JPH0376037A - 情報記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、情報録媒体の製造方法に係り、特にビデオデ
ィスク、デジタルオーディオディスク、追記型ディスク
等の情報記録媒体を成形する際の原盤の製造方法に関す
る。

（従来の技術） 従来、情報記録媒体の製造は以下に述べる工程（１）〜
（６）によって行なわれていた。

第２図（Ａ）〜（Ｅ）は従来の情報記録媒体の製造方法
を説明するための構成図である。

工程（１） まず、十分に平坦に研磨されたガラス基板１１上にポジ
型フォトレジスト１２を塗布し、乾燥後、レーザ光１３
で所望の信号を露光し記録する。

（第２図（Ａ）） 工程（２） 次に、現像を行ない、露光した部分を除去することによ
り、記録信号が凹状信号１４となる様に形成し、ガラス
マスター２０とする。

（同図（Ｂ）） 工程（３） このガラスマスター２０に、無電解メツキ等の方法によ
り金属薄膜を形成し、導通を図った後、電鋳法により、
記録信号が凸状のメタルマスター２１を作製する。　　
　　　　　（同図（Ｃ））工程（４） さらに、このメタルマスター２１上に所定の剥離処理を
行なった後、工程（３〉と同ｍ’ｓ鋳法により、前記ガ
ラスマスター２０と同じく記録信号が凹状のマザー２２
を作製する。（同図（Ｄ））工程（５） 次に、工程（４）同様に、さらに″ｒ４鋳法により１、
前記メタルマスター２１と同じく記録信号が凸状のスタ
ンパー２３を作製する。（同図（Ｅ））工程（６〉 このスタンパー２３を使用して、ベレット状の導電性高
分子化合物材料を用いてプレスするプレス成形法により
ディスクを成形したり、ポリカーボネート等の樹脂を用
いた射出成形法により凹状の記録信号を有するディスク
基板を成形した後、記録信号面上にアルミ等の金属反射
膜を付与してディスクを形成する。

上記の様に、電鋳により計３回の記録信号の転写（レプ
リカ）を行なっているが、その理由は次の通りである。

即ち、フォトレジスト１２からなる記録面は非常に脆い
ため、−度の電鋳により一枚のメタルマスター２１しか
作製することができない。そこで、メタルマスター２１
と同一形状の凸状の記録信号を得るためには、その後２
回の電鋳をしなければならないのである。

この電鋳の時、同一のメタルマスター２１から複数のマ
ザー２２、及び、同一のマザー２２から複数のスタンパ
ー２３をレプリカすることもできる。

（発明が解決しようとする課題） この様に、従来の情報記録媒体の製造方法の製造方法に
おいては、−枚のメタルマスターから何枚ものスタンパ
ー２３を得ることができるが、何回も電鋳を繰り返すこ
とにより、記録信号の形状が露光時よりも劣化し、また
、異物が付着したり六があくなどして結果的にディスク
の信号特性が悪くなるという問題点があった。また、電
鋳を何回も行なうために、コスト的にも不利なものであ
った。

上記の問題点を解決するために、特開昭５４−１０７７
０５号、同５４−１３４６０３号、同５４−１３６０４
号、同５４−１３８４０５号、同５８−２２４４５０号
、同５９−３７３１号、同５９−２２４３２０号等の各
公報に記載されている方法、即ち、エツチング法により
、例えば、ガラス基板等の補助材料に凹状の露光記録部
分を作成し、何らかの方法でレプリカを取り、スタンパ
ーを作製するなどの方法が提案されている。

これらの方法おいては、いずれも露光記録部分が凹状で
あるために、レプリカを取ったり、別の層を設けること
などが必要であった。

（課題を解決するための手段〉 本発明は上記課題を解決するためになされたものであり
、ポジ型フォトレジストが塗布された基板を露光する工
程と、上記基板をアンモニアまたはアミンを含有する雰
囲気中で加熱する工程と、所定の紫外線を照射した後に
現像し、凸状のフォトレジストからなる記録信号を有す
る原盤を作製する工程と、この原盤のフォトレジストの
形成された面を乾式または、湿式のエツチング法により
エツチングを行ない凸状の記録信号を有するスタンパー
を作製する工程と、上記スタンパーから所望の材質から
なるディスクを形成する工程とからなることを特徴とす
る情報記録媒体の製造方法を提供するものである。

（実施例） 第１図（ａ）〜（ｄ）は、本発明になる情報記録媒体の
製造方法の要部を示す構成図である。

以下に本発明になる情報記録媒体の製造方法の概要を工
程（１）〜（６）の順に説明する。

工程（１） 平滑な表面を有する基板３１上にポジ型フォトレジスト
１２を塗布し、乾燥した後に、レーザ光１３で所望の信
号を露光し記録する。

（第１図（ａ）） 工程（２） 次に、上記露光後の基板３１を、アンモニアガス中で、
８０〜１１０℃で３０〜９０分間加熱する。

工程（３） ガラス基板の温度が常温に戻ったら、波長３００〜４３
５ｎｌの紫外線を露光量として３００〜２０００１Ｊ程
度、全面に照射した後、アルカリ現像液を用いて、現像
し、凸状のフォトレジストからなる記録露光部３２を有
する原盤３３を得る。

（同図（ｂ）） 工程（４） この後、例えば、塩化第二鉄水溶液、弗酸、硫酸、塩酸
、硝酸等の湿式のエツチング液を用いてエツチングする
か、例えば、ＣＦ４、ＣＨＦ３、ＮＦ３．５ｉＣＩａ等
のガス中でドライエツチングすることにより、表面に凸
状の記録信号を有する原盤３４が得られる。

〈同図（Ｃ）） 工程（５） 次に、０２のプラズマアッシング法等で、フォトレジス
ト残留物を落とすことにより、従来のスタンパ−２３と
同様のスタンパ−３５が得られる。

（同図（ｄ）〉 工程（６） この様にして得られたスタンパ−３５を用いて、ベレッ
ト状の導電性高分子化合物材料をプレスするプレス成形
法や、また、ポリカーボネート等の樹脂を用いた射出成
形法により凹状の記録信号を有する所望のディスクに成
形する。

なお、上記基板３１としては、例えば、数百μｍ〜３１
１程度の厚みのＮ１．Ｃｒ、Ｃｕ、ＡＩ等の金属、また
は、厚み０．５〜３ＩＩ１１程度の無機及びまたは、有
機ガラス上に１００〜１３００Åの金属層を一層以上形
成したものを用いることができる。

また、ポジ型フォトレジストとしては、例えば、シブレ
イファーイースト（株）社製のＭＰ１４００、ＭＰ１３
００や、ヘキストジャパン（株）社製のＡＺ１３５０．
ＡＺ１３５０Ｊ、等を用いることができ、Ａｒレーザ、
Ｋｒレーザにより露光することができる。

上記に本実施例の要部を示したが、次に、下記実施例１
〜実施例４を示すことにより、具体的に詳述する。

（実施例１） 工程（１） 厚さ８００μｍの平らなＮｉからなる基板３１上に、例
えば、シブレイファーイースト（株）社製のポジ型フォ
トレジストＭＰ−１４００を、膜厚が１０００〜１５０
０人となる様に塗布し、よく乾燥させる。

工程（２） 次にＡｒレーザ記録機により所望の記録信号の記録を行
なった後に、アンモニアガス中で、１００℃に１時間加
熱した後に放冷する。

工程（３〉 基板３１が室温になったら、超高圧水銀灯により、全面
に紫外線を３００〜２０００１Ｊ照射した後、０゜２Ｎ
のアルカリ現像液を用いて３０秒間現像する。

工程（４） 次に、２０ｗｔＸのＦ　ｅ　Ｃｌ　３水溶液でウェット
エツチングし、記録信号が凸状で、その高さが１１００
〜１３００人の原盤を得る。

工程（５） ０２プラズマアッシャ−を用いて、この原盤上に残存す
るフォトレジストを除去し、スタンパ−３５を得る。

工程（６） このスタンパ−３５を所定の金型に取付けて、ポリカー
ボネート樹脂でコンパクトディスク基板を成型した後、
アルミ反射膜、保護膜等を形成してコンパクトディスク
（ＣＤ）を形成する。

この様にして成形されたＣＤの信号特性を調べたところ
、従来の製造方法になるスタンパ−から得られたディス
クよりも、優れた特性を有するディスクが得られた。

（実施例２） 工程（１） 例えば、φ１３５、厚さ１．５１の平らなガラス盤上に
１０００〜１３００μｍのクロムをスパッタリング法に
より底膜し、その上に前記ＭＰ１４００を１０００〜１
５００人の厚みで塗布し、その後は、前記実施例１と同
様に処理する。

工程（２ン〜（３ン 実ｊｆＡ例１と同様。

この実施例２においても、実施例１とほぼ同様の信号特
性を得ることができた。

（実施例３） 工程（１）〜（２） 例えば、φ１３５、厚さ８００〜１０００μ傷の平らな
Ｃｕ盤上に、ＭＰ１４００を塗布し、膜厚１０００〜１
５００人となる様に塗布し、よく乾燥させる０次にＡｒ
レーザ記録機により所望の記録信号の記録を行なった後
に、アンモニアガス中で、１００℃で一時間加熱する。

工程（３） 放冷後、超高圧水銀等により、紫外線を３００〜２００
０ＩＩＪ全面照射し、０．２　Ｎのアルカリ現像液で、
３０秒現像した。

工程（４〉 次に残存するレジストをマスクとして、反応性イオンプ
ラズマエツチングをし、記録信号が凸状の原盤が得られ
る。

工程（５）および工程（６） 実施例１と同様に、０２のプラズマアッシング法等で、
フォトレジスト残留物を落とすことにより、従来のスタ
ンパ−と同様のスタンパー３５が得られる。この原盤を
スタンパーとして成型すると、前記実施例１および、実
施例２と同様な優れた信号特製のディスクが形成できる
。

（実施例４） （工程１） φ１３５、厚さ１〜２１１の平らなガラス盤上に、前記
ＭＰ１４００を１０００〜１５００人の厚みで塗布し、
乾燥する。

（工程２）及び（工程３） 実施例１と同様に処理し、凸状のフォトレジストからな
る記録露光部を有する原盤を得る。

（工程４） 上記原盤をＣＦ４ガス（流１５〜３０８ＣＣＨ）中、真
空度１０〜５０ＩＩＴＯｒ「、パワー１００〜３００Ｗ
で、４０〜８０分間ドライエツチングを行なう （工程５） 次に、実施例１と同様に０２のプラズマアッシング法等
で、フォトレジスト残留物を落とし、従来のスタンパ−
２３と同様のスタンパ−３５が得られる。

（工程６） 実施例１と同様にして、凹状の記録信号を有する所望の
ディスクに形成する。

なお、実施例１〜４においては、アンモニアを用いたが
、加熱した状態でアンモニアを生成する物質であれば良
く、アミンであっても良いのはもちろんのことである。

（発明の効果） 上述の様に本発明によれば、ポジ型フォトレジストが塗
布された基板を露光する工程と、上記基板をアンモニア
またはアミンを含有する雰囲気中で加熱する工程と、所
定の紫外線を照射した後に現像し、凸状のフォトレジス
トからなる記録信号を有する原盤を作製する工程と、こ
の原盤のフォトレジストの形成された面を乾式または、
湿式のエツチング法によりエツチングを行ない凸状の記
録信号を有するスタンパーを作製する工程と、上記スタ
ンパーから所望の材質からなるディスクを形成する工程
とからなることを特徴としたので、電鋳の回数を減らす
ことができ、信号特性の劣化を防ぐことができ、コスト
的にも有利な情報記録媒体の製造方法の提供を可能とす
る。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）〜（ｄ）は本発明になる情報記録媒体の製
造方法の要部を示す構成図、第２図（Ａ）〜（Ｅ）は従
来の情報記録媒体の製造方法を説明するための構成図で
ある。 ３１・・・基板、１２・・・ポジ型フォトレジスト、１
３・・・レーザ光、３２・・・記録露光部、３３．３４
・・・原盤、３５・・・スタンパ−

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ポジ型フォトレジストが塗布された基板を露光する工程
   と、 上記基板をアンモニアまたはアミンを含有する雰囲気中
   で加熱する工程と、所定の紫外線を照射した後に現像し
   、凸状のフォトレジストからなる記録信号を有する原盤
   を作製する工程と、 この原盤のフォトレジストの形成された面を乾式または
   、湿式のエッチング法によりエッチングを行ない凸状の
   記録信号を有するスタンパーを作製する工程と、 上記スタンパーから所望の材質からなるディスクを形成
   する工程とからなることを特徴とする情報記録媒体の製
   造方法。