JPH0388212A - 導電性フイルムとその製法 - Google Patents

導電性フイルムとその製法

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JPH0388212A
JPH0388212A JP22258889A JP22258889A JPH0388212A JP H0388212 A JPH0388212 A JP H0388212A JP 22258889 A JP22258889 A JP 22258889A JP 22258889 A JP22258889 A JP 22258889A JP H0388212 A JPH0388212 A JP H0388212A
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JP
Japan
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film
coupling agent
conductive film
conductive
treated
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JP22258889A
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Ryuichi Yamamoto
隆一 山本
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Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Nitto Chemical Industry Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、特に電子産業関連において有用な導電性フィ
ルムとその製法に関する。
〔従来技術〕
近年電子産業の急進展により1種々の導電性材料が求め
られ、また新しい素材が開発されつつある。導電性材料
の1つである導電性フィルムは真空蒸着やスパッタリン
グ技術を活用した素材が主流であるが、依然高価な素材
である。
一般的コーティング方式で塗布できる汎用導電材の開発
が強く望まれているが、導電レベル、密着性、透明性、
経済性等の観点を総合すると。
いまだ満足できる製品は見当らない。
導電性′フィルムとしては金属あるいは金属酸化物を真
空蒸着、スパッタリング法により透明導電膜を製造する
方法が汎く利用されているが、既述したごとく高価なの
が難点である。その他には、無機系導電性フィラーを配
合したコーティング剤を利用する方法、無電解メツキ法
等があるかいずれも透明なものは得ることはむづかしい
また、最近共役系導電性ポリマーの研究開発が活発であ
るが、安価で高性能の透明導電フィルムを製造する技術
は未だ確立してい々い。
また、特開昭62−11738号公報には、シリコーン
樹脂板の表面をシラン系カップリング剤で処理し、その
上に硫化銅導電層を形成するという技術が開示されてい
るが、シリコーン樹脂という特殊な樹脂に関するもので
ある上、シリコーン樹脂はフィルムに成形できる性質の
ものではなく、また極めて高価である。
一方、化学反応によりフィルム上に導電層を形成する方
法として、ニトリル基を含むポリマ、例えばポリアクリ
ロニトリルを銅塩及び還元性硫黄化合物を含む水溶液系
で処理することにより、硫化銅被膜をもつ導電性フィル
ムが得られることが報告されている(例えば、特開昭5
8−205734号、特開昭59−71853号、特開
昭60−79604号、特開昭61−2549号、特開
昭62−276710号)。しかしながら、ポリアクリ
ロニトリル系ポリマーは繊維としてはすぐれた性質を発
揮するが、フィルムとしては種々問題があり汎用的には
使用されていない。アクリロニトリル系共重合体も種々
存在するが、これらは成形構造物としては有用であるが
、やはりフィルムとしての特性のすぐれたものは見当ら
ない。
本来、フィルムとしての性質にすぐれ、大量に、かつ安
価に市販されているポリエステル、ポリアミド、ポリオ
レフィン等のフィルムがベースフィルムとして使用でき
れば、一番好ましいことではあるが、これらのフィルム
は硫化銅との親和性がなく、硫化S層がすぐ剥げ落ちて
しまうため、これらのフィルムをベースフィルムとして
使用することができなかった。
〔発明が解決しようとする問題点〕
そこで、本発明の目的はベースフィルムとして汎用性の
高いポリエステル系、ポリアミド系の樹脂等やポリオレ
フィンよりなるフィルムを使用した硫化銅導電層をもつ
導電性フィルムを提供しようという点にある。
また、本発明のもう1つの目的は、これら汎用フィルム
の高い透明性をできるだけ生かした導電性フィルムを提
供する点にある。
C問題点を解決するための手段〕 本発明の導電性フィルムはポリエステル系樹脂、ポリア
ミド系樹脂およびポリオレフィンよりなる群から選らば
れた合成樹脂のフィルム上に、カップリング剤と硫化銅
よりなる導電層が形成されていることを特徴とするもの
である。
また、本発明の導電性フィルムの製法は、ポリエステル
系樹脂、ポリアミド系樹脂およびポリオレフィンよりな
る群から選ばれた合成樹脂フィルムを、カップリング剤
で処理した後、無機酸または有機酸の銅塩および含硫黄
系還元剤を含む水溶液中で加温処理することを特徴とす
るものである。
本発明で使用されるベースフィルムであるポリエステル
系樹脂としては、市販されているポリエチレンテレフタ
レート(PET)で代表されるが、特にこのPETは好
適な材料である。
ポリアミド系樹脂としては、6−ナイロン、6゜6−ナ
イロン、アラミド等が挙げられる。ポリオレフィンフィ
ルムとしては、多用されているポリエチレン、ポリプロ
ピレン等が有利に適用される。これらのベースフィルム
には化学処理をするに先立ち、コロナ放電等の物理処理
を施したり、表面を粗面化したりして表面活性を高める
ことは好ましいことである。
シラン系カップリング剤としては、 γ−(2−アミノエチル)アミノプロビリトリメトキシ
シラン、 γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルメチルジメト
キシシラン、 γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン。
γ−アニリノプロピルトリメトキシシラン、オクタデシ
ルジメチル[3−(トリメトキシリル)プロピル〕アン
モニウムクロライド、γ−メルカプトプロピルメチルジ
メトキシシラン、 γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン。
ヘキサメチルジシラザン などのアミノ基および/またはメルカプト基含有シラン
のほか、 γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、 クロロプロピルトリメトキシシラン、 γ−グリシドキシプロビルトリメトキシシラン、 ビニルトリアセトキシシラン などを挙げることができるが、アミノ基および/または
メルカプト基含有シランが好ましい。
チタン系カップリング剤としては、 フェート) チタネート などのアミ基および/またはリン酸基含有チタネートの
ほか、 などを挙げることができるが、アミノ基および/または
リン酸基含有チタネートが好ましい。
また、ポリアルキレンイミンとしては、ポリエチレンイ
ミン、ポリプロビレイミンなどを挙げることができる。
これらのカップリング剤による処理の方法にはとくに制
限はない。
もっとも−殻内方法はカップリング剤の性質にもよるが
カシプリング剤の1〜5%溶液、通常水溶液又は有機溶
媒溶液をつくり、これを必要に応じて適正pH(試薬に
より異る)に調整した後、フィルムを浸漬処理する方法
である。
硫化銅導電層を形成するために使用する無機酸または有
機酸の銅塩としては、硫酸第2銅、塩化第2銅、リン酸
第2綱、酢酸第2綱、シュウ酸銅等が挙げられる。もう
一方の原料である含硫黄還元剤として利用されるものを
例示すると、チオ硫酸ナトリウム、酸性亜硫酸ナトリウ
ム、ハイドロサルファイド、ロンガリット、メタ重亜硫
酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム、硫化ナトリウム、水
硫化ナトリウム等が挙げられる。これらはいずれも単独
であるいは混合して使用することができる。
これらの原料の使用比は、導電層形成に大きな影響があ
り、通常、還元剤使用比過剰で適用され、例えば、銅塩
:還元剤(モル比)=1:0.5以上(好ましくは1.
5以上)で適用される。
またこれらの薬剤の水溶液中における濃度も重要で、通
常両薬剤の総和が0.2mon#1以上(好ましくは0
.4■oQ〜1.0−0党In)で適用される。処理時
の温度は30℃以上100℃以下、好ましくは50℃以
上80’C以下であり、処理時間は、処理温度にもよる
が、好ましくは30分以上、とくに1〜3時間が好適で
ある。処理後は常法に従って乾燥処理される。乾燥後に
得られたフィルムの表面層に存在する硫化鋼はゴ般にそ
の重量割合が大きいほど良い導電性を持つフィルムを与
える。
実用の導電性フィルムとして用いる場合、厚さ1G−1
00μmのフィルムにおいては、0.2重量%以上(好
しくは0.7重量%以上)のイオウ分析値を示すものが
よい。
しかしながら、あまり硫化銅の付着量が多くなると、製
品フィルムの透明性を悪くし、また脆くするのでイオン
分析値の上限は12%以下、好ましくは8%以下とする
のが好ましい。
〔実施例〕
実施例1 長方形に切取ったPET (ポリエチレンテレフタレー
ト)フィルム(厚さ25μ−)約50−gを、γ−メル
カプトプロピルトリメトキシシラン(トート・シリコー
ン製; S 26062) 0.5gを50ccの水に
溶解し酢酸でpH3,5に調整した溶液中に浸漬し、常
温で約2時間処理した後、水洗した。
次に、上記処理したPETを、硫酸銅15g、チオ硫酸
ソーダ10g、亜硫酸ソーダ5g、酢酸3g、酢酸ソー
ダ3gを200ccの水に溶解した溶液中で、70℃で
2時間処理を行った。処理後のフィルムは半透明濃茶色
を呈し、表面電気抵抗率500Ωであった。波長800
nm、700nm、 600nm、500rv、400
ns+における光の透過率は各々38%、33%、23
%、8.3%、0.87%であった。
〔実施例2〕 実施例1において用いたシランカップリング剤の代わり
に、下記のカップリング剤を用い。
また銅化合物及び還元剤の水溶液でフィルムを処理する
温度を必要に応じて変化させる他は同様にして導電性フ
ィルムを得た。結果を下表に示す、PETフィルムとし
ては易接着PET(商品名P T M −25)を用い
た。
カップリング剤 温度 表面抵抗率(Ω)〔実施例3〕 実施例2で用いたカップリング剤の代りにY−(2−ア
ミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン(トー
ト・シリコーンi;5H6020)及びγ−アニリノプ
ロピルトリメトキシシラン(トート・シリコーン製; 
5Z6H3)を用いる他は実施例2と同様にして、カッ
プリング剤処理後60℃、2時間PETフィルムを銅化
合物及び還元剤の水溶液で処理して表面抵抗率がいずれ
も数にΩの導電性物質を得た。
〔実施例4〕 P −1000(ポリエチレンイミン)の0.5g15
0mMメタノール溶液にPET(PTM−25)および
ポリプロピレンの各フィルムを浸漬処理した後に各フィ
ルムを水洗し、さらに銅化合物及び還元剤を含む水溶液
で実施何重ないし3と同様にして処理した(反応温度6
0℃1反応時間1時間)。
その結果、いずれのフィルムも数にΩの表面抵抗率を示
した。
〔実施例5〕 γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン(HS (
CH−)z S x (OM e )J) (’10.
5g150mjlHxO溶液に酢酸を加えてpH値を3
〜4に調整する。この溶液に6−ナイロン及び6,6−
ナイロンのフィルムを約2時間室温中で浸漬した後、取
出して水洗する。一方、CuS0,5H,O:12.4
8g(50mmoQ)、Na、 S、O,・5 H,O
; 8.28g(33鳳moQ)、 Na、S  O,
;  2.14g(17mmon)、 CH。
C0OH,CH,COONa; 1 gずつそれぞれ分
取し、水200mflを加え撹拌する。この反応溶液中
へ前述したカップリング剤処理フィルムを入れ加熱する
処理温度が50.60.70℃の場合に、処理時間が1
5分、30分、1時間、2時間、3時間のそれぞれの場
合について、処理フィルムの25℃における表面抵抗値
(Ω八)を測定〔■三菱油化製抵抗計;ロレスタAP−
MCP−7400を使用〕し、その結果を第1図(6−
ナイロン)および第2図(6,6−ナイロン)に示す。
図中、Oは50℃の場合、Δは60℃の場合、口は70
℃の場合を示す。
また、 60℃で処理した6、6−ナイロンフィルムに
ついては、フィルムのイオウの分析値を求めたところ1
時間も共に下記のように変化していた。
時 間 15分 30分  2時間 3時間〔効  果
〕 本発明により、ポリアクリロニトリル系樹脂をベースフ
ィルムとした硫化銅系導電性フィルムしか存在しなかっ
た分野において、はじめて、これ以外のポリエステル、
ポリアミド、ポリオレフィンといった汎用フィルムをベ
ースフィルムとして使用することが可能となった。
また、本発明により本来フィルムとして優れた性質をも
つからこそフィルムとして使用されていたポリエステル
、ポリアミド、ポリオレフィンのもつ特性を生かした導
電性フィルムの提供を可能とした。
さらに1本発明は同じ表面抵抗値をもつ従来形の導電性
フィルムに較べて透明性がすぐれている。
【図面の簡単な説明】
第1図はベースフィルムとして6−ナイロンを使用した
場合の、第2図は6.6−ナイロンを使用した場合の実
施例5における各加温条件と処理時間による導電性フィ
ルムの表面抵抗を示す。 0:50’C Δ:60・C 口:70”C

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂およびポリ
    オレフィンよりなる群から選らばれた合成樹脂のフィル
    ム上に、カップリング剤と硫化銅よりなる導電層が形成
    されていることを特徴とする導電性フィルム。 2、前記カップリング剤がシラン系カップリング剤、チ
    タネート系カップリング剤およびポリアルキルイミンよ
    りなる群から選らばれたものである請求項1記載の導電
    性フィルム。 3、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂およびポリ
    オレフィンよりなる群から選らばれた合成樹脂フィルム
    を、カップリング剤で処理した後、無機酸または有機酸
    の銅塩および含硫黄系還元剤を含む水溶液中で加温処理
    することを特徴とする導電性フィルムの製法。
JP22258889A 1989-08-29 1989-08-29 導電性フイルムとその製法 Pending JPH0388212A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03261010A (ja) * 1989-12-18 1991-11-20 Idemitsu Kosan Co Ltd 導電性高分子薄膜の製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03261010A (ja) * 1989-12-18 1991-11-20 Idemitsu Kosan Co Ltd 導電性高分子薄膜の製造方法

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