JPH03281772A - マグネットチャック式基板ホルダー - Google Patents
マグネットチャック式基板ホルダーInfo
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- JPH03281772A JPH03281772A JP8260490A JP8260490A JPH03281772A JP H03281772 A JPH03281772 A JP H03281772A JP 8260490 A JP8260490 A JP 8260490A JP 8260490 A JP8260490 A JP 8260490A JP H03281772 A JPH03281772 A JP H03281772A
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- JP
- Japan
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- substrate
- substrate holder
- film forming
- type substrate
- mask
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- Granted
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- 238000013022 venting Methods 0.000 abstract description 2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
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- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、マグネットチャック式基板ホルダー特に、ス
パッタ装置、蒸着装置等の成膜装置全般に用いられる基
板ホルダーに関する。
パッタ装置、蒸着装置等の成膜装置全般に用いられる基
板ホルダーに関する。
従来のマグネットチャック式基板ホルダーは基板マスク
に空気ぬきがなかったり、空気ぬきのための穴が設けら
れていた。
に空気ぬきがなかったり、空気ぬきのための穴が設けら
れていた。
第３図は従来の一例を示す断面図、第４図は第３図に示
す従来例の平面図である。
す従来例の平面図である。
第３図、第４図に示すマグネットチャック式基板ホルダ
ーは、円板状の基板取付台１の上に円板状の基板２が載
置され、この基板２は、基板マスク１３．１４が基板取
付台１と磁石によって引きつけあう力によって挟まれて
固定される。（埋めこまれている磁石は図では省略）。
ーは、円板状の基板取付台１の上に円板状の基板２が載
置され、この基板２は、基板マスク１３．１４が基板取
付台１と磁石によって引きつけあう力によって挟まれて
固定される。（埋めこまれている磁石は図では省略）。
このようにして、基板２は基板取付台１に固定され、こ
の基板取付台ｌはスパッタ装置、蒸着装置等の成膜装置
に装着され、膜が基板２の上に形成される。
の基板取付台ｌはスパッタ装置、蒸着装置等の成膜装置
に装着され、膜が基板２の上に形成される。
しかしながら、第３図、第４図に示すマグネットチャッ
ク式基板ホルダーは成膜中に基板マスク１３．１４が落
ちてしまうということが発生し、破損などの問題が生じ
た。この原因は、基板マスク１３．１４と基板２の表面
との接触面に空気層がとじこめられることによって固定
時の基板マスり１３，１４と基板取付台１との間隔が所
定の値よりも離れることによって磁力が弱まるためであ
ることがわかった。
ク式基板ホルダーは成膜中に基板マスク１３．１４が落
ちてしまうということが発生し、破損などの問題が生じ
た。この原因は、基板マスク１３．１４と基板２の表面
との接触面に空気層がとじこめられることによって固定
時の基板マスり１３，１４と基板取付台１との間隔が所
定の値よりも離れることによって磁力が弱まるためであ
ることがわかった。
第５図は従来の他の例を示す断面図、第６図は第５図に
示す従来例の平面図である。第５図、第６図に示すマグ
ネットチャック式基板ホルダーは、基板マスク２３．２
４に空気ぬきのための穴２５゜２６を設けたものである
。
示す従来例の平面図である。第５図、第６図に示すマグ
ネットチャック式基板ホルダーは、基板マスク２３．２
４に空気ぬきのための穴２５゜２６を設けたものである
。
このように改造することにより成膜中に基板マスク２が
落下して歩留が低下するという問題はなくなったが、空
気ぬきから出入する空気により基板２の上へゴミが付着
することにより、歩留が低下するという新たな問題が発
生した。
落下して歩留が低下するという問題はなくなったが、空
気ぬきから出入する空気により基板２の上へゴミが付着
することにより、歩留が低下するという新たな問題が発
生した。
すなわち、上述した従来のマグネットチャック式基板ホ
ルダーは、成膜中に基板や基板マスクが落下したり、基
板の上へのゴミ付着による歩留低下が起るという欠点が
あった。
ルダーは、成膜中に基板や基板マスクが落下したり、基
板の上へのゴミ付着による歩留低下が起るという欠点が
あった。
本発明のマグネットチャック式基板ホルダーは、基板取
付台と、この基板取付台と協働して基板を磁力によって
挟みこの基板の表面の一部分が成膜されないようにする
とともに空気ぬき用の溝を成膜面と反対側の面に設けた
基板マスクとを含んで構成される。
付台と、この基板取付台と協働して基板を磁力によって
挟みこの基板の表面の一部分が成膜されないようにする
とともに空気ぬき用の溝を成膜面と反対側の面に設けた
基板マスクとを含んで構成される。
次に、本発明の実施例について、図面を用いて説明する
。
。
第１図は、本発明の一実施例を示す断面図、第２図は第
１図に示す実施例の断面図である。
１図に示す実施例の断面図である。
第１図、第２図に示すマグネットチャック式基板ホルダ
ーは、基板取付台と協働して磁力で基板２を挟むための
基板マスク３，４の成膜面と反対側の面に空気ぬき用の
溝５，６を設けている。
ーは、基板取付台と協働して磁力で基板２を挟むための
基板マスク３，４の成膜面と反対側の面に空気ぬき用の
溝５，６を設けている。
すなわち、空気ぬき用の溝５，６が成膜面と反対側の面
に設けであるため成膜を行なっても、空気ぬきの溝５，
６に成膜物がたまることがなく、それゆえ成膜物の基板
」二にゴミが落ちて、付着し歩留が低下するという問題
もなく、良好な歩留が得られる。
に設けであるため成膜を行なっても、空気ぬきの溝５，
６に成膜物がたまることがなく、それゆえ成膜物の基板
」二にゴミが落ちて、付着し歩留が低下するという問題
もなく、良好な歩留が得られる。
本発明のマグネットチャック式基板ホルダーは基板マス
クの空気ぬきを成膜面と反対側に設けたことにより、空
気ぬきから発生するゴミがないので歩留が良好となり、
かつ、空気ぬきを設けていることにより、基板マスクが
落下するという問題も発生しないという効果がある。
クの空気ぬきを成膜面と反対側に設けたことにより、空
気ぬきから発生するゴミがないので歩留が良好となり、
かつ、空気ぬきを設けていることにより、基板マスクが
落下するという問題も発生しないという効果がある。
第１図は本発明の一実施例を示す断面図、第２図は第１
図に示す実施例の平面図、第３図は従来の一例を示す断
面図、第４図は第３図に示す従来例の平面図、第５図は
従来の他の例を示す断面図、第６図は第５図に示す従来
例の平面図である。 ■・・・・・・基板取付台、２・・・・・・基板、３，
４，１３゜１４．２３．２４・・・・・・基板マスク、
５，６・・・・・・溝、２５．２６・・・・・・穴。
図に示す実施例の平面図、第３図は従来の一例を示す断
面図、第４図は第３図に示す従来例の平面図、第５図は
従来の他の例を示す断面図、第６図は第５図に示す従来
例の平面図である。 ■・・・・・・基板取付台、２・・・・・・基板、３，
４，１３゜１４．２３．２４・・・・・・基板マスク、
５，６・・・・・・溝、２５．２６・・・・・・穴。
Claims (1)
- 基板取付台と、前記基板取付台と協同して基板を磁力に
よって挟みこの基板の表面の一部分が成膜されないよう
にするとともに空気ぬき用の溝が前記基板の成膜面と反
対側の面に設けられた基板マスクとを含むことを特徴と
するマグネットチャック式基板ホルダー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2082604A JP2541339B2 (ja) | 1990-03-29 | 1990-03-29 | マグネットチャック式基板ホルダ― |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2082604A JP2541339B2 (ja) | 1990-03-29 | 1990-03-29 | マグネットチャック式基板ホルダ― |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03281772A true JPH03281772A (ja) | 1991-12-12 |
| JP2541339B2 JP2541339B2 (ja) | 1996-10-09 |
Family
ID=13779089
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2082604A Expired - Fee Related JP2541339B2 (ja) | 1990-03-29 | 1990-03-29 | マグネットチャック式基板ホルダ― |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2541339B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007065439A (ja) * | 2005-09-01 | 2007-03-15 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置の製造装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置及び電気光学装置用マスク部材 |
| US8149535B2 (en) | 2008-11-26 | 2012-04-03 | Hitachi Global Storage Technologies, Netherlands B.V. | Magnetic and encapsulation contamination control for disk drives |
-
1990
- 1990-03-29 JP JP2082604A patent/JP2541339B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007065439A (ja) * | 2005-09-01 | 2007-03-15 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置の製造装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置及び電気光学装置用マスク部材 |
| US8149535B2 (en) | 2008-11-26 | 2012-04-03 | Hitachi Global Storage Technologies, Netherlands B.V. | Magnetic and encapsulation contamination control for disk drives |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2541339B2 (ja) | 1996-10-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |