JPH0420227U - - Google Patents

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JPH0420227U
JPH0420227U JP6142290U JP6142290U JPH0420227U JP H0420227 U JPH0420227 U JP H0420227U JP 6142290 U JP6142290 U JP 6142290U JP 6142290 U JP6142290 U JP 6142290U JP H0420227 U JPH0420227 U JP H0420227U
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JP
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wafer
wafer chuck
motor
developing device
pressure nozzle
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JP6142290U
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Description

【図面の簡単な説明】
第1図は、実施例の構成図、第2図は、レジス
ト膜の除去状態の説明図である。 11……現像装置、12……モータ、13……
回転軸、14……ウエハチヤツク、15……カツ
プ、16a,16b……薬液供給ノズル、17…
…高圧ノズル、20……ウエハ、20a……周辺
部、22……エツジリンス液。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 モータと、 前記モータの回転軸に設けたウエハチヤツクと
    、 前記ウエハチヤツクの周囲に設けたカツプと、 前記ウエハチヤツクのほぼ中央上方に設けた複
    数の薬液供給ノズルとにより構成した現像装置に
    おいて、 前記ウエハチヤツクに支持されるウエハの上方
    に高圧ノズルが設けられ、 前記高圧ノズルより噴射されるエツジリンス液
    の噴射方向が前記ウエハの中央側上方より当該ウ
    エハの周辺部に向けて設定されたことを特徴とす
    る現像装置。
JP6142290U 1990-06-11 1990-06-11 Pending JPH0420227U (ja)

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JP6142290U JPH0420227U (ja) 1990-06-11 1990-06-11

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JPH0420227U true JPH0420227U (ja) 1992-02-20

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