JPH0399086A - ケイ素含有スピロオルソカーボネート化合物 - Google Patents
ケイ素含有スピロオルソカーボネート化合物Info
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- JPH0399086A JPH0399086A JP23772189A JP23772189A JPH0399086A JP H0399086 A JPH0399086 A JP H0399086A JP 23772189 A JP23772189 A JP 23772189A JP 23772189 A JP23772189 A JP 23772189A JP H0399086 A JPH0399086 A JP H0399086A
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- JP
- Japan
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- silicon
- propanediol
- orthocarbonate
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- component
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は注型材料や戊形材料：複合材料のマトリックス
；接着剤あるいは塗料等として有用な重合性の新規化合
物に関するものである。
；接着剤あるいは塗料等として有用な重合性の新規化合
物に関するものである。
スビロオルソエステル化合物、スビロオルソカ一ボネー
ト化合物等の環状化合物が、重合反応時に体積収縮がな
いという特徴のある重合性化合物として上述の如き各種
用途に工業的に広く使用されていることは良く知られて
いる。
ト化合物等の環状化合物が、重合反応時に体積収縮がな
いという特徴のある重合性化合物として上述の如き各種
用途に工業的に広く使用されていることは良く知られて
いる。
〔発明が解決しようとする課題）
しかし、それらの化合物を重合させて得られる重合体は
、分子内に多くのエステル結合、カーボネート結合を有
するため、耐水性、耐加水分解性に劣り、実用上問題を
有していた。
、分子内に多くのエステル結合、カーボネート結合を有
するため、耐水性、耐加水分解性に劣り、実用上問題を
有していた。
本発明等は、この様な状況に鑑み、鋭意検討した結果、
特定のケイ素含有スビロオルソカーボネート化合物が、
重合反応による硬化時に体積収縮が実質的になく、かつ
耐水性、耐加水分解性に優れる重合物を与えることを見
い出し、本発明を完戒するに至った。
特定のケイ素含有スビロオルソカーボネート化合物が、
重合反応による硬化時に体積収縮が実質的になく、かつ
耐水性、耐加水分解性に優れる重合物を与えることを見
い出し、本発明を完戒するに至った。
すなわち、本発明は、下記一般式（１）で示されるケイ
素含有スピロオルソカーボネート化合物を提イ』（する
ものである。
素含有スピロオルソカーボネート化合物を提イ』（する
ものである。
（式中、Ｒ ｌ ， Ｒ ２はアルキル基、アラルキ
ル基又はアリール基、またＲ′３． Ｒ４はアルキレン
基を示す。） 上記一般式（１）で示されるケイ素含有スピロオルソカ
ーボネートの具体例としては、３．９−シ（２−トリメ
チルシリルエチル） −１．５，７．１１−テトラオキ
サ（５．５ ）ウンデカン、３．９−ジ（３−トリメチ
ルシリルプロビル） −１．５，７．１１−テトラオキ
サ（５．５ ）ウンデカン、３．９−ジ（３−トリエチ
ルシリルブロピル）−１．５．７．１１−テトラオキサ
（５．５ ）ウンデカン、３−（２−ｔ−リメチルシリ
ルエチル’）−９− （２−｝リエチルシリルブロピル
） 一１．５，７．１１−テトラオキサ（５．５ ）
ウンデカン、３−（３−｝リメチルシリルプ口ピル）−
９−（４−｝リフエニルシリルブチル） −１．５，７
．１ｌ−テトラオキサ（５．５ ）ウンデカン等が挙げ
られ、なかでも３，９−ジ（３−トリメチルシリルブロ
ピル）−１．５．７．１１−テトラオキサ（５．５ ）
ウンデカンが好ましい。
ル基又はアリール基、またＲ′３． Ｒ４はアルキレン
基を示す。） 上記一般式（１）で示されるケイ素含有スピロオルソカ
ーボネートの具体例としては、３．９−シ（２−トリメ
チルシリルエチル） −１．５，７．１１−テトラオキ
サ（５．５ ）ウンデカン、３．９−ジ（３−トリメチ
ルシリルプロビル） −１．５，７．１１−テトラオキ
サ（５．５ ）ウンデカン、３．９−ジ（３−トリエチ
ルシリルブロピル）−１．５．７．１１−テトラオキサ
（５．５ ）ウンデカン、３−（２−ｔ−リメチルシリ
ルエチル’）−９− （２−｝リエチルシリルブロピル
） 一１．５，７．１１−テトラオキサ（５．５ ）
ウンデカン、３−（３−｝リメチルシリルプ口ピル）−
９−（４−｝リフエニルシリルブチル） −１．５，７
．１ｌ−テトラオキサ（５．５ ）ウンデカン等が挙げ
られ、なかでも３，９−ジ（３−トリメチルシリルブロ
ピル）−１．５．７．１１−テトラオキサ（５．５ ）
ウンデカンが好ましい。
一般式（Ｔ）で示されるケイ素含有スピロオルソカーボ
ネートの製造方法として、例えばテトラアルキルオルソ
カーボネートおよび／又はテトラアリルオルソカーボネ
ート（ａ）と、一般式Ｒ’＋Ｓｉ Ｒ” ＣＩ！（
ＣＨｚＯＨ） ｚ ・・・・・・（ＩＩ）ＲｚＳｉ
−Ｒ’ ＣＩ（ＣＨｚＯＨ）ｚ ・・・・・・
（ＩＩ［）（式中、Ｒｌ ． ＲＺ ．Ｒ３ ．Ｒ４は
前記と同しである．） で示される２一置換ケイ素含有アルキルー１．３−ブロ
バンジオール（ｂ）とを反応させる方法等が挙げられる
． 上記テトラアルキルオルソカーボネート（ａ）と２−置
換ケイ素含有アルキルー１，３−プロパンジオール（ｂ
）の反応は、例えば上記或分（ａ） １ ０ ０モルに
対して１〜５モルのプロトン性酸性触媒、例えばｐ−１
−ルエンスルホン酸、硫酸等を用いて、上記威分（ｂ）
が反応温度で液状の場合は通常無溶媒下で、また戒分（
ｂｌが反応温度で固型の場合は通常或分（ａ）と（ｂｌ
の合計の１〜２０倍景の溶媒、例えばトルエン、キシレ
ン、クロルベンゼン等中でエステル交換反応により発生
するアルコールを補集しながら、通常７０〜１５０℃で
６〜１５時間反応させることにより容易に製造できる。
ネートの製造方法として、例えばテトラアルキルオルソ
カーボネートおよび／又はテトラアリルオルソカーボネ
ート（ａ）と、一般式Ｒ’＋Ｓｉ Ｒ” ＣＩ！（
ＣＨｚＯＨ） ｚ ・・・・・・（ＩＩ）ＲｚＳｉ
−Ｒ’ ＣＩ（ＣＨｚＯＨ）ｚ ・・・・・・
（ＩＩ［）（式中、Ｒｌ ． ＲＺ ．Ｒ３ ．Ｒ４は
前記と同しである．） で示される２一置換ケイ素含有アルキルー１．３−ブロ
バンジオール（ｂ）とを反応させる方法等が挙げられる
． 上記テトラアルキルオルソカーボネート（ａ）と２−置
換ケイ素含有アルキルー１，３−プロパンジオール（ｂ
）の反応は、例えば上記或分（ａ） １ ０ ０モルに
対して１〜５モルのプロトン性酸性触媒、例えばｐ−１
−ルエンスルホン酸、硫酸等を用いて、上記威分（ｂ）
が反応温度で液状の場合は通常無溶媒下で、また戒分（
ｂｌが反応温度で固型の場合は通常或分（ａ）と（ｂｌ
の合計の１〜２０倍景の溶媒、例えばトルエン、キシレ
ン、クロルベンゼン等中でエステル交換反応により発生
するアルコールを補集しながら、通常７０〜１５０℃で
６〜１５時間反応させることにより容易に製造できる。
成分（ａ）と成分（ｂ）の仕込み割合は、或分（′ｂ）
中のメチロール基１個に対して戊分ｉａｌ中のアルコキ
シル基の数が通常０．９〜１．２個、好ましくは１．０
〜１．１個となる割合である。尚、反応の進行程度は、
反応液を液体クロマトグラフで分析することにより容易
に知ることができる。
中のメチロール基１個に対して戊分ｉａｌ中のアルコキ
シル基の数が通常０．９〜１．２個、好ましくは１．０
〜１．１個となる割合である。尚、反応の進行程度は、
反応液を液体クロマトグラフで分析することにより容易
に知ることができる。
反応液からの目的化合物の分離は、例えばまず反応液に
塩基性物質、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミ
ン、トリフエニルアミン、水酸化ナトリウム等を加えて
触媒を失活させ、次いで、溶媒を用いている場合には脱
溶媒を行った後、残査をメタノール等により再結晶させ
ることによりなされる。
塩基性物質、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミ
ン、トリフエニルアミン、水酸化ナトリウム等を加えて
触媒を失活させ、次いで、溶媒を用いている場合には脱
溶媒を行った後、残査をメタノール等により再結晶させ
ることによりなされる。
ここで用いるテトラアルキルオルソカーボネートおよび
／又はテトラアリルオルソカーボネート（ｂｌとしては
、例えばテトラメチルオルソカーボネート、テトラエチ
ルオルソカーボネート、テトラブ口ピルオルソカーボネ
ート、テトラアリルオルソカーボネート等が挙げられ、
なかでも安定性と反応性の点でテトラエチルオルソカー
ボネートが好ましい。
／又はテトラアリルオルソカーボネート（ｂｌとしては
、例えばテトラメチルオルソカーボネート、テトラエチ
ルオルソカーボネート、テトラブ口ピルオルソカーボネ
ート、テトラアリルオルソカーボネート等が挙げられ、
なかでも安定性と反応性の点でテトラエチルオルソカー
ボネートが好ましい。
また、２一置換ケイ素含有アルキルー１，３−プロパン
ジオール（ｂ）としては、例えば上記一般式（ＩＩ）、
（ＩＩＩ）中のＲｌ．Ｒｔがメチル基、エチル基、プロ
ビル基、スチリル基、フエニル基又はトリル基であり、
Ｒ３．Ｒ４がメチレン基、エチレン基、プロピレン基又
はブチレン基であるもの等が挙げられる。具体例として
は、２−（２−トリメチレルシリルエチル’）−１．３
−プロパンジオール、２−（４−トリメチルシリルブチ
ル） −１．３−プロパンジオール、２− （２４リエ
チルシリルエチル）−１．３−プロパンジオール、２−
（３−トリメチルシリルブロビル’）−１．３−プロパ
ンジオール、２−（３−トリフエニルシリルブロピル）
−１．３−プロパンジオール、２−（４−トリエチルシ
リルブチル）−１．３−プロパンジオール等が挙げられ
、なかでも２−（３−トリメチルシリルプ口ピル〉−１
．３−プロパンジオールが好マしい。
ジオール（ｂ）としては、例えば上記一般式（ＩＩ）、
（ＩＩＩ）中のＲｌ．Ｒｔがメチル基、エチル基、プロ
ビル基、スチリル基、フエニル基又はトリル基であり、
Ｒ３．Ｒ４がメチレン基、エチレン基、プロピレン基又
はブチレン基であるもの等が挙げられる。具体例として
は、２−（２−トリメチレルシリルエチル’）−１．３
−プロパンジオール、２−（４−トリメチルシリルブチ
ル） −１．３−プロパンジオール、２− （２４リエ
チルシリルエチル）−１．３−プロパンジオール、２−
（３−トリメチルシリルブロビル’）−１．３−プロパ
ンジオール、２−（３−トリフエニルシリルブロピル）
−１．３−プロパンジオール、２−（４−トリエチルシ
リルブチル）−１．３−プロパンジオール等が挙げられ
、なかでも２−（３−トリメチルシリルプ口ピル〉−１
．３−プロパンジオールが好マしい。
ここで用いる２一置換ケイ素含有アルキルー１，３−プ
ロパンジオールは、例えば以下の方法により製造するこ
とができる。まず、２−（１−アルケニル）−１．３−
プロパンジオール等の不飽和！含有−１．３−プロパン
ジオールと酢酸又は無水酢酸をピリジンなどの塩基性溶
媒中で反応させてアセチル化されたジオールを得る。こ
の時の反応条件は温度２５〜５０℃、５〜１０時間が適
当である。精製は減圧蒸留等により行なう。
ロパンジオールは、例えば以下の方法により製造するこ
とができる。まず、２−（１−アルケニル）−１．３−
プロパンジオール等の不飽和！含有−１．３−プロパン
ジオールと酢酸又は無水酢酸をピリジンなどの塩基性溶
媒中で反応させてアセチル化されたジオールを得る。こ
の時の反応条件は温度２５〜５０℃、５〜１０時間が適
当である。精製は減圧蒸留等により行なう。
次にこのアセチル化されたジオールとトリクロロシラン
等のトリハロゲン化シランを塩化白金酸等の触媒の存在
下で反応させて２−（トリアルキルシリルアルキル）−
１．３−プロパンジオールを得る。この時の反応は無溶
媒下あるいはベンゼン、トルエン、キシレン等の溶媒中
で行ない、反応条件は温度 ２５〜５０℃、５〜ＩＯ時
間が適当である。次に、得られたジオールをアルキルグ
リニャール試薬、アラルキルグリニャール試薬、アリー
ルグリニャール試薬などと反応させて、目的の２一置換
ケイ素含有アルキルー１．３−プロパンジオールを得る
。この反応はエチルエーテル、テトラヒド口フラン、ジ
フェニルエーテルなどのエーテル系溶媒中で行ない、反
応条件は、温度２０〜１００℃ζ５〜２４時間が適当で
ある。
等のトリハロゲン化シランを塩化白金酸等の触媒の存在
下で反応させて２−（トリアルキルシリルアルキル）−
１．３−プロパンジオールを得る。この時の反応は無溶
媒下あるいはベンゼン、トルエン、キシレン等の溶媒中
で行ない、反応条件は温度 ２５〜５０℃、５〜ＩＯ時
間が適当である。次に、得られたジオールをアルキルグ
リニャール試薬、アラルキルグリニャール試薬、アリー
ルグリニャール試薬などと反応させて、目的の２一置換
ケイ素含有アルキルー１．３−プロパンジオールを得る
。この反応はエチルエーテル、テトラヒド口フラン、ジ
フェニルエーテルなどのエーテル系溶媒中で行ない、反
応条件は、温度２０〜１００℃ζ５〜２４時間が適当で
ある。
本発明のケイ素含有スビロオルソカーボネートは、酸性
触媒、例えば三フッ化ホウ素、四塩化スズ等のルイス酸
、トリフェニルカルベニウムテトラフロ口ボレート、ト
リフェニル力ルベニウムへキサフロロアンチモネート等
のトリチル塩を、ケイ素含有スビロオルソカーボネート
ｌＯＯモルに対して通常１〜１０モルの割合で加え、固
体の場合には溶液重合、液体の場合には溶液又は塊状重
合により容易に重合させることができる。重合条件は温
度２０〜１００℃で３〜４８時間が適当である。
触媒、例えば三フッ化ホウ素、四塩化スズ等のルイス酸
、トリフェニルカルベニウムテトラフロ口ボレート、ト
リフェニル力ルベニウムへキサフロロアンチモネート等
のトリチル塩を、ケイ素含有スビロオルソカーボネート
ｌＯＯモルに対して通常１〜１０モルの割合で加え、固
体の場合には溶液重合、液体の場合には溶液又は塊状重
合により容易に重合させることができる。重合条件は温
度２０〜１００℃で３〜４８時間が適当である。
以下に参考例、実施例および比較例を示して本発明を具
体的に説明する。
体的に説明する。
参考例１ （２− （３−１−リメチルシリルブ口ピ
ル）−１，３−プロパンジオールの合威〕 まず、攪拌機、コンデンサーおよび温度計を備えた三つ
口５ ０ｍｌフラスコに、２−アリルー１．３一プロパ
ンジオール２．６ｇ（２２．４ミリモル）と無水酢酸６
．８６ｇ（６７．２ミリモル）およびビリジン２ ０ｍ
ｌを仕込み、室温で３時間反応させた。
ル）−１，３−プロパンジオールの合威〕 まず、攪拌機、コンデンサーおよび温度計を備えた三つ
口５ ０ｍｌフラスコに、２−アリルー１．３一プロパ
ンジオール２．６ｇ（２２．４ミリモル）と無水酢酸６
．８６ｇ（６７．２ミリモル）およびビリジン２ ０ｍ
ｌを仕込み、室温で３時間反応させた。
反応終了後、ピリジン、無水酢酸および生成した酢酸を
減圧下留去し、次いで減圧蒸留にょり５アセトキシー４
−アセトキシメチルベント−１−エン４．１６ｇ（収率
９３％）を得た。
減圧下留去し、次いで減圧蒸留にょり５アセトキシー４
−アセトキシメチルベント−１−エン４．１６ｇ（収率
９３％）を得た。
その物性値は以下の通りである。
・沸点：５７℃／０．１璽ｍｆｌｇ
・赤外吸収スペクトル
１７４２ ｃｆｌＩ−’ （Ｃ ＝ Ｏ）１６４２ ｃ
ｍ−’ （ Ｃ ＝ Ｃ）・核磁気共鳴スペクトル（Ｃ
ＣＩ！４中〉δ（ρｐｍ） １．８６ 〜２．３３ （ ６１１． ２ Ｃｌｌ：ｌ
． ２Ｈ， ２ Ｃｌｂ”ＣＩｌ−Ｃｌｈ＋ＩＨ＞ＣＨ
−） ３．９０〜４．１２ （ ４Ｈ， ２ −ＣＨｚ−）５
．４５〜６．１６．（ ＩＩＩ． ＨｚＣ＝Ｃｌｌ−
）次に、得られた５−アセトキシー４−アセトキシメ
チルベント−１−エン５．６２ｇ（２８．１ξリモル）
とトリクロロシラン４．９５ｇ（３６．５ミリモル）お
よび触媒量の塩化白金酸を、２ ＯＬＩＩ／Ｏナスフラ
スコに仕込み、アルゴン雰囲気下室温で２時間反応させ
て５−アセトキシー４−アセトキシメチルペンチルトリ
メチルシランを得た。
ｍ−’ （ Ｃ ＝ Ｃ）・核磁気共鳴スペクトル（Ｃ
ＣＩ！４中〉δ（ρｐｍ） １．８６ 〜２．３３ （ ６１１． ２ Ｃｌｌ：ｌ
． ２Ｈ， ２ Ｃｌｂ”ＣＩｌ−Ｃｌｈ＋ＩＨ＞ＣＨ
−） ３．９０〜４．１２ （ ４Ｈ， ２ −ＣＨｚ−）５
．４５〜６．１６．（ ＩＩＩ． ＨｚＣ＝Ｃｌｌ−
）次に、得られた５−アセトキシー４−アセトキシメ
チルベント−１−エン５．６２ｇ（２８．１ξリモル）
とトリクロロシラン４．９５ｇ（３６．５ミリモル）お
よび触媒量の塩化白金酸を、２ ＯＬＩＩ／Ｏナスフラ
スコに仕込み、アルゴン雰囲気下室温で２時間反応させ
て５−アセトキシー４−アセトキシメチルペンチルトリ
メチルシランを得た。
次に、攪拌機、コンデンサー、滴下ロートを備えた三つ
口５ ０ ０ｍｌフラスコにマグネシウム粉末５．４７
ｇ（２２５ミリグラム原子）を仕込み、２ ２ ０ｍｌ
．のエチルエーテルに溶解したヨウ化メチル３４．１ｇ
（２４０Ｓリモル）を滴下してグリニャール試薬を合威
した。そこへエーテル２０ｍｌに溶解した粗製の５−ア
セトキシー４−アセトキシメチルペンチルトリメチルシ
ラン約２８ミリモルを滴下し、エーテル還流下１．５特
開反応させた。
口５ ０ ０ｍｌフラスコにマグネシウム粉末５．４７
ｇ（２２５ミリグラム原子）を仕込み、２ ２ ０ｍｌ
．のエチルエーテルに溶解したヨウ化メチル３４．１ｇ
（２４０Ｓリモル）を滴下してグリニャール試薬を合威
した。そこへエーテル２０ｍｌに溶解した粗製の５−ア
セトキシー４−アセトキシメチルペンチルトリメチルシ
ラン約２８ミリモルを滴下し、エーテル還流下１．５特
開反応させた。
赤外吸収スペクトルによって反応の進行を６ｉ認してか
ら酢酸水溶液を加えて残存しているグリニャール試薬を
失活させた。次に水層にエチルエーテル１ ０ ０ｎ／
！を加えて抽出する操作を３回くり返し、各エチルエー
テル層と前記有機層を合わせて、炭酸水素ナトリウム水
溶液１ ０ ０ｍｊ！で中和し、エーテルを留去した後
、減圧蒸留して２−（３−トリメチルシリルブロビル）
−１．３−プロパンジオール４．９６ｇ（収率６８％）
を得た。
ら酢酸水溶液を加えて残存しているグリニャール試薬を
失活させた。次に水層にエチルエーテル１ ０ ０ｎ／
！を加えて抽出する操作を３回くり返し、各エチルエー
テル層と前記有機層を合わせて、炭酸水素ナトリウム水
溶液１ ０ ０ｍｊ！で中和し、エーテルを留去した後
、減圧蒸留して２−（３−トリメチルシリルブロビル）
−１．３−プロパンジオール４．９６ｇ（収率６８％）
を得た。
その物性値は以下の通りである。
・沸点：ｌ０２〜１０４℃／０．１ｍ■Ｈｇ・赤外吸収
スペクトル ３３５６ ｃｒａ−’ （ＯＨ） ・核磁気共鳴スペクトル（ＣＣ ／ ４中）δ（ｐｐｍ
） ０．００ （ ９Ｈ， ０．３３〜０．７９ ０．９８〜１．９４ ？ Ｃｌｈ ） （ ２１１， ＳｉＣＩＩ■− ） （ ４ｔｌ，ＳｉＣｉ■ＣＨ．ＣＩｌ■−ｉ＋＋，−ｃ
ｏ＜） ３．５０〜３．７４ （ ４｝１， ２ −ＣＨ！
− ）４．００ ＜ ２８， ２ ０８ ）実施
例１ 撹ｆ’ｌシ機、ニンデンサーおよび温度計を備えた三つ
口２ ０＋ｙ＋ｊ！フラスコに、２−（３−１−リメチ
ルシリルプ口ピル）−１．３−プロパンジオール２．５
ｇ（１３．２ミリモル）、テトラエチルオルトカーボネ
ート１．３ ３ ｇ （６．９ ３ミリモル）、キシレ
ン４ｍ＃および触媒としてｐ一トルエンスルホン酸２４
ｎ＠を仕込み、９０℃において１０時間加熱して留出エ
タノールを捕集した。
スペクトル ３３５６ ｃｒａ−’ （ＯＨ） ・核磁気共鳴スペクトル（ＣＣ ／ ４中）δ（ｐｐｍ
） ０．００ （ ９Ｈ， ０．３３〜０．７９ ０．９８〜１．９４ ？ Ｃｌｈ ） （ ２１１， ＳｉＣＩＩ■− ） （ ４ｔｌ，ＳｉＣｉ■ＣＨ．ＣＩｌ■−ｉ＋＋，−ｃ
ｏ＜） ３．５０〜３．７４ （ ４｝１， ２ −ＣＨ！
− ）４．００ ＜ ２８， ２ ０８ ）実施
例１ 撹ｆ’ｌシ機、ニンデンサーおよび温度計を備えた三つ
口２ ０＋ｙ＋ｊ！フラスコに、２−（３−１−リメチ
ルシリルプ口ピル）−１．３−プロパンジオール２．５
ｇ（１３．２ミリモル）、テトラエチルオルトカーボネ
ート１．３ ３ ｇ （６．９ ３ミリモル）、キシレ
ン４ｍ＃および触媒としてｐ一トルエンスルホン酸２４
ｎ＠を仕込み、９０℃において１０時間加熱して留出エ
タノールを捕集した。
次にトリエチルアξン０，ｌｎｊ！を加え、触媒を失活
させた。次にロータリーエバボレーターで脱溶剤を行な
い、残渣をメタノールより再結晶させ？３，９−ジ（３
−トリメチルシリルブ口ピル）−１．５，７．１１−テ
トラオキザ（５．５）ウンデカン２．４３ｇ（収率９５
％）を得た。
させた。次にロータリーエバボレーターで脱溶剤を行な
い、残渣をメタノールより再結晶させ？３，９−ジ（３
−トリメチルシリルブ口ピル）−１．５，７．１１−テ
トラオキザ（５．５）ウンデカン２．４３ｇ（収率９５
％）を得た。
その物性値は以下の通りである。
・融点７６１．５〜６９℃
・赤外吸収スペクトル
１２０７ ｃｍ−’ ， １０１８ ｃｍ−’ （Ｃ
−０−Ｃ）・核磁気共鳴スペクトル（ＣＣ ｌ ．中）
δ（ ｐｐｍ） ０．００ （ １８１１． ６ ＣＩ＋■）０，２７〜
０．７４ （ ４Ｈ ， ２ ＳｉＣＩＩ■−）１．１
６〜１．４９ （ ８ｔｌ， ２ ＳｉＣＩＩｚＣＩｌ
■Ｃ１■一）１．６０〜２．２４ （ ２１１． ２冫
ＣＩ＋− ）３．３５〜４．０３ （ ８！＋． ４
ＣＨ２０− ）得られた３．９一ジ（３−トリメチルシ
リルプ口ビル）−１．５，７．１１−テトラオキザ（５
．５ ）ウンデカン１００モルと、重合触媒としてのト
リフエニ／ｌ／，ＪＪルベニウムテトラク口口ポレート
５モルとを、ｉｏｏｏ倍ｉのクロロベンゼン中に加え、
２５゜Ｃで２４時間重合させた。この重合物の分子量を
ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したと
ころ、ボリスチレン換算で数平均分子量４１００であっ
た。
−０−Ｃ）・核磁気共鳴スペクトル（ＣＣ ｌ ．中）
δ（ ｐｐｍ） ０．００ （ １８１１． ６ ＣＩ＋■）０，２７〜
０．７４ （ ４Ｈ ， ２ ＳｉＣＩＩ■−）１．１
６〜１．４９ （ ８ｔｌ， ２ ＳｉＣＩＩｚＣＩｌ
■Ｃ１■一）１．６０〜２．２４ （ ２１１． ２冫
ＣＩ＋− ）３．３５〜４．０３ （ ８！＋． ４
ＣＨ２０− ）得られた３．９一ジ（３−トリメチルシ
リルプ口ビル）−１．５，７．１１−テトラオキザ（５
．５ ）ウンデカン１００モルと、重合触媒としてのト
リフエニ／ｌ／，ＪＪルベニウムテトラク口口ポレート
５モルとを、ｉｏｏｏ倍ｉのクロロベンゼン中に加え、
２５゜Ｃで２４時間重合させた。この重合物の分子量を
ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したと
ころ、ボリスチレン換算で数平均分子量４１００であっ
た。
二の重合物溶液をガラス板上に流延し、減圧下、ｌＯＯ
℃でｌＯ時間溶媒を除去する事により、厚さ５０μｍの
重合物のフィルムを得、これを用いて以下の様に耐水性
および耐加水分解性評価試験を実施したところ、耐水性
評価試験での重合増加率は０． ８％と小さく、かつ耐
加水分解性評価試験での形状の保持状態は良好であった
。
℃でｌＯ時間溶媒を除去する事により、厚さ５０μｍの
重合物のフィルムを得、これを用いて以下の様に耐水性
および耐加水分解性評価試験を実施したところ、耐水性
評価試験での重合増加率は０． ８％と小さく、かつ耐
加水分解性評価試験での形状の保持状態は良好であった
。
耐水性評価試験：
得られたフィルムから試験片（５０ｍＸ５０＊ｍＸ０．
０５ｎ＊）を作り、２５℃の水にｉ日浸漬し、吸水によ
る重量増加率を求めた。
０５ｎ＊）を作り、２５℃の水にｉ日浸漬し、吸水によ
る重量増加率を求めた。
耐加水分解性評価試験：
得られたフィルムから試験片（５０＋ｍｘ５０ｍｍＸ０
．０５ｍｍ）を作り、２５℃の５％力性ソーダ水溶液に
１日浸漬し、フィルムの形状の保持状態を評価した。
．０５ｍｍ）を作り、２５℃の５％力性ソーダ水溶液に
１日浸漬し、フィルムの形状の保持状態を評価した。
比較例１
３，９−ジ（ペンシル） −Ｌ５．７．１１−テトラオ
キサ（５．５ ）ウンデカンに重合触媒としてトリフエ
ニルカルベニウムテトラク「」ロボレート５モル％添加
し、クロロベンゼン９００モル％中２５℃で２４時間重
合させた。この重合物の分子量をゲルパーミエーション
ク口マトグラフィーで測定したところ、ボリスチレン換
算で数平均分子量・１，２００であった。
キサ（５．５ ）ウンデカンに重合触媒としてトリフエ
ニルカルベニウムテトラク「」ロボレート５モル％添加
し、クロロベンゼン９００モル％中２５℃で２４時間重
合させた。この重合物の分子量をゲルパーミエーション
ク口マトグラフィーで測定したところ、ボリスチレン換
算で数平均分子量・１，２００であった。
この重合物溶液を用いた以外は、実施例１と同様にして
厚さ５０μｍの重合物のフィルムを得、次いで同様にし
て耐水性および耐加水分解性の評価試験を行ったところ
、耐水性評価試験での重合増加率は２．５％と大きく、
しかも耐加水分解性評価試験ではフィルムは形状を保持
できず崩壊してしまった。
厚さ５０μｍの重合物のフィルムを得、次いで同様にし
て耐水性および耐加水分解性の評価試験を行ったところ
、耐水性評価試験での重合増加率は２．５％と大きく、
しかも耐加水分解性評価試験ではフィルムは形状を保持
できず崩壊してしまった。
耐水性および耐アルカリ性の評価試験の結果から明らか
な様に、本発明のケイ素含有スビロオルソカーボネート
から得られる重合物が耐水性、耐アノレカリ１生に優れ
る。
な様に、本発明のケイ素含有スビロオルソカーボネート
から得られる重合物が耐水性、耐アノレカリ１生に優れ
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 下記一般式（ I ）で示されるケイ素含有スピロオルソ
カーボネート化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼……（ I ） （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２はアルキル基、アラルキル基又
はアリール基、またＲ＾３、Ｒ＾４はアルキレン基を示
す。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23772189A JP2819665B2 (ja) | 1989-09-13 | 1989-09-13 | ケイ素含有スピロオルソカーボネート化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23772189A JP2819665B2 (ja) | 1989-09-13 | 1989-09-13 | ケイ素含有スピロオルソカーボネート化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0399086A true JPH0399086A (ja) | 1991-04-24 |
| JP2819665B2 JP2819665B2 (ja) | 1998-10-30 |
Family
ID=17019512
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23772189A Expired - Fee Related JP2819665B2 (ja) | 1989-09-13 | 1989-09-13 | ケイ素含有スピロオルソカーボネート化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2819665B2 (ja) |
-
1989
- 1989-09-13 JP JP23772189A patent/JP2819665B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2819665B2 (ja) | 1998-10-30 |
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