JPH0416434Y2 - - Google Patents

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JPH0416434Y2
JPH0416434Y2 JP7118486U JP7118486U JPH0416434Y2 JP H0416434 Y2 JPH0416434 Y2 JP H0416434Y2 JP 7118486 U JP7118486 U JP 7118486U JP 7118486 U JP7118486 U JP 7118486U JP H0416434 Y2 JPH0416434 Y2 JP H0416434Y2
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JP
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tank
sulfuric acid
semiconductor
steam
workbench
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JP7118486U
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Description

【考案の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この考案は半導体のパツケージに溶解液を噴射
してチツプを露出させる半導体のオープナー装置
に関するものである。
[従来の技術] 従来、半導体(I,C)の不良解析時、又は品
質チエツクを行なう際に、半導体のパツケージに
溶解液、例えば加熱した熱硫酸を当ててチツプを
露出させる手段がとられている。
半導体のパツケージは作業台のセツト部に載置
され、噴射ノズルより噴射された熱硫酸が前記パ
ツケージに当るようになつている。
熱硫酸が噴射されている作動時において、作業
台はフードによつてカバーされた構造となつてい
る。
[考案が解決しようとする問題点] 前記した如くオープナー装置は、チツプを露出
させる溶解液として沸点近くまで加熱した熱硫酸
を使用する所から作業中は半導体開口部の溶解槽
内に多数の蒸気が発生する。発生した蒸気は作業
終了後、フードを開けて作業台より半導体を取外
す時に作業台から逃げるようになり、その蒸気を
作業者が吸い込む恐れがあつた。このため作業者
の健康管理面においてのぞましくなかつた。
そこで、この考案は半導体の交換時に作業者が
蒸気を吸うことがないようにした半導体のオープ
ナー装置を提供することを目的としている。
[問題点を解決するための手段] 前記目的を達成するために、この考案にあつて
は、開閉可能なフードによつて作業台がカバーさ
れる半導体開口部を備えたオープナー装置におい
て、前記作業台に、該半導体開口部で発生した蒸
気を外部へ誘導する蒸気抜き管を設け、該蒸気抜
き管に、前記フードの「開」でオンとなる吸引装
置を接続してある。
[作用] かかるオープナー装置において、作業終了後に
フードを開とすると吸引装置が働き蒸気は蒸気抜
き管によつて外部へ誘導される。このため、作業
台より半導体を取外す時に作業者が蒸気を吸い込
む恐れがなくなる。
[実施例] 以下、第1図乃至第3図の図面を参照しながら
この考案の一実施例を詳細に説明する。
第1図は装置全体の概略図を示しており、該装
置は、貯蔵タンク部1と、予熱ヒータ部3と、半
導体開口部5と、排液冷却部7と、排液貯留タン
ク部9とを備えており、これらは機体内に配置さ
れている。
貯蔵タンク部1のタンク本体11は耐酸性の合
成樹脂材で形成され、上部に常時閉状態の第1電
磁弁13が設けられている。また、タンク本体1
1は常時閉状態の第2電磁弁15を介して予熱ヒ
ータ部3のヒータタンク17と連通し、ヒータタ
ンク17は前記タンク本体11より低い位置に配
置されている。これにより、タンク本体11内の
硫酸が落差でヒータタンク17内に送り込まれる
ようになつている。
ヒータタンク17は後述するエアーポンプ25
からの空気圧(エア圧)が作用することでタンク
17内の硫酸が強制的に送り出されるもので、該
タンク17には温度センサ19によつてタンク1
7内の硫酸が約250℃に管理制御されるニクロム
線等の熱源部21が設けられている。
第1、第2電磁弁13,15はヒータタンク1
7内に設けられた硫酸の有無を検知する液面セン
サ23によつて開閉自在に制御され、ヒータタン
ク17内の硫酸が空になつたことを前記液面セン
サ23が検知すると開になる。これにより、タン
ク本体11は大気に解放される一方、タンク本体
11内の硫酸が落差でヒータタンク17内に流れ
込むようになる。
エアーポンプ25は所望の駆動手段によつて駆
動され、該ポンプ25の吐出側に第3、第4、第
5電磁弁27,29,30が直列に設けられてい
る。
第3、第4、第5電磁弁27,29,30は取
入口となるポートPの外にノーマルクローズのポ
ートP1とノーマルオープンのポートP2を有する
3方弁となつていて第5電磁弁30のポートP2
はエア管31と連通しポートP1は遊んでいる。
なお、エア管31には後述する溶解槽41内の
蒸気を排液貯留タンク部9へ逃がす常時開の第7
電磁弁53と、前記第5電磁弁30のポートP2
と連通のエア取入口37と、凝縮した硫酸を溶解
槽41へ戻すバイパス通路55が設けられてい
る。
第4電磁弁29は後述する電極センサ49から
の指令信号によつて切換制御され、ポートPは第
3電磁弁27のポートP2と連通し、ポートP1
前記第5電磁弁30のポートPと連通している。
また、第4電磁弁29のポートP2はヒータタン
ク17と連通している。
第3電磁弁27は後述するフード61の「開」
で切換制御される。ヒータタンク17に設けられ
た第6電磁弁38は常時は開で、ヒータタンク1
7内の蒸気を排液貯留センサ部9へ逃がすよう機
能すると共に温度センサ19及び後述する液面セ
ンサ45の信号で閉に制御される。これにより空
気圧がヒータタンク17内に作用するようにな
る。
なお、前記温度センサ19は硫酸が約250℃以
下の場合はスタートスイツチを作動してもスター
トの指令信号が出力するのを押える機能を備えて
いる。
一方、半導体開口部5は、DIPタイプの半導体
Wをセツトする作業台39と、該作業台39の下
位に配置された溶解液41と、前記半導体Wのパ
ツケージに硫酸を噴射するポンプ43とから成
り、溶解槽41は前記ヒータタンク17と連通し
ている。
溶解槽41には液面センサ45と、温度センサ
47と電極センサ49がそれぞれ設けられてい
る。液面センサ45は溶解槽41内の硫酸の有無
を検知する。
温度センサ47は溶解槽41内の硫酸の温度を
約290℃前後にニクロム線等の熱源部51を管理
制御する機能を有し、約290℃に達したことを検
知するとポンプ43をオンに駆動する。また、電
極センサ49は、半導体Wのパツケージが溶解し
て内部のチツプが露出した時に硫酸を介して流れ
る電流を検知し、検知後に作動するタイマーによ
り一定時間経過後ポンプ43の駆動を停止する一
方、第4電磁弁29を切換制御し、かつ、常時開
の第7電磁弁53を閉とする。これにより、溶解
槽41には空気圧が作用する。なお、電極センサ
49と半導体Wのチツプ端子は該半導体Wを保持
するホルダー57と電気的に接続し硫酸を介して
電気回路が形成されるようになる。
作業台39には前記溶解槽41の上方に臨む蒸
気抜き管59が装着されると共に蒸気抜き管59
はフード61の「開」で作動するアスピレータ6
3等の吸引装置65と接続連通している。アスピ
レータ63はノズル67からエアが吹き出される
時に発生する負圧によつて蒸気を吸引し、吸引し
た蒸気を排液貯留タンク部9へ逃がすように機能
する。また、ノズル67は前記第3電磁弁27の
ポートP1と連通すると共に、螺旋状となつてい
る。これにより強い負圧が得られるようになる。
フード61は、ヒンジを支点として開閉可能で
閉時において作業台39をカバーするようになる
と共に該フード61の「開」時において、オンと
なる検知スイツチ69が機体に設けられている。
検知スイツチ69は、第3電磁弁3を切換制御
する。これにより、ポートP1は開となりエアポ
ンプ25からのエアがアスピレータ63のノズル
67に流れるようになる。
排液冷却部7は前記溶解槽41と連通する冷却
トラツプ71と該トラツプ71に冷却風を送風す
る冷却フアン73とから成り、冷却フアン73に
よつてトラツプ71内の排液は約100℃前後まで
冷却されるようになる。
排液貯留タンク部9は前記冷却トラツプ71と
連通しフツ素樹脂(テフロン)の合成樹脂材で形
成され、タンク部75に設けられた一対の液面セ
ンサ77が液面に触れることで排液を介して電流
が流れ、満杯になつたことがわかるようになつて
いる。これにより、スタートスイツチをオンとし
ても機能停止状態のままとなる。
なお、満杯になつたタンク部75は蛇腹81に
対し離脱自在で、新しいタンク部と交換可能とな
つている。
このように構成されたオープナー装置におい
て、作業台39に半導体Wをセツトしスタートス
イツチをオンにする。これにより、タンク本体1
1内の硫酸は第1、第2電磁弁13,15の開で
ヒータタンク17内に送り込まれる。ヒータタン
ク17内の硫酸は熱源部21によつて約250℃前
後に加温される。硫酸が約250℃に達すると、第
6電磁弁38は閉となり空気圧がヒータタンク1
7に作用する。これによりヒータタンク17内の
熱硫酸が溶解槽41内に送り込まれる。
溶解槽41内の熱硫酸は熱源部41によつて約
290℃に高められる。そして約290℃に達したこと
を温度センサ47が検知するとポンプ43がオン
となり熱硫酸を半導体Wのパツケージに噴射す
る。以下、パツケージが溶解してチツプが露出す
るまで噴射が続けられる。チツプが露出すると硫
酸を介して流れる電流を電極センサ49が検知
し、検知後一定時間経過後にポンプ43を停止さ
せると共に第4、第7電磁弁29を作動制御す
る。これにより溶解槽41内に空気圧が作用し、
溶解槽41内での仕事を終えた排液は冷却トラツ
プ71に送り出される。そして、約100℃まで冷
却された後、タンク部75へ排出されるようにな
る。
次に、半導体Wを交換すべくフード61を開放
すると検知スイツチ69がオンとなり第3電磁弁
27のポートP1は開となる。これによりアスビ
レータ63によつて溶解槽41内の蒸気は吸引さ
れ排液貯留タンク部9へ逃がすようになる。この
結果、半導体Wの交換時に作業者が蒸気を吸うこ
とがなくなる。
[考案の効果] 以上、説明したようにこの考案のオープナー装
置によれば、フードの開によつて蒸気が吸引され
るため半導体の交換時に作業者が蒸気を吸うのを
防ぐことができるため作業者の健康管理面におい
て大変望しいものとなる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの考案のオープナー装置の全体の概
要説明図、第2図は吸引装置の断面図、第3図は
作業台の一部断面図である。 主要な図面符号の説明、5……半導体開口部、
39……作業台、59……蒸気抜き管、61……
フード、65……吸引装置。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 開閉可能なフードによつて作業台がカバーされ
    る半導体開口部を備えたオープナー装置におい
    て、前記作業台に、該半導体開口部で発生した蒸
    気を外部へ誘導する蒸気抜き管を設け、該蒸気抜
    き管に、前記フードの「開」でオンとなる吸引装
    置を接続したことを特徴とする半導体のオープナ
    ー装置。
JP7118486U 1986-05-14 1986-05-14 Expired JPH0416434Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7118486U JPH0416434Y2 (ja) 1986-05-14 1986-05-14

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JP7118486U JPH0416434Y2 (ja) 1986-05-14 1986-05-14

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Publication Number Publication Date
JPS62184741U JPS62184741U (ja) 1987-11-24
JPH0416434Y2 true JPH0416434Y2 (ja) 1992-04-13

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