JPH04170308A - 過酸化水素の精製方法 - Google Patents

過酸化水素の精製方法

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JPH04170308A
JPH04170308A JP2400725A JP40072590A JPH04170308A JP H04170308 A JPH04170308 A JP H04170308A JP 2400725 A JP2400725 A JP 2400725A JP 40072590 A JP40072590 A JP 40072590A JP H04170308 A JPH04170308 A JP H04170308A
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activated carbon
hydrogen peroxide
slurry
ammonium carbonate
ethylenediaminetetraacetic acid
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JP2400725A
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Kirby Kirksey
カービイ・カークセイ
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EI Du Pont de Nemours and Co
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    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B15/00Peroxides; Peroxyhydrates; Peroxyacids or salts thereof; Superoxides; Ozonides
    • C01B15/01Hydrogen peroxide
    • C01B15/013Separation; Purification; Concentration

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  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
[0001]
【産業上の利用分野】
本発明は、過酸化水素の精製方法、より具体的には、電
子工業において洗浄剤としての使用に好適な、最高品質
の過酸化水素を製造することができる方法に関する。 [0002]
【従来の技術】
おそらく、電子工業において現時点で経、験する最も共
通な問題は、チップやウェハのような微細回路デバイス
の製造の間の汚染の影響である。これらのデバイスがよ
り複雑、かつ寸法において小さくなるにつれて、汚染物
質の存在に対する感度がより問題になり、製品の許容品
質が達成できない程度にまで、このような汚染物質(固
体粒子の形態)は、回路をオープン又はショートさせ、
フォトリングラフィの再現性に影響を与え、電気特性を
変化させることがあり、これらの電子デバイスの結晶構
造を損傷する可能性さえある。 [0003] 汚染物質の影響を除去するか、又は少なくとも許容でき
る限界まで低減するために、進められてきた明白な工程
のひとつは、電子デバイス自体の洗浄及びこのような洗
浄工程において用いられる洗浄媒体に関する改良にある
。いくつかの例においては、電子デバイスから汚染物質
を除去するにあたって(例えばウェハ洗浄工程において
)用いられる、洗浄媒体に利用される1つ又は複数の添
加剤を洗浄又は精製するために、非常に手の込んだ工程
をとらなければならない。 [0004] 電子工業に供給される化学物質中の汚染イオンの存在は
、現在、プロセスのために超純粋な試薬を強く要求する
ユーザーにとっては重大な関心事である。半導体装置材
料学会は、ppbレベルを非常に低減した標準を設定し
ているが、より一層の低減が主張されている。 [0005] 最もよく証明された洗浄方法でさえ、いまだに汚染は起
こっている。この分野において知られているように、ウ
ェハ洗浄工程は、液相及び気相化学技術だけでなく、ス
クラビング、加圧された液体ジェット、超音波のような
物理的手段を含んでいる。試験され評価されてきた多く
の洗浄方法のうち、最も効果的な操作は洗浄剤として過
酸化水素を利用している。過酸化水素は現在ウェハなど
を洗浄するための最も効果的な洗浄剤であると考えられ
ているけれども、この試薬の現在の製造は電子工業に高
品質の製品を製造することを可能にする程度に十分な純
度を有する試薬を提供できるまでには至っていない。 [0006] 電子工業における過酸化水素の使用は、毎年10〜20
%成長すると予想されている。現在の製品は、数年光の
半導体製造業者のニーズに対して受は入れられないと予
想されている。過酸化水素を精製する従来の方法は、異
なる温度と時間の洗浄工程を組み合わせた、試薬と各種
等級の活性炭との処理を含んでいる。しかしこれらの試
薬の前処理は、それ自体、最終の過酸化水素製品中の汚
染物質の増加の原因であった。 [0007] 1984年12月19日付けの東ドイツ特許DD 21
6,701において、炭酸アンモニウムで処理された活
性炭を用いるフッ化水素酸を精製するための特有の方法
が開示されている。 [0008]
【発明が解決しようとする課題】
したがって、最高水準の電子部品のための洗浄剤として
使用するのに適した、最高品質の過酸化水素を製造する
ことが、本発明の主要な目的である。 [0009] 本発明の他の目的は、全炭素の除去及びカチオンの低減
に有効であり、カリ過酸化水素と安定に共存する活性炭
を製造することである。 [0010] 本発明の更に他の目的は、最終の過酸化水素製品中の汚
染物質をそれほど増加させない、活性炭の前処理試薬を
選択することである。 [0011] 本発明の付加的な目的は、その性能が未処理の活性炭よ
りも優れている、処理された活性炭を製造することであ
る。 [0012]
【課題を解決するための手段】
本発明は、除去することができる不純物の量を最大にし
、不純物の逆流を最小にする新規な手法で前処理された
活性炭を利用することにより、電子部品の洗浄のための
過酸化水素を調製する現在の方法に存在する欠陥を克服
するために工夫された。本発明を実施するにあたっては
、活性炭を脱イオン水中でスラリー化し10%スラリー
を作る。炭酸アンモニウム(NH4)2CO3か、又は
エチレンジアミン四酸酸ジアンモニウム塩(NH4)2
EDTAからの適当なアンモニウムイオンが加えられ、
活性炭に対して約0.5.1.0.3.0重量%の処理
がなされる。活性炭は雰囲気温度で約30分間撹拌され
る。次に、この材料はろ過され、115℃で約10分間
乾燥される。次に、処理された活性炭は精製されるべき
過酸化水素と接触される。この混合物は数分間撹拌され
、ろ過され、ろ液は精製された過酸化水素として使用す
るために取り出される。−層の純度が望まれる場合には
、取り出された過酸化水素は使用の前に蒸留される。 [0013] 過酸化水素は種々の方法で製造することができるが、非
常に高品質の材料を製造するという望ましい目標を達成
するには、アントラキノン法が好ましい。高級な過酸化
水素を製造するこの方法の工程は、水素化酸化、抽出、
溶媒スクラビング、セットリング、カチオン樹脂処理、
活性炭処理、カチオン樹脂処理、蒸留、吸着、及び希釈
を含む。最初のカチオン樹脂処理後の生成物は、電子工
業グレードの過酸化水素に対するキーバラメータのひと
つ、すなわち全炭素の一因となる種々の有機種を除けば
、非常に純粋な生成物である。本発明は、これらの化合
物を除去するための活性炭の添加及び使用を意図してい
る。 [0014] 過酸化水素を製造する方法において活性炭を用いるため
には、活性炭は全炭素除去及び最終製品の純度に効果的
であるだけでなく、温度上昇及び過酸化水素の分解速度
に関して許容できるものでなげればならない。最終製品
の純度に関して活性炭はそれが過酸化水素と接触した後
の過酸化水素に対して無視できない金属イオンの一因と
なっていたことがわかっている。 [0015]
【実施例】
本発明を達成するためには、活性炭が十分な品質であり
、洗浄されるべき過酸化水素中に存在する汚染粒子を除
去する能力があること、及び活性炭自体又は前処理工程
で使用される洗浄剤力板それ自体で汚染粒子の一因とな
らないことを保証するために、前処理を工夫することが
必要である。 [0016] したがって、前処理方法は、全炭素除去及びカチオン低
減に有効な活性炭を製造しなければならない。前処理後
の活性炭は過酸化水素と安定に共存しなげればならず、
前処理試薬は最終の過酸化水素製品中の汚染物質をそれ
ほど増加させないようなものでなげればならない。 [0017] 活性炭を調整するための前処理工程において、活性炭は
最初の洗浄では添加物として0.5重量%の炭酸アンモ
ニウムを用いて熱洗浄される。わずか1回の洗浄が必要
ではあるけれども、追加の熱洗浄を行なう場合(各々の
熱洗浄は約20分間行われる)には改善された純度が達
成できることが理解できるであろう。硝酸塩、塩素、リ
ン酸塩及び硫酸塩のような不純物は各々の洗浄の間にか
なり減少した。不純物の除去において重要なことは、熱
洗浄の間に非常にわずかな量の不純物のみが加えられて
もよいということである。 [0018] 活性炭を前処理するにあたっては、硝酸塩の除去効率は
比較的低いことが知られている。しかし、炭酸アンモニ
ウムが、活性炭に化学的に結合した硝酸塩を除去する能
力は、他の公知の材料よりも優れていることが見出され
ている。にもかかわらず、過酸化水素と安定に共存する
全ての活性炭は性質的に有機的であるため、カルシウム
及びマグネシウムのようなある程度の不純物の一因とな
る。しかし、これらの微量の材料は、樹脂処理で除去す
ることができる。 [0019] 本発明によれば、活性炭の炭酸アンモニウム前処理は、
処理された過酸化水素中のマグネシウム、マンガン、カ
リウム、シリコン、ナトリウム、チタン、及び亜鉛のレ
ベルを低減させたことも見出されている。加えて、リン
酸塩レベルも、未処理の活性炭と比較して約273に低
減させることができる。 [0020] 過酸化水素を洗浄するのに用いられる前処理された活性
炭を調製するにあたり活性炭は脱イオン水中でスラリー
化されて10%スラリーが作られる。炭酸アンモニウム
(NH4)2C03を加え、活性炭に対して約0.5.
1又は3重量%の処理がなされる。活性炭を雰囲気温度
で約30分間撹拌し、次いでろ過し、約115℃で約5
〜10分間乾燥する。活性炭を1%スラリーとして約5
分間過酸化水素と接触する。このスラリーを0.2mu
フィルターを用いることによりろ過し、最終の生成物が
洗浄剤として用いるために取り出される。 [0021] 過酸化水素の精製における最終工程、すなわち前処理さ
れた活性炭と接触された後に得られる生成物を蒸留する
工程は、製品の純度を向上しようとするものである。 [0022] 他の実施例においては、活性炭の前処理工程でエチレン
ジアミン四酸酸ジアンモニウム塩(NH4)2EDTA
が炭酸アンモニウムの代わりに用いられる。この塩は、
接触工程において多量のマグネシウムを低減する能力を
もち、結果として炭酸アンモニウムの使用により引き起
こされる場合よりも過酸化水素の分解速度の低下をもた
らす。 [0023] 処理されろ過された後の、試薬グレードの30%過酸化
水素(特有のイオンが加えられている)の典型的な試料
を、表1 (0,5〜3.0重量%の間の処理試薬炭酸
アンモニウム(NH4)2CO3を用いている)、及び
表2(処理試薬エチレンジアミン四酸酸ジアンモニウム
塩(NH4)2EDTAを用いている)に示す。 これらの表のいずれでも、イオンはmg/m1単位で測
定されている。 [0024]
【表1】 [0025] 試料 Fe 1   <0.003 2   <0.003 3 0.0087 4  <0.003 5   <0.003 6 0.0058 d く0.005 <Q、005 <0.005 <0.005 く0.O05 <0.005 u く0.004 く09OO4 <Q、004 0、004 <Q、004 <Q、 004 0、111 0、097 0、070 0、007 0、125 0、008 n く0.02 <Q、02 <Q、02 く0.02 く0.02 <Q、02 a 1.23 1.32 1.38 1.19 1.62 1.43 O69 0,9 0,9 0,9 1,1 0,9 [0026]
【表2】 [0027] 試料 Fe 1   <0.003 2  0.020 3  <0.003 4   <0.003 5   <0.003 6 0.044 d <Q、006 0、006 0、006 0、006 0、006 0、006  u O,004 0、008 0、004 0、004 く0.0O4 0、025 0、020 0、240 0、045 0,315 0、158 0,018 n <Q、 02 <Q、 02 〈0.02 く0.02 <0.02 <Q、02 a 1.16 1.25 1.28 1.28 1.38 1.16 処理された活性炭の原料の過酸化水素との試、験から、
評価パラメータにおける主要な変化のまとめを、次の表
3に示す。 [0028]
【表3】 [0029] 項目 分解−% 塩化物−ppm変化 リン酸塩−ppm変化 アンモニウム−ppm変化 遊離酸−ppm変化 微量金属変化ppb単位 アルミニウム ホウ素 カルシウム 鉄 カリウム マグネシウム ナトリウム リン シリコン スズ 亜鉛 未処理 活性炭 1.1 十Q、16 +Q、 02 −4.31 +767 +71 +47 +39 (NH4)2 0.5% 1.3 +Q、08 +0.02 −1.59 +104 十136 + 3 +180 DTA 1.0% 2.0 +Q、07 −0.10 −2.43 +17 +22 +94 +20 十186 (NH4)2C03 0,5%  1.0% 4.4    4.0 十0.1       +0.11 −0.07   −0.07 −4.54   −3.50 +272 +  7 +117 +32 +  2 +43 +139 +241 +89 +  1 +11 +167 本発明は好ましい意図を有するように記載されているけ
れども、一般用に本発明の原理に従い、及び本発明に関
係がある技術分野において知られているが慣用的な実務
となっているような、また前記で記載された中核となる
特徴に付加できるような開示からはずれたものを含み、
本発明の更なる変形、使用及び/又は適用が可能であり
、しかも本発明すなわち特許請求の範囲の限定の範囲内
であることが理解できる。

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】a)活性炭を炭酸アンモニウムとともに少
    なくとも1回熱洗浄することにより、活性炭を前処理す
    る工程、b)精製されるべき多量の過酸化水素を、得ら
    れた熱洗浄された活性炭と接触させ、これにより過酸化
    水素中に存在する不純物の吸着をもたらす工程、及びc
    )接触された過酸化水素を分離し、蒸留する工程からな
    る、不純物の除去を含む過酸化水素の精製方法。
  2. 【請求項2】a)前記活性炭を熱洗浄する工程が、活性
    炭を脱イオン水中でスラリー化して約10%のスラリー
    を作ることを含む請求項1記載の方法。
  3. 【請求項3】a)前記活性炭を前処理する工程が、炭酸
    アンモニウムとの複数回の熱洗浄を含む請求項1記載の
    方法。
  4. 【請求項4】a)炭酸アンモニウムを前記スラリーに加
    え、活性炭に対して約0.5〜約3.0重量%の処理を
    する請求項2記載の方法。
  5. 【請求項5】a)炭酸アンモニウムと活性炭とのスラリ
    ーを、雰囲気温度において約30分間撹拌する工程を含
    む請求項2記載の方法。
  6. 【請求項6】a)スラリーをろ過し、約115℃の温度
    で少なくとも約5時間乾燥する工程を含む請求項5記載
    の方法。
  7. 【請求項7】a)活性炭をエチレンジアミン四酢酸ジア
    ンモニウム塩とともに少なくとも1回熱洗浄することに
    より、活性炭を前処理する工程、b)精製されるべき多
    量の過酸化水素を、得られた熱洗浄された活性炭と接触
    させ、これにより過酸化水素中に存在する不純物の吸着
    をもたらす工程、及びc)接触された過酸化水素を分離
    し、蒸留する工程からなる、不純物の除去を含む過酸化
    水素の精製方法。
  8. 【請求項8】a)前記活性炭を洗浄する工程が、活性炭
    を脱イオン水中でスラリー化して約10%のスラリーを
    作ることを含む請求項7記載の方法。
  9. 【請求項9】a)前記活性炭を前処理する工程が、エチ
    レンジアミン四酢酸ジアンモニウム塩との複数回の熱洗
    浄を含む請求項7記載の方法。
  10. 【請求項10】a)エチレンジアミン四酢酸ジアンモニ
    ウム塩を前記スラリーに加え、活性炭に対して約0.5
    〜3.0重量の処理をする請求項8記載の方法。
  11. 【請求項11】a)エチレンジアミン四酢酸ジアンモニ
    ウム塩と活性炭とのスラリーを、約30分間撹拌する工
    程を含む請求項8記載の方法。
  12. 【請求項12】a)スラリーをろ過し、約115℃の温
    度で少なくとも約5時間乾燥する工程を含む請求項11
    記載の方法。
JP2400725A 1990-07-17 1990-12-07 過酸化水素の精製方法 Pending JPH04170308A (ja)

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