JPH04111210A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドの製造方法Info
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- JPH04111210A JPH04111210A JP22827790A JP22827790A JPH04111210A JP H04111210 A JPH04111210 A JP H04111210A JP 22827790 A JP22827790 A JP 22827790A JP 22827790 A JP22827790 A JP 22827790A JP H04111210 A JPH04111210 A JP H04111210A
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- Japan
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- head
- core
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- welding
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
この発明は、書込み読出し用磁気ギャップ（以下Ｒ／Ｗ
ギャップという）と消去用磁気ギャップ（以下Ｅギャッ
プという）とを備えた磁気ヘッドの製造方法に関する。
ギャップという）と消去用磁気ギャップ（以下Ｅギャッ
プという）とを備えた磁気ヘッドの製造方法に関する。
［従来の技術］
第７図は例えば特開昭６２−２７１２１４号公報等に示
された従来の磁気ヘッドの製造方法を工程順に示した斜
視図、第８図はその方法により製造されたＲ／Ｗギャッ
プ及びＥギャップ形成用磁気ヘッドコア（以下ベツドチ
ップという）を示す斜視図である。図において、（１）
（２）はＲ／Ｗギャップ（３）形成用の第１、第２の
コアブロック、（４）はＲ／Ｗギャップ幅を定めるため
に第１、第２のコアブロック（１） （２）に設けられ
る溝、（５） （６）はＥギャップ（７）形成用の第３
．第４のコアブロック、（８）はＥギャップ幅を定める
ために第３．第４のコアブロック（５） （６）に設け
られる溝、（９）は第１のコアブロック（１）と第２の
コアブロック（２）、及び第３のコアブロック（５）と
第４のコアブロック（６）をそれぞれ接合させる為の溶
着用ガラス、（１０）（１１）はそれぞれの接合によっ
てできた第１のヘットブロック及び第２のへッドブロソ
ク、（１２）はこれら第１、第２のヘットブロック（１
０）（１１）を接合するための溶着用ガラス、（１３）
は第１、第２のヘットブロック（１０）（１１）を接合
してできたヘッドブロック、（１４）はヘッドブロック
（１３）をスライス線（１５）でスライスして出来たヘ
ッドチップ、（１６） （１７）はこのヘッドチップ（
１４）のＲ／Ｗギャップ形成用のヘッドコア（以下第１
、第２のＲ／Ｗコアという）、（１８） （１９）はＥ
ギャップ形成用のヘッドコア（以下第１、第２のＥコア
という）である。
された従来の磁気ヘッドの製造方法を工程順に示した斜
視図、第８図はその方法により製造されたＲ／Ｗギャッ
プ及びＥギャップ形成用磁気ヘッドコア（以下ベツドチ
ップという）を示す斜視図である。図において、（１）
（２）はＲ／Ｗギャップ（３）形成用の第１、第２の
コアブロック、（４）はＲ／Ｗギャップ幅を定めるため
に第１、第２のコアブロック（１） （２）に設けられ
る溝、（５） （６）はＥギャップ（７）形成用の第３
．第４のコアブロック、（８）はＥギャップ幅を定める
ために第３．第４のコアブロック（５） （６）に設け
られる溝、（９）は第１のコアブロック（１）と第２の
コアブロック（２）、及び第３のコアブロック（５）と
第４のコアブロック（６）をそれぞれ接合させる為の溶
着用ガラス、（１０）（１１）はそれぞれの接合によっ
てできた第１のヘットブロック及び第２のへッドブロソ
ク、（１２）はこれら第１、第２のヘットブロック（１
０）（１１）を接合するための溶着用ガラス、（１３）
は第１、第２のヘットブロック（１０）（１１）を接合
してできたヘッドブロック、（１４）はヘッドブロック
（１３）をスライス線（１５）でスライスして出来たヘ
ッドチップ、（１６） （１７）はこのヘッドチップ（
１４）のＲ／Ｗギャップ形成用のヘッドコア（以下第１
、第２のＲ／Ｗコアという）、（１８） （１９）はＥ
ギャップ形成用のヘッドコア（以下第１、第２のＥコア
という）である。
次に、この磁気ヘッドの製造方法の各工程について説明
する。まず、第７図（ａ）で示すように、溝（４）の加
工が施された第１のコアブロック（１）と第２のコアブ
ロック（２）、及び溝（８）の加工が施された第３のコ
アブロック（５）と第４のコアブロック（６）が、それ
ぞれ溶着用ガラス（９）によって加熱接合され、第１の
ヘットブロック（１０）と第２のヘッドブロック（１１
）とが形成される。次に、第２のコアブロック（２）及
び第４のコアブロック（６）が所定の厚みに研磨加工さ
れる。その後、第７図（ｂ）で示すように、第１のヘッ
ドブロック（１０）と第２のヘッドブロック（１１）と
が溶着用ガラス（１２）によって加熱接合されヘットブ
ロック（１３）となる。次に第７図（ｃ）で示すように
、コ字状の第１のコアブロック（１）及び第３のコアブ
ロック（５）の下部が切取られ、最後にヘッドブロック
（１３）がスライス線（１５）でスライスされて、個々
のヘットチップ（１４）が得られる。このヘットチップ
（１４）の第１のＲ／Ｗコア（１６）にＲ／Ｗコイルが
、第１のＥコア（１８）にＥコイルが巻回され、各コア
（］ ６） （１７） （１８）（１９）のギャップと
反対側にバックコアが固着されて磁気ヘッドが完成する
。
する。まず、第７図（ａ）で示すように、溝（４）の加
工が施された第１のコアブロック（１）と第２のコアブ
ロック（２）、及び溝（８）の加工が施された第３のコ
アブロック（５）と第４のコアブロック（６）が、それ
ぞれ溶着用ガラス（９）によって加熱接合され、第１の
ヘットブロック（１０）と第２のヘッドブロック（１１
）とが形成される。次に、第２のコアブロック（２）及
び第４のコアブロック（６）が所定の厚みに研磨加工さ
れる。その後、第７図（ｂ）で示すように、第１のヘッ
ドブロック（１０）と第２のヘッドブロック（１１）と
が溶着用ガラス（１２）によって加熱接合されヘットブ
ロック（１３）となる。次に第７図（ｃ）で示すように
、コ字状の第１のコアブロック（１）及び第３のコアブ
ロック（５）の下部が切取られ、最後にヘッドブロック
（１３）がスライス線（１５）でスライスされて、個々
のヘットチップ（１４）が得られる。このヘットチップ
（１４）の第１のＲ／Ｗコア（１６）にＲ／Ｗコイルが
、第１のＥコア（１８）にＥコイルが巻回され、各コア
（］ ６） （１７） （１８）（１９）のギャップと
反対側にバックコアが固着されて磁気ヘッドが完成する
。
［発明が解決しようとする課題］
従来の磁気ヘッド製造方法では、第１のヘッドブロック
（１，０）と第２のヘッドブロック（１１）とが接合さ
れる前に、第２のコアブロック（２）及び第４のコアブ
ロック（６）が所定の厚みに研磨加工される場合、第９
図に示すように矢印方向に加工力（２ｏ）が加わるため
、第２のコアブロック（２）がそれの加工代（２′）が
取除かれて薄くなりその加工力（２０）により内側に撓
み逃げた状態で平面加工され。
（１，０）と第２のヘッドブロック（１１）とが接合さ
れる前に、第２のコアブロック（２）及び第４のコアブ
ロック（６）が所定の厚みに研磨加工される場合、第９
図に示すように矢印方向に加工力（２ｏ）が加わるため
、第２のコアブロック（２）がそれの加工代（２′）が
取除かれて薄くなりその加工力（２０）により内側に撓
み逃げた状態で平面加工され。
加工が終了して加工力（２０）がなくなった時逃げが復
帰し逆に外側に凸部（２１）が生じる。そのためコアブ
ロック（２）及び（６）の厚みが不均一となり、第１の
ヘッドブロック（１０）と第２のヘッドブロック（１１
）の接合精度が悪くなり、それから作られるヘッドチッ
プ（１４）のコアの強度が低下してクラックが発生しや
すくなるなどの問題点があった。
帰し逆に外側に凸部（２１）が生じる。そのためコアブ
ロック（２）及び（６）の厚みが不均一となり、第１の
ヘッドブロック（１０）と第２のヘッドブロック（１１
）の接合精度が悪くなり、それから作られるヘッドチッ
プ（１４）のコアの強度が低下してクラックが発生しや
すくなるなどの問題点があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、コアブロック加工後の平面度が向上し、ヘッ
ドブロックの接合精度がよく機械的強度が高い磁気ヘッ
ドが得られる磁気ヘットの製造方法を得ることを目的と
する。
たもので、コアブロック加工後の平面度が向上し、ヘッ
ドブロックの接合精度がよく機械的強度が高い磁気ヘッ
ドが得られる磁気ヘットの製造方法を得ることを目的と
する。
［課題を解決するための手段］
この発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、第１、第２の
ヘッドブロックの各一対のコアブロックをガラス溶着す
る工程における溶着用ガラスの址を、溶着後のガラスが
ヘットブロック接合面側のコアブロックの研磨加工面と
反対側の壁面全域を覆うよう増加させたものである。
ヘッドブロックの各一対のコアブロックをガラス溶着す
る工程における溶着用ガラスの址を、溶着後のガラスが
ヘットブロック接合面側のコアブロックの研磨加工面と
反対側の壁面全域を覆うよう増加させたものである。
［作 用］
この発明における磁気ヘッドの製造方法では、ヘッドブ
ロック接合面側のコアブロックが研磨加工される場合、
その研磨加工面と反対側の壁面全域を覆う溶着用ガラス
が補強材として働き、研磨加工力によるコアブロックの
内側への逃げがなくなり、研磨加工後の平面度が良好に
保たれる。
ロック接合面側のコアブロックが研磨加工される場合、
その研磨加工面と反対側の壁面全域を覆う溶着用ガラス
が補強材として働き、研磨加工力によるコアブロックの
内側への逃げがなくなり、研磨加工後の平面度が良好に
保たれる。
［実施例］
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第１
図はこの発明の一実施例による方法の第１、第２のヘッ
ドブロック接合迄の工程を工程順に示した斜視図、第２
図はこの実施例のヘッドブロック接合後の１工程を示す
側面図、第３図はこの実施例の方法により得られたヘッ
ドブロックを示す斜視図、第４図はそれの平面図、第５
図はこの実施例の方法により製造されたヘッドチップを
示す斜視図、第６図はこの実施例による方法のコアブロ
ック研磨加工工程を示す側面図である。
図はこの発明の一実施例による方法の第１、第２のヘッ
ドブロック接合迄の工程を工程順に示した斜視図、第２
図はこの実施例のヘッドブロック接合後の１工程を示す
側面図、第３図はこの実施例の方法により得られたヘッ
ドブロックを示す斜視図、第４図はそれの平面図、第５
図はこの実施例の方法により製造されたヘッドチップを
示す斜視図、第６図はこの実施例による方法のコアブロ
ック研磨加工工程を示す側面図である。
図において、（１）は第１のコアブロック、（２）は第
２のコアブロック、（２′）は第２のコアブロック（２
）の研磨加工代、（３）はＲ／Ｗギャップ、（４）はＲ
／Ｗギャップ幅形成形成用溝５）は第３のコアブロック
、（６）は第４のコアブロック、（７）はＥギャップ、
（８）はＥギャップ幅形成用溝、（１０）は第１のヘッ
ドブロック、（１１）は第２のヘッドブロック、（１２
）はヘッドブロック（１０） （１１）接合用溶着用ガ
ラス、（１３）はヘッドブロック、（１４）はヘッドチ
ップ。
２のコアブロック、（２′）は第２のコアブロック（２
）の研磨加工代、（３）はＲ／Ｗギャップ、（４）はＲ
／Ｗギャップ幅形成形成用溝５）は第３のコアブロック
、（６）は第４のコアブロック、（７）はＥギャップ、
（８）はＥギャップ幅形成用溝、（１０）は第１のヘッ
ドブロック、（１１）は第２のヘッドブロック、（１２
）はヘッドブロック（１０） （１１）接合用溶着用ガ
ラス、（１３）はヘッドブロック、（１４）はヘッドチ
ップ。
（１６）は第１のＲ／Ｗコア、（１７）は第２のＲ／Ｗ
コア、（１８）は第１のＥコア、（１９）は第２のＥコ
ア、（２０）は研磨加工力で、以上は従来と同様のもの
である。（２２）は第１、第２のコアブロック（１）（
２）及び第３、第４のコアブロック（５） （６）接合
用の溶着用ガラスで、従来の溶着用ガラス（９）よりは
多量で、溶着後第２．第４のコアブロック（２） （６
）の研磨面の反対側の壁面全域を覆うような址が用いら
れる。
コア、（１８）は第１のＥコア、（１９）は第２のＥコ
ア、（２０）は研磨加工力で、以上は従来と同様のもの
である。（２２）は第１、第２のコアブロック（１）（
２）及び第３、第４のコアブロック（５） （６）接合
用の溶着用ガラスで、従来の溶着用ガラス（９）よりは
多量で、溶着後第２．第４のコアブロック（２） （６
）の研磨面の反対側の壁面全域を覆うような址が用いら
れる。
次に、この実施例による方法の各工程について説明する
。まず、第１図（ａ）（ｂ）で示すように、溝（４）の
加工が施された第１のコアブロック（１）と第２のコア
ブロック（２）が多量の溶着用ガラス（９）によって加
熱接合され、この両コアブロック（１）（２）によって
形成される空所全体が溶着用ガラス（９）で殆ど埋めつ
くされる。その後第６図に示すように第２のコアブロッ
ク（２）の外側面が研磨され、加工代（２′）が除かれ
所定の厚み迄加工されて第１のヘッドブロック（１０）
が得られる。同様にして、溝（８）の加工が施された第
３のコアブロック（５）と第４のコアブロック（６）が
多量の溶着用ガラス（９）によって加熱接合され、第４
のコアブロック（６）が所定の厚みに研磨加工されて第
２のヘッドブロック（１１）が得られる。その後、第１
図（ｃ）（ｄ）に示すように、第１のヘッドブロック（
１０）と第２のヘッドブロック（１１）とが溶着用ガラ
ス（１２）によって加熱接合されヘッドブロック（１３
）となる。
。まず、第１図（ａ）（ｂ）で示すように、溝（４）の
加工が施された第１のコアブロック（１）と第２のコア
ブロック（２）が多量の溶着用ガラス（９）によって加
熱接合され、この両コアブロック（１）（２）によって
形成される空所全体が溶着用ガラス（９）で殆ど埋めつ
くされる。その後第６図に示すように第２のコアブロッ
ク（２）の外側面が研磨され、加工代（２′）が除かれ
所定の厚み迄加工されて第１のヘッドブロック（１０）
が得られる。同様にして、溝（８）の加工が施された第
３のコアブロック（５）と第４のコアブロック（６）が
多量の溶着用ガラス（９）によって加熱接合され、第４
のコアブロック（６）が所定の厚みに研磨加工されて第
２のヘッドブロック（１１）が得られる。その後、第１
図（ｃ）（ｄ）に示すように、第１のヘッドブロック（
１０）と第２のヘッドブロック（１１）とが溶着用ガラ
ス（１２）によって加熱接合されヘッドブロック（１３
）となる。
それから、第２図（ａ）（ｂ）で示すように、コ字状の
第１、第３のコアブロック（１） （５）及び溶着用ガ
ラス（１２）が同図（ａ）の破線部を取除く溝加工が施
され、コイル挿入用溝（２３） （２４）が形成される
。その後、第３図、第４図に示すように、ヘッドブロッ
ク（１３）がスライス線（１５）でスライスされて、個
々のヘッドチップ（１４）が得られる。最後にこのヘッ
ドチップ（１４）の第１のＲ／Ｗコア（１６）にＲ／Ｗ
コイルが、第１のＥコア（１８）にＥコイルが巻回され
、各コア（１６） （１７） （１８） （１９）のギ
ャップと反対側にバックコアが固着されて磁気ヘッドが
完成する。
第１、第３のコアブロック（１） （５）及び溶着用ガ
ラス（１２）が同図（ａ）の破線部を取除く溝加工が施
され、コイル挿入用溝（２３） （２４）が形成される
。その後、第３図、第４図に示すように、ヘッドブロッ
ク（１３）がスライス線（１５）でスライスされて、個
々のヘッドチップ（１４）が得られる。最後にこのヘッ
ドチップ（１４）の第１のＲ／Ｗコア（１６）にＲ／Ｗ
コイルが、第１のＥコア（１８）にＥコイルが巻回され
、各コア（１６） （１７） （１８） （１９）のギ
ャップと反対側にバックコアが固着されて磁気ヘッドが
完成する。
以上のように、この方法では各コアブロック接合用の溶
着用ガラス（２２）の量が多く、第２、第４のコアブロ
ック（２） （６）の研磨面の反対側の壁面全域を覆う
ようなされているので、第６図に示すように、加工力（
２０）が加わっても内側への逃げが生ぜず、加工面は精
度よく加工される。
着用ガラス（２２）の量が多く、第２、第４のコアブロ
ック（２） （６）の研磨面の反対側の壁面全域を覆う
ようなされているので、第６図に示すように、加工力（
２０）が加わっても内側への逃げが生ぜず、加工面は精
度よく加工される。
上記実施例では、第１のヘッドブロック（１０）と第２
のヘッドブロック（１１）を溶着用ガラス（１２）を用
いて接合した場合について説明したが、接合に接着剤ガ
ラスの流し込みの手段を用いるようにしてもよい。
のヘッドブロック（１１）を溶着用ガラス（１２）を用
いて接合した場合について説明したが、接合に接着剤ガ
ラスの流し込みの手段を用いるようにしてもよい。
［発明の効果コ
以上のようにこの発明によれば、第１．第２のヘッドブ
ロックの各一対のコアブロックをガラス溶着する工程に
おける溶着用ガラスの量を、溶着後のガラスがヘッドブ
ロック接合面側のコアブロックの研磨加工面と反対側の
壁面全域を覆うよう増加させたので、第２．第４のコア
ブロックをより薄くまで精度よく加工でき、ヘッドブロ
ックの接合精度がよく、機械的強度が大でコアの破損が
少ないヘッドチップが高い歩留りで得られる効果がある
。
ロックの各一対のコアブロックをガラス溶着する工程に
おける溶着用ガラスの量を、溶着後のガラスがヘッドブ
ロック接合面側のコアブロックの研磨加工面と反対側の
壁面全域を覆うよう増加させたので、第２．第４のコア
ブロックをより薄くまで精度よく加工でき、ヘッドブロ
ックの接合精度がよく、機械的強度が大でコアの破損が
少ないヘッドチップが高い歩留りで得られる効果がある
。
第１図（ａ）〜（ｄ）はこの発明の一実施例による方法
の第１、第２のヘッドブロック接合迄の工程を工程順に
示した斜視図、第２図（ａ）（ｂ）はこの実施例のヘッ
ドブロック接合後の１工程を示す側面図、第３図はこの
実施例の方法により得られたヘッドブロックを示す斜視
図、第４図はそれの平面図、第５図はこの実施例の方法
により製造されたヘッドチップを示す斜視図、第６図は
この実施例による方法のコアブロック研磨加工工程を示
す側面図、第７図（ａ）〜（ｃ）は従来の磁気ヘッドの
製造方法を工程順に示した斜視図、第８図はその方法に
より製造されたヘッドチップを示す斜視図、第９１図は
この方法のコアブロック研磨加工工程を示す側面図であ
る。 図において、（１）は第１のコアブロック、（２）は第
２のコアブロック、（３）はＲ／Ｗギャップ（書込み読
出し用磁気ギャップ）、（５）は第３のコアブロック、
（６）は第４のコアブロック、（７）はＥギャップ（消
去用磁気ギャップ）、（ｉｏ）は第１のヘッドブロック
、（１１）は第２のヘッドブロック、 （１２）はヘッ
ドブロック接合用溶着用ガラス、（１３）はヘッドブロ
ック、（１４）はヘッドチップ（磁気ヘッドコア）、（
２２）はコアブロック接合用の溶着用ガラスである。 なお１図中同一筒号は同−又は相当部分を示す。 第 １ （ａ） 第 図 （ａ） （ｂ） 第 図 第 図 第 図 第 図 （Ｃ）
の第１、第２のヘッドブロック接合迄の工程を工程順に
示した斜視図、第２図（ａ）（ｂ）はこの実施例のヘッ
ドブロック接合後の１工程を示す側面図、第３図はこの
実施例の方法により得られたヘッドブロックを示す斜視
図、第４図はそれの平面図、第５図はこの実施例の方法
により製造されたヘッドチップを示す斜視図、第６図は
この実施例による方法のコアブロック研磨加工工程を示
す側面図、第７図（ａ）〜（ｃ）は従来の磁気ヘッドの
製造方法を工程順に示した斜視図、第８図はその方法に
より製造されたヘッドチップを示す斜視図、第９１図は
この方法のコアブロック研磨加工工程を示す側面図であ
る。 図において、（１）は第１のコアブロック、（２）は第
２のコアブロック、（３）はＲ／Ｗギャップ（書込み読
出し用磁気ギャップ）、（５）は第３のコアブロック、
（６）は第４のコアブロック、（７）はＥギャップ（消
去用磁気ギャップ）、（ｉｏ）は第１のヘッドブロック
、（１１）は第２のヘッドブロック、 （１２）はヘッ
ドブロック接合用溶着用ガラス、（１３）はヘッドブロ
ック、（１４）はヘッドチップ（磁気ヘッドコア）、（
２２）はコアブロック接合用の溶着用ガラスである。 なお１図中同一筒号は同−又は相当部分を示す。 第 １ （ａ） 第 図 （ａ） （ｂ） 第 図 第 図 第 図 第 図 （Ｃ）
Claims (1)
- 一対のコアブロックにより書込み読出し用磁気ギャップ
を形成しガラス溶着して第１のヘッドブロックを得る工
程と、他の一対のコアブロックにより消去用磁気ギャッ
プを形成しガラス溶着して第２のヘッドブロックを得る
工程と、これら工程で得られた第１、第２のヘッドブロ
ックの接合面側のコアブロックの一面を研磨加工する工
程と、これら第１、第２のヘッドブロックをそれらの研
磨加工面において接合する工程と、この工程で接合され
たヘッドブロックを切断し磁気ヘッドコアを得る工程と
を有する磁気ヘッドの製造方法において、上記第１、第
２のヘッドブロックの各一対のコアブロックをガラス溶
着する工程における溶着用ガラスの量を、溶着後のガラ
スが上記接合面側のコアブロックの研磨加工面と反対側
の壁面全域を覆うよう増加させたことを特徴とする磁気
ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22827790A JPH04111210A (ja) | 1990-08-31 | 1990-08-31 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22827790A JPH04111210A (ja) | 1990-08-31 | 1990-08-31 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04111210A true JPH04111210A (ja) | 1992-04-13 |
Family
ID=16873960
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22827790A Pending JPH04111210A (ja) | 1990-08-31 | 1990-08-31 | 磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04111210A (ja) |
-
1990
- 1990-08-31 JP JP22827790A patent/JPH04111210A/ja active Pending
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