JPH0373627B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0373627B2
JPH0373627B2 JP60257017A JP25701785A JPH0373627B2 JP H0373627 B2 JPH0373627 B2 JP H0373627B2 JP 60257017 A JP60257017 A JP 60257017A JP 25701785 A JP25701785 A JP 25701785A JP H0373627 B2 JPH0373627 B2 JP H0373627B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
masking
disk
masking means
outer periphery
periphery
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP60257017A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS62116761A (ja
Inventor
Katsuki Sagawa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sanyo Electric Co Ltd filed Critical Sanyo Electric Co Ltd
Priority to JP60257017A priority Critical patent/JPS62116761A/ja
Priority to US06/931,229 priority patent/US4745878A/en
Priority to EP86115835A priority patent/EP0229914B1/en
Priority to DE8686115835T priority patent/DE3687041T2/de
Publication of JPS62116761A publication Critical patent/JPS62116761A/ja
Publication of JPH0373627B2 publication Critical patent/JPH0373627B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
  • Details Or Accessories Of Spraying Plant Or Apparatus (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 イ 産業上の利用分野 本発明は、例えばコンパクトデイスクと称され
るデイスクを製造する場合に於いて、このデイス
クに対してアルミニウム薄膜をスパツタリングす
る際に使用し得るマスキング装置に関する。 ロ 従来技術 コンパクトデイスクを製造する場合第４図に示
すデイスクＤの内周部分Ｄ１及び外周部分Ｄ０を
マスキングしそれ以外の部分に対してアルミニウ
ム薄膜をスパツタリングする必要がある。この場
合第３図に示す如く内周側マスキング手段２１と
外周側マスキング手段２２を把手２３にて連結す
ると把手２３の高さＡをある程度高くしなければ
ならない。何故なら把手２３とデイスクＤの距離
が短いと、把手２３の影になる部分に対してスパ
ツタリングが良好に出来ず全体的に均一な膜厚の
アルミニウム薄膜を得ることができない。それ故
マスキング装置が大型化するという欠点があつ
た。 ハ 発明が解決しようとする問題点 本発明は装置を小型化でき、しかも多数のデイ
スクをマスキングを容易且つ正確に行うことがで
きる装置を提供せんとするものである。 ニ 問題点を解決する為の手段 本発明に於いては、内周マスキング手段及び外
周マスキング手段より構成する。内周マスキング
手段は下側デイスクの内周マスキング部を覆う下
部内周マスキング手段と、下部内周マスキング手
段に設けられデイスクの中心孔が装着される中心
軸と、中心軸に装着され対向配置されるデイスク
に間隙を形成する為のスペーサと、中心軸に装着
され上側デイスクの内周マスキング部を覆う上部
内周マスキング手段より構成する。 外周マスキング手段は、内周マスキング手段に
装備された下側デイスクの外周マスキング部を覆
う受け部が形成されたデイスク装着孔を有する下
部外周マスキング手段と、内周マスキング手段に
装備され且つデイスク装着孔に装着された上側デ
イスクの外周マスキング部を覆いそれ以外の部分
を露出する為の透孔を有する上部外周マスキング
手段より構成する。 ホ 作用 内周マスキング手段に装着されたデイスクの外
周を外周マスキング手段にて保持するものであ
り、内周マスキング手段と外周マスキング手段を
連絡する連絡部（把手）を必要としない。 ヘ 実施例 内周マスキング手段１は、下側デイスクＤ１の
内周マスキング部を覆う円形のマスキング基台
（下部内周マスキング手段）２と、この基台２に
設けられデイスクの中心孔が装着される中心軸３
と、下側デイスクＤ１と上側デイスクＤ２の間に
間隙を設ける為のスペーサ４と、上側デイスクＤ
２の内周マスキング部を覆う円形のマスキング抑
え盤（上部内周マスキング手段５）とを有する。
マスキング抑え盤５はバネ６にて付勢されたボー
ル７を有しており、このボール７が中心軸３に設
けられたＶ字溝３ａに係合することにより二枚の
デイスクＤ１，Ｄ２は内周マスキング部を覆われ
た状態で、内周マスキング手段１にて保持され
る。下側デイスクＤ１は下面が蒸着面となるよう
に、また上側デイスクＤ２は上面が蒸着面となる
ように装着される。 この状態にあるデイスクは外周マスキング手段
８に装着される。外周マスキング手段８は下側デ
イスクＤ１の外周マスキング部を覆う受け部９ａ
が形成されたデイスク装着孔９を有するマスキン
グ基板（下部外周マスキング手段）１０と上側デ
イスクＤ２の外周マスキング部を覆いそれ以外の
部分を露出する為の透孔１１を有するマスキング
抑え板（上部外周マスキング手段）１２より構成
される。デイスク装着孔９の上部には若干の傾斜
部９ｂが設けられており、デイスクの受入れを容
易にしている。マスキング抑え板１２には軸１３
が設けられており、この軸１３にバネ１４で上方
に付勢された抑え補助板１５が装着されている。
軸１３には抜止め１３ａが設けられている。マス
キング基板１０に対するマスキング抑え板１２の
位置決めはピン１６と案内孔１７にて行われる。
マスキング基板１０には抑え補助板１５に係合す
る抑え爪１８及びこの抑え爪１８を摺動自在に案
内する案内台１９が設けられている。尚、抑え補
助板１５には、マスキング抑え板１２に設けられ
た透孔１１より若干大きい透孔２０が設けられて
いる。 マスキング基板１０には複数個のデイスク装着
孔９を設けると良い。実際のスパツタリング作業
に於いてはマスキング基板１０はトレーの機能も
果す。 ト 発明の効果 以上述べた本発明に依れば、内周と外周のマス
キング部分を結ぶ連結部が不要であり、多数のデ
イスクのマスキングを小型の装置で行うことがで
きる。しかも、二枚のデイスクのマスキング作業
はマスキング基板に対して一方向からで良く（従
来技術の如く、一つの基板の両面にデイスクを装
着する必要がない）簡単である。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明に係るマスキング装置を示す一
部断面側面図であり、ａはマスキング前の状態を
示す図、ｂはマスキング後の状態を示す図、第２
図はその外観斜視図、第３図は従来例を示す図、
第４図はデイスクのマスキング部分を示す図であ
る。 １は内周マスキング手段、２はマスキング基台
（下部内周マスキング手段）、３は中心軸、４はス
ペーサ、５はマスキング抑え盤（上部内周マスキ
ング手段）、８は外周マスキング手段、９はデイ
スク装着孔、１０はマスキング基板（下部外周マ
スキング手段）、１１は透孔、１２はマスキング
抑え板（上部外周マスキング手段）。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 対向配置されたデイスクの非対向側の各表面
    の内周部及び外周部をマスキングする為の装置で
    あつて、 下側デイスクの内周マスキング部を覆う下部内
    周マスキング手段と、前記下部内周マスキング手
    段に設けられデイスクの中心孔が装着される中心
    軸と前記中心軸に装着され対向配置されるデイス
    クに間隙を形成する為のスペーサと、前記中心軸
    に装着され上側デイスクの内周マスキング部を覆
    う上部内周マスキング手段を有する内周マスキン
    グ手段及び 前記内周マスキング手段に装備された下側デイ
    スクの外周マスキング部を覆う受け部が形成され
    たデイスク装着孔を有する下部外周マスキング手
    段と、前記内周マスキング手段に装備され且つ前
    記デイスク装着孔に装着された上側デイスクの外
    周マスキング部を覆いそれ以外の部分を露出する
    為の透孔を有する上部外周マスキング手段を有す
    る外周マスキング手段 を備えてなるマスキング装置。
JP60257017A 1985-11-15 1985-11-15 マスキング装置 Granted JPS62116761A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60257017A JPS62116761A (ja) 1985-11-15 1985-11-15 マスキング装置
US06/931,229 US4745878A (en) 1985-11-15 1986-11-14 Vapor masking device
EP86115835A EP0229914B1 (en) 1985-11-15 1986-11-14 Vapor masking device
DE8686115835T DE3687041T2 (de) 1985-11-15 1986-11-14 Maskenanordnung fuer vakuumbeschichtungsvorrichtungen.

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60257017A JPS62116761A (ja) 1985-11-15 1985-11-15 マスキング装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62116761A JPS62116761A (ja) 1987-05-28
JPH0373627B2 true JPH0373627B2 (ja) 1991-11-22

Family

ID=17300574

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60257017A Granted JPS62116761A (ja) 1985-11-15 1985-11-15 マスキング装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US4745878A (ja)
EP (1) EP0229914B1 (ja)
JP (1) JPS62116761A (ja)
DE (1) DE3687041T2 (ja)

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Also Published As

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