
る。ついで基材シート積層体6は第3図に示す如
く適当な剥離装置13により各基材シート単位1
4に分離され(第1図f)、エツチング工程を終
える。エツチングパターンはこのように各基材シ
ート単位に分離されたのち、又は分離される前に
適当な溶剤により除去される。
なお本実施例においては基材シート2枚の接着
はエツチングマスク形成の前に行つたが、エツチ
ングマスクを形成してから接着し、現像を行なう
方法、またエツチングマスクを形成し、現像後に
接着を行う方法も可能である。
はエツチングマスク形成の前に行つたが、エツチ
ングマスクを形成してから接着し、現像を行なう
方法、またエツチングマスクを形成し、現像後に
接着を行う方法も可能である。
以上説明した如く、本発明の方法によれば、被
エツチング基材シートの一対を、それぞれ片面が
エツチングされないように一方の面を対向させて
接着し、それぞれ他方の面のみを露出させエツチ
ング処理を施すため、2枚の被エツチング基材の
エツチング処理が一度のエツチング工程で同時に
完了することになるから、従来の一枚単位でエツ
チング処理する方法に比較して、製造能率が大幅
に向上するとともに、エツチング製品量に対する
耐エツチング剤、洗浄液の使用割合を少くするこ
とができるなど、製造コストの著しい低減を図る
ことができる。
エツチング基材シートの一対を、それぞれ片面が
エツチングされないように一方の面を対向させて
接着し、それぞれ他方の面のみを露出させエツチ
ング処理を施すため、2枚の被エツチング基材の
エツチング処理が一度のエツチング工程で同時に
完了することになるから、従来の一枚単位でエツ
チング処理する方法に比較して、製造能率が大幅
に向上するとともに、エツチング製品量に対する
耐エツチング剤、洗浄液の使用割合を少くするこ
とができるなど、製造コストの著しい低減を図る
ことができる。
なお上記実施例では、被エツチング素材を連続
方式でエツチング処理する場合について述べた
が、これに限らずバツチ方式を行うことも可能で
ある。
方式でエツチング処理する場合について述べた
が、これに限らずバツチ方式を行うことも可能で
ある。
また本発明の方法は、特にハーフエツチングの
みで製品化する場合に適しているが、エツチング
により貫通孔を金属板等に形成させる場合にも適
用し得ることは勿論である。
みで製品化する場合に適しているが、エツチング
により貫通孔を金属板等に形成させる場合にも適
用し得ることは勿論である。
第1図aないしfは、本発明の方法を工程順に
説明するための断面図、第2図は従来のエツチン
グ法を工程順に説明するための断面図、第3図は
本発明の方法を実施するためのエツチング装置の
模式図である。 1…基材シート、2…接着剤、3a…耐エツチ
ング剤、3b…耐エツチングパターン、4…エツ
チング孔、5…エツチング液、6…基材シート積
層体、8…エツチング槽、9…洗浄槽、14…基
材シート単位。
説明するための断面図、第2図は従来のエツチン
グ法を工程順に説明するための断面図、第3図は
本発明の方法を実施するためのエツチング装置の
模式図である。 1…基材シート、2…接着剤、3a…耐エツチ
ング剤、3b…耐エツチングパターン、4…エツ
チング孔、5…エツチング液、6…基材シート積
層体、8…エツチング槽、9…洗浄槽、14…基
材シート単位。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 被エツチング基材シートの一対をそれぞれ被
エツチング面が露出するようにして重ね合せ、こ
の積層された基材シート相互間を液密に保つよう
にして剥離自在に接着し、ついで上記被エツチン
グ面に形成された耐エツチングパターンをマスク
として双方の被エツチング面をエツチング処理し
たのち、積層された被エツチング基材シート間を
剥離することを特徴とするエツチング方法。 2 エツチング処理がハーフエツチングである特
許請求の範囲第1項記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11092685A JPS61270379A (ja) | 1985-05-23 | 1985-05-23 | エツチング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11092685A JPS61270379A (ja) | 1985-05-23 | 1985-05-23 | エツチング方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61270379A JPS61270379A (ja) | 1986-11-29 |
| JPH0372157B2 true JPH0372157B2 (ja) | 1991-11-15 |
Family
ID=14548113
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11092685A Granted JPS61270379A (ja) | 1985-05-23 | 1985-05-23 | エツチング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61270379A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5196088A (en) * | 1988-08-05 | 1993-03-23 | Tru Vue, Inc. | Process and apparatus for producing non-glare glass by etching |
| JPH1088072A (ja) * | 1996-09-11 | 1998-04-07 | Toyo Seimitsu Kogyo Kk | 自動化供給を容易にする金属薄片の仮止めシート及び その製造方法。 |
-
1985
- 1985-05-23 JP JP11092685A patent/JPS61270379A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61270379A (ja) | 1986-11-29 |
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