JPH0373557B2 - - Google Patents

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JPH0373557B2
JPH0373557B2 JP12710883A JP12710883A JPH0373557B2 JP H0373557 B2 JPH0373557 B2 JP H0373557B2 JP 12710883 A JP12710883 A JP 12710883A JP 12710883 A JP12710883 A JP 12710883A JP H0373557 B2 JPH0373557 B2 JP H0373557B2
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JP
Japan
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compound
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JP12710883A
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JPS6019794A (ja
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Yukihiko Kinoshita
Makio Kitazawa
Ryoji Yamamoto
Yasushi Nakano
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Kissei Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Kissei Pharmaceutical Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】
本発明は新規なアミド安息香酸誘導体に関する
ものである。更に詳しくいえば、本発明は一般式 (式中のR1及びR4はそれぞれ水素原子又は炭
素原子が1〜3の低級アルキル基であり、Yは互
いに同じでも異なつていてもよく、炭素数が1〜
4の直鎖状又は枝分れ状の低級アルコキシル基、
水酸基及び炭素数が2〜5のアシルオキシ基の中
から選ばれる基であり、nは2又は3である) で表わされる芳香族カルボン酸誘導体の製造中間
体として有用な、一般式 〔式中のR1は前記と同じ意味をもち、R2は水
素原子又はZと隣接炭素原子との間で二重結合を
形成するものであり、R3は炭素原子数が1〜3
の低級アルキル基であり、Zは式
【式】(X13P=又は
【式】 (ただし、各式中のX1は炭素原子数が1〜10
の直鎖状又は枝分れ状のアルキル基、フエニル基
又は置換フエニル基、X2は炭素原子数が1〜10
の直鎖状又は枝分れ状のアルコキシル基、Halは
塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子)で示される
リン含有残基である〕 で表わされるアミド安息香酸誘導体に関するもの
である。 一般式(1)で表わされる芳香族カルボン酸ア
ミド誘導体、特に式 で表わされるN−(3,4−ジメトキシシンナモ
イル)アントラニル酸は、人を含む哺乳動物にお
いて顕著な抗アレルギー作用を示し、アレルギー
に起因する種々の疾患、例えば気管支ぜん息、ア
トピー性皮フ炎、アレルギー性鼻炎等の予防及び
治療用医薬品としてきわめて有用な化合物であ
る。 この一般式(1)で表わされる化合物は公知の化合
物であり、その製造方法もいくつか知られてい
る。これまで、この化合物を製造する方法の中で
最も一般的な方法は、一般式 (式中のR1,Y及びnは前記と同じ意味をも
つ)で表わされる核置換ケイ皮酸類の反応性官能
的誘導体と、一般式 (式中のR4は前記と同じ意味をもつ) で表わされるアントラニル酸又はそのエステル類
とを反応させる方法である。しかしながら、この
製造方法は反応操作が比較的面倒であり、また加
熱等による副反応生成物が不純物が混入し、精製
にも手間を要する上に、反応性官能的誘導体とし
て酸ハロゲン化物を用いる場合、その製造時にハ
ロゲン化水素ガスなどの有害なガスが発生するな
どの難点があつた。 本発明者らはこのような問題点を解消すべく研
究した結果、ウイテイヒ(Wittig)反応を応用す
ることにより、きわめて簡単に、効率よく一般式
(1)で表わされる化合物を製造できることを見出し
た。本発明はその製造方法において出発原料とし
て用いられる新規なアミド安息香酸誘導体に関す
るものである。 すなわち、本発明の一般式(2)の化合物でZ
が式(X13P=(式中のX1は前記と同じ意味をも
つ)である化合物と、あるいは、一般式(2)の
化合物でZが式
【式】又は
【式】 (式中のX1,X2及びHalは前記と同じ意味を
もつ)である化合物を塩基性物質で処理して、一
般式 (式中のR1及びR3は前記と同じ意味をもち、
Z1は式 (X13 + P− 又は
【式】 但し、各式中のX1及びX2は前記と同じ意味を
もち、B+は塩基性物質から誘導される陽イオン
である)で表わされるリンイリド誘導体を製造し
た後、これらの化合物と、一般式 (式中のY及びnは前記と同じ意味をもつ) で表わされる核置換ベンズアルデヒド類とを室温
ないし冷却下に反応させ、必要に応じ加水分解す
ることにより容易に一般式(1)の化合物を得ること
ができる。 この製造方法は従来の方法に比べ反応操作が非
常に簡単であり、また、反応がきわめて緩和な条
件で進行するため副反応が起りにくく最終物の精
製も容易であるという利点がある。更に又、全製
造過程において従来法における酸ハロゲン化物の
製造時に発生するハロゲン化水素ガスのような有
害なガスを発生することもない。したがつて、本
発明の一般式(2)の化合物を出発原料として用
いることにより、従来より容易に、効率よく一般
式(1)の化合物を製造することができる。 このように、本発明の一般式(2)で表わされる化
合物は、医薬品として有用な一般式(1)で表わされ
る芳香族カルボン酸アミド誘導体の製造中間体と
してきわめて有用である。 本発明の一般式(2)で表わされるアミド安息香酸
誘導体は以下のようにして製造することができ
る。すなわち、一般式 (X13P (8) (式中のX1は前記と同じ意味をもつ) 又は一般式 (X23P (9) (式中のX2は前記と同じ意味をもつ) で表わされるリン化合物と、一般式 (式中のR1,R2,R3及びHalは前記と同じ意
味をもつ) で表わされる2−(α−ハロアシルアミノ)安息
香酸エステルとを不活性有機溶媒中、例えばベン
ゼン、トルエン、キシレンなどの中、又は無溶媒
で数時間〜十数時間加熱すれば、一般式(2)の化合
物でZが式
【式】又は
【式】 (式中のX1、X2及びHalは前記と同じ意味を
もつ) に相当する化合物を製造することができる。この
ようにして得た化合物の中でZが式 (式中のX1及びHalは前記と同じ意味をもつ)
に相当する化合物は、これを不活性溶媒、例えば
水、エチルアルコール、ベンゼン、ジエチルエー
テル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、塩化メ
チレンなど及びこれらの混合液中、塩基性物質、
例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素
化ナトリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウ
ムエトキシド、ポタシウム−t−ブトキシド、ナ
トリウムアミド、リチウムアミドなどで処理する
ことによつてZが式 (X13P= (式中のX1は前記と同じ意味をもつ) で表わされる化合物に変えることができる。 この製造方法において原料として用いられる一
般式(8)及び(9)の化合物はいずれも公知の化合物で
あり、市販品として入手できるか、又は文献記載
の方法によつて容易に製造することができる。こ
のような化合物として、例えば、トリフエニルホ
スフイン、トリス(4−メトキシフエニル)ホス
フイン、トリス(4−メチルフエニル)ホスフイ
ン、トリ−n−ブチルホスフイン、トリ−n−オ
クチルホスフイン、トリメチルホスフアイト、ト
リエチルホスフアイト、トリイソプロピルホスフ
アイト、トリ−n−ブチルホスフアイト、トリ−
n−デシルホスフアイト、などをあげることがで
きる。 もう一方の原料として用いられる一般式(10)で表
わされる2−(α−ハロアシルアミノ)安息香酸
エステル類も公知の化合物であり、文献記載の方
法により容易に製造することができる。このよう
な化合物として、例えば、2−(クロルアセチル
アミノ)安息香酸、2−(ブロムアセチルアミノ)
安息香酸、2−(ヨードアセチルアミノ)安息香
酸、2−(2−クロルプロピオニルアミノ)安息
香酸、2−(2−クロルプロピオニルアミノ)安
息香酸、2−(2−ヨードプロピオニルアミノ)
安息香酸などの安息香酸類の低級アルキルエステ
ル、例えばメチルエステル、エチルエステル、プ
ロピルエステルなどをあげることができる。 本発明の一般式(2)で表わされるアミド安息香酸
誘導体は新規な化合物であり、抗アレルギー剤と
して有用な一般式(1)で表わされる芳香族カルボン
酸アミド誘導体の製造中間体としてきわめて有用
な化合物である。本発明の一般式(2)の化合物を製
造原料として用いることにより、きわめて単純な
操作で容易に効率よく一般式(1)の芳香族カルボン
酸アミド誘導体を得ることができる。 以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明
する。なお各実施例中の化合物における融点はす
べて未補正である。 実施例 1 トリフエニルホスフイン20.0gとN−クロルア
セチルアントラニル酸メチル12.0gとをベンゼン
130mlに溶解し、17時間加熱還流した。冷後析出
した結晶をろ取、乾燥して、〔(2−メトキシカル
ボニルフエニル)カルバモイルメチル〕トリフエ
ニルホスホニウムクロリド9.0gを得た。 融点 163〜165°C(分解) 赤外線吸収スペクトル(KBr) νC=O:1705,1670cm-1 核磁気共鳴スペクトル(90MHz,CDCl3) δ:3.70(3H,S),5.49(2H,d,J=
15Hz) 7.0〜8.0(19H,m),11.62(1H,S) 元素分析値(C28H25ClNO3Pとして) C% H% N% 計算値 68.64 5.14 2.86 実測値 68.42 5.11 2.68 実施例 2 〔(2−メトキシカルボニルフエニル)カルバ
モイルメチル〕トリフエニルホスホニウムクロリ
ド5.16gに水150mlとベンゼン100mlを加え、氷
冷下かきまぜながら0.48gの水酸化ナトリウムを
水20mlに溶かした液を滴下した。滴下後、さら
に15分間かきまぜた後ベンゼン層を分取し、水洗
後無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧
下に留去し、残留物をベンゼン−ジエチルエーテ
ルで再結晶して、〔(2−メトキシカルボニルフエ
ニル)カルバモイルメチレン〕トリフエニルホス
ホラン4.7gを得た。 融点 160〜163°C 赤外線吸収スペクトル(KBr) νC=O:1670cm-1 核磁気共鳴スペクトル(90MHz,CDCl3) δ:3.82(3H,S),6.6〜8.8(20H,m),
10.43(1H,S) 元素分析値(C28H24NO3Pとして) C% H% N% 計算値 74.16 5.33 3.09 実測値 74.19 5.14 2.86 実施例 3 トリエチルホスフアイト16.0gとN−クロルア
セチルアントラニル酸メチル9.0gと140〜150°C
で3時間反応させた。反応終了後過剰のトリエチ
ルホスフアイトを減圧下に留去して、油状物の
〔(2−メトキシカルボニルフエニル)カルバモイ
ルメチル〕ホスホン酸ジエチル13.0gを得た。 赤外線吸収スペクトル(液膜) νCO:1685cm-1 核磁気共鳴スペクトル(90MHz,CDCl3) δ:1.33(6H,t,J=7Hz),3.03(2H,
d,J=20Hz),3.89(3H,s),4.13(2H,
q,J=7Hz),4.22(2H,q,J=7Hz),
6.9〜8.8(4H,m),11.22(1H,s) 実施例 4 トリイソプロピルホスフアイト8.32gとN−ク
ロルアセチルアントラニル酸メチル9.1gとを130
〜140°Cで1時間、さらに150°Cで30分加熱して、
油状物の〔(2−メトキシカルボニルフエニル)
カルバモイルメチル〕ホスホン酸ジイソプロピル
14.2gを得た。 赤外線吸収スペクトル(液膜) νCO:1680cm-1 核磁気共鳴スペクトル(90MHz,CDCl3) δ:1.30(12H,d,J=6Hz),2.96(2H,
d,J=22Hz),3.86(3H,s),4.5〜5.0
(2H,m),6.9〜8.8(4H,m),11.12(1H,
s) 実施例 5 トリエチルホスフアイト7.0gとN−(2−クロ
ルプロピオニル)アントラニル酸メチル5.0gと
をアルゴン気流下200°Cで7時間加熱した。反応
終了後過剰のトリエチルホスフアイトを減圧下に
留去して、油状物の{1−〔(2−メトキシカルボ
ニルフエニル)カルバモイル〕エチル}ホスホン
酸ジエチル6.5gを得た。 赤外線吸収スペクトル(液膜) νCO:1685cm-1 核磁気共鳴スペクトル(90MHz,CDCl3) δ:1.31(6H,t,J=7Hz),1.54(3H,
dd,J=23Hz,J=7Hz),3.05(1H,dq,
J=23Hz,J=7Hz),3.9(3H,s),4.13
(4H,q,J=7Hz),6.1〜8.9(4H,m),
11.22(1H,s)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 〔式中のR1は水素原子又は炭素数が1〜3の
    低級アルキル基であり、R2は水素原子又はZと
    隣接炭素原子との間で二重結合を形成するもので
    あり、R3は炭素原子数が1〜3の低級アルキル
    基であり、Zは式【式】(X13P= 又は【式】 (ただし、X1は炭素数が1〜10の直鎖状又は
    枝分れ状のアルキル基、フエニル基又は置換フエ
    ニル基、X2は炭素原子数が1〜10の直鎖状又は
    枝分れ状のアルコキシル基、Halは塩素原子、臭
    素原子又はヨウ素原子)で示されるリン含有残基
    である〕 で表わされるアミド安息香酸誘導体。 2 式 で表わされる特許請求の範囲第1項記載のアミド
    安息香酸誘導体。 3 式 で表わされる特許請求の範囲第1項記載のアミド
    安息香酸誘導体。 4 式 で表わされる特許請求の範囲第1項記載のアミド
    安息香酸誘導体。 5 式 で表わされる特許請求の範囲第1項記載のアミド
    安息香酸誘導体。 6 式 で表わされる特許請求の範囲第1項に記載のアミ
    ド安息香酸誘導体。
JP12710883A 1983-07-13 1983-07-13 新規なアミド安息香酸誘導体 Granted JPS6019794A (ja)

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