JPH04141202A - 架橋高分子粒子含有水スラリーの乾燥方法 - Google Patents

架橋高分子粒子含有水スラリーの乾燥方法

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JPH04141202A
JPH04141202A JP2260885A JP26088590A JPH04141202A JP H04141202 A JPH04141202 A JP H04141202A JP 2260885 A JP2260885 A JP 2260885A JP 26088590 A JP26088590 A JP 26088590A JP H04141202 A JPH04141202 A JP H04141202A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野] 本発明は、ポリエステルに添加する架橋高分子粒子の乾
燥方法に関する。
〔従来の技術および発明が解決しようとする課B]ポリ
エステルとりわけポリエチレンテレフタレートに代表さ
れる二軸配向フィルムは、優れた物理的および化学的特
性を有し、磁気記録媒体のベースフィルムやコンデンサ
ーの誘電体として賞用されている。また、その優れた透
明性を活用してグラフィックアーツ、デイスプレーおよ
び包材等の分野に広く用いられている。近年、これらの
各用途において高級志向が著しくなり、フィルム表面が
均一で粗大突起の無いことが強く望まれるようになった
一般にフィルムの走行性を改良するためには、フィルム
の表面を適度に粗面化すれば良いことが分かっている。
そして、このことを達成するために、原料ポリエステル
中に有機粒子、例えば単分散性の架橋高分子粒子を存在
させる方法が、一部、実用化されている。
一般に架橋高分子粒子は、水媒体を用゛いた乳化重合法
により水スラリーとして得られるため、該粒子をポリエ
ステルに添加する場合は、水を取り除きエチレングリコ
ールスラリーとする必要がある。
一般に水を除去する方法としては、エバポレーターによ
り加熱、減圧下で水を除去しエチレングリコールに置換
する方法、あるいは、いわゆるスプレードライヤーによ
り粒子を乾燥する方法等があるが、エバポレーターによ
る水分除去は効率的でない上、長時間熱がかかるために
粒子の形態、性質に悪影響を及ぼす。スプレードライヤ
ーによる乾燥は、その熱風処理により、有機粒子の場合
にはしばしば粒子同士融着し、エチレングリコール中で
の分散が困難となる。
従って、水スラリーの乾燥方法として、無機粒子に一般
に適用されている条件を採用して得られた有機粒子をポ
リエステルフィルムに配合した場合は、該粒子の凝集が
原因でしばしばフィルム表面に粗大突起が存在し、かか
るフィルムを磁気記録用として用いた場合は電磁交換特
性の悪化やドロップアウトの多発を引き起こしてしまう
〔課題を解決するための手段〕
本発明者らは、上記実情に鑑み、鋭意検討を重ねた結果
、架橋高分子粒子を含有する水スラリーを乾燥するに際
し、粒子に対しある特定量の水を残存させるよう乾燥を
行うならば、エチレングリコール中での分散性に優れ、
ポリエステルフィルム添加用粒子として極めて優れた特
性が得られることを知見し、本発明を完成するに至っ・
た。
すなわち、本発明の要旨は、−成粒径が0.05〜3μ
mである架橋高分子粒子を0.5〜20重量%含有する
水スラリーを噴霧乾燥機で乾燥するに際し、乾燥後の粒
子の含水率が2〜15重量%となるよう乾燥することを
特徴とする架橋高分子粒子を含有する水スラリーの乾燥
方法に存する。
以下、本発明をさらに詳細に説明する。
本発明の架橋高分子粒子を配合するポリエステルとは、
テレフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸のよう
な芳香族ジカルボン酸またはそのエステルと、エチレン
グリコールを主たる出発原料として得られるポリエステ
ルを指すが、他の第三成分を含有していても構わない。
ジカルボン酸成分としては、例えばイソフタル酸、テレ
フタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、アジピン
酸およびセバシン酸等の一種以上を用いることができる
。また、グリコール成分としては、ジエチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ブタンジオール、1.4−
シクロヘキサンジメタツールおよびネオペンチルグリコ
ール等の一種以上を用いることができる。いずれにして
も、本発明でいうポリエステルとは繰り返し構造単位の
80%以上がエチレンテレフタレート単位またはエチレ
ン−2,6−ナフタレート単位を有するポリエステルを
指す。また、かかるポリエステルを少なくとも一軸に配
向させてポリエステルフィルムを製造することができる
が、その製造方法としては公知の方法を用いることがで
きる。
例えば、通常270〜320℃でシート状に溶融押出し
した後、40〜80°Cで冷却固化し、無定形シートと
した後、80〜130°Cで縦、横方向に面積倍率で4
〜20倍となるよう逐次あるいは二輪延伸し、160〜
250°Cで熱処理する方法(例えば特公昭30−56
39号公報記載の方法)を利用することができる。縦お
よび横方向に延伸するに際しては、各−段で延伸しても
よいし、必要に応し多段で延伸したり、多段延伸の間に
配向緩和のための熱処理区間を設けたりすることもでき
る。また、二輪延伸後、次工程の熱処理工程に供する前
に再度延伸してもよい。この再延伸は縦横いずれの方向
に行うこともできるし、また両方向に行ってもよい。
本発明で用いる架橋高分子粒子の製造方法は特に限定さ
れないが、典型的な例としては、分子中に唯1個の脂肪
族の不飽和結合を有するモノビニル化合物(A)の一種
以上と、架橋剤として分子中に2個以上の脂肪族の不飽
和結合を有する化合物(B)の一種以上を用い、いわゆ
る乳化重合法を適用する方法を挙げることができる。
ここでいう乳化重合法とは、ソープフリー乳化重合やシ
ード乳化重合等の概念も包括した広義の乳化重合を指す
。なお単分散の架橋高分子粒子を得るに際して用いる化
合物(A)としてはアクリル酸、メタクリル酸およびこ
れらのアルキルまたはグリシジルエステル、無水マレイ
ン酸およびそのアルキル誘導体、ビニルグリシジルエー
テル、酢酸ビニル、スチレン、アルキル置換スチレン等
を挙げることができる。また化合物(B)としてはジビ
ニルベンゼン、ジビニルスルホン、エチレングリコール
ジメタクリレート等を挙げることができる。化合物(A
)および(B)は各一種類以上用いるが、窒素原子を有
する化合物やエチレンを共重合させてもよい。
本発明において用いる架橋高分子粒子の平均粒径は、ポ
リエステルフィルム添加用として通常用いられる0、0
5〜3μmの範囲であり、好ましくは0.1〜1μmの
範囲である。
なお、−成粒子の平均粒径が0.05μm未満ではかか
る粒子を添加したフィルムの走行性が不十分となるし、
また、3μmを超えるとフィルムの表面粗度が大きくな
り過ぎ好ましくない。
本発明において用いる架橋高分子の大粒子側から積算し
た積算重量が25%における粒径(dis)と粒子の積
算重量が75%における粒径(dys)の比〔d□/d
Tsl値は、通常167以下であり、好ましくは1.6
以下、さらに好ましくは1.5以下である。この値が1
.7を超えると均一なフィルム表面が得られないので好
ましくない。また、粒子は多孔質であってもそうでなく
てもよいが前者のほうがポリエステルとの親和性により
優れているので好ましい。
本発明における架橋高分子粒子製造の一態様をより具体
的に示すと次の通りである。
すなわち、水を主体とする媒体中に水溶性の重合開始剤
である過酸化水素、過硫酸カリウム等の開始剤を所定量
溶解した後、所定量の化合物(A)および(B)の混合
溶液を添加する。しかる後、重合開始剤の分解開始温度
以上、好ましくは30〜90°Cで攪拌下3〜10時間
程度の反応を行う。
その際、七ツマー組成によっては、一部、凝集粒子が生
成する場合もあるので、この場合は粒子の分散安定性を
保持するため乳化剤等の分散安定剤を添加すると良い。
いずれにしても生成粒子は均一に分散した水スラリーと
して得られる。
本発明においては、かかる水スラリーの乾燥方法として
、一般にスプレードライヤーと呼ばれている噴霧乾燥機
を用いる方法を採用する。かかる方法は、水スラリーを
霧状にして、熱風中、水を蒸発させ、乾燥した粒子を得
る方法であるが、通常、粒子を二次凝集体にしてサイク
ロンで捕集する装置が付属している。水スラリーを霧状
にする方法としては、高速回転する円盤の上に水スラリ
ーを液滴として落とし霧状にするディスクタイプと、小
さな隙間より高い圧力の空気と水スラリーを同時に出す
ことにより水スラリーを霧状にするノズルタイプとがあ
るがどちらを用いてもよい。
本発明においては、噴霧乾燥機に供給する水スラリーの
粒子濃度は0.5〜20重量%、好ましくは1〜15重
量%とする。この値が0.5重量%未満では熱的損失が
大きく経済的ではないし、また、20重量%を超えると
しばしば乾燥が不均一となり、粒子同士の融着が生じる
ようになる。
本発明における最大の特徴はかかる方法により乾燥した
粒子の含水率を2〜15重量%、好ましくは3〜13重
量%、さらに好ましくは4〜10重量%となるように乾
燥する点にある。粒子中の含水率が2重量%未満である
と噴霧乾燥機で乾燥する際の熱風のため、架橋高分子粒
子の表面が一部溶融し、粒子同士が融着して凝集体を形
成してしまう。この凝集体はエチレングリコール中で分
散させることが困難あるいは不可能となる。粒子中の含
水率が15重量%を趙えるように乾燥させた場合は、分
散性は良いものの、装置への粒子の付着が多くなり収率
が悪くなったり、エチレングリコール中の水分量が多く
なり、ポリエステルに添加した際、突沸や粒子の凝集を
引き起こしてしまうので好ましくない。
なお、本発明においては、かかる適度な水分を含有した
粒子を一次粒子がいくつか緩やかに凝集した二次粒子の
状態として捕集し、次いで分級処理を施し、所望の粒径
の粒子を得ることが好ましい。
本発明の方法により得られる架橋高分子粒子をフィルム
に添加する場合、配合量は、通常、0.01〜4重量%
、好ましくは0.05〜0.8重量%の範囲である。配
合量が0.01重量%未満ではフィルムの滑り性が不十
分であるし、逆に4重量%を超えるとフィルムの表面粗
度が大きくなり過ぎ、電磁気特性が低下するので好まし
くない。
なお、本発明で得られる乾燥架橋高分子粒子壱製膜原料
のポリエステルに配合する方法は、該刺子をエチレング
リコールスラリー分散体として寸すエステル製造工程の
いずれかの段階、好ましくはエステル化もしくはエステ
ル交換反応終了後、重縮合反応開始前の段階で添加し重
縮合反応を進めると良い。この場合、該粒子のエチレン
グリコールスラリー中の濃度は通常1〜30重量%の範
囲から選ばれる。また、スラリーの分散方法として、例
えば超音波分散処理の外、ロッドミル、ボールミル、振
動ロッドミル、振動ボールミル、ローラーミル、インパ
クトミル、攪拌破砕ミル、流体エネルギーミル等が用い
られる。
本発明の架橋高分子粒子を添加したポリエステルフィル
ムは、特に粗大突起の無い均一な表面を生かし、例えば
磁気テープ、フロッピーディスクをはじめとする磁気記
録媒体のベースフィルムとして、また、コンデンサー用
、写真製版用、感熱転写用、包装用、転写マーク用、金
銀糸用等の種々の分野のベースフィルムとして極めて有
用である。
〔実施例〕 以下、本発明を実施例に挙げてさらに詳細に説明するが
、本発明は、その要旨を越えない限り以下の実施例によ
って限定されるものではない。なお、実施例における種
々の物性および特性の測定方法、定義は下記の通りであ
る。実施例および比較例中「部」とあるは「重量部」を
示す。
(1)  平均粒径および粒度分布 島津製作所昧製遠心沈降式粒度分布測定装置(SA−C
Pa型)で測定した等偏球形分布における積算重量分率
50%における粒径を平均粒径とした。同時に大粒子側
から積算した場合に、粒子の積算重量が25%における
粒径(dgs)と粒子の積算重量が75%における粒径
(dys)の比(d ts/ d 75 〕値を粒度分
布の比とした。
(2)粒子中の含水率 水分測定装置(三菱化成■製 モデルCA−06型)を
用いて乾燥粒子中の含水率を求めた。
(3)濾過性テスト フィルターとして、金網タイプのフィルター(メツシュ
#3600、公称口開き5μm)を用いて、以下に示す
一定条件のもとで、エチレングリコールスラリーを吸引
濾過し、濾過速度(一定量のスラリーを濾過するのに要
する時間)あるいはフィルターの閉塞の程度からスラリ
ーの濾過性を評価した。
条件 (4)最大突起高さ 小板研究所■製 表面粗さ測定器(SE−3F)によっ
て得られた断面曲線から、基準長さ(2,5m)だけ抜
き取った部分(以下、抜き取り部分という)をその中心
線に平行な2直線で挟み、この2直線の間隔を測定して
その値をマイクロメートル(μm)単位で表わしたもの
を抜き取り部分の最大高さとした。最大高さは、試料フ
ィルム断面10本の断面曲線を求め、これらの断面曲線
がら求めた拭き取り部分の最大高さの平均値で表わした
。なお、使用した触針の半径は、2.0μm、荷重30
■でカットオフ値は、0.08である。
(5)粗大突起数 フィルム表面にアルミニウムを蒸着し、三光束干渉顕微
鏡を用いて測定した。測定波長は0.54μmで3次以
上の干渉縞を示す個数を10cia当たりに換算して示
した。
(6)走行性 固定した硬質クロムメツキ金属ロール(直径611Il
)にフィルムを巻き付は角(θ)135”で接触させ、
53g(Tz)の荷重を一端にがけて、1m/minの
速度でこれを走行させ他端の抵抗力(Tl+g))を測
定し、次式により走行中の摩擦係数(μd)を求めた。
l     T IT 。
μd=    in    =0.4244!nθ  
  T2        53 実施例1 〔架橋高分子粒子の製造] 脱塩水1000部に水溶性重合開始剤の過硫酸カリウム
5.0部と分散安定剤としてラウリル硫酸ナトリウム0
.004部を添加し均一に溶解させた後、スチレン80
部、ジビニルベンゼン20部の混合溶液を加えた。次い
で窒素ガス雰囲気下で攪拌しながら70℃で8時間重合
反応を行った。反応率は98%で、得られた粒子の平均
粒径は0.60 u m、 d zs/ d 、s値は
1.32であった。また、得られた水スラリーの粒子濃
度は9重量%であった。
〔架橋高分子粒子の乾燥〕
得られた架橋高分子粒子の水スラリーを噴霧乾燥機(ア
シザワ・ニロアトマイザー■製モデル:モービルマイナ
ー)を用いて以下の条件で乾燥した。
条件 乾燥粒子の出口温度は55°Cで、得られた粒子の含水
率は8.4重量%であった。
〔架橋高分子粒子のエチレングリコールへの分散〕得ら
れた乾燥粒子10部をエチレングリコール90部に加え
、ホモミキサー(特殊機化工業■製モデル:T、に、ホ
モミキサーSO型)を用い、1000回転で30分間攪
拌した後、超音波分散機(日本精機■製モデルUS  
300 20kHz)を用いて60分間分散処理を行っ
た。得られたスラリーの分散性は良好であった。
〔ポリエステルの製造〕
ジメチルテレフタレート100部、エチレングリコール
60部および酢酸マグネシウム4水塩0゜09部を反応
器にとり、加熱昇温するとともにメタノールを留去して
エステル交換反応を行い、反応開始から4時間を要して
230 ’Cまで昇温し、実質的にエステル交換反応を
終了させた。次いで、上記スラリー6部を添加した後、
エチルアシッドホスフェート0.04部を添加し、さら
に三酸化アンチモン0.04部を加えて5時間重縮合反
応を行い、極限粘度0.65のポリエチレンテレフタレ
ートを得た。得られたポリエステルを乾燥後、290°
Cで溶融押出し、無定形シートとした後、縦方向に11
0°Cで3.5倍、横方向に120°Cで3.7倍延伸
し、210°Cで3秒間熱処理を行い、厚さ15μのフ
ィルムを得た。
実施例2 実施例1において、噴霧乾燥機の乾燥条件中、架橋高分
子粒子の水スラリー供給量を3.6f/hrに変えた外
は実施例1と同様にして乾燥粒子を得、実施例1の方法
に従ってフィルムを製造し、その特性を測定した。
実施例3 実施例1において、噴霧乾燥後の乾燥条件中、入り口温
度を300°C1架橋高分子粒子の水スラリー供給量を
5.21. / h rに変えた外は実施例1と同様に
して乾燥粒子を得、実施例1の方法に従ってフィルムを
製造し、その特性を測定した。
実施例4 実施例1において、架橋高分子粒子の製造時の千ツマー
組成をメチルメタクリレート20部、エチレングリコー
ルジメタクリレート60部、ジビニルベンゼン20部、
重合開始剤の過硫酸カリウム1部に変えた外は実施例1
と同様にして架橋高分子粒子を製造した。反応率は98
%で得られた粒子の平均粒径は0.35 p m、  
d zs/ d ts値は1゜27であり、水スラリー
の粒子濃度は9重量%であった。得られた粒子を実施例
1と同様にして乾燥し、実施例1の方法に従ってフィル
ムを製造し、その特性を測定した。
実施例5 実施例4において、噴霧乾燥機の乾燥条件中、架橋高分
子粒子の水スラリー供給量を5.2f/hrに変えた外
は実施例1と同様にして乾燥粒子を得、実施例1の方法
に従ってフィルムを製造し、その特性を測定した。
比較例1 実施例1において、噴霧乾燥機による乾燥に変え、架橋
高分子粒子の水スラリー110部中にエチレングリコー
ルを90部加え、加熱、減圧下エバポレーターで水を除
去した。得られたスラリーを用い実施例1と同様にして
フィルムを得、その特性を測定した。
比較例2 実施例1において、噴霧乾燥機の乾燥条件中、入り口温
度を300°C1架橋高分子粒子の水スラリー供給量を
2.81 / h rに変えた外は実施例1と同様にし
て乾燥粒子を得、実施例1の方法に従ってフィルムを製
造し、その特性を測定した。
比較例3 実施例1において、噴霧乾燥機の乾燥条件中、入り口温
度を200 ’C1架橋高分子粒子の水スラリー供給量
を5.21 / h rに変えた外は実施例1と同様に
して乾燥粒子を得、実施例1の方法に従ってフィルムを
製造し、その特性を測定した。
比較例4 実施例1において、架橋高分子粒子の製造時のモノマー
組成をスチレンを240部、ジビニルベンゼンを60部
、重合開始剤の過硫酸カリウムを12部、ラウリル硫酸
ナトリウムを0.012部に変えた外は実施例1と同様
にして架橋高分子粒子を製造した。反応率は97%で得
られた粒子の平均粒径は0.70 μm、 d zs/
 d ts値は1.36であり、得られた水スラリーの
粒子濃度は23重量%であった。得られた水スラリーを
用い、実施例1と同様にして粒子を乾燥し、実施例1の
方法に従って、かかる粒子を含有するフィルムを得、そ
の特性を測定した。
以上、得られた結果をまとめて下記表1に示す。
〔発明の効果] 本発明の方法により得られる架橋高分子粒子は、優れた
分散性を有するものであり、ポリエステル添加用として
有用であり、その工業的価値は高い。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一次粒径が0.05〜3μmである架橋高分子粒
    子を0.5〜20重量%含有する水スラリーを噴霧乾燥
    機で乾燥するに際し、乾燥後の粒子の含水率が2〜15
    重量%となるよう乾燥することを特徴とする架橋高分子
    粒子含有水スラリーの乾燥方法。
JP2260885A 1990-09-29 1990-09-29 架橋高分子粒子含有水スラリーの乾燥方法 Expired - Fee Related JPH0628683B2 (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1020501A3 (en) * 1999-01-18 2004-01-07 Kabushiki Kaisha Toshiba Aqueous chemical mechanical polishing dispersion composition, wafer surface polishing process and manufacturing process of a semiconductor device
JP2004160309A (ja) * 2002-11-11 2004-06-10 Nippon Boron:Kk 微小物質分離乾燥方法および装置

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EP1020501A3 (en) * 1999-01-18 2004-01-07 Kabushiki Kaisha Toshiba Aqueous chemical mechanical polishing dispersion composition, wafer surface polishing process and manufacturing process of a semiconductor device
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