JPH0416432Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0416432Y2 JPH0416432Y2 JP7118286U JP7118286U JPH0416432Y2 JP H0416432 Y2 JPH0416432 Y2 JP H0416432Y2 JP 7118286 U JP7118286 U JP 7118286U JP 7118286 U JP7118286 U JP 7118286U JP H0416432 Y2 JPH0416432 Y2 JP H0416432Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor
- tank
- sulfuric acid
- chip
- locking device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
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- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 46
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Landscapes
- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この考案はプラスチツクで封止された半導体の
チツプを露出させて不良解析時の検査あるいは品
質チエツクに使用できるようにする半導体のオー
プナー装置において、作動時に半導体をカバーす
る上蓋ロツク装置に関するものである。
チツプを露出させて不良解析時の検査あるいは品
質チエツクに使用できるようにする半導体のオー
プナー装置において、作動時に半導体をカバーす
る上蓋ロツク装置に関するものである。
[従来の技術]
プラスチツクで封止された半導体のチエツクを
行なうオープナー装置は、エツチプレートに載置
セツトされた半導体のパツケージに溶解液を噴射
して開封しチツプを露出させる構造となつてい
る。
行なうオープナー装置は、エツチプレートに載置
セツトされた半導体のパツケージに溶解液を噴射
して開封しチツプを露出させる構造となつてい
る。
[考案が解決しようとする問題点]
前記した如く半導体のパツケージは溶解液によ
つて開封され、溶解液には加熱した熱硫酸が使用
される。
つて開封され、溶解液には加熱した熱硫酸が使用
される。
このため、溶解時にあつては、安全を確保する
ために半導体は上蓋によつてカバーされると共に
上蓋はロツク装置によつて作動中は開かないよう
に拘束制御されている。
ために半導体は上蓋によつてカバーされると共に
上蓋はロツク装置によつて作動中は開かないよう
に拘束制御されている。
ところで、半導体のパツケージはエポキシ樹脂
等の材質のため開封時に熱硫酸によつて焼付けを
起して外観が黒く汚れる。この汚れは酸と反応し
て時間経過と共に強くなるもので場合によつては
解析に支障をきたす恐れがあつた。
等の材質のため開封時に熱硫酸によつて焼付けを
起して外観が黒く汚れる。この汚れは酸と反応し
て時間経過と共に強くなるもので場合によつては
解析に支障をきたす恐れがあつた。
また、酸によつて腐蝕が進行するため開封後、
チツプが露出すると同時にすばやく洗浄すること
が望まれる。ところが、前記上蓋は、仕事を終え
た熱硫酸の排液工程終了後にロツク解除される制
御となるため半導体の取出しに時間がかかる問題
があつた。
チツプが露出すると同時にすばやく洗浄すること
が望まれる。ところが、前記上蓋は、仕事を終え
た熱硫酸の排液工程終了後にロツク解除される制
御となるため半導体の取出しに時間がかかる問題
があつた。
そこで、この考案は半導体の開封後チツプが露
出すると上蓋のロツク解除が行なわれ、半導体取
出しの迅速化が図れるようにしたオープナー装置
の上蓋ロツク装置を提供することを目的としてい
る。
出すると上蓋のロツク解除が行なわれ、半導体取
出しの迅速化が図れるようにしたオープナー装置
の上蓋ロツク装置を提供することを目的としてい
る。
[問題点を解決するための手段]
前記目的を達成するためにこの考案にあつて
は、上蓋によつてカバーされると共にエツチプレ
ートに載置セツトされた半導体のパツケージに溶
解液を噴射してチツプを露出させる半導体開口部
と、半導体のチツプ露出時を検出する検出手段と
を備えたオープナー装置において、前記半導体開
口部の上蓋をロツク装置によつてロツクすると共
にロツク装置は前記検出手段からのチツプ露出信
号でロツク解除となる。
は、上蓋によつてカバーされると共にエツチプレ
ートに載置セツトされた半導体のパツケージに溶
解液を噴射してチツプを露出させる半導体開口部
と、半導体のチツプ露出時を検出する検出手段と
を備えたオープナー装置において、前記半導体開
口部の上蓋をロツク装置によつてロツクすると共
にロツク装置は前記検出手段からのチツプ露出信
号でロツク解除となる。
[作用]
かかる装置において、ロツク状態にあるロツク
装置は、半導体のパツケージが開封し、チツプが
露出すると検出手段は、チツプ露出信号を出力
し、該信号によつてロツク解除されるようにな
る。このため、半導体の取出し時間が早くなり、
迅速な洗浄が可能となる。この結果、解析に支障
をきたすことがなくなる。
装置は、半導体のパツケージが開封し、チツプが
露出すると検出手段は、チツプ露出信号を出力
し、該信号によつてロツク解除されるようにな
る。このため、半導体の取出し時間が早くなり、
迅速な洗浄が可能となる。この結果、解析に支障
をきたすことがなくなる。
[実施例]
以下、第1図乃至第3図の図面を参照しながら
この考案の一実施例を詳細に説明する。
この考案の一実施例を詳細に説明する。
図面は装置全体の概要図を示しており、該装置
は、貯蔵タンク部1と、予熱ヒータ部3と、半導
体開口部5と、排液冷却部7と、排液貯留タンク
部9とを備えており、これらは機体10内に収納
配置されている。
は、貯蔵タンク部1と、予熱ヒータ部3と、半導
体開口部5と、排液冷却部7と、排液貯留タンク
部9とを備えており、これらは機体10内に収納
配置されている。
貯蔵タンク部1のタンク7本体11は耐酸性の
合成樹脂材で形成され、上部に常時閉状態の第1
電磁弁13が設けられている。また、タンク本体
11は常時閉状態の第2電磁弁15を介して予熱
ヒータ部3のヒータタンク17と連通し、ヒータ
タンク17は前記タンク本体11より低い位置に
配置されている。これにより、タンク本体11内
の硫酸が落差でヒータタンク17内に送り込まれ
るようになつている。
合成樹脂材で形成され、上部に常時閉状態の第1
電磁弁13が設けられている。また、タンク本体
11は常時閉状態の第2電磁弁15を介して予熱
ヒータ部3のヒータタンク17と連通し、ヒータ
タンク17は前記タンク本体11より低い位置に
配置されている。これにより、タンク本体11内
の硫酸が落差でヒータタンク17内に送り込まれ
るようになつている。
ヒータタンク17は後述するエアーポンプ25
からの空気圧が作用することで該タンク17内の
硫酸が強制的に送り出される。ヒータータンク1
7には温度センサ19によつてタンク17内の硫
酸が約250℃に管理制御されるニクロム線等の熱
源部21が設けられている。
からの空気圧が作用することで該タンク17内の
硫酸が強制的に送り出される。ヒータータンク1
7には温度センサ19によつてタンク17内の硫
酸が約250℃に管理制御されるニクロム線等の熱
源部21が設けられている。
第1、第2電磁弁13,15はヒータタンク1
7内に設けられ硫酸の有無を検知する液面センサ
23によつて開閉自在に制御され、ヒータタンク
17内の硫酸が空になつたことを前記液面センサ
23が検知すると開となる。これにより、タンク
本体11は大気に開放される一方、タンク本体内
の硫酸が落差でヒータタンク17内に流れ込むよ
うになる。
7内に設けられ硫酸の有無を検知する液面センサ
23によつて開閉自在に制御され、ヒータタンク
17内の硫酸が空になつたことを前記液面センサ
23が検知すると開となる。これにより、タンク
本体11は大気に開放される一方、タンク本体内
の硫酸が落差でヒータタンク17内に流れ込むよ
うになる。
エアーポンプ25は所望の駆動手段によつて駆
動され、該ポンプ25の吐出側に常時は閉の第3
電磁弁27と、該電磁弁27と直列に第4電磁弁
29が設けられている。第4電磁弁29は第3電
磁弁27と連通のポートPの外に、ノーマルクロ
ーズのポートP1とノーマルオープンのポートP2
を有する3方弁となつていてポートP1はヒータ
タンク17に、ポートP2は半導体開口部5とそ
れぞれ連通している。
動され、該ポンプ25の吐出側に常時は閉の第3
電磁弁27と、該電磁弁27と直列に第4電磁弁
29が設けられている。第4電磁弁29は第3電
磁弁27と連通のポートPの外に、ノーマルクロ
ーズのポートP1とノーマルオープンのポートP2
を有する3方弁となつていてポートP1はヒータ
タンク17に、ポートP2は半導体開口部5とそ
れぞれ連通している。
第3電磁弁27は、図外のスタートスイツチと
前記液面センサ23からの信号によつて開になる
と同時に第4電磁弁29のポートP1はポートP
と連通し、常時開の第5電磁弁31は閉に制御さ
れる。第5電磁弁31は蒸気を逃がすものでヒー
タタンク17に設けられている。
前記液面センサ23からの信号によつて開になる
と同時に第4電磁弁29のポートP1はポートP
と連通し、常時開の第5電磁弁31は閉に制御さ
れる。第5電磁弁31は蒸気を逃がすものでヒー
タタンク17に設けられている。
なお、前記温度センサ19は硫酸が約250℃以
下の場合はスタートスイツチを作動してもスター
トの指令信号が出力するのを抑える機能を備えて
いる。
下の場合はスタートスイツチを作動してもスター
トの指令信号が出力するのを抑える機能を備えて
いる。
一方、半導体開口部5は、DIPタイプの半導体
Wをセツトするエツチプレート33と、該エツチ
プレート33の下位に配置された溶解槽35と、
前記半導体Wのパツケージに硫酸を噴射するポン
プ37とから成り、溶解槽35は前記ヒータタン
ク17と連通している。
Wをセツトするエツチプレート33と、該エツチ
プレート33の下位に配置された溶解槽35と、
前記半導体Wのパツケージに硫酸を噴射するポン
プ37とから成り、溶解槽35は前記ヒータタン
ク17と連通している。
溶解槽35内の硫酸は溶解槽35内に空気圧が
作用することで排液冷却部7側へ強制的に送り出
されるようになる。溶解槽35には液面センサ3
9と、温度センサ41と電極センサ43がそれぞ
れ設けられている。液面センサ39は溶解槽35
内の硫酸の有無を検知する。
作用することで排液冷却部7側へ強制的に送り出
されるようになる。溶解槽35には液面センサ3
9と、温度センサ41と電極センサ43がそれぞ
れ設けられている。液面センサ39は溶解槽35
内の硫酸の有無を検知する。
温度センサ41は溶解槽35内の硫酸の温度を
約290℃前後にニクロム線等の熱源部45を管理
制御する機能を有し、約290℃に達したことを検
知するとポンプ37をオンに駆動する。また、電
極センサ43は、半導体Wのパツケージが開封し
て内部のチツプが露出した時に硫酸を介して流れ
る電流を検知する検出手段となつており、検知後
に作動するタイマーにより一定時間経過後ポンプ
37の駆動を停止させる一方、後述するロツク装
置47をロツク解除する機能を有する。なお、電
極センサ43と半導体Wのチツプ端子は該半導体
Wを保持するホルダー49と電気的に接続し硫酸
を介して電気回路が形成されるようになつてい
る。
約290℃前後にニクロム線等の熱源部45を管理
制御する機能を有し、約290℃に達したことを検
知するとポンプ37をオンに駆動する。また、電
極センサ43は、半導体Wのパツケージが開封し
て内部のチツプが露出した時に硫酸を介して流れ
る電流を検知する検出手段となつており、検知後
に作動するタイマーにより一定時間経過後ポンプ
37の駆動を停止させる一方、後述するロツク装
置47をロツク解除する機能を有する。なお、電
極センサ43と半導体Wのチツプ端子は該半導体
Wを保持するホルダー49と電気的に接続し硫酸
を介して電気回路が形成されるようになつてい
る。
溶解槽35には、蒸気の凝縮時に該凝縮液を溶
解槽35へ還元するトラツプ51が設けられてお
り、該トラツプ51は蒸気を排液貯留タンク部9
へ逃がす常時開の第6電磁弁53へ続いている。
解槽35へ還元するトラツプ51が設けられてお
り、該トラツプ51は蒸気を排液貯留タンク部9
へ逃がす常時開の第6電磁弁53へ続いている。
一方、機体10には半導体Wをカバーする上蓋
55が設けられている。
55が設けられている。
上蓋55にはヒンジ57を支点として回転可能
となつており、内側には上蓋55の閉時において
前記ホルダー49を保持する押えばね59が設け
られている。上蓋55は、ロツク装置47によつ
てロツクされている。
となつており、内側には上蓋55の閉時において
前記ホルダー49を保持する押えばね59が設け
られている。上蓋55は、ロツク装置47によつ
てロツクされている。
ロツク装置47の作動アーム61は機体10に
回転自在に枢支61aされている。作動アーム6
1の上端に連結されたロツクピン63は、上蓋5
5に設けられた係合孔65に係脱自在に挿入され
ている。また、作動アーム61の下端はソレノイ
ド67によつて伸縮する作動ロツド69に連結さ
れ、ソレノイド67のオフで前記ロツクピン63
は該ピン63に設けられたばね68の作用で後退
し係合孔65より外れたロツク解除状態となる。
回転自在に枢支61aされている。作動アーム6
1の上端に連結されたロツクピン63は、上蓋5
5に設けられた係合孔65に係脱自在に挿入され
ている。また、作動アーム61の下端はソレノイ
ド67によつて伸縮する作動ロツド69に連結さ
れ、ソレノイド67のオフで前記ロツクピン63
は該ピン63に設けられたばね68の作用で後退
し係合孔65より外れたロツク解除状態となる。
また、ソレノイド67のオンでロツクピン63
は前進し係合孔65と係合し合うロツク状態とな
る。ソレノイド67は前記電極センサ43からの
チツプ露出信号によつてオフに制御されると共に
図外のスタートスイツチによつてオン制御され
る。
は前進し係合孔65と係合し合うロツク状態とな
る。ソレノイド67は前記電極センサ43からの
チツプ露出信号によつてオフに制御されると共に
図外のスタートスイツチによつてオン制御され
る。
排液冷却部7は前記溶解槽35と連通する冷却
トラツプ69と該トラツプ69に冷却風を送風す
る冷却フアン71とからなり、冷却フアン71に
よつてトラツプ69内の排液は約100℃前後まで
冷却されるようになる。
トラツプ69と該トラツプ69に冷却風を送風す
る冷却フアン71とからなり、冷却フアン71に
よつてトラツプ69内の排液は約100℃前後まで
冷却されるようになる。
排液貯留タンク部9は前記冷却トラツプ69と
連通しフツ素樹脂(テフロン)の合成樹脂材で形
成され、タンク本体73に設けられた一対の液面
センサ75が液面に触れることで排液を介して電
流が流れ、満杯になつたことがわかるようになつ
ている。これにより、スタートスイツチをオンと
しても機能停止状態のままとなる。
連通しフツ素樹脂(テフロン)の合成樹脂材で形
成され、タンク本体73に設けられた一対の液面
センサ75が液面に触れることで排液を介して電
流が流れ、満杯になつたことがわかるようになつ
ている。これにより、スタートスイツチをオンと
しても機能停止状態のままとなる。
なお、満杯になつたタンク本体73は蛇腹75
に対し離脱自在で、新しいタンク本体と交換可能
となつている。
に対し離脱自在で、新しいタンク本体と交換可能
となつている。
このように構成されたオープナー装置におい
て、エツチプレート33に半導体Wをセツトした
後、上蓋55を閉じてスタートスイツチをオンに
する。これにより、タンク本体11内の硫酸は第
1、第2電磁弁13,15の開でヒータタンク1
7内に送り込まれる。ヒータタンク17の内の硫
酸は熱源部21によつて約250℃前後に加温され
る。硫酸が約250℃に達すると、第3電磁弁27
は開、第4電磁弁29のポートP1はポートPと
連通し空気圧がヒータタンク17に作用する。こ
れによりヒータタンク17内の熱硫酸が溶解槽3
5内に送り込まれる。
て、エツチプレート33に半導体Wをセツトした
後、上蓋55を閉じてスタートスイツチをオンに
する。これにより、タンク本体11内の硫酸は第
1、第2電磁弁13,15の開でヒータタンク1
7内に送り込まれる。ヒータタンク17の内の硫
酸は熱源部21によつて約250℃前後に加温され
る。硫酸が約250℃に達すると、第3電磁弁27
は開、第4電磁弁29のポートP1はポートPと
連通し空気圧がヒータタンク17に作用する。こ
れによりヒータタンク17内の熱硫酸が溶解槽3
5内に送り込まれる。
溶解槽35内の熱硫酸は熱源部45によつて約
290℃に高められる。そして約290℃に達したこと
を温度センサ41が検知するとポンプ37がオン
となり熱硫酸を半導体Wのパツケージに噴射す
る。以下、パツケージが溶解してチツプが露出す
るまで噴射が続けられる。チツプが露出すると硫
酸を介して流れる電流を電極センサ43が検知し
該センサ45が働く。これにより検知後一定時間
経過後にポンプ37は停止すると共にソレノイド
67にチツプ露出信号が流れてソレノイド67は
オフとなる。これにより、ロツク装置47はロツ
ク解除状態となるから上蓋55を開放し、半導体
Wの取外しが行なえるようになると共に迅速な洗
浄が可能となる。
290℃に高められる。そして約290℃に達したこと
を温度センサ41が検知するとポンプ37がオン
となり熱硫酸を半導体Wのパツケージに噴射す
る。以下、パツケージが溶解してチツプが露出す
るまで噴射が続けられる。チツプが露出すると硫
酸を介して流れる電流を電極センサ43が検知し
該センサ45が働く。これにより検知後一定時間
経過後にポンプ37は停止すると共にソレノイド
67にチツプ露出信号が流れてソレノイド67は
オフとなる。これにより、ロツク装置47はロツ
ク解除状態となるから上蓋55を開放し、半導体
Wの取外しが行なえるようになると共に迅速な洗
浄が可能となる。
次に、新たに半導体Wをエツチプレート33に
載置セツト後、上蓋55を閉めるとロツクピン6
3は係合孔65と係合し合うロツク状態となる。
次に図外のスタートスイツチのオンにする。これ
により、溶解槽35内にエアポンプ25からの空
気圧が作用して、仕事を終えた排液は冷却トラツ
プ69に送り出される。同時に予熱ヒーター部3
から新たな硫酸が送り込まれ、その後、ポンプ3
7の作動により前記した半導体の開封動作が繰返
えされるようになる。
載置セツト後、上蓋55を閉めるとロツクピン6
3は係合孔65と係合し合うロツク状態となる。
次に図外のスタートスイツチのオンにする。これ
により、溶解槽35内にエアポンプ25からの空
気圧が作用して、仕事を終えた排液は冷却トラツ
プ69に送り出される。同時に予熱ヒーター部3
から新たな硫酸が送り込まれ、その後、ポンプ3
7の作動により前記した半導体の開封動作が繰返
えされるようになる。
[考案の効果]
以上、説明したようにこの考案のオープナー装
置の上蓋ロツク装置によれば、半導体が開封しチ
ツプが露出すると、検出手段からのチツプ露出信
号によつてロツク装置のロツク解除ができるた
め、開封後速やかに半導体を取り出した後、迅速
な洗浄が行なえるようになる。したがつて、焼付
き等の汚れは最少に抑えられ正しい解析結果が得
られるようになる。
置の上蓋ロツク装置によれば、半導体が開封しチ
ツプが露出すると、検出手段からのチツプ露出信
号によつてロツク装置のロツク解除ができるた
め、開封後速やかに半導体を取り出した後、迅速
な洗浄が行なえるようになる。したがつて、焼付
き等の汚れは最少に抑えられ正しい解析結果が得
られるようになる。
第1図は、この考案のオープナー装置の一部切
断側面図、第2図は同上の平面図、第3図は全体
の連繋状態を示した概要説明図である。 主要な図面符号の説明、5……半導体開口部、
33……エツチプレート、43……検出手段(電
極センサ)、47……ロツク装置。
断側面図、第2図は同上の平面図、第3図は全体
の連繋状態を示した概要説明図である。 主要な図面符号の説明、5……半導体開口部、
33……エツチプレート、43……検出手段(電
極センサ)、47……ロツク装置。
Claims (1)
- 上蓋によつてカバーされると共にエツチプレー
トに載置セツトされた半導体のパツケージに溶解
液を噴射してチツプを露出させる半導体開口部
と、半導体のチツプ露出時を検出する検出手段と
を備えたオープナー装置において、前記半導体開
口部の上蓋をロツク装置によつてロツクすると共
にロツク装置は前記検出手段からのチツプ露出信
号でロツク解除となることを特徴とするオープナ
ー装置の上蓋ロツク装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7118286U JPH0416432Y2 (ja) | 1986-05-14 | 1986-05-14 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7118286U JPH0416432Y2 (ja) | 1986-05-14 | 1986-05-14 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62184739U JPS62184739U (ja) | 1987-11-24 |
| JPH0416432Y2 true JPH0416432Y2 (ja) | 1992-04-13 |
Family
ID=30913503
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7118286U Expired JPH0416432Y2 (ja) | 1986-05-14 | 1986-05-14 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0416432Y2 (ja) |
-
1986
- 1986-05-14 JP JP7118286U patent/JPH0416432Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62184739U (ja) | 1987-11-24 |
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