JPH037389Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH037389Y2 JPH037389Y2 JP9157684U JP9157684U JPH037389Y2 JP H037389 Y2 JPH037389 Y2 JP H037389Y2 JP 9157684 U JP9157684 U JP 9157684U JP 9157684 U JP9157684 U JP 9157684U JP H037389 Y2 JPH037389 Y2 JP H037389Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- disk
- movable plate
- opening
- guide rod
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 18
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 16
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 16
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は基板上に複数の蒸発源からの蒸発物質
を蒸着する真空処理装置に適用される基板移動装
置に関する。
を蒸着する真空処理装置に適用される基板移動装
置に関する。
従来この種真空処理装置に於いて、複数個の蒸
発源を真空室内に設けてその蒸発物質を回転する
デイスクに取付けた基板に蒸着し、合金等の薄膜
を基板面に形成することが行なわれているが、該
デイスクの回転軸は真空室内に設けた歯車を介し
て駆動されるを一般とするので真空室内へのゴミ
の放出が多く、成膜面にゴミが付着してピンホー
ルを生ずる欠点がある。また回転軸を高速回転す
ると振動が大きくなり勝ちで基板の凹部に対する
成膜性が悪く、蒸発源と基板の位置関係を変え最
適成膜に調節することが出来ない不都合があつ
た。
発源を真空室内に設けてその蒸発物質を回転する
デイスクに取付けた基板に蒸着し、合金等の薄膜
を基板面に形成することが行なわれているが、該
デイスクの回転軸は真空室内に設けた歯車を介し
て駆動されるを一般とするので真空室内へのゴミ
の放出が多く、成膜面にゴミが付着してピンホー
ルを生ずる欠点がある。また回転軸を高速回転す
ると振動が大きくなり勝ちで基板の凹部に対する
成膜性が悪く、蒸発源と基板の位置関係を変え最
適成膜に調節することが出来ない不都合があつ
た。
本考案はこうした不都合、欠点を解決すること
を目的とするもので、真空室１内に複数個の蒸発
源２を設けると共にこれに対向して基板３を取付
けたデイスク４を回転自在に設け、該基板３上に
各蒸発源２からの蒸発物質が混合した合金その他
の薄膜を形成するようにしたものに於いて、該真
空室１にその室内５と外部を連通する開口６を形
成してその外側に移動自在で且つ該開口６を密閉
自在の移動板７を設け、該移動板７に、該室内５
へ延びる案内杆８と該移動板７を挿通し且つ該案
内杆８により進出自在のデイスク４の回転軸９を
設けて成る。
を目的とするもので、真空室１内に複数個の蒸発
源２を設けると共にこれに対向して基板３を取付
けたデイスク４を回転自在に設け、該基板３上に
各蒸発源２からの蒸発物質が混合した合金その他
の薄膜を形成するようにしたものに於いて、該真
空室１にその室内５と外部を連通する開口６を形
成してその外側に移動自在で且つ該開口６を密閉
自在の移動板７を設け、該移動板７に、該室内５
へ延びる案内杆８と該移動板７を挿通し且つ該案
内杆８により進出自在のデイスク４の回転軸９を
設けて成る。
該開口６は図示の例では真空室１の上壁を構成
する上部プレート１０に略長方形に形成し、該プ
レート１０上に移動板７を移動自在に設けるよう
にした。その移動手段は第２図乃至第４図示の如
くであり、上部プレート１０に立設した複数本の
シヤフト１１に開口６の両側に沿つて平行な１対
のレール１２，１２をばね１３で上下動自在に支
えて遊嵌し、各レール１２，１２の内側に形成し
た凹溝に移動板７のローラ１４が嵌合してその走
行を行なう構成とした。各シヤフト１１に固定カ
ム１５を取付け、これとレール１２との間にレバ
ー１６により回転される旋回カム１７を介在さ
せ、該旋回カム１７が回転すると固定カム１５と
レール１２との間隔が広げられローラ１４及び移
動板７がレール１２と共に開口６を密閉すべく下
降する。１８は移動板７に取付けた移動操作用の
ハンドル、１９は同じく移動板７上に取付けた電
動機で、その回転はプーリー２０，２０を介して
回転軸９伝達される。２２は移動板７から開口６
を介して室内５へ延びるＬ形の案内杆８に沿つて
昇降自在の軸受、２３，２４は回転軸９を構成す
る互に出没自在の角型の中軸と角孔を有する外軸
を示し、外軸２４を支承する軸受２２を昇降させ
て案内杆８にピン２５で止めると回転軸９の長さ
が調節され、デイスク４及び基板３の蒸発源２に
対する距離が変更される。
する上部プレート１０に略長方形に形成し、該プ
レート１０上に移動板７を移動自在に設けるよう
にした。その移動手段は第２図乃至第４図示の如
くであり、上部プレート１０に立設した複数本の
シヤフト１１に開口６の両側に沿つて平行な１対
のレール１２，１２をばね１３で上下動自在に支
えて遊嵌し、各レール１２，１２の内側に形成し
た凹溝に移動板７のローラ１４が嵌合してその走
行を行なう構成とした。各シヤフト１１に固定カ
ム１５を取付け、これとレール１２との間にレバ
ー１６により回転される旋回カム１７を介在さ
せ、該旋回カム１７が回転すると固定カム１５と
レール１２との間隔が広げられローラ１４及び移
動板７がレール１２と共に開口６を密閉すべく下
降する。１８は移動板７に取付けた移動操作用の
ハンドル、１９は同じく移動板７上に取付けた電
動機で、その回転はプーリー２０，２０を介して
回転軸９伝達される。２２は移動板７から開口６
を介して室内５へ延びるＬ形の案内杆８に沿つて
昇降自在の軸受、２３，２４は回転軸９を構成す
る互に出没自在の角型の中軸と角孔を有する外軸
を示し、外軸２４を支承する軸受２２を昇降させ
て案内杆８にピン２５で止めると回転軸９の長さ
が調節され、デイスク４及び基板３の蒸発源２に
対する距離が変更される。
その作動を説明すると、レバー１６を旋回して
移動板７をプレート１０に圧接させて開口６を密
閉し、室内５を真空排気したのち回転軸９に回転
を与えると共に蒸発源２，２を作動させる。
移動板７をプレート１０に圧接させて開口６を密
閉し、室内５を真空排気したのち回転軸９に回転
を与えると共に蒸発源２，２を作動させる。
これによつてデイスク４に取付けた基板３は蒸
発源２，２上を旋回し、その表面に２種の蒸発物
の混合した薄膜が形成される。この場合回転軸９
は案内杆８に与えられているのでその回転数を上
げても振動が少なく、300r.p.m程度で15μｍの振
れを生ずるにすぎず、基板３に凹溝がある場合凹
溝内面に良好な薄膜を形成出来る。また回転軸９
は案内杆８に沿つての伸縮動と移動板７と共に左
右動を行なえるので蒸発源２，２に対する基板３
の位置を自在に変更出来蒸着に適した位置に設定
出来る。
発源２，２上を旋回し、その表面に２種の蒸発物
の混合した薄膜が形成される。この場合回転軸９
は案内杆８に与えられているのでその回転数を上
げても振動が少なく、300r.p.m程度で15μｍの振
れを生ずるにすぎず、基板３に凹溝がある場合凹
溝内面に良好な薄膜を形成出来る。また回転軸９
は案内杆８に沿つての伸縮動と移動板７と共に左
右動を行なえるので蒸発源２，２に対する基板３
の位置を自在に変更出来蒸着に適した位置に設定
出来る。
このように本考案に於いては真空室１の開口６
を移動板７で密閉自在とし、これに伸縮自在の回
転軸９とその案内杆８を設けたので蒸発源２，２
に対する基板３への位置の設定を自在に行なえ良
好な成膜が可能になり、回転軸９は案内杆８に沿
つて伸縮するので基板３の振動が少なくなつて基
板３の凹部に成膜出来、室内５には歯車等の咬合
部がないのでダストの発生がなく基板３の成膜面
にピンホール等を生ずるおそれがない等の効果が
ある。
を移動板７で密閉自在とし、これに伸縮自在の回
転軸９とその案内杆８を設けたので蒸発源２，２
に対する基板３への位置の設定を自在に行なえ良
好な成膜が可能になり、回転軸９は案内杆８に沿
つて伸縮するので基板３の振動が少なくなつて基
板３の凹部に成膜出来、室内５には歯車等の咬合
部がないのでダストの発生がなく基板３の成膜面
にピンホール等を生ずるおそれがない等の効果が
ある。
第１図は本考案の実施例の截断側面図、第２図
はその平面図、第３図は第２図の正面図、第４図
は第２図の−線部分の截断面図である。 １……真空室、２……蒸発源、３……基板、４
……デイスク、５……室内、６……開口、７……
移動板、８……案内杆。
はその平面図、第３図は第２図の正面図、第４図
は第２図の−線部分の截断面図である。 １……真空室、２……蒸発源、３……基板、４
……デイスク、５……室内、６……開口、７……
移動板、８……案内杆。
Claims (1)
- 真空室１内に、複数個の蒸発源２を設けると共
にこれに対向して基板３を取付けたデイスク４を
回転自在に設け、該基板３上に各蒸発源２からの
蒸発物質が混合した合金その他の薄膜を形成する
ようにしたものに於いて、該真空室１にその室内
５と外部を連通する開口６を形成してその外側に
移動自在で且つ該開口６を密閉自在の移動板７を
設け、該移動板７に、該室内５へ延びる案内杆８
と該移動板７を挿通し且つ該案内杆８と該移動板
７を挿通し且つ該案内杆８により案内された進出
自在のデイスク４の回転軸９を設けて成る真空処
理装置に於ける基板移動装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9157684U JPS617568U (ja) | 1984-06-21 | 1984-06-21 | 真空処理装置に於ける基板移動装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9157684U JPS617568U (ja) | 1984-06-21 | 1984-06-21 | 真空処理装置に於ける基板移動装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS617568U JPS617568U (ja) | 1986-01-17 |
| JPH037389Y2 true JPH037389Y2 (ja) | 1991-02-25 |
Family
ID=30647587
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9157684U Granted JPS617568U (ja) | 1984-06-21 | 1984-06-21 | 真空処理装置に於ける基板移動装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS617568U (ja) |
-
1984
- 1984-06-21 JP JP9157684U patent/JPS617568U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS617568U (ja) | 1986-01-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4222345A (en) | Vacuum coating apparatus with rotary motion assembly | |
| JPH03161756A (ja) | 印刷板を製造するための装置 | |
| JP3456562B2 (ja) | 固体潤滑膜の製造方法およびその装置 | |
| JP4446048B2 (ja) | 真空蒸着装置の蒸発源移動機構 | |
| TWM664575U (zh) | 壓粉組件、鋪粉機構及增材製造設備 | |
| RU2001112406A (ru) | Установка для нанесения покрытий на широкую ленту | |
| JPH03271195A (ja) | 基板回転装置 | |
| JPH066445Y2 (ja) | 表面分析装置の試料移動機構 | |
| JPH0673152U (ja) | 多点蒸発源装置 | |
| JPH0717392Y2 (ja) | 遠心分離機のスライドドア機構 | |
| JPH0311056U (ja) | ||
| JP2541165Y2 (ja) | イオンビームスパッタリング装置におけるターゲット支持装置 | |
| CN112342494B (zh) | 一种高通量分立掩膜装置 | |
| JPH0527489Y2 (ja) | ||
| JPH0128400Y2 (ja) | ||
| JPH0740763U (ja) | 膜形成装置 | |
| JPH0545200Y2 (ja) | ||
| JPH0116867Y2 (ja) | ||
| CN118497695A (zh) | 具有可升降加热台的离子束溅射设备 | |
| JPH0330681Y2 (ja) | ||
| JPS54102715A (en) | Method of driving self-traveling truck | |
| JPS6326191Y2 (ja) | ||
| JPH0629436Y2 (ja) | 竪軸回転窓における気密装置 | |
| JPH0688227A (ja) | 成膜装置 | |
| JPH0618134Y2 (ja) | カメラ雲台のカウンターバランス機構 |