JPH0390431U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0390431U JPH0390431U JP15201389U JP15201389U JPH0390431U JP H0390431 U JPH0390431 U JP H0390431U JP 15201389 U JP15201389 U JP 15201389U JP 15201389 U JP15201389 U JP 15201389U JP H0390431 U JPH0390431 U JP H0390431U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- mounting
- spraying
- rotation
- spin coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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- 238000004528 spin coating Methods 0.000 claims description 3
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Description
第１図は本考案のスピンコート装置の塗布部の
一実施例を示す構成図、第２図および第３図は第
１図に示される実施例の動作説明に供される図、
第３図は従来例のスピンコート装置の塗布部の構
成図、第５図は第１図に示される従来例の動作説
明図である。 １２……排液カツプ、１３……現像液送出機構
、１４……液噴射ノズル、１５……リンス液送出
機構、１６……偏位駆動手段、１７……リンス液
噴射ノズル、１９……回転台、Ｆ……噴射リンス
液、Ｇ……噴射現像液、Ｗ……ウエハー。
一実施例を示す構成図、第２図および第３図は第
１図に示される実施例の動作説明に供される図、
第３図は従来例のスピンコート装置の塗布部の構
成図、第５図は第１図に示される従来例の動作説
明図である。 １２……排液カツプ、１３……現像液送出機構
、１４……液噴射ノズル、１５……リンス液送出
機構、１６……偏位駆動手段、１７……リンス液
噴射ノズル、１９……回転台、Ｆ……噴射リンス
液、Ｇ……噴射現像液、Ｗ……ウエハー。
補正 平２．４．１２
図面の簡単な説明を次のように補正する。
明細書中、第７頁第１１行目記載の「第３図」
を「第４図」と補正する。
を「第４図」と補正する。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 ウエハーが装着されて回転するウエハー装着回
転手段と、 ウエハーの回転中心より離間した所定位置から
外周方向にリンス液を噴射する噴射手段と を備えて構成されることを特徴とするスピンコー
ト装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15201389U JPH0390431U (ja) | 1989-12-28 | 1989-12-28 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15201389U JPH0390431U (ja) | 1989-12-28 | 1989-12-28 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0390431U true JPH0390431U (ja) | 1991-09-13 |
Family
ID=31698293
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15201389U Pending JPH0390431U (ja) | 1989-12-28 | 1989-12-28 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0390431U (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5216172A (en) * | 1975-07-30 | 1977-02-07 | Hitachi Ltd | Rotatory treatment device |
| JPS5364472A (en) * | 1976-11-22 | 1978-06-08 | Hitachi Ltd | Processing apparatus |
| JPS59232417A (ja) * | 1983-06-16 | 1984-12-27 | Toshiba Corp | 半導体ウエ−ハのレジスト現像装置 |
| JPS60116133A (ja) * | 1983-11-28 | 1985-06-22 | Seiko Epson Corp | 半導体製造装置 |
-
1989
- 1989-12-28 JP JP15201389U patent/JPH0390431U/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5216172A (en) * | 1975-07-30 | 1977-02-07 | Hitachi Ltd | Rotatory treatment device |
| JPS5364472A (en) * | 1976-11-22 | 1978-06-08 | Hitachi Ltd | Processing apparatus |
| JPS59232417A (ja) * | 1983-06-16 | 1984-12-27 | Toshiba Corp | 半導体ウエ−ハのレジスト現像装置 |
| JPS60116133A (ja) * | 1983-11-28 | 1985-06-22 | Seiko Epson Corp | 半導体製造装置 |