JPH039460B2 - - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、複写機やプリンターなどの像再生装
置に使用される種類の有機ゼログラフイツクまた
は電子写真光導電体の分野に関するものである。
置に使用される種類の有機ゼログラフイツクまた
は電子写真光導電体の分野に関するものである。
[従来技術]
有機ゼログラフイツク光導電体に関する先行技
術には、ヒドロキシスクワリリウム(OHSQ)
と呼ばれる染料分子を電荷発生層(CGL)の電
荷発生(すなわち、光子の吸収によつて電子正孔
対を創出する)分子として使用できること、およ
びジフエニルヒドラゾン(DEH)または1−フ
エニール−3−(P−ジエチルアミノスチリル)−
5−(P−ジエチルアミノフエニル)ピラゾリン
(DEASP)を光電導体の電荷転送層(CTL)の
正孔運搬分子として使用できるという教示が含ま
れている。米国特許第4123270号は、前者の例で
あり、米国特許第4362798号は、後者の例である。
その上、前者の特許は、染料分子を溶かすために
アミンを使用することを教示している。
術には、ヒドロキシスクワリリウム(OHSQ)
と呼ばれる染料分子を電荷発生層(CGL)の電
荷発生(すなわち、光子の吸収によつて電子正孔
対を創出する)分子として使用できること、およ
びジフエニルヒドラゾン(DEH)または1−フ
エニール−3−(P−ジエチルアミノスチリル)−
5−(P−ジエチルアミノフエニル)ピラゾリン
(DEASP)を光電導体の電荷転送層(CTL)の
正孔運搬分子として使用できるという教示が含ま
れている。米国特許第4123270号は、前者の例で
あり、米国特許第4362798号は、後者の例である。
その上、前者の特許は、染料分子を溶かすために
アミンを使用することを教示している。
[発明が解決しようとする問題点]
従来は、単一層でCGL及びCTLとして働き又
正及び負のいずれの電荷の付着並びに露光処理に
応答するものがなかつた。
正及び負のいずれの電荷の付着並びに露光処理に
応答するものがなかつた。
[問題点を解決するための手段]
本発明は、この種の成分の使用に関するもので
あるが、単層光導電体の組合せCGL/CTLとし
て役立つ、または別個のCTLをもつ2層光導電
体のCGLとして使用できる。単一層中でかかる
有機染料分子を使用することに関するものであ
る。その上、この層をどんな用途に使用する場合
でも、本発明は、本発明の染料を可溶化するため
に用いられる1次アミンまたは2次アミンが、エ
ポキシ樹脂の交さ結合済の働きもする所の熱硬化
性エポキシ樹脂(もつと具体的にいえば、ビスフ
エノールAエポキシ樹脂)の使用を教示するもの
である。これによつて、有機溶媒、例えば2層光
導電体を作るとき前記のエポキシ樹脂を含む層に
CTLをコートするために使用される溶媒に対し
て抵抗力をもつ層ができる。
あるが、単層光導電体の組合せCGL/CTLとし
て役立つ、または別個のCTLをもつ2層光導電
体のCGLとして使用できる。単一層中でかかる
有機染料分子を使用することに関するものであ
る。その上、この層をどんな用途に使用する場合
でも、本発明は、本発明の染料を可溶化するため
に用いられる1次アミンまたは2次アミンが、エ
ポキシ樹脂の交さ結合済の働きもする所の熱硬化
性エポキシ樹脂(もつと具体的にいえば、ビスフ
エノールAエポキシ樹脂)の使用を教示するもの
である。これによつて、有機溶媒、例えば2層光
導電体を作るとき前記のエポキシ樹脂を含む層に
CTLをコートするために使用される溶媒に対し
て抵抗力をもつ層ができる。
[実施例]
本発明は、エポキシ樹脂をバインダとする、集
合形の単層2モード光導電体を提供する、別個の
CTLを用意する必要がないが、前記の単層は、
2層光導電体のCGLとして使用することができ
る。この単層は2モード式なので、すなわち、照
射前に正電荷にも負電荷にも反応するので、正電
荷発生源または負電荷発生源のどちらをもつ像再
生装置にも使用できる。
合形の単層2モード光導電体を提供する、別個の
CTLを用意する必要がないが、前記の単層は、
2層光導電体のCGLとして使用することができ
る。この単層は2モード式なので、すなわち、照
射前に正電荷にも負電荷にも反応するので、正電
荷発生源または負電荷発生源のどちらをもつ像再
生装置にも使用できる。
本発明の特徴は、選択されたバインダ樹脂の交
さ結合剤としても働く染料可溶化剤を選択するこ
とである。こうして可溶化剤はコーテイングの硬
化中に蒸発するだけでなく、交さ結合剤としてバ
インダに結合するので、可溶化剤は、完成した乾
燥コーテイングから非常に効率的に除去される。
有利なバインダは、エポキシ樹脂、もつと具体的
にはビスフエノールAエポキシ樹脂であり、その
うちでも銘柄EPON 1009(シエル・ケミカル社)
が望ましい。EPONは、エピクロロヒドリンとビ
スフエノールAの1連の縮合生成物に対する商標
である。アミン染料の可溶化剤/交さ結合済は、
1次アミンまたは2次アミンである。1次アミン
であるエチレンジアミン(EDA)が望ましい。
さ結合剤としても働く染料可溶化剤を選択するこ
とである。こうして可溶化剤はコーテイングの硬
化中に蒸発するだけでなく、交さ結合剤としてバ
インダに結合するので、可溶化剤は、完成した乾
燥コーテイングから非常に効率的に除去される。
有利なバインダは、エポキシ樹脂、もつと具体的
にはビスフエノールAエポキシ樹脂であり、その
うちでも銘柄EPON 1009(シエル・ケミカル社)
が望ましい。EPONは、エピクロロヒドリンとビ
スフエノールAの1連の縮合生成物に対する商標
である。アミン染料の可溶化剤/交さ結合済は、
1次アミンまたは2次アミンである。1次アミン
であるエチレンジアミン(EDA)が望ましい。
下記の本発明の11例(例A〜K)の説明では、
すべての例がEPON銘柄のビスフエノールAエポ
キシ樹脂を利用したものである。さらに例Gを除
くすべてでは、エポキシ樹脂を溶かすために溶媒
テトラヒドロフラン(THF)を利用しており、
例Gではジクロロメタンを使用している。
すべての例がEPON銘柄のビスフエノールAエポ
キシ樹脂を利用したものである。さらに例Gを除
くすべてでは、エポキシ樹脂を溶かすために溶媒
テトラヒドロフラン(THF)を利用しており、
例Gではジクロロメタンを使用している。
すべての例で、正孔転送分子DEHを利用して
いる。
いる。
例A−CとG−Lでは、1次アミンとしてエチ
レンジアミン(EDA)を利用しているが、例D
では2次アミンのピペリジンを利用し、例Fでは
1次アミンと2次アミンの機能をもつ分子である
ジエチレントリアミンを利用している。
レンジアミン(EDA)を利用しているが、例D
では2次アミンのピペリジンを利用し、例Fでは
1次アミンと2次アミンの機能をもつ分子である
ジエチレントリアミンを利用している。
例B,CおよびG−Kでは、(例AおよびD−
Fのように)正孔転送(トランスポート)分子
DEASPを含んでいない。
Fのように)正孔転送(トランスポート)分子
DEASPを含んでいない。
使用した2種の電子発生分子は、OHSQ(例
A,C−H,J)、クロロジアン青(CDE)(例
BおよびI)およびOHSQとCDBの併用(例K)
である。
A,C−H,J)、クロロジアン青(CDE)(例
BおよびI)およびOHSQとCDBの併用(例K)
である。
例H〜Kは、本発明を利用した2層光導電体の
例である。
例である。
例 A:
12gのEPON100gを50c.c.のTHFに溶かす。こ
の溶液に正孔転送分子DEH7gと正孔転送分子
DEASP1gを加える。溶液が完全に溶解した後、
0.3gの電荷発生分子OHSQを先に1.5c.c.のEDAに
溶かしたもの(淡黄色の溶液となる)をこの溶液
に加える。その結果、緑色の溶液が得られる。次
に、アルミめつきしたマイラー基板のアルミニウ
ム表面に、この溶液を約15ミクロンの厚さにコー
トする。コートされたものを次に、100℃で約1
時間硬化する。この硬化過程中に、コーテイング
の色が変わり、そのスペクトル吸収が近赤外領域
にシフトする。このとき、エポキシ樹脂がEDA
と交さ結合され、コーテイングはこれ以後THF
などの有機溶媒に対して抵抗力をもつ。
の溶液に正孔転送分子DEH7gと正孔転送分子
DEASP1gを加える。溶液が完全に溶解した後、
0.3gの電荷発生分子OHSQを先に1.5c.c.のEDAに
溶かしたもの(淡黄色の溶液となる)をこの溶液
に加える。その結果、緑色の溶液が得られる。次
に、アルミめつきしたマイラー基板のアルミニウ
ム表面に、この溶液を約15ミクロンの厚さにコー
トする。コートされたものを次に、100℃で約1
時間硬化する。この硬化過程中に、コーテイング
の色が変わり、そのスペクトル吸収が近赤外領域
にシフトする。このとき、エポキシ樹脂がEDA
と交さ結合され、コーテイングはこれ以後THF
などの有機溶媒に対して抵抗力をもつ。
この層は、正帯電モードでも負帯電モードでも
感受性を示す。
感受性を示す。
この層を−600VDCに帯電させた負電荷モード
での試験では、83ボルト/秒の暗消失のとき−
150VDCで34マイクロジユール/cm2の感度を示
し、残留電位は4.4マイクロジユール/cm2で−
126VDCであつた。
での試験では、83ボルト/秒の暗消失のとき−
150VDCで34マイクロジユール/cm2の感度を示
し、残留電位は4.4マイクロジユール/cm2で−
126VDCであつた。
例 B:
12gのEPON1007を50c.c.のTHFに溶かす。こ
の溶液に8gの正孔転送分子DEHを加える。溶
液が完全に溶解した後、0.3gの電荷発生分子
CDBを先に2.5c.c.のEDAに溶かしたもの(青色の
溶液となる)をこの溶液に加える。その結果、青
色の溶液が得られる。次に、アルミニウムめつき
したマイラー基板のアルミニウム表面に、この溶
液を約20ミクロンの厚さにコートする。コートさ
れたものを次に100℃で約1時間硬化する。エポ
キシ樹脂がEDAと交さ結合され、コーテイング
はTHFなどの有機溶媒に対して抵抗力をもつ。
の溶液に8gの正孔転送分子DEHを加える。溶
液が完全に溶解した後、0.3gの電荷発生分子
CDBを先に2.5c.c.のEDAに溶かしたもの(青色の
溶液となる)をこの溶液に加える。その結果、青
色の溶液が得られる。次に、アルミニウムめつき
したマイラー基板のアルミニウム表面に、この溶
液を約20ミクロンの厚さにコートする。コートさ
れたものを次に100℃で約1時間硬化する。エポ
キシ樹脂がEDAと交さ結合され、コーテイング
はTHFなどの有機溶媒に対して抵抗力をもつ。
この層は、正帯電モードでも負帯電モードでも
感受性を示す。
感受性を示す。
この層を−550VDCに帯電させた負電荷モード
での試験では、20ボルト/秒の暗消失のとき−
150VDCで2.7マイクロジユール/cm2の感度を示
し、残留電位は4.4マイクロジユール/cm2で−
99VDCであつた。
での試験では、20ボルト/秒の暗消失のとき−
150VDCで2.7マイクロジユール/cm2の感度を示
し、残留電位は4.4マイクロジユール/cm2で−
99VDCであつた。
例 C:
12gのEPON1007を50c.c.のTHFに溶かす。こ
の溶液に8gの正孔転送分子DEHを加える。溶
液が完全に溶解した後、0.3gの電荷発生分子
OHSQを先に2.5c.c.のEDAに溶かしたもの(淡黄
色の溶液となる)をこの溶液に加える。その結
果、緑色の溶液が得られる。次に、アルミめつき
したマイラー基板のアルミニウム表面にこの溶液
を約10ミクロンの厚さにコートする。コートされ
たものを次に100℃で約1時間硬化する。この硬
化過程中に、コーテイングの色が変わり、そのス
ペクトル吸収が近赤外領域にシフトする。このと
き、エポキシ樹脂はEDAと交さ結合され、コー
テイングはこれ以後THFなどの有機溶媒に対し
て抵抗力をもつ。
の溶液に8gの正孔転送分子DEHを加える。溶
液が完全に溶解した後、0.3gの電荷発生分子
OHSQを先に2.5c.c.のEDAに溶かしたもの(淡黄
色の溶液となる)をこの溶液に加える。その結
果、緑色の溶液が得られる。次に、アルミめつき
したマイラー基板のアルミニウム表面にこの溶液
を約10ミクロンの厚さにコートする。コートされ
たものを次に100℃で約1時間硬化する。この硬
化過程中に、コーテイングの色が変わり、そのス
ペクトル吸収が近赤外領域にシフトする。このと
き、エポキシ樹脂はEDAと交さ結合され、コー
テイングはこれ以後THFなどの有機溶媒に対し
て抵抗力をもつ。
この層は、正帯電モードでも負帯電モードでも
感受性を示す。
感受性を示す。
この層を−550VDCに帯電させた負電荷モード
での試験では、86ボルト/秒の暗消失のとき−
150VDCで4.2マイクロジユール/cm2の感度を示
し、残留電位は4.4マイクロジユール/cm2で−
150VDCであつた。
での試験では、86ボルト/秒の暗消失のとき−
150VDCで4.2マイクロジユール/cm2の感度を示
し、残留電位は4.4マイクロジユール/cm2で−
150VDCであつた。
例 D:
12gのEPON100gを50c.c.のTHFに溶かす。こ
の溶液に7gの正孔転送分子DHFと1gの正孔
転送分子DEASPを加える。溶液が完全に溶解し
た後、0.2gの電荷発生分子OHSQを先に4.0c.c.の
ピペリジンに溶かしたもの(淡黄色の溶液とな
る)をこの溶液に加える。その結果、緑色の溶液
が得られる。次に、アルミめつきしたマイラ基板
のアルミニウム表面にこの溶液を約15ミクロンの
厚さにコートする。コートされたものを次に100
℃で約1時間硬化する。この硬化過程中に、コー
テイングの色が変わり、そのスペクトル吸収が近
赤外領域にシフトする。このとき、エポキシ樹脂
はEDAと交さ結合され、コーテイングはこれ以
後THFなどの有機溶媒に対して抵抗力をもつ。
の溶液に7gの正孔転送分子DHFと1gの正孔
転送分子DEASPを加える。溶液が完全に溶解し
た後、0.2gの電荷発生分子OHSQを先に4.0c.c.の
ピペリジンに溶かしたもの(淡黄色の溶液とな
る)をこの溶液に加える。その結果、緑色の溶液
が得られる。次に、アルミめつきしたマイラ基板
のアルミニウム表面にこの溶液を約15ミクロンの
厚さにコートする。コートされたものを次に100
℃で約1時間硬化する。この硬化過程中に、コー
テイングの色が変わり、そのスペクトル吸収が近
赤外領域にシフトする。このとき、エポキシ樹脂
はEDAと交さ結合され、コーテイングはこれ以
後THFなどの有機溶媒に対して抵抗力をもつ。
この層は、正帯電モードでも負帯電モードでも
感受性を示す。
感受性を示す。
この層を−600VDCに帯電させた負電荷モード
での試験では、14ボルト/秒の暗消失のとき−
150VDCで53マイクロジユール/cm2の感度を示し
た。
での試験では、14ボルト/秒の暗消失のとき−
150VDCで53マイクロジユール/cm2の感度を示し
た。
例 E:
6gのEPON100gを25c.c.のTHFに溶かす。こ
の溶液に1.2gの正孔転送分子DEHと3gの正孔
転送分子DEASPを加える。溶液が完全に溶解し
た後、0.3gの電荷発生分子OHSQを先に1.0c.c.の
ピロリジンに溶かしたもの(淡黄色の溶液とな
る)をこの溶液に加える。その結果、緑色の溶液
が得られる。次に、アルミめつきしたマイラ基板
のアルミニウム表面にこの溶液を約15ミクロンの
厚さにコートする。コートされたものを次に100
℃で約1時間硬化する。この硬化過程中に、コー
テイングの色が変わり、そのスペクトル吸収が近
赤外領域にシフトする。このときエポキシ樹脂は
EDAと交さ結合され、コーテイングはそれ以後
THFなどの有機溶媒に対しても抵抗力をもつ。
の溶液に1.2gの正孔転送分子DEHと3gの正孔
転送分子DEASPを加える。溶液が完全に溶解し
た後、0.3gの電荷発生分子OHSQを先に1.0c.c.の
ピロリジンに溶かしたもの(淡黄色の溶液とな
る)をこの溶液に加える。その結果、緑色の溶液
が得られる。次に、アルミめつきしたマイラ基板
のアルミニウム表面にこの溶液を約15ミクロンの
厚さにコートする。コートされたものを次に100
℃で約1時間硬化する。この硬化過程中に、コー
テイングの色が変わり、そのスペクトル吸収が近
赤外領域にシフトする。このときエポキシ樹脂は
EDAと交さ結合され、コーテイングはそれ以後
THFなどの有機溶媒に対しても抵抗力をもつ。
この層は、正帯電モードでも負帯電モードでも
感受性を示す。
感受性を示す。
この層を−650VDCに帯電させた負電荷モード
での試験では、59ボルト/秒の暗消失のとき−
150VDCで2.4マイクロジユール/cm2の感度を示
し、残留電位は4.4マイクロジユール/cm2で−
79VDCであつた。
での試験では、59ボルト/秒の暗消失のとき−
150VDCで2.4マイクロジユール/cm2の感度を示
し、残留電位は4.4マイクロジユール/cm2で−
79VDCであつた。
例 F:
5gのEPON100を25gのTHFに溶かす。この
溶液に1gの正孔転送分子DEHと2.5gの正孔転
送分子DEASPを加える。溶液が完全に溶解した
後、0.3gの電荷発生分子OHSQを先に1.0c.c.のジ
エチレントリアミンに溶かしたもの(淡黄色の溶
液となる)をこの溶液に加える。その結果、緑色
の溶液が得られる。次に、アルミめつきしたマイ
ラ基板のアルミニウム表面にこの溶液を約15ミク
ロンの厚さにコートする。コートされたものを次
に100℃で約1時間硬化する。この硬化過程中に、
コーテイングの色が変わり、そのスペクトル吸収
が近赤外領域にシフトする。このとき、エポキシ
樹脂がEDAと交さ結合され、コーテイングはそ
の以後THFなどの有機溶媒に対して抵抗力をも
つ。
溶液に1gの正孔転送分子DEHと2.5gの正孔転
送分子DEASPを加える。溶液が完全に溶解した
後、0.3gの電荷発生分子OHSQを先に1.0c.c.のジ
エチレントリアミンに溶かしたもの(淡黄色の溶
液となる)をこの溶液に加える。その結果、緑色
の溶液が得られる。次に、アルミめつきしたマイ
ラ基板のアルミニウム表面にこの溶液を約15ミク
ロンの厚さにコートする。コートされたものを次
に100℃で約1時間硬化する。この硬化過程中に、
コーテイングの色が変わり、そのスペクトル吸収
が近赤外領域にシフトする。このとき、エポキシ
樹脂がEDAと交さ結合され、コーテイングはそ
の以後THFなどの有機溶媒に対して抵抗力をも
つ。
この層は、正帯電モードでも負帯電モードでも
感受性を示す。
感受性を示す。
この層を−600VDCに帯電させた負電荷モード
での試験では、47ボルト/秒の暗消失のとき−
150VDCで4.9マイクロジユール/cm2の感度を示
した。
での試験では、47ボルト/秒の暗消失のとき−
150VDCで4.9マイクロジユール/cm2の感度を示
した。
例 G:
6gのEPON100gを25c.c.のジクロロメタンに
溶かす。この溶液に、4gの正孔転送分子DEH
を加える。溶液が完全に溶解した後、0.3gの電
荷発生分子OHSQを先に1.5c.c.のEDAに溶かした
もの(淡黄色の溶液となる)をこの溶液に加え
る。その結果、一部結晶化した緑色の溶液が得ら
れる。次に、アルミめつきしたマイラ基板のアル
ミニウム表面にこの混合物を約20ミクロンの厚さ
にコートする。コートされたものを次に100℃で
約2時間硬化する。この硬化過程中に、コーテイ
ングの色が変わり、そのスペクトル吸収が近赤外
領域にシフトする。このとき、エポキシ樹脂は
EDAと交さ結合され、コーテイングがそれ以後
THFなどの有機溶媒に対して抵抗力をもつ。
溶かす。この溶液に、4gの正孔転送分子DEH
を加える。溶液が完全に溶解した後、0.3gの電
荷発生分子OHSQを先に1.5c.c.のEDAに溶かした
もの(淡黄色の溶液となる)をこの溶液に加え
る。その結果、一部結晶化した緑色の溶液が得ら
れる。次に、アルミめつきしたマイラ基板のアル
ミニウム表面にこの混合物を約20ミクロンの厚さ
にコートする。コートされたものを次に100℃で
約2時間硬化する。この硬化過程中に、コーテイ
ングの色が変わり、そのスペクトル吸収が近赤外
領域にシフトする。このとき、エポキシ樹脂は
EDAと交さ結合され、コーテイングがそれ以後
THFなどの有機溶媒に対して抵抗力をもつ。
この層は、正起電モードでも負帯電モードでも
感受性を示す。
感受性を示す。
この層を−600VDCに帯電させた負電荷モード
での試験では、48ボルト/秒の暗消失のとき−
150VDCで1.5マイクロジユール/cm2で−63VDC
であつた。
での試験では、48ボルト/秒の暗消失のとき−
150VDCで1.5マイクロジユール/cm2で−63VDC
であつた。
例 H:
1.5gのIPON1009を25c.c.のTHFに溶かす。こ
の溶液に1.0gの正孔転送分子DEHを加える。溶
液が完全に溶解した後、0.3gの電荷発生分子
OHSQを先に1.0c.c.のEDAに溶かしたもの(淡黄
色の溶液となる)をこの溶液に加える。その結
果、緑色の溶液が得られる。次に、アルミめつき
したマイラー基板のアルミニウム表面にこの溶液
を約1.5ミクロンの厚さにコートして、2層光導
電体の電荷発生層を形成する。コートされたもの
を次に100℃で約1時間硬化する。この硬化過程
中に、コーテイングの色が変わり、そのスペクト
ル吸収が近赤外領域にシフトする。このとき、エ
ポキシ樹脂はEDAと交さ結合され、コーテイン
グはそれ以後THFなどの有機溶媒に対して抵抗
力をもつ。
の溶液に1.0gの正孔転送分子DEHを加える。溶
液が完全に溶解した後、0.3gの電荷発生分子
OHSQを先に1.0c.c.のEDAに溶かしたもの(淡黄
色の溶液となる)をこの溶液に加える。その結
果、緑色の溶液が得られる。次に、アルミめつき
したマイラー基板のアルミニウム表面にこの溶液
を約1.5ミクロンの厚さにコートして、2層光導
電体の電荷発生層を形成する。コートされたもの
を次に100℃で約1時間硬化する。この硬化過程
中に、コーテイングの色が変わり、そのスペクト
ル吸収が近赤外領域にシフトする。このとき、エ
ポキシ樹脂はEDAと交さ結合され、コーテイン
グはそれ以後THFなどの有機溶媒に対して抵抗
力をもつ。
次に、正孔転送層を上記の電荷発生層にコート
する。この転送層は、10gの銘柄MERLON60ポ
リカルボナート(モベイ・ケミカル社)、0.5gの
銘柄VITEL PE−200ポリエステル(グツドイ
ヤ・タイヤ&ラバー社)および8gの正孔転送分
子DEASPを100c.c.のTHFに溶かした溶液からコ
ートする。このコーテイングは、100℃で約1時
間硬化後に、厚さ約0.0015cmである。
する。この転送層は、10gの銘柄MERLON60ポ
リカルボナート(モベイ・ケミカル社)、0.5gの
銘柄VITEL PE−200ポリエステル(グツドイ
ヤ・タイヤ&ラバー社)および8gの正孔転送分
子DEASPを100c.c.のTHFに溶かした溶液からコ
ートする。このコーテイングは、100℃で約1時
間硬化後に、厚さ約0.0015cmである。
この2層光導電体は、負帯電モードでのみ感受
性を示す。
性を示す。
この層を−600VDCに帯電させた負電荷モード
での試験では、58ボルト/秒の暗消失のとき−
150VDCで1.25マイクロジユール/cm2の感度を示
し、残留電位は4.4マイクロジユール/cm2で−
84VDCであつた。この光導電体の量子収率(打
消されるη電子÷吸収されるη電子)は、2×
10-5ボルト/cmで820nmで0.3である。
での試験では、58ボルト/秒の暗消失のとき−
150VDCで1.25マイクロジユール/cm2の感度を示
し、残留電位は4.4マイクロジユール/cm2で−
84VDCであつた。この光導電体の量子収率(打
消されるη電子÷吸収されるη電子)は、2×
10-5ボルト/cmで820nmで0.3である。
例 I:
1gのEPON1009を25c.c.のTHFに溶かす。こ
の溶液に0.67gの正孔転送分子DEHを加える。
溶液が完全に溶解した後、0.2gの電荷発生分子
CDBを先に2−5c.c.のEDAに溶かしたもの(青
色の溶液となる)をこの溶液に加える。次に、ア
ルミめつきしたマイラー基板のアルミニウム表面
にこの溶液を約2.0ミクロンの厚さにコートして、
2層光導電体の電荷発生層を形成する。コートさ
れたものを次に100℃で約1時間硬化する。この
とき、エポキシ樹脂はEDAと交さ結合され、コ
ーテイングはそれ以後THFなどの有機溶媒に対
して抵抗力をもつ。
の溶液に0.67gの正孔転送分子DEHを加える。
溶液が完全に溶解した後、0.2gの電荷発生分子
CDBを先に2−5c.c.のEDAに溶かしたもの(青
色の溶液となる)をこの溶液に加える。次に、ア
ルミめつきしたマイラー基板のアルミニウム表面
にこの溶液を約2.0ミクロンの厚さにコートして、
2層光導電体の電荷発生層を形成する。コートさ
れたものを次に100℃で約1時間硬化する。この
とき、エポキシ樹脂はEDAと交さ結合され、コ
ーテイングはそれ以後THFなどの有機溶媒に対
して抵抗力をもつ。
次に、正孔転送層を上記の電荷発生層にコート
する。この転送層は11gの銘柄MERLON60ポリ
カルボナート(モベイ・ケミカル社)、1.0gの銘
柄VITEL PE−200ポリエステル(グツドイヤ・
タイヤ&ラバー社)および8gの正孔転送分子
DEASPを100c.c.のTHFに溶かした溶液からコー
トする。このコーテイングは、100℃で約1時間
硬化した後に、厚さ約0.002cmである。
する。この転送層は11gの銘柄MERLON60ポリ
カルボナート(モベイ・ケミカル社)、1.0gの銘
柄VITEL PE−200ポリエステル(グツドイヤ・
タイヤ&ラバー社)および8gの正孔転送分子
DEASPを100c.c.のTHFに溶かした溶液からコー
トする。このコーテイングは、100℃で約1時間
硬化した後に、厚さ約0.002cmである。
この2層光導電体は、負帯電モードでも感受性
を示す。
を示す。
この層を−650VDCに帯電させた負電荷モード
での試験では21ボルト/秒の暗消失のとき−
150VDCで2.1マイクロジユール/cm2の感度を示
し、残留電位は、4.4マイクロジユール/cm2で−
88VDCであつた。
での試験では21ボルト/秒の暗消失のとき−
150VDCで2.1マイクロジユール/cm2の感度を示
し、残留電位は、4.4マイクロジユール/cm2で−
88VDCであつた。
例 J:
1.2gのEPON1009を20c.c.のTHFに溶かす。こ
の溶液に、0.8gの正孔転送分子DEHを加える。
溶液が完全に溶解した後、0.2gの電荷発生分子
CDBを先に5.0c.c.のEDAに溶かしたもの(青色の
溶液となる)をこの溶液に加える。次に、アルミ
めつきしたマイラー基板のアルミニウム表面にこ
の溶液を約1.5ミクロンの厚さにコートして、2
層光導電体の電荷発生層を形成する。コートされ
たものを次に100℃で約1時間硬化する。このと
き、エポキシ樹脂はEDAと交さ結合され、コー
テイングは、それ以後THFなどの有機溶媒に対
して抵抗力をもつ。
の溶液に、0.8gの正孔転送分子DEHを加える。
溶液が完全に溶解した後、0.2gの電荷発生分子
CDBを先に5.0c.c.のEDAに溶かしたもの(青色の
溶液となる)をこの溶液に加える。次に、アルミ
めつきしたマイラー基板のアルミニウム表面にこ
の溶液を約1.5ミクロンの厚さにコートして、2
層光導電体の電荷発生層を形成する。コートされ
たものを次に100℃で約1時間硬化する。このと
き、エポキシ樹脂はEDAと交さ結合され、コー
テイングは、それ以後THFなどの有機溶媒に対
して抵抗力をもつ。
次に、正孔転送層を上記の電荷発生層にコート
する。この転送層は、銘柄MERLON60ポリカル
ボナート(モベイ・ケミカル社)55部、銘柄
VITEL PE−200ポリエステル(グツドイヤ・タ
イヤ&ラバー社)5部、および正孔転送分子
DEH40部の溶液からコートする。このコーテイ
ングは、100℃で約1時間硬化した後に、厚さ約
18ミクロンである。
する。この転送層は、銘柄MERLON60ポリカル
ボナート(モベイ・ケミカル社)55部、銘柄
VITEL PE−200ポリエステル(グツドイヤ・タ
イヤ&ラバー社)5部、および正孔転送分子
DEH40部の溶液からコートする。このコーテイ
ングは、100℃で約1時間硬化した後に、厚さ約
18ミクロンである。
この2層光導電体は、負帯電モードでも感受性
を示す。
を示す。
この層を−820VDCに帯電させた負電荷モード
での試験では、−150VDCで2.1マイクロジユー
ル/cm2の感度、(標準偏差0.2)を示し、残留電位
は4.4マイクロジユール/cm2で−28VDC(標準偏
差6.0)であつた。試験日数は36日であつた。
での試験では、−150VDCで2.1マイクロジユー
ル/cm2の感度、(標準偏差0.2)を示し、残留電位
は4.4マイクロジユール/cm2で−28VDC(標準偏
差6.0)であつた。試験日数は36日であつた。
例 K:
1.2gのEPON1009を20c.c.のTHFに溶かす。こ
の溶液に0.8gの正孔転送分子DEHを加える。溶
液が完全に溶解した後、0.15gの電荷発生分子
CDBと0.10gの電荷発生分子OHSQを先に2−5
c.c.のEDAに溶かしたもの(青色の溶液となる)
を、この溶液に加える。次に、アルミめつきした
マイラー基板のアルミニウム表面にこの溶液を約
2ミクロンの厚さにコートして、2層光導電体の
電荷発生層を形成する。コートされたものを次に
100℃で約1時間硬化する。この硬化過程中に、
コーテイングの色が変わり、そのスペクトル吸収
が近赤外領域にシフトする。このとき、エポキシ
樹脂はEDAと交さ結合され、コーテイングはそ
れ以後THFなどの有機溶媒に対して抵抗力をも
つ。
の溶液に0.8gの正孔転送分子DEHを加える。溶
液が完全に溶解した後、0.15gの電荷発生分子
CDBと0.10gの電荷発生分子OHSQを先に2−5
c.c.のEDAに溶かしたもの(青色の溶液となる)
を、この溶液に加える。次に、アルミめつきした
マイラー基板のアルミニウム表面にこの溶液を約
2ミクロンの厚さにコートして、2層光導電体の
電荷発生層を形成する。コートされたものを次に
100℃で約1時間硬化する。この硬化過程中に、
コーテイングの色が変わり、そのスペクトル吸収
が近赤外領域にシフトする。このとき、エポキシ
樹脂はEDAと交さ結合され、コーテイングはそ
れ以後THFなどの有機溶媒に対して抵抗力をも
つ。
次に正孔転送層を上記の電荷発生層にコートす
る。この転送層は、銘柄MERLON60ポリカルボ
ナート(モベイ・ケミカル社)60部、銘柄
VITEL PE−200ポリエステル(グツドイヤ・タ
イヤ&ラバー社)5部、および正孔転送分子
DEH40部の溶液からコートする。このコーテイ
ングは、100℃で約1時間硬化した後に、厚さ約
18ミクロンである。
る。この転送層は、銘柄MERLON60ポリカルボ
ナート(モベイ・ケミカル社)60部、銘柄
VITEL PE−200ポリエステル(グツドイヤ・タ
イヤ&ラバー社)5部、および正孔転送分子
DEH40部の溶液からコートする。このコーテイ
ングは、100℃で約1時間硬化した後に、厚さ約
18ミクロンである。
この2層光導電体は、負帯電モードでも感受性
を示す。
を示す。
この層を−600VDCに帯電させた負電荷モード
での試験では、76ボルト/秒の暗消失のとき−
150VDCで2−4マイクロジユール/cm2の感度を
示し、残留電位は4.4マイクロジユール/cm2で−
104VDCであつた。
での試験では、76ボルト/秒の暗消失のとき−
150VDCで2−4マイクロジユール/cm2の感度を
示し、残留電位は4.4マイクロジユール/cm2で−
104VDCであつた。
[発明の効果]
本発明の光導電体は、単一層でCGL及びCTL
として働らき、又、正及び負のいずれの電荷の付
着並びに露光処理に応答する。
として働らき、又、正及び負のいずれの電荷の付
着並びに露光処理に応答する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 エポキシ樹脂バインダと、 少くとも1種の電荷転送分子と、 上記エポキシ樹脂を交さ結合させる働きもする
アミンに可溶性の電荷発生分子と からなる、電荷発生・電荷転送兼用の感光層。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US560063 | 1983-12-09 | ||
| US06/560,063 US4490452A (en) | 1983-12-09 | 1983-12-09 | Xerographic photoconductors with cross-linked epoxy binder |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60128451A JPS60128451A (ja) | 1985-07-09 |
| JPH039460B2 true JPH039460B2 (ja) | 1991-02-08 |
Family
ID=24236200
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59180911A Granted JPS60128451A (ja) | 1983-12-09 | 1984-08-31 | ゼログラフイツク光導電体 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4490452A (ja) |
| EP (1) | EP0145959B1 (ja) |
| JP (1) | JPS60128451A (ja) |
| DE (1) | DE3482502D1 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4585895A (en) * | 1985-02-20 | 1986-04-29 | Xerox Corporation | Processes for the preparation of mixed squaraine compositions |
| US4746756A (en) * | 1985-06-24 | 1988-05-24 | Xerox Corporation | Photoconductive imaging members with novel fluorinated squaraine compounds |
| DE3603139A1 (de) * | 1986-02-01 | 1987-08-13 | Hoechst Ag | Elektrophotographisches aufzeichnungsmaterial |
| US4665231A (en) * | 1986-05-02 | 1987-05-12 | Xerox Corporation | Process for preparing squaraines |
| JPS6435449A (en) * | 1987-07-31 | 1989-02-06 | Mita Industrial Co Ltd | Positively chargeable organic laminated photosensitive body and production thereof |
| US5173384A (en) * | 1988-04-19 | 1992-12-22 | Mitsubishi Kasei Corporation | Electrophotographic photoreceptor |
| EP0345005A3 (en) * | 1988-05-31 | 1990-09-12 | Somar Corporation | Electrophotographic photosensitive element and method of preparing same |
| US4874682A (en) * | 1988-10-28 | 1989-10-17 | International Business Machines Corporation | Organic photoconductors with reduced fatigue |
| US5063128A (en) * | 1989-12-29 | 1991-11-05 | Xerox Corporation | Conductive and blocking layers for electrophotographic imaging members |
| US5063125A (en) * | 1989-12-29 | 1991-11-05 | Xerox Corporation | Electrically conductive layer for electrical devices |
| US5164276A (en) * | 1990-11-27 | 1992-11-17 | Xerox Corporation | Charge generation layers and charge transport, layers for electrophotographic imaging members, and processes for producing same |
| US5215844A (en) * | 1991-09-03 | 1993-06-01 | Xerox Corporation | Photoconductive imaging members with polyhydroxy ether binders |
| US5130217A (en) * | 1991-09-17 | 1992-07-14 | Lexmark International, Inc. | Squarylium photoconductors with noncrystalline bisphenol a binders |
| EP0572726B1 (en) * | 1992-06-04 | 1998-01-28 | Agfa-Gevaert N.V. | Photoconductive recording material having a crosslinked binder in the charge genererating layer |
| EP0642680B1 (en) * | 1992-06-04 | 2001-07-04 | Xeikon Nv | Photoconductive recording material comprising a crosslinked binder system |
| JPH07507162A (ja) * | 1992-06-04 | 1995-08-03 | アグファーゲヴェルト ナームロゼ ベンノートチャップ | 架橋した結合剤系を有する光導電性記録材料 |
| US6033816A (en) * | 1997-11-14 | 2000-03-07 | Lexmark International, Inc. | Electrophotographic photoreceptors with charge generation by polymer blends |
| US5994013A (en) * | 1998-04-24 | 1999-11-30 | Lexmark International, Inc. | Dual layer photoconductors with charge generation layer containing charge transport compound |
| US7166400B2 (en) * | 2003-10-28 | 2007-01-23 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Organophotoreceptor with a hydrazone polymer charge transport material |
| US20060035474A1 (en) * | 2004-08-10 | 2006-02-16 | Pavel Komilovich | Increasing retention time for memory devices |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH438941A (de) * | 1963-11-13 | 1967-06-30 | Lumiere Soc | Verfahren zur Herstellung eines elektrophotographischen Materials |
| US4123270A (en) * | 1975-09-15 | 1978-10-31 | International Business Machines Corporation | Method of making electrophotographic imaging element |
| DE2635887C3 (de) * | 1975-09-15 | 1981-11-19 | International Business Machines Corp., 10504 Armonk, N.Y. | Verfahren zur Herstellung eines elektrophotographischen Aufzeichnungsmaterial |
| JPS52105825A (en) * | 1976-03-03 | 1977-09-05 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Electronic photographic photosensitive material |
| US4053311A (en) * | 1976-04-02 | 1977-10-11 | Limburg William W | Poly-n-vinylcarbazole image transport layer plasticized by bis(4-diethylamino-2-methylphenyl)phenylmethane |
| CA1132398A (en) * | 1979-01-15 | 1982-09-28 | Simpei Tutihasi | Hole trapping layer comprised of nitrogen containing electron donors for use in overcoated photoreceptors |
| JPS55157748A (en) * | 1979-05-29 | 1980-12-08 | Fuji Xerox Co Ltd | Electrophotographic receptor |
| US4330608A (en) * | 1979-08-24 | 1982-05-18 | Xerox Corporation | Benzotriazole stabilized photosensitive device |
| US4362798A (en) * | 1981-05-18 | 1982-12-07 | International Business Machines Corporation | Hydrazone and pyrazoline or acetosol yellow containing charge transport layer, photoconductor and electrophotographic process using the same |
| JPS589148A (ja) * | 1981-07-10 | 1983-01-19 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 電子写真用積層感光体 |
| US4397931A (en) * | 1982-06-01 | 1983-08-09 | Xerox Corporation | Stabilized organic layered photoconductive device |
-
1983
- 1983-12-09 US US06/560,063 patent/US4490452A/en not_active Expired - Fee Related
-
1984
- 1984-08-31 JP JP59180911A patent/JPS60128451A/ja active Granted
- 1984-11-14 DE DE8484113730T patent/DE3482502D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1984-11-14 EP EP84113730A patent/EP0145959B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60128451A (ja) | 1985-07-09 |
| US4490452A (en) | 1984-12-25 |
| EP0145959A2 (en) | 1985-06-26 |
| EP0145959B1 (en) | 1990-06-13 |
| DE3482502D1 (en) | 1990-07-19 |
| EP0145959A3 (en) | 1986-01-22 |
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