JPH04178343A - 光学活性4―エン―6―オール化合物、その製造中間体及びそれらの製造方法 - Google Patents
光学活性4―エン―6―オール化合物、その製造中間体及びそれらの製造方法Info
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Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明はプロスタグランジン合成の中間体として有用で
ある、 で示される新規光学活性4−エン−6−オール化合物及
びその製造方法、並びに上記化合物[■■]の製造中間
体及びその製造方法に関する。
ある、 で示される新規光学活性4−エン−6−オール化合物及
びその製造方法、並びに上記化合物[■■]の製造中間
体及びその製造方法に関する。
本発明による光学活性4−エン−6−オール化合物[V
コは、次いて、G、ストーク (G、5tork)らに
より開発されたプロスタグランジン合成法(G、5to
rk、M、l5obe、J、Am、Chem、Soc、
、97.4745、 (1975) 、)における重
要な製造中間体である、−膜中 0 (上記各式中、R1はアルコキシ基ををしていてもよい
アルキル基又はシクロアルキル基、又は−Ra−A−B
(ここてRaはアル上ル基、Aはへテロ原子又は単結合
、Bは置換基を有して゛いてもよい芳香族環又はペテロ
環をそれぞれ意味する)で示される基を意味し、R2及
びR3は同一または異なり、アラルキル基、シリル基又
はアシル基を意味し、R4はアルキル基を意味し、2つ
のR4が互いに結合して環を形成していてもよい) で示される光学活性2−メチレンシクロペンタノン誘導
体に導かれ、更にこれは上記ストークらの方法に従って
プロスタグランジンに導かれる。
コは、次いて、G、ストーク (G、5tork)らに
より開発されたプロスタグランジン合成法(G、5to
rk、M、l5obe、J、Am、Chem、Soc、
、97.4745、 (1975) 、)における重
要な製造中間体である、−膜中 0 (上記各式中、R1はアルコキシ基ををしていてもよい
アルキル基又はシクロアルキル基、又は−Ra−A−B
(ここてRaはアル上ル基、Aはへテロ原子又は単結合
、Bは置換基を有して゛いてもよい芳香族環又はペテロ
環をそれぞれ意味する)で示される基を意味し、R2及
びR3は同一または異なり、アラルキル基、シリル基又
はアシル基を意味し、R4はアルキル基を意味し、2つ
のR4が互いに結合して環を形成していてもよい) で示される光学活性2−メチレンシクロペンタノン誘導
体に導かれ、更にこれは上記ストークらの方法に従って
プロスタグランジンに導かれる。
[発明の背景コ
プロスタグランジン(PGF及びPGE )は、生体内
でプロスタグランジン合成酵素によりアラキドン酸など
の高級不飽和脂肪酸が化学変換されて生じる極めて強い
生理活性をもつ化合物であり、下記のような化学的構造
を有している。
でプロスタグランジン合成酵素によりアラキドン酸など
の高級不飽和脂肪酸が化学変換されて生じる極めて強い
生理活性をもつ化合物であり、下記のような化学的構造
を有している。
PGF PC;E
天然のプロスタグランジンでは、上記各式中の基R−は
nC9H++−1基Rは(CH2)、C0OH又はCH
2CH−CH(CH2)3COOHであり、基R゛は脂
溶性を有することか生理活性の発現上重要であることが
知られている。プロスタグランジンの医薬品としての開
発研究か進められる中で、更に基R′としてアルキル基
、シクロアルキル基又はアラルキル基てあって炭素数4
〜10のものが有効であり、例えばペンチル、イソペン
チル、2.2−ジメチルペンチル、ヘキシル、2−ヘキ
シル、ヘプチル、2−エトキシ−1,1−ジメチルエチ
ル、5−メトキシ−1−メチルペンチルなどのアルキル
基、シクロペンチル、3−エチルシクロペンチル、4−
プロピルシクロヘキシルなどのシクロアルキル基、更に
はフェニルオキシメチル、3−トリフルオロメチルフェ
ニルオキシメチル、2−クロロチオフェン−5−イルオ
キシメチル、フラン−2−イル−2−エチルなどの基が
強い生理活性を示すことが明らかにされてきた。本発明
の化合物は、これら有機基を含めた置換基を目的化合物
に導入することのできる原料として有用なものである。
nC9H++−1基Rは(CH2)、C0OH又はCH
2CH−CH(CH2)3COOHであり、基R゛は脂
溶性を有することか生理活性の発現上重要であることが
知られている。プロスタグランジンの医薬品としての開
発研究か進められる中で、更に基R′としてアルキル基
、シクロアルキル基又はアラルキル基てあって炭素数4
〜10のものが有効であり、例えばペンチル、イソペン
チル、2.2−ジメチルペンチル、ヘキシル、2−ヘキ
シル、ヘプチル、2−エトキシ−1,1−ジメチルエチ
ル、5−メトキシ−1−メチルペンチルなどのアルキル
基、シクロペンチル、3−エチルシクロペンチル、4−
プロピルシクロヘキシルなどのシクロアルキル基、更に
はフェニルオキシメチル、3−トリフルオロメチルフェ
ニルオキシメチル、2−クロロチオフェン−5−イルオ
キシメチル、フラン−2−イル−2−エチルなどの基が
強い生理活性を示すことが明らかにされてきた。本発明
の化合物は、これら有機基を含めた置換基を目的化合物
に導入することのできる原料として有用なものである。
〔従来の技術及び解決すべき課題]
従来、光学活性プロスタグランジンの製造経路としては
、コーリーラクトンより出発する方法や、4−ヒドロキ
シシクロベンテノンより出発する方法か知られていた。
、コーリーラクトンより出発する方法や、4−ヒドロキ
シシクロベンテノンより出発する方法か知られていた。
しかし、前者の方法では多くの工程を経る必要かあり必
然的に最終製品の収率が低下し、後者の方法では副反応
を抑えて主反応を優先させるための反応条件が比較的設
定し難くいといった問題か残されていた。また、上述の
G、ストークらか開発した方法、すなわち、中間体とし
て2−メチレンシクロペンタノン誘導体CXmEを製造
し、次いてこれをプロスタグランジンに導く方法は、中
間体として安定な化合物[Xlff]を経る有用な方法
と言えるが、この方法で得られる上記中間体[XIII
]はラセミ体であって、光学活性体は得られない。
然的に最終製品の収率が低下し、後者の方法では副反応
を抑えて主反応を優先させるための反応条件が比較的設
定し難くいといった問題か残されていた。また、上述の
G、ストークらか開発した方法、すなわち、中間体とし
て2−メチレンシクロペンタノン誘導体CXmEを製造
し、次いてこれをプロスタグランジンに導く方法は、中
間体として安定な化合物[Xlff]を経る有用な方法
と言えるが、この方法で得られる上記中間体[XIII
]はラセミ体であって、光学活性体は得られない。
本発明者らは、上記問題点を解決すべく鋭意検討の結果
、プロスタグランジン製造の鍵中間体である光学活性2
−メチレンシクロペンタノン誘導体[XIII]を簡便
にかつ高収率で製造する方法を見出した。本発明は化合
物CXmEの製造の過程で得られる新規中間体及びその
製法を提供するものである。
、プロスタグランジン製造の鍵中間体である光学活性2
−メチレンシクロペンタノン誘導体[XIII]を簡便
にかつ高収率で製造する方法を見出した。本発明は化合
物CXmEの製造の過程で得られる新規中間体及びその
製法を提供するものである。
[課題を解決するための手段]
本発明による光学活性4−エンー6−オール化合物は、
(式中、R1はアルコキシ基を有していてもよいアルキ
ル基又はシクロアルキル基、又は−Ra−A−B(ここ
でRaはアルキル基、Aはへテロ原子又は単結合、Bは
置換基を有していてもよい芳香族環又はヘテロ環をそれ
ぞれ意味する)で示される基を意味し、R2及びR3は
同一または異なり、アラルキル基、シリル基又はアシル
基を意味し、R4はアルキル基を意味し、2つのR4が
互いに結合して環を形成していてもよい) で示される化学的構造を有する。
ル基又はシクロアルキル基、又は−Ra−A−B(ここ
でRaはアルキル基、Aはへテロ原子又は単結合、Bは
置換基を有していてもよい芳香族環又はヘテロ環をそれ
ぞれ意味する)で示される基を意味し、R2及びR3は
同一または異なり、アラルキル基、シリル基又はアシル
基を意味し、R4はアルキル基を意味し、2つのR4が
互いに結合して環を形成していてもよい) で示される化学的構造を有する。
また、上記光学活性4−エン−6−オール化合物[V]
の製造に有用な中間体である光学活性4−イン−6−オ
ール化合物は、 (式中、R1、R2、R3及びR4は上記定義のものと
同じ意味を有する) て示される化学的構造を有する。
の製造に有用な中間体である光学活性4−イン−6−オ
ール化合物は、 (式中、R1、R2、R3及びR4は上記定義のものと
同じ意味を有する) て示される化学的構造を有する。
更に、上記光学活性4−エン−6−オール化合物[V]
の製造に有用な今1つの中間体である光学活性4−イン
−6−オン化合物は、一般式 (式中、RI 、R2、R3及びR4は上記定義のもの
と同じ意味を有する) て示される化学的構造を有する。
の製造に有用な今1つの中間体である光学活性4−イン
−6−オン化合物は、一般式 (式中、RI 、R2、R3及びR4は上記定義のもの
と同じ意味を有する) て示される化学的構造を有する。
上記光学活性4−エン−6−オール化合物[■コを製造
するには、 (式中、R1、R2、R3及びR4は上記定義のちのと
同じ意味を有する) で示される光学活性4−イン−6−オール化合物を部分
還元する。
するには、 (式中、R1、R2、R3及びR4は上記定義のちのと
同じ意味を有する) で示される光学活性4−イン−6−オール化合物を部分
還元する。
上記方法に使用する光学活性4〜イン−6−オール化合
物[II[blを製造するには、一般式 (式中、R1、R2、R3及びR4は上記定義のちのと
同じ意味を有する) で示される光学活性4−イン−6−オン化合物を還元す
る。
物[II[blを製造するには、一般式 (式中、R1、R2、R3及びR4は上記定義のちのと
同じ意味を有する) で示される光学活性4−イン−6−オン化合物を還元す
る。
上記方法に使用する光学活性4−イン−6−オン化合物
[N’コを製造するには、 で示される光学活性ジブロモ化合物を で示される光学活性アルデヒド化合物と反応させて (上記各式中、R1、R2、R3及びR4は上記定義の
ものと同じ意味を有する) て示される光学活性4−イン−6−オール化合物とし、
次いで同4−イン−6−オール化合物[IIIaコを酸
化する。
[N’コを製造するには、 で示される光学活性ジブロモ化合物を で示される光学活性アルデヒド化合物と反応させて (上記各式中、R1、R2、R3及びR4は上記定義の
ものと同じ意味を有する) て示される光学活性4−イン−6−オール化合物とし、
次いで同4−イン−6−オール化合物[IIIaコを酸
化する。
本発明による4−エン−6−オール化合物[Vコは、次
イテコレニ一般式CH3C(OR5)、(式中、R5は
アルキル基を意味する)で示されるトリアルキルオルト
アセテートを反応させ、更に分子内転移を起こさせるこ
とによって、で示される光学活性エステル化合物に導か
れる。
イテコレニ一般式CH3C(OR5)、(式中、R5は
アルキル基を意味する)で示されるトリアルキルオルト
アセテートを反応させ、更に分子内転移を起こさせるこ
とによって、で示される光学活性エステル化合物に導か
れる。
この光学活性エステル化合物[Vl]を次いで還元して
、 (上記各式中、R1、R2、R3、R4及びR5は上記
定義のものと同じ意味を有する)で示される光学活性ヒ
ドロキシエチル化合物を得る。
、 (上記各式中、R1、R2、R3、R4及びR5は上記
定義のものと同じ意味を有する)で示される光学活性ヒ
ドロキシエチル化合物を得る。
このヒドロキシエチル化合物[■コを脱水して
一般式
(上記各式中、R1、R2及びR3は上記定義のものと
同じ意味を有する) で示される光学活性ビニル化合物に導く。
同じ意味を有する) で示される光学活性ビニル化合物に導く。
この光学活性ビニル化合物[VIII]は、次いてこれ
を加水分解して (上記各式中、R1、R2及びR3は上記定義のものと
同じ意味を有する) で示される光学活性アルデヒド化合物とし、更に同アル
デヒド化合物[IX]を (式中、RISR2及びR3は上記定義のものと同じ意
味を有する) で示される光学活性オキシム化合物に変換する。
を加水分解して (上記各式中、R1、R2及びR3は上記定義のものと
同じ意味を有する) で示される光学活性アルデヒド化合物とし、更に同アル
デヒド化合物[IX]を (式中、RISR2及びR3は上記定義のものと同じ意
味を有する) で示される光学活性オキシム化合物に変換する。
つぎに、光学活性オキシム化合物[X]を分子内環化し
て、 で示される光学活性イソオキサゾール誘導体を製造する
。
て、 で示される光学活性イソオキサゾール誘導体を製造する
。
本発明による光学活性4−エン−6−オール化合物[V
]、その製造中間体、及びこれから導かれる光学活性2
−メチレン−シクロペンタノン誘導体[XI[I]、並
びにこれらの製造方法は、反応経路1に示すとおりであ
る。
]、その製造中間体、及びこれから導かれる光学活性2
−メチレン−シクロペンタノン誘導体[XI[I]、並
びにこれらの製造方法は、反応経路1に示すとおりであ
る。
本発明において、上記−膜中で示される各化合物の定義
について説明する。
について説明する。
上記各化合物の基R1は、(a)アルコキシ基を有して
いてもよいアルキル基又はシクロアルキル基、又は(b
) −Ra −A−B (ここでRaはアルキル基、A
はへテロ原子又は単結合、Bは置換基を有していてもよ
い芳香族環又はヘテロ環をそれぞれ意味する)で示され
る基、R2及びR3は同一または異なり、アラルキル基
、シリル基又はアシル基をそれぞれ意味する)である。
いてもよいアルキル基又はシクロアルキル基、又は(b
) −Ra −A−B (ここでRaはアルキル基、A
はへテロ原子又は単結合、Bは置換基を有していてもよ
い芳香族環又はヘテロ環をそれぞれ意味する)で示され
る基、R2及びR3は同一または異なり、アラルキル基
、シリル基又はアシル基をそれぞれ意味する)である。
上記(a)のアルキル基又はシクロアルキル基としては
、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、
イソブチル、ペンチル、イソペンチル、2.2−ジメチ
ルペンチル、ヘキシル、2−ヘキシル、ヘプチル、2−
ヘプチル、オクチル、2−オクチル、ノニル、2−ノニ
ル、デシル、2−デシル、ウンデシル、2−ウンデシル
、ドデシル、2−エトキシ−1,1−ジメチルエチル、
5−メトキン−1−メチルペンチル、シクロペンチル、
3−エチルシクロペンチル、シクロヘキシル、2−メチ
ルシクロヘキシル、4−n−プロピルシクロヘキシルな
どの直鎖状又は分枝状アルキル基又はシクロアルキル基
が例示される。また、上記(b)の基−Ra−A−Bと
しては、フェニルオキシメチル、3−トリフルオロメチ
ルフェニルオキシメチル、2−り00チオフェン−5−
イルオキシメチル、フラン−2−イル−エチルなどが例
示される。
、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、
イソブチル、ペンチル、イソペンチル、2.2−ジメチ
ルペンチル、ヘキシル、2−ヘキシル、ヘプチル、2−
ヘプチル、オクチル、2−オクチル、ノニル、2−ノニ
ル、デシル、2−デシル、ウンデシル、2−ウンデシル
、ドデシル、2−エトキシ−1,1−ジメチルエチル、
5−メトキン−1−メチルペンチル、シクロペンチル、
3−エチルシクロペンチル、シクロヘキシル、2−メチ
ルシクロヘキシル、4−n−プロピルシクロヘキシルな
どの直鎖状又は分枝状アルキル基又はシクロアルキル基
が例示される。また、上記(b)の基−Ra−A−Bと
しては、フェニルオキシメチル、3−トリフルオロメチ
ルフェニルオキシメチル、2−り00チオフェン−5−
イルオキシメチル、フラン−2−イル−エチルなどが例
示される。
各化合物の基R2及びR3は同一または異なり、アラル
キル基、シリル基又はアシル基をそれぞれである。基R
2及びR3は水酸基の保護基として働くものであって、
反応経路1の反応の条件に適合するものが適宜選定され
る。アラルキル基の具体的としては、ベンジル、p−メ
トキシベンジル、1−フェネチル基などが挙げられ、シ
リル基の例としては、ジメチルトリフェニルメチルシリ
ル、ジーtert−ブチルメチルシリル、tert−ブ
チルジフェニルシリルなどが挙げられ、アシル基として
は、アセチル、プロピオニル、n−ブチリル、n−バレ
リル、カプロイル、ベンゾイルなどが例示される。
キル基、シリル基又はアシル基をそれぞれである。基R
2及びR3は水酸基の保護基として働くものであって、
反応経路1の反応の条件に適合するものが適宜選定され
る。アラルキル基の具体的としては、ベンジル、p−メ
トキシベンジル、1−フェネチル基などが挙げられ、シ
リル基の例としては、ジメチルトリフェニルメチルシリ
ル、ジーtert−ブチルメチルシリル、tert−ブ
チルジフェニルシリルなどが挙げられ、アシル基として
は、アセチル、プロピオニル、n−ブチリル、n−バレ
リル、カプロイル、ベンゾイルなどが例示される。
アルキル基R4はアルデヒドのカルボニル基の保護基と
して働くものであって、これも反応経路1の反応の条件
に適合するものが適宜選定される。アルキル基の具体的
としては、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピ
ル、n−ブチル、5ee−ブチル、tert−ブチル、
n−ペンチル基などの直鎖状又は分枝状アルキル基か挙
げられる。また2つの基R4は、互いに結合して環状ア
セタール構造になるように環を形成していてもよい。
して働くものであって、これも反応経路1の反応の条件
に適合するものが適宜選定される。アルキル基の具体的
としては、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピ
ル、n−ブチル、5ee−ブチル、tert−ブチル、
n−ペンチル基などの直鎖状又は分枝状アルキル基か挙
げられる。また2つの基R4は、互いに結合して環状ア
セタール構造になるように環を形成していてもよい。
アルキル基R5としては、メチル、エチル、n−プロピ
ル、イソプロピル、n−ブチル、5eC−ブチル、te
rt−ブチル、n−ペンチル基などの直鎖状又は分枝状
アルキル基が例示される。
ル、イソプロピル、n−ブチル、5eC−ブチル、te
rt−ブチル、n−ペンチル基などの直鎖状又は分枝状
アルキル基が例示される。
つぎに、反応経路1の各工程について更に詳しく説明す
る。
る。
(f) まず、光学活性ジブロモ化合物[1コを光学
活性アルデヒド化合物[n]と反応させて、光学活性4
−イン−6−オール化合物[maEを得る。
活性アルデヒド化合物[n]と反応させて、光学活性4
−イン−6−オール化合物[maEを得る。
この工程では、まずジブロモ化合物[+]を2当量の塩
基と反応させてアセチレン誘導体に変換し、次いで同誘
導体を単離し又は単離することなく光学活性アルデヒド
化合物[II]と反応させる。
基と反応させてアセチレン誘導体に変換し、次いで同誘
導体を単離し又は単離することなく光学活性アルデヒド
化合物[II]と反応させる。
ここで用いられる塩基としては、メチルリチウム、n−
ブチルリチウム、5ee−ブチルリチウム、tert−
ブチルリチウムなどのアルキルリチウム試薬が好ましい
。反応溶媒としては、エチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、エチレングリコールジメチルエーテルなどの非プ
ロトン性エーテル系溶媒を単独あるいは混合して用いる
ことが好ましい。反応は低温好ましくは一40℃以下の
温度で行ない、ジブロモ化合物[+]に塩基を滴下した
後、混合液を15〜60分その温度で攪拌する。また、
この反応混合液にアルデヒド化合物[INを滴下した後
、混合液を10〜30分その温度で攪拌する。
ブチルリチウム、5ee−ブチルリチウム、tert−
ブチルリチウムなどのアルキルリチウム試薬が好ましい
。反応溶媒としては、エチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、エチレングリコールジメチルエーテルなどの非プ
ロトン性エーテル系溶媒を単独あるいは混合して用いる
ことが好ましい。反応は低温好ましくは一40℃以下の
温度で行ない、ジブロモ化合物[+]に塩基を滴下した
後、混合液を15〜60分その温度で攪拌する。また、
この反応混合液にアルデヒド化合物[INを滴下した後
、混合液を10〜30分その温度で攪拌する。
(i i) 上記工程で得られた光学活性4−イン−
6−オール化合物[II[a]を酸化して、光学活性4
−イン−6−オン化合物[IV]を得る。
6−オール化合物[II[a]を酸化して、光学活性4
−イン−6−オン化合物[IV]を得る。
この工程は、4−イン−6−オール化合物[Ha]の水
酸基を酸化してケトン基にするものである。4−イン−
6−オール化合物EmaEの酸化には多くの方法があり
、代表例として、(a)クロム酸酸化、マンガン酸酸化
などの金属試薬による酸化や、(b) ス’7− ン(
Swern)酸化、(C〉コーリー・キム(Corey
−Ki匝)酸化などの方法が挙げられる。
酸基を酸化してケトン基にするものである。4−イン−
6−オール化合物EmaEの酸化には多くの方法があり
、代表例として、(a)クロム酸酸化、マンガン酸酸化
などの金属試薬による酸化や、(b) ス’7− ン(
Swern)酸化、(C〉コーリー・キム(Corey
−Ki匝)酸化などの方法が挙げられる。
(a)の金属試薬を用いる酸化では、その試薬として、
クロム酸、重クロム酸カリウム、重クロム酸ナトリウム
、二酸化マンガン、過マンガン酸カリウム、過マンガン
酸ナトリウム、PcC(ピリジニウムクロロクロメート
)、PDC(ピリジニウムジクロメート)などが使用さ
れる。反応溶媒としては通常塩化メチレン、クロロホル
ム、四塩化炭素などが用いられる。
クロム酸、重クロム酸カリウム、重クロム酸ナトリウム
、二酸化マンガン、過マンガン酸カリウム、過マンガン
酸ナトリウム、PcC(ピリジニウムクロロクロメート
)、PDC(ピリジニウムジクロメート)などが使用さ
れる。反応溶媒としては通常塩化メチレン、クロロホル
ム、四塩化炭素などが用いられる。
(b)のスワーン酸化はジメチルスルホキシドを用いる
方法である(Synthesjs、165.(197g
)、)。
方法である(Synthesjs、165.(197g
)、)。
この方法ではオキザリルクロリドなどの酸ハライドやト
リフルオロ酢酸無水物などの酸無水物をジメチルスルホ
キシドと作用させてまずスルホニウム塩とし、この塩に
4−イン−6−オール化合物[ffl a]を反応させ
た後、生成物を塩基処理することにより4−イン−6−
オン化合物[rV]に変換する。反応溶媒としては無水
にした塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素などの
非プロトン性溶媒が好ましい。この反応は一40℃以下
の低温好ましくは一78℃付近で行なわれる。
リフルオロ酢酸無水物などの酸無水物をジメチルスルホ
キシドと作用させてまずスルホニウム塩とし、この塩に
4−イン−6−オール化合物[ffl a]を反応させ
た後、生成物を塩基処理することにより4−イン−6−
オン化合物[rV]に変換する。反応溶媒としては無水
にした塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素などの
非プロトン性溶媒が好ましい。この反応は一40℃以下
の低温好ましくは一78℃付近で行なわれる。
(c)のコーリー・キム酸化はN−クロロスクシンイミ
ドとジメチルスルフィドを用いるものであり(J、Al
l1.chem、soc、、94.7587(+972
)、) 、この方法によってもこの酸化は達成される。
ドとジメチルスルフィドを用いるものであり(J、Al
l1.chem、soc、、94.7587(+972
)、) 、この方法によってもこの酸化は達成される。
(iii)上記工程で得られた光学活性4−イン−6−
オン化合物[IV]のケトン基を不斉還元して、光学活
性4−イン−6−オール化合物[■bコを得る。
オン化合物[IV]のケトン基を不斉還元して、光学活
性4−イン−6−オール化合物[■bコを得る。
この反応に用いられる還元試薬としては、水素化ホウ素
亜鉛が好ましい。この試薬は通常は濃度0.1〜0.5
mol//のジエチルエーテル溶液の形態で使用される
。この反応は、低温好ましくは−20〜−40℃の4−
イン−6〜オン化合物[TV]の反応溶液に同化合物[
IV]に対して1〜2当量の還元試薬を窒素雰囲気に滴
下し、反応混合液を更に5〜30分間攪拌することによ
り達成される。反応溶媒としては、ジエチルエーテル、
テトラヒドロフランなどの非プロトン性無極性溶媒を単
独もしくは混合して用いることが好ましい。
亜鉛が好ましい。この試薬は通常は濃度0.1〜0.5
mol//のジエチルエーテル溶液の形態で使用される
。この反応は、低温好ましくは−20〜−40℃の4−
イン−6〜オン化合物[TV]の反応溶液に同化合物[
IV]に対して1〜2当量の還元試薬を窒素雰囲気に滴
下し、反応混合液を更に5〜30分間攪拌することによ
り達成される。反応溶媒としては、ジエチルエーテル、
テトラヒドロフランなどの非プロトン性無極性溶媒を単
独もしくは混合して用いることが好ましい。
(iv) 上記工程で得られた光学活性4−イン−6
−オール化合物[m b]を部分還元して、光学活性4
−エン−6−オール化合物[V]を得る。
−オール化合物[m b]を部分還元して、光学活性4
−エン−6−オール化合物[V]を得る。
この工程は、4−イン−6−オール化合物〔mblの炭
素−炭素三重結合を部分還元して炭素−炭素二重結合と
し、トランスオレフィン化合物[V]を得るものである
。この反応で使用される還元試薬としては、水素化リチ
ウムアルミニウムが好ましい。この部分還元反応は、4
−イン−6−オール化合物[111b]に対して1〜3
当量の水素化リチウムアルミニウムを含む懸濁液に0℃
で同化合物[mblを加えた後、10〜30分間攪拌還
流を行なうことにより達成される。反応溶媒としては、
ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどの非プロト
ン性無極性溶媒を単独あるいは混合して用いることが好
ましい。
素−炭素三重結合を部分還元して炭素−炭素二重結合と
し、トランスオレフィン化合物[V]を得るものである
。この反応で使用される還元試薬としては、水素化リチ
ウムアルミニウムが好ましい。この部分還元反応は、4
−イン−6−オール化合物[111b]に対して1〜3
当量の水素化リチウムアルミニウムを含む懸濁液に0℃
で同化合物[mblを加えた後、10〜30分間攪拌還
流を行なうことにより達成される。反応溶媒としては、
ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどの非プロト
ン性無極性溶媒を単独あるいは混合して用いることが好
ましい。
(V) 上記工程で得られた光学活性4−エン−6−
オール化合物[V]にトリアルキルオルトアセテ−)C
H3C(OR’ )sを反応させ、更に分子内転移を起
こさせて、光学活性エステル化合物[VIコを得る。
オール化合物[V]にトリアルキルオルトアセテ−)C
H3C(OR’ )sを反応させ、更に分子内転移を起
こさせて、光学活性エステル化合物[VIコを得る。
この工程は、4−エン−6−オール化合物[V]の水酸
基をトリアルキルオルトアセテートとの反応によってア
シル化し、さらに分子内転位によって同化合物[V]を
エステル化合物[VI]へと変換するものである。
基をトリアルキルオルトアセテートとの反応によってア
シル化し、さらに分子内転位によって同化合物[V]を
エステル化合物[VI]へと変換するものである。
この反応は、4−エン−6−オール化合物[■]と、同
化合物[V]に対して1〜5当量のトリアルキルオルト
アセテートと、0.01〜0.3当量の触媒量の酸を溶
媒に溶かし、混合液を140〜180℃で5〜30分間
加熱することにより達成される。トリアルキルオルトア
セテートとしては、トリメチルオルトアセテート、トリ
エチルオルトアセテート、トリプロピルオルトアセテー
ト、トリブチルオルトアセテートなどが好ましく、また
触媒量の酸としてはへキサン酸、ヘプタン酸、オクタン
酸、ノナン酸などが好ましい。反応溶媒としては、通常
キシレンが用いられる。
化合物[V]に対して1〜5当量のトリアルキルオルト
アセテートと、0.01〜0.3当量の触媒量の酸を溶
媒に溶かし、混合液を140〜180℃で5〜30分間
加熱することにより達成される。トリアルキルオルトア
セテートとしては、トリメチルオルトアセテート、トリ
エチルオルトアセテート、トリプロピルオルトアセテー
ト、トリブチルオルトアセテートなどが好ましく、また
触媒量の酸としてはへキサン酸、ヘプタン酸、オクタン
酸、ノナン酸などが好ましい。反応溶媒としては、通常
キシレンが用いられる。
(vi) 上記工程で得られた光学活性エステル化合
物[VI]を還元して、光学活性ヒドロキシエチル化合
物[■コを得る。
物[VI]を還元して、光学活性ヒドロキシエチル化合
物[■コを得る。
この工程は、エステル化合物[VI]のアルキルエステ
ル部を還元して一級アルコールとするものである。
ル部を還元して一級アルコールとするものである。
還元剤としては水素化リチウムアルミニウムか好ましい
。この反応は、エステル化合物[■]に同化合物[VI
]に対して1〜3当量の水素化リチウムアルミニウムを
温度5〜30℃で15〜90分間作用させることにより
達成される。反応溶媒としては、ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフランなどの非プロトン性無極性溶媒を単独
あるいは混合して用いることが好ましい。
。この反応は、エステル化合物[■]に同化合物[VI
]に対して1〜3当量の水素化リチウムアルミニウムを
温度5〜30℃で15〜90分間作用させることにより
達成される。反応溶媒としては、ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフランなどの非プロトン性無極性溶媒を単独
あるいは混合して用いることが好ましい。
(vi+) 上記工程で得られた光学活性ヒドロキシ
エチル化合物[■]を脱水して、光学活性ビニル化合物
[■]を得る。
エチル化合物[■]を脱水して、光学活性ビニル化合物
[■]を得る。
この工程は、ヒドロキシエチル化合物[■]の一級アル
コール部を脱水反応により末端オレフィンとし、ビニル
化合物[■コを得るものである。すなわち、ヒドロキシ
エチル化合物[■]をまずセレン化合物に変換し、これ
を酸化した後、脱離を起こさせることによりビニル化合
物[■]を得る。
コール部を脱水反応により末端オレフィンとし、ビニル
化合物[■コを得るものである。すなわち、ヒドロキシ
エチル化合物[■]をまずセレン化合物に変換し、これ
を酸化した後、脱離を起こさせることによりビニル化合
物[■]を得る。
この反応は、ヒドロキシエチル化合物[■コに対して1
〜3当量のアリールセレンシアニドを含むジエチルエー
テル又はテトラヒドロフランの懸濁液に、ヒドロキシエ
チル化合物[■]を5〜30℃で滴下し、その後、同量
のトリアルキルホスフィン又はトリフェニルホスフィン
を滴下して更に5〜30分間攪拌を続け、次に反応溶液
を0℃に冷却し、10〜40%過酸化水素水を攪拌下漬
下し、混合液を更に1〜5時間攪拌することにより達成
される。
〜3当量のアリールセレンシアニドを含むジエチルエー
テル又はテトラヒドロフランの懸濁液に、ヒドロキシエ
チル化合物[■]を5〜30℃で滴下し、その後、同量
のトリアルキルホスフィン又はトリフェニルホスフィン
を滴下して更に5〜30分間攪拌を続け、次に反応溶液
を0℃に冷却し、10〜40%過酸化水素水を攪拌下漬
下し、混合液を更に1〜5時間攪拌することにより達成
される。
上記アリールセレンシアニドとしては、0−ニトロフェ
ニルセレンシアニド、p−ニトロフェニルセレンシアニ
ドなどが用いられ、またトリアルキルホスフィンとして
は、トリエチルホスフィン、トリプロピルホスフィン、
トリーローブチルホスフィンなどが好ましい。
ニルセレンシアニド、p−ニトロフェニルセレンシアニ
ドなどが用いられ、またトリアルキルホスフィンとして
は、トリエチルホスフィン、トリプロピルホスフィン、
トリーローブチルホスフィンなどが好ましい。
(vii+) 上記工程で得られた光学活性ビニル化
合物[■]を加水分解して、光学活性アルデヒド化合物
[IXコを得る。
合物[■]を加水分解して、光学活性アルデヒド化合物
[IXコを得る。
この工程は、ビニル化合物[■]のアセタール基を酸触
媒の存在下に加水分解してアルデヒド基へ変換するもの
である。この反応は、ビニル化合物〔■コを60〜90
%酢酸とテトラヒドロフランの混合溶媒系に溶かし、温
度20〜60℃で1〜8時間攪拌することによって達成
される。
媒の存在下に加水分解してアルデヒド基へ変換するもの
である。この反応は、ビニル化合物〔■コを60〜90
%酢酸とテトラヒドロフランの混合溶媒系に溶かし、温
度20〜60℃で1〜8時間攪拌することによって達成
される。
この反応で用いられる酸としては、酢酸の他、ギ酸、プ
ロピオン酸、トリフルオロ酢酸などの有機酸や、塩酸、
硫酸などの鉱酸が好ましい。
ロピオン酸、トリフルオロ酢酸などの有機酸や、塩酸、
硫酸などの鉱酸が好ましい。
以下の(ix)から(xii)までの工程は、その大筋
としてはコジコウスキー(Koxikawski)らに
よって開発された手法(J、Av、Chem、Soc、
、104 。
としてはコジコウスキー(Koxikawski)らに
よって開発された手法(J、Av、Chem、Soc、
、104 。
4023、 (1982)、 )に従ってなされる。
(ix) 上記工程で得られた光学活性アルデヒド化
合物[IX]を光学活性オキシム化合物[X]に変換す
る。
合物[IX]を光学活性オキシム化合物[X]に変換す
る。
この反応は、アルデヒド化合物[IX]をピリジンに溶
かし、1〜1.5当量のヒドロキシアミン塩酸塩を加え
、混合液を30〜90分間室温で攪拌することにより達
成される。
かし、1〜1.5当量のヒドロキシアミン塩酸塩を加え
、混合液を30〜90分間室温で攪拌することにより達
成される。
(X) 上記工程で得られた光学活性オキシム化合物
[X]を分子内環化して、光学活性イソオキサゾール誘
導体[X1]を得る。
[X]を分子内環化して、光学活性イソオキサゾール誘
導体[X1]を得る。
この工程は、オキシム化合物[X]のオキシム部とオレ
フィン部で分子内[3+2]環化付加して、同化合物[
X]をイソオキサゾール誘導体[XI]へ変換するもの
である。
フィン部で分子内[3+2]環化付加して、同化合物[
X]をイソオキサゾール誘導体[XI]へ変換するもの
である。
この反応は、オキシム化合物[X]と0.01〜0゜3
当量のトリエチルアミンを溶媒中攪拌し、混合液に低温
好ましくは0℃付近で5〜30%の次亜塩素酸ナトリウ
ムを1〜10当量滴下し、混合液を約0℃で30〜2時
間、更に10〜30℃で5〜24時間攪拌することによ
り達成される。反応溶媒としては、塩化メチレン、クロ
ロホルム、四塩化炭素などが好ましい。
当量のトリエチルアミンを溶媒中攪拌し、混合液に低温
好ましくは0℃付近で5〜30%の次亜塩素酸ナトリウ
ムを1〜10当量滴下し、混合液を約0℃で30〜2時
間、更に10〜30℃で5〜24時間攪拌することによ
り達成される。反応溶媒としては、塩化メチレン、クロ
ロホルム、四塩化炭素などが好ましい。
(xi) 上記工程で得られた光学活性イソオキサゾ
ール誘導体[X同を還元して、光学活性シクロペンタノ
ン誘導体[XITコを得る。
ール誘導体[X同を還元して、光学活性シクロペンタノ
ン誘導体[XITコを得る。
この反応は、イソオキサゾール誘導体[XI]と不活性
化した触媒量のラネーニッケルと三塩化ホウ素のへキサ
ン溶液との混合液を80%メタノール水溶液中で水素ガ
ス雰囲気下で約3時間攪拌することにより達成される。
化した触媒量のラネーニッケルと三塩化ホウ素のへキサ
ン溶液との混合液を80%メタノール水溶液中で水素ガ
ス雰囲気下で約3時間攪拌することにより達成される。
(xIi) 上記工程で得られた光学活性シクロペン
タノン誘導体[XII]を脱水し、光学活性2−メチレ
ンシクロペンタノン誘導体[XIII]を得る。
タノン誘導体[XII]を脱水し、光学活性2−メチレ
ンシクロペンタノン誘導体[XIII]を得る。
この反応は、シクロペンタノン誘導体[Xn]を無水ピ
リジンに溶かし、低温好ましくは0℃付近でメタンスル
ホニルクロリドと作用させることにより達成される。
リジンに溶かし、低温好ましくは0℃付近でメタンスル
ホニルクロリドと作用させることにより達成される。
かくして得られた光学活性2−メチレンシクロペンタノ
ン誘導体[XIII ]は、前記G、ストークらのプロ
スタグランジン合成法に従って、プロスタグランジン(
前記PGF及びPGE )に導くことかできる。
ン誘導体[XIII ]は、前記G、ストークらのプロ
スタグランジン合成法に従って、プロスタグランジン(
前記PGF及びPGE )に導くことかできる。
つぎに、本発明のプロスタグランジン製造中間体を製造
するに当たって、反応経路1の出発原料となる光学活性
ジブロモ化合物[I]と光学活性アルデヒド化合物[■
]の各製造工程についてそれぞれ説明する。
するに当たって、反応経路1の出発原料となる光学活性
ジブロモ化合物[I]と光学活性アルデヒド化合物[■
]の各製造工程についてそれぞれ説明する。
光学活性ジブロモ化合物[+1は反応経路2に従って製
造される。
造される。
反応経路2の各化合物において、基R3及びR−1は反
応経路1のものと同し意味を有し、ACはアセチル基を
意味する。まず、D−マンニトール[XIV]を酸触媒
の存在下でアセトンと反応させて、トリアセトニド[X
VIとし、これを含水酢酸で部分加水分解してテトラオ
ール[XVI ]とする。得られたテトラオール[XV
I ]の2つの一級水酸基のみを選、択的にトシルクロ
リド/ピリジンでトシル化した後、炭酸カリウムなどの
塩基と反応させて、テトラオール[XVI ]をジエポ
キシド[X■コとする。得られたジエポキシド[X■コ
をビニルグリニヤール銅(I)などのビニルアニオン等
価体と反応させて2つのエポキシド環を開環させ、得ら
れたジエン[XXVm ]を塩基性条件下にR’ X
(Xは塩素、臭素、ヨウ素を表わす)と反応させてジエ
ン[X■コとする。
応経路1のものと同し意味を有し、ACはアセチル基を
意味する。まず、D−マンニトール[XIV]を酸触媒
の存在下でアセトンと反応させて、トリアセトニド[X
VIとし、これを含水酢酸で部分加水分解してテトラオ
ール[XVI ]とする。得られたテトラオール[XV
I ]の2つの一級水酸基のみを選、択的にトシルクロ
リド/ピリジンでトシル化した後、炭酸カリウムなどの
塩基と反応させて、テトラオール[XVI ]をジエポ
キシド[X■コとする。得られたジエポキシド[X■コ
をビニルグリニヤール銅(I)などのビニルアニオン等
価体と反応させて2つのエポキシド環を開環させ、得ら
れたジエン[XXVm ]を塩基性条件下にR’ X
(Xは塩素、臭素、ヨウ素を表わす)と反応させてジエ
ン[X■コとする。
次いてジエン[X■]を含水酢酸で加水分解して後、生
成したジオール[XX I X]をピリジン/塩化アセ
チルでアセチル化してジアセトキシジエン[XIXコと
する。得られたジアセトキシジエン[XIX]をオゾン
分解し、生成したアルデヒドをアセタールにして保護し
てテトラメトキシオクタン[XX]とし、これのアセチ
ル基を塩基性条件下で加水分解して、同オクタン[XX
]をジオール[XXIIとする。ジオール[XX11を
炭酸カリウムの存在下で四酢酸鉛、過ヨウ素酸ナトリウ
ムなどと反応させて、炭素−炭素結合を酸化的に切断し
てジオール[XXIIをブタナール[XXII]とし、
次いでこれをトリフェニルホスフィン及びテトラブロモ
メタンと反応させる。かくして、本発明の出発原料であ
るジブロモ化合物[Dが得られる。
成したジオール[XX I X]をピリジン/塩化アセ
チルでアセチル化してジアセトキシジエン[XIXコと
する。得られたジアセトキシジエン[XIX]をオゾン
分解し、生成したアルデヒドをアセタールにして保護し
てテトラメトキシオクタン[XX]とし、これのアセチ
ル基を塩基性条件下で加水分解して、同オクタン[XX
]をジオール[XXIIとする。ジオール[XX11を
炭酸カリウムの存在下で四酢酸鉛、過ヨウ素酸ナトリウ
ムなどと反応させて、炭素−炭素結合を酸化的に切断し
てジオール[XXIIをブタナール[XXII]とし、
次いでこれをトリフェニルホスフィン及びテトラブロモ
メタンと反応させる。かくして、本発明の出発原料であ
るジブロモ化合物[Dが得られる。
今1つの出発原料である光学活性アルデヒド化合物[■
]は、反応経路3に従って製造することができる。反応
経路3の各化合物において、基R1及びR2は反応経路
1のものと同じ意味を有し、Msはメチルスルホキシ基
、Phはフェニル基をそれぞれ意味する。
]は、反応経路3に従って製造することができる。反応
経路3の各化合物において、基R1及びR2は反応経路
1のものと同じ意味を有し、Msはメチルスルホキシ基
、Phはフェニル基をそれぞれ意味する。
まず、D−マンニトール[XIV]より反応経路2の方
法と同様にしてテトラオール[XVl]を得る。得られ
た、テトラオール[XVJ]の2つの一級水酸基のみを
選択的に塩基性条件下でベンゾイル化し、更に2つの二
級水酸基をメシル化して、テトラオール[XVl]をア
セトニド[XXIn1とする。得られたアセトニド[X
XII[]を炭酸カリウムと反応させ、ジエポキシド[
XXIV]とし、更にジエポキシド[XXIV]をCu
CNあるいはCulの存在下にR7MgBr(R7はR
1よりも炭素数が1細巾ない基を意味する)と反応させ
ることによりジオール[XXV]とする。次いでジオー
ル[XXV]を塩基性条件下でR2X (Xは塩素、臭
素、ヨウ素を表わす)と反応させてアセタール[XXV
llとし、得られたアセタール[XXV1コを含水酢酸
で加水分解してジオール[XX■]とした後、四酢酸鉛
あるいは過ヨウ素酸ナトリウムなどで酸化する。かくし
て光学活性アルデヒド化合物[n]が得られる。
法と同様にしてテトラオール[XVl]を得る。得られ
た、テトラオール[XVJ]の2つの一級水酸基のみを
選択的に塩基性条件下でベンゾイル化し、更に2つの二
級水酸基をメシル化して、テトラオール[XVl]をア
セトニド[XXIn1とする。得られたアセトニド[X
XII[]を炭酸カリウムと反応させ、ジエポキシド[
XXIV]とし、更にジエポキシド[XXIV]をCu
CNあるいはCulの存在下にR7MgBr(R7はR
1よりも炭素数が1細巾ない基を意味する)と反応させ
ることによりジオール[XXV]とする。次いでジオー
ル[XXV]を塩基性条件下でR2X (Xは塩素、臭
素、ヨウ素を表わす)と反応させてアセタール[XXV
llとし、得られたアセタール[XXV1コを含水酢酸
で加水分解してジオール[XX■]とした後、四酢酸鉛
あるいは過ヨウ素酸ナトリウムなどで酸化する。かくし
て光学活性アルデヒド化合物[n]が得られる。
反応経路3
閃■ 〔潤〕(xxrv)
[実 施 例コ
本発明の技術的特徴を例証するために、以下に本発明の
実施例と出発原料の合成その他の参考例をいくつか挙げ
る。たたし、これらは本発明を限定するものではない。
実施例と出発原料の合成その他の参考例をいくつか挙げ
る。たたし、これらは本発明を限定するものではない。
これら実施例及び参考例において、上述の説明でローマ
数字[1コ〜[XXIX]で示した化合物群にそれれぞ
れ属する具体的化合物を、上記ロニマ数字に対応するア
ラビア数字[1コ〜[29]で示す。また、割合を示す
%はすべて重量%を示す。
数字[1コ〜[XXIX]で示した化合物群にそれれぞ
れ属する具体的化合物を、上記ロニマ数字に対応するア
ラビア数字[1コ〜[29]で示す。また、割合を示す
%はすべて重量%を示す。
参考例1
45gのD−マンニトール[14コを、濃塩酸1Nを含
むアセトン11中で室温下3日間激しく攪拌した後、炭
酸カリウム50gを加え、更に1日攪拌を続けた。固形
物を吸引濾過で除き、濾液中の溶媒を減圧下に留去し、
得られた残渣に水を加え、析出した結晶を吸引濾取して
粗生成物45gを得た。これをエタノール20層に加熱
溶解した後、溶液を濾過し、濾液を室温に冷却して、析
出した結晶を濾取し、(21?、3I?、4R,5R)
体のトリアセトニド[15] 37.3g (収率50
%)を得た。
むアセトン11中で室温下3日間激しく攪拌した後、炭
酸カリウム50gを加え、更に1日攪拌を続けた。固形
物を吸引濾過で除き、濾液中の溶媒を減圧下に留去し、
得られた残渣に水を加え、析出した結晶を吸引濾取して
粗生成物45gを得た。これをエタノール20層に加熱
溶解した後、溶液を濾過し、濾液を室温に冷却して、析
出した結晶を濾取し、(21?、3I?、4R,5R)
体のトリアセトニド[15] 37.3g (収率50
%)を得た。
’HNMR(CC/4) δ: 1.40([iH、
s 。
s 。
C)+3 X2) 、 1.43(12)1. s、
CH3X4) 、 3.7−4゜O%酢酸50111
中40℃で3,5時間攪拌した後、反3液を40℃でて
きるだけ速やかに減圧濃縮し、4渣にアセトンを加え、
結晶化したD−マンニトール(0,72g)を濾別し、
濾液よりアセトンを減圧留去してシロップ状の生成物を
得た。これをベンゼン50層で再結晶し、(2L 3R
,415R)体のテトラオール[1B]8.8 g (
収率80%)を得た。
CH3X4) 、 3.7−4゜O%酢酸50111
中40℃で3,5時間攪拌した後、反3液を40℃でて
きるだけ速やかに減圧濃縮し、4渣にアセトンを加え、
結晶化したD−マンニトール(0,72g)を濾別し、
濾液よりアセトンを減圧留去してシロップ状の生成物を
得た。これをベンゼン50層で再結晶し、(2L 3R
,415R)体のテトラオール[1B]8.8 g (
収率80%)を得た。
’HNMR(D20) δ : 1.38
(6H,s 。
(6H,s 。
CH3X2)、 3.3 4.2(8H,m 、
CH2、CH)。
CH2、CH)。
上記工程と同様にして得た( 2R,3R,4R,5R
)ヘキサン−1,2,5,8−テトラオール[1[i]
31.8 g(0,14mol )の無水ピリジン 1
24/71/溶液に、0℃で攪拌下p−トルエンスルホ
ニルクロリド60.4g (0,32mol )を加え
、混合液を同温度で3時間攪拌し、更に室温で2時間攪
拌した。薄層クロマトグラフィーで反応の完結を確認し
、反応混合物にジエチルエーテル40aII/ヲ加工、
セライトを通して濾過を行ない、溶媒を減圧下に留去し
た。残虐にメタノール300r/I11炭酸カリウム4
0.5g (0,29mol)を加え、混合液を室温で
4時間攪拌した。反応混合物にジエチルエーテル200
r11を加え、セライトを通して濾過し、濾液を減圧下
で溶媒留去し、(2R,3L 415R)ジエポキシド
CLU19.18 gを得た。収率35%。
)ヘキサン−1,2,5,8−テトラオール[1[i]
31.8 g(0,14mol )の無水ピリジン 1
24/71/溶液に、0℃で攪拌下p−トルエンスルホ
ニルクロリド60.4g (0,32mol )を加え
、混合液を同温度で3時間攪拌し、更に室温で2時間攪
拌した。薄層クロマトグラフィーで反応の完結を確認し
、反応混合物にジエチルエーテル40aII/ヲ加工、
セライトを通して濾過を行ない、溶媒を減圧下に留去し
た。残虐にメタノール300r/I11炭酸カリウム4
0.5g (0,29mol)を加え、混合液を室温で
4時間攪拌した。反応混合物にジエチルエーテル200
r11を加え、セライトを通して濾過し、濾液を減圧下
で溶媒留去し、(2R,3L 415R)ジエポキシド
CLU19.18 gを得た。収率35%。
bp:85 〜90℃、
’HNMR(CDC13) δ : 1.45
(6H。
(6H。
s )、 2.72 (2H,dd、 J
−3,9、4,6Hz )、 2゜83 (2H
,dd、 J −4,1、4,6Hz)、 3.
0−3.2(2H,m ) 、 3.7−3.9
(2H,m ) 。
−3,9、4,6Hz )、 2゜83 (2H
,dd、 J −4,1、4,6Hz)、 3.
0−3.2(2H,m ) 、 3.7−3.9
(2H,m ) 。
シアン化第1銅327mgと無水テトラヒドロフラン2
00層の混合物に別途調製した濃度1.5Mのビニール
マグネシウムクロリド溶液72m (0゜108M)を
0℃で5分間かけて加えた。更に5分間攪拌後、上記(
2R,3R,4,Y、 51?)ジエポキシド[17]
6.67g (35,9mM)の無水テトラヒドロフラ
ン20111溶液を0℃で攪拌下10分間かけて滴下し
、更に1時間攪拌を続けた。反応の完結を薄層クロマト
グラフィーで確認した後、塩化アンモニウムと飽和食塩
水を加え、30分間攪拌後、エチルエーテルで3回抽出
を行なった。抽出液を併せてl規定塩酸、飽和重曹水及
び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、溶媒を減圧下に留去して、(UR,5R,6R,
7R) 4.7−シヒドロキシデカー1.9−ジエン[
2g] 7.38 g (30,51gM)を得た。収
率85%。
00層の混合物に別途調製した濃度1.5Mのビニール
マグネシウムクロリド溶液72m (0゜108M)を
0℃で5分間かけて加えた。更に5分間攪拌後、上記(
2R,3R,4,Y、 51?)ジエポキシド[17]
6.67g (35,9mM)の無水テトラヒドロフラ
ン20111溶液を0℃で攪拌下10分間かけて滴下し
、更に1時間攪拌を続けた。反応の完結を薄層クロマト
グラフィーで確認した後、塩化アンモニウムと飽和食塩
水を加え、30分間攪拌後、エチルエーテルで3回抽出
を行なった。抽出液を併せてl規定塩酸、飽和重曹水及
び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、溶媒を減圧下に留去して、(UR,5R,6R,
7R) 4.7−シヒドロキシデカー1.9−ジエン[
2g] 7.38 g (30,51gM)を得た。収
率85%。
[α]25
D:+6.83゜
(C−1,20[) 、 CHC/、 ) 。
’HNMR(CDC/3 ) δ: L、40 (
6H。
6H。
s ) 、 2.0−2.8 (4H,m ) 、
2.85−3.38 (2)1゜br s) 、 3.
4−3.85 (4H,m ) 、 5.0−5.3(
4H,m ) 、 5.6−6.15 (2H,tn
) 。
2.85−3.38 (2)1゜br s) 、 3.
4−3.85 (4H,m ) 、 5.0−5.3(
4H,m ) 、 5.6−6.15 (2H,tn
) 。
13CNMR(CDC/、’) δ: 27.0.
38.6゜72.2.82.7. 108.9 、 1
18.1 、 134.3 。
38.6゜72.2.82.7. 108.9 、 1
18.1 、 134.3 。
上記(4L5R,6R,7R) 4.7−シヒドロキシ
デカー1,9−ジエン [2g17.38 g (30
,5mM)を無水テトラヒドロフラン30111に溶か
し、これに水素化ナトリウム0.48g (1,07
mM )の無水テトラヒドロフラン100が懸濁液を還
流下15分間かけて滴下し、混合液を更に1時間攪拌下
還流した後、0℃に冷却した。この懸濁液にDC−18
−クラウンエーテル−6の132mgと臭化ベンジル9
.3ml(78mol )を0℃で加え、4時間攪拌下
還流を行なった。減圧下溶媒留去後、1規定塩酸を加え
、ヘキサンで抽出を行なった。抽出液を飽和重曹水と飽
和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
、溶媒を減圧下に留去して、(4R,5L 6R,7R
> 4.7−ジペンジルオキシデカー1.9−ジエン
[18コ11.3g (26,8mM)を得た。収率8
8%。
デカー1,9−ジエン [2g17.38 g (30
,5mM)を無水テトラヒドロフラン30111に溶か
し、これに水素化ナトリウム0.48g (1,07
mM )の無水テトラヒドロフラン100が懸濁液を還
流下15分間かけて滴下し、混合液を更に1時間攪拌下
還流した後、0℃に冷却した。この懸濁液にDC−18
−クラウンエーテル−6の132mgと臭化ベンジル9
.3ml(78mol )を0℃で加え、4時間攪拌下
還流を行なった。減圧下溶媒留去後、1規定塩酸を加え
、ヘキサンで抽出を行なった。抽出液を飽和重曹水と飽
和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
、溶媒を減圧下に留去して、(4R,5L 6R,7R
> 4.7−ジペンジルオキシデカー1.9−ジエン
[18コ11.3g (26,8mM)を得た。収率8
8%。
’HNMR(CDC/3 ) δ: 1.39 C6
H。
H。
s ) 、 2.42(4H,br t、 J −6H
り 、 3 、60(2H,m ) 、 4.06 (
2H,m ) 、 4.54 (41(、ABq)、
4.98−5.22 (4H,m )’、 5.74−
8.03 (2H,l11)、 7.28 (IOH、
s ) 。
り 、 3 、60(2H,m ) 、 4.06 (
2H,m ) 、 4.54 (41(、ABq)、
4.98−5.22 (4H,m )’、 5.74−
8.03 (2H,l11)、 7.28 (IOH、
s ) 。
”CNMR(CD C/ 3 ) δ: 27.28
、34.55 、71.79 、79.65 、11
6.99.127.33.127゜82、128.07
.12B、85.134.71.138.31゜I
R(neat) : 1641. 1089.
1071. 913 、 872 、 778
、 736 、 697 ca+−’。
、34.55 、71.79 、79.65 、11
6.99.127.33.127゜82、128.07
.12B、85.134.71.138.31゜I
R(neat) : 1641. 1089.
1071. 913 、 872 、 778
、 736 、 697 ca+−’。
上記(4R,5R,6R,7R) 4.7−ジペンジ
ルオキシデカー1.9−ジエン[18]114g (2
8,8mM)を80%酢酸100力中100℃で10時
間加熱攪拌した後、溶媒を減圧留去し、次いでジエチル
エーテルで抽出を行ない、抽出液を苛性ソーダ水溶液で
洗浄し、水層を更にジエチルエーテルで抽出した。抽出
液を併せて1規定塩酸、飽和重曹水及び食塩水で順次洗
浄して無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留
去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ジ
エチルエーテル:ヘキサン−1=4の画分より(415
R。
ルオキシデカー1.9−ジエン[18]114g (2
8,8mM)を80%酢酸100力中100℃で10時
間加熱攪拌した後、溶媒を減圧留去し、次いでジエチル
エーテルで抽出を行ない、抽出液を苛性ソーダ水溶液で
洗浄し、水層を更にジエチルエーテルで抽出した。抽出
液を併せて1規定塩酸、飽和重曹水及び食塩水で順次洗
浄して無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留
去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ジ
エチルエーテル:ヘキサン−1=4の画分より(415
R。
6R,7R) 4.7−ジペンジルオキシデカー1,
9−ジエン−5,6−ジオール[29]8.71 g
(22,811IM)を得た。収率85%。
9−ジエン−5,6−ジオール[29]8.71 g
(22,811IM)を得た。収率85%。
’HNMR(CDC/3 ) δ: 2.40 C4
H。
H。
br t、 J =6Hz )、 3.54
−3.92 (4H,m )、 4゜53、 4
.69 (4H,ABq 、 J−11,2Hり、
4.97−5.29 (4H,ta ) 、
5.56−8.14 (2)(、m ) 、
7.32(IOH,s )。
−3.92 (4H,m )、 4゜53、 4
.69 (4H,ABq 、 J−11,2Hり、
4.97−5.29 (4H,ta ) 、
5.56−8.14 (2)(、m ) 、
7.32(IOH,s )。
I R(neat) : 3468. 1B
40. 1092. 102g。
40. 1092. 102g。
914 、 737 、 898 cm−’。
上記(4R,5R,6R,7R)4.7−ジペンジルオ
キシデカー1.9−ジエン−5,6−ジオール[29]
8.71g (22,8mM)とピリジン4.33g
(54,8mM)を塩化メチレン100m1に溶か
し、塩化アセチル4,30g (54,8mM)を攪
拌下に滴下し、混合液を25℃で3時間攪拌した。反応
混合物を0.5規定塩酸、飽和重曹水及び飽和食塩水で
順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒
を減圧留去し、(41?、5R,6R,7R) 5.6
−ジアセトキシー4゜7−ジペンジルオキシデカー1.
9−ジエン[1919,55g (20,5mM)を得
た。収率90%。
キシデカー1.9−ジエン−5,6−ジオール[29]
8.71g (22,8mM)とピリジン4.33g
(54,8mM)を塩化メチレン100m1に溶か
し、塩化アセチル4,30g (54,8mM)を攪
拌下に滴下し、混合液を25℃で3時間攪拌した。反応
混合物を0.5規定塩酸、飽和重曹水及び飽和食塩水で
順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒
を減圧留去し、(41?、5R,6R,7R) 5.6
−ジアセトキシー4゜7−ジペンジルオキシデカー1.
9−ジエン[1919,55g (20,5mM)を得
た。収率90%。
’HNMR(CD C/ 3 ) δ :
20口0(61(。
20口0(61(。
s)、 2.37(4H、br t、 J =
6Hz)、 3.58 (2H,brq、J −5
Hx )、4.50(4H、s)、 5.00−
5.19(4H、m)、 5.40(2H,br
d、 J =3.8Hz)、 5.70−5
.95(2H、Il+)、 7.32(IOH、s
)、I3CNMR(CD C/ s ) δ
: 21.07 、 34.30. 71.3
1. 72.32. 77.76 、 117.8
4. 128゜14、 12g、41. 128.67
、 134.52. 138.3L、 170.53
、IR(neat) : 1744. 1B42
. 1370. 1224. 1090゜915 、
738 、 898 0m−’。
6Hz)、 3.58 (2H,brq、J −5
Hx )、4.50(4H、s)、 5.00−
5.19(4H、m)、 5.40(2H,br
d、 J =3.8Hz)、 5.70−5
.95(2H、Il+)、 7.32(IOH、s
)、I3CNMR(CD C/ s ) δ
: 21.07 、 34.30. 71.3
1. 72.32. 77.76 、 117.8
4. 128゜14、 12g、41. 128.67
、 134.52. 138.3L、 170.53
、IR(neat) : 1744. 1B42
. 1370. 1224. 1090゜915 、
738 、 898 0m−’。
上記(4R,5R,6R,7R)5.6−ジアセドキシ
ー4,7−ジペンジルオキシデカー1,9−ジエン[1
9] 9.55g(20,5+aM)を無水メタノール
9501に溶かし、−78℃に冷却し、攪拌下オゾンガ
スを反応液が青色を呈するまで導入し、同温度で更に1
5分間攪拌を続けた後、蒸留したジメチルスルフィド1
5度を加え、反応液を室温に戻し、5時間攪拌した。反
応混合液にp〜トルエンスルホン酸0゜2gを加え、室
温で10時間攪拌後、炭酸カリウムlOgを加え、懸濁
液を3時間攪拌した。反応液を濾過し、濾液を減圧留去
し、残渣にジエチルエーテルと水を加えて、抽出を行な
い、水層を更にジエチルエーテルで抽出した。抽出液を
併せて飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに付し、酢酸エチル:ヘキサン−1:1
の画分より(3R,4R。
ー4,7−ジペンジルオキシデカー1,9−ジエン[1
9] 9.55g(20,5+aM)を無水メタノール
9501に溶かし、−78℃に冷却し、攪拌下オゾンガ
スを反応液が青色を呈するまで導入し、同温度で更に1
5分間攪拌を続けた後、蒸留したジメチルスルフィド1
5度を加え、反応液を室温に戻し、5時間攪拌した。反
応混合液にp〜トルエンスルホン酸0゜2gを加え、室
温で10時間攪拌後、炭酸カリウムlOgを加え、懸濁
液を3時間攪拌した。反応液を濾過し、濾液を減圧留去
し、残渣にジエチルエーテルと水を加えて、抽出を行な
い、水層を更にジエチルエーテルで抽出した。抽出液を
併せて飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに付し、酢酸エチル:ヘキサン−1:1
の画分より(3R,4R。
5R,5R)4.5−ジアセトキシ−3,6−ジペンジ
ルオキシー1.1,8.8−テトラメトキシオクタン[
2o]8.4.1g (15,OlnM)を得た。収
率73%。
ルオキシー1.1,8.8−テトラメトキシオクタン[
2o]8.4.1g (15,OlnM)を得た。収
率73%。
上記と同じ経路を経て得られた(3R,4R,5I?、
6R)4.5〜ジアセトキシ−3,6−ジベンジルオキ
シ−1,L、8.8−テトラメトキシオクタン[20]
9.78 g (17,4mM) トRWRfy !
J ラム8.17g(43,5mM)をメタノール10
0m1に加え、攪拌下2時間加熱還流を行ない、薄層ク
ロマトグラフィーで反応の完結を確認した後、減圧下に
溶媒を留去した。
6R)4.5〜ジアセトキシ−3,6−ジベンジルオキ
シ−1,L、8.8−テトラメトキシオクタン[20]
9.78 g (17,4mM) トRWRfy !
J ラム8.17g(43,5mM)をメタノール10
0m1に加え、攪拌下2時間加熱還流を行ない、薄層ク
ロマトグラフィーで反応の完結を確認した後、減圧下に
溶媒を留去した。
残渣に水を加え、ジエチルエーテルで抽出し、抽出液を
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、
溶媒を減圧留去し、(31?、41?。
飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、
溶媒を減圧留去し、(31?、41?。
5R,6R) 3.6−ジペンジルオキシー1.L、8
.ll −テトラメトキシオクタン−4,5−ジオール
[21コア、55g (15,8mM)を得た。収率9
1x0’HNFvIR(CD C/ 3 ) 6 :
1.77−2.17(4H,m)、 3.03 、
3.23(2H,br d) 、 3.28(8H
。
.ll −テトラメトキシオクタン−4,5−ジオール
[21コア、55g (15,8mM)を得た。収率9
1x0’HNFvIR(CD C/ 3 ) 6 :
1.77−2.17(4H,m)、 3.03 、
3.23(2H,br d) 、 3.28(8H
。
s)、 3.30(8H、s ) 、 3.64−3
.98(4H、m)、 4.38−4.85 (2H
,m)、 4.63(4H,s)、 7.32(I
OH。
.98(4H、m)、 4.38−4.85 (2H
,m)、 4.63(4H,s)、 7.32(I
OH。
S)。
上記(3R,4R,5R,6R) 3.6−ジベンジル
オキシ−1,1,8,8−テトラメトキシオクタン−4
,5−ジオール[21コア、55g(15,8mM)、
炭酸カリウム6652g (481nM)及び無水ベ
ンゼン200I111の混合物中に、攪拌下O℃で4酢
酸鉛10.46g (21,51uM)を加え、0℃で
10分間攪拌した。薄層クロマトグラフィーで反応の完
結を確認した後、反応混合物にヘキサンを加え、混合液
をセライト−545を通して濾過し、濾液を飽和重曹水
で洗浄した。水層をジエチルエーテルで抽出し、抽出液
を併せて飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した後、溶媒を減圧下に留去し、(R)2−ベンジ
ルオキシ−4,4−ジメトキシブタナール[22] 6
.17g (25,9mM)を得た。収率82%。
オキシ−1,1,8,8−テトラメトキシオクタン−4
,5−ジオール[21コア、55g(15,8mM)、
炭酸カリウム6652g (481nM)及び無水ベ
ンゼン200I111の混合物中に、攪拌下O℃で4酢
酸鉛10.46g (21,51uM)を加え、0℃で
10分間攪拌した。薄層クロマトグラフィーで反応の完
結を確認した後、反応混合物にヘキサンを加え、混合液
をセライト−545を通して濾過し、濾液を飽和重曹水
で洗浄した。水層をジエチルエーテルで抽出し、抽出液
を併せて飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した後、溶媒を減圧下に留去し、(R)2−ベンジ
ルオキシ−4,4−ジメトキシブタナール[22] 6
.17g (25,9mM)を得た。収率82%。
トリフェニルホスフィン24.5g (93,4rA
M)の無水塩化メチレン120m1溶液中に、攪拌下0
℃でテトラブロモメタン15 、4g (46、5mM
)を滴下し、10分間同温度で攪拌した後、上記(R)
2−ベンジルオキシ−4,4−ジメトキシブタナール[
221B、17g (25,9a+M)の無水塩化メチ
レン24IR1溶液を加え、混合液を室温に戻し、3時
間同温度で攪拌した。反応の完結を薄層クロマトグラフ
ィーで確認した後、ヘキサン8001を加え、懸濁液を
セライト−545を通して濾過し、濾液を飽和重曹水で
洗浄し、水層をジエチルエーテルで抽出した。抽出液を
併せて飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに付し、ジエチルエーテル:ヘキサン−
1:10の画分より(R)3−ベンジルオキシ−1,1
−ジブロモ−5,5−ジメトキシペンタ−1−エン[1
] 7.25g (18,4mM)を得た。収率71
%。
M)の無水塩化メチレン120m1溶液中に、攪拌下0
℃でテトラブロモメタン15 、4g (46、5mM
)を滴下し、10分間同温度で攪拌した後、上記(R)
2−ベンジルオキシ−4,4−ジメトキシブタナール[
221B、17g (25,9a+M)の無水塩化メチ
レン24IR1溶液を加え、混合液を室温に戻し、3時
間同温度で攪拌した。反応の完結を薄層クロマトグラフ
ィーで確認した後、ヘキサン8001を加え、懸濁液を
セライト−545を通して濾過し、濾液を飽和重曹水で
洗浄し、水層をジエチルエーテルで抽出した。抽出液を
併せて飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに付し、ジエチルエーテル:ヘキサン−
1:10の画分より(R)3−ベンジルオキシ−1,1
−ジブロモ−5,5−ジメトキシペンタ−1−エン[1
] 7.25g (18,4mM)を得た。収率71
%。
[α コ 25
D: +13.78 @
(C−L、OLB 、 CHC/ 3 ) 。
’HNMR(CDC13) δ: 1.75−2.0
2(2H,m)、 3.28(3H,、s) 、
3.30(3H,s)、 4.LO−4,80(4H
、m)、 8.43(LH,d 、 J −8,8H
z ) 。
2(2H,m)、 3.28(3H,、s) 、
3.30(3H,s)、 4.LO−4,80(4H
、m)、 8.43(LH,d 、 J −8,8H
z ) 。
7.26(5H,s)。
r R(neat) : 1615. 11
00−10[i(]、 735. 695cm−
’。
00−10[i(]、 735. 695cm−
’。
参考例2
光学活性アルデヒド[2コの合成
参考例1と同様にしてD−マンニトール[14]から得
たテトラオール[16コ15.3 g (0,[169
mol)、無水ピリジン55カ(0,68mol )及
び塩化メチレン50!Ilの溶液中に、−7Q℃で塩化
ベンゾイル16rttl (0,H8mol)と無水塩
化メチレン5がの混合液を15分間かけて滴下し、滴下
後見に一30℃で1時間及び室温で10時間攪拌した。
たテトラオール[16コ15.3 g (0,[169
mol)、無水ピリジン55カ(0,68mol )及
び塩化メチレン50!Ilの溶液中に、−7Q℃で塩化
ベンゾイル16rttl (0,H8mol)と無水塩
化メチレン5がの混合液を15分間かけて滴下し、滴下
後見に一30℃で1時間及び室温で10時間攪拌した。
反応の完結を薄層クロマトグラフィーで確認した後、溶
媒を減圧留去した。この残渣にメタンスルホニルクロリ
ド11.2カ(0,144mol)を0℃で20分間か
けて加え、更にこの懸濁液を室温で3日間攪拌した。反
応の完結を薄層クロマトグラフィーで確認した後、反応
混合物にエチルエーテル:へキサン−7二3(容量)の
混合溶媒1007&を加え、この黄色の懸濁液をセライ
ト−545で濾過し、溶媒を減圧留去した。得られた褐
色の残渣を塩化メチレンで希釈し、濃塩酸を加えて酸性
にした後、塩化メチレンで3回抽出を行なった。
媒を減圧留去した。この残渣にメタンスルホニルクロリ
ド11.2カ(0,144mol)を0℃で20分間か
けて加え、更にこの懸濁液を室温で3日間攪拌した。反
応の完結を薄層クロマトグラフィーで確認した後、反応
混合物にエチルエーテル:へキサン−7二3(容量)の
混合溶媒1007&を加え、この黄色の懸濁液をセライ
ト−545で濾過し、溶媒を減圧留去した。得られた褐
色の残渣を塩化メチレンで希釈し、濃塩酸を加えて酸性
にした後、塩化メチレンで3回抽出を行なった。
抽出液を飽和重曹水と飽和食塩水で順次洗浄した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去し、(2
R,3S、4S、5R)体の褐色半固体(式中、MSは
メチルスルホキシ基、Phはフェニル基をそれぞれ意味
する) 上記アセトニド[23]42 gと炭酸カリウム20g
をメタノール130カ中で15時間攪拌した後、反応液
をセライト−545を通して濾過し、濾液ヲ40℃で減
圧濃縮し、エチルエーテル:ヘキサン−7二3(容量)
の混合溶媒30層を加えて、混合液を再度セライト−5
45で濾過し、溶媒を40℃で減圧留去し、更に減圧蒸
留により粗生成物を得た。これをさらにベンセンで再結
晶し、(2s、 3R,4R,5S )体のジエポキシ
ド[24] 2.7g(収率219g)を得た。
水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去し、(2
R,3S、4S、5R)体の褐色半固体(式中、MSは
メチルスルホキシ基、Phはフェニル基をそれぞれ意味
する) 上記アセトニド[23]42 gと炭酸カリウム20g
をメタノール130カ中で15時間攪拌した後、反応液
をセライト−545を通して濾過し、濾液ヲ40℃で減
圧濃縮し、エチルエーテル:ヘキサン−7二3(容量)
の混合溶媒30層を加えて、混合液を再度セライト−5
45で濾過し、溶媒を40℃で減圧留去し、更に減圧蒸
留により粗生成物を得た。これをさらにベンセンで再結
晶し、(2s、 3R,4R,5S )体のジエポキシ
ド[24] 2.7g(収率219g)を得た。
’HNPvIR(CD Cl 3 ) δ: 1.3
9 (6H。
9 (6H。
s、 CH3X2) 、 2.6 −2.9(4H,
m、 CH2X2 ) 、 2.95−3.12 (
2Fl、 m 、 CH) 、 3.7−3゜95
(2H,m 、 CH) 。
m、 CH2X2 ) 、 2.95−3.12 (
2Fl、 m 、 CH) 、 3.7−3゜95
(2H,m 、 CH) 。
シアン化第−銅320mgと無水テトラヒドロフラン1
00I111の混合物に、別途調製した濃度1,47m
olのn−ブチルマグネシウムプロミドのエーテル溶液
64 IIIl(94mol )を0℃で5分間かけて
加えた。更に5分間攪拌後、上記ジエボキシド[241
6,4ftgの無水テトラヒドロフラン50L4溶液を
0℃で攪拌下10分間かけて滴下し、更に1時間攪拌を
続けた。反応の完結を薄層クロマトグラフィーで確認し
た後、塩化アンモニウムと飽和食塩水を加え、30分間
攪拌後、エチルエーテルで3回抽出を行なった。抽出液
を併せて1規定塩酸、飽和重曹水及び飽和食塩水で順次
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥して濾過し、濾液
の溶媒を留去し、(6S、 7L SR,98)体の粗
ジ(式中、Bnはベンジル基を意味し、以下の式におい
ても同じ) 上記粗ジオール[25コを無水テトラヒドロフラン30
属に溶かし、これに水素化ナトリウム0.48g (1
,07m mol )の無水テトラヒドロフラン100
m1懸濁液を還流下15分間かけて滴下し、混合液を更
に1時間攪拌還流した後0℃に冷却した。
00I111の混合物に、別途調製した濃度1,47m
olのn−ブチルマグネシウムプロミドのエーテル溶液
64 IIIl(94mol )を0℃で5分間かけて
加えた。更に5分間攪拌後、上記ジエボキシド[241
6,4ftgの無水テトラヒドロフラン50L4溶液を
0℃で攪拌下10分間かけて滴下し、更に1時間攪拌を
続けた。反応の完結を薄層クロマトグラフィーで確認し
た後、塩化アンモニウムと飽和食塩水を加え、30分間
攪拌後、エチルエーテルで3回抽出を行なった。抽出液
を併せて1規定塩酸、飽和重曹水及び飽和食塩水で順次
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥して濾過し、濾液
の溶媒を留去し、(6S、 7L SR,98)体の粗
ジ(式中、Bnはベンジル基を意味し、以下の式におい
ても同じ) 上記粗ジオール[25コを無水テトラヒドロフラン30
属に溶かし、これに水素化ナトリウム0.48g (1
,07m mol )の無水テトラヒドロフラン100
m1懸濁液を還流下15分間かけて滴下し、混合液を更
に1時間攪拌還流した後0℃に冷却した。
この懸濁液にDC−18−クラウンエーテル−6の13
2mgと臭化ベンジル9.3が(78mol )を0℃
で加え、4時間攪拌下還流を行なった。反応液を減圧濃
縮し、1規定塩酸の添加後へキサンで3回抽8し、抽圧
液を併せて飽和重曹水と飽和食塩水で順次洗浄し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、(
65,7R,lit、9S)体のアセトニド[26コを
得た。
2mgと臭化ベンジル9.3が(78mol )を0℃
で加え、4時間攪拌下還流を行なった。反応液を減圧濃
縮し、1規定塩酸の添加後へキサンで3回抽8し、抽圧
液を併せて飽和重曹水と飽和食塩水で順次洗浄し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、(
65,7R,lit、9S)体のアセトニド[26コを
得た。
上記アセトニド[26コを80%酢酸10011/中1
00℃で10時間加熱攪拌した後、溶媒を減圧留去し、
次いでエチルエーテルで抽出を行ない、抽出液を苛性ソ
ーダ水溶液で洗浄し、水層は更にエチルエーテルで抽出
した。抽出液を併せて1規定塩酸、飽和重曹水及び食塩
水で順次洗浄して無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶
媒の留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(エ
チルエーテル:ヘキサン−1:4(容量)で溶出)で精
製し、(6S、 7R,8R,9S)体のジオール[2
7]8.66gを得た。
00℃で10時間加熱攪拌した後、溶媒を減圧留去し、
次いでエチルエーテルで抽出を行ない、抽出液を苛性ソ
ーダ水溶液で洗浄し、水層は更にエチルエーテルで抽出
した。抽出液を併せて1規定塩酸、飽和重曹水及び食塩
水で順次洗浄して無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶
媒の留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(エ
チルエーテル:ヘキサン−1:4(容量)で溶出)で精
製し、(6S、 7R,8R,9S)体のジオール[2
7]8.66gを得た。
’HNMR(CDC/ 3 ) δ: 0.8g、
([iH。
([iH。
br、CH3X2)、 1.OL、8 (16H、
tn 、 CH2X8)、 3.4−3.7
(4H、m 、 CH)、 4.48 (2
H。
tn 、 CH2X8)、 3.4−3.7
(4H、m 、 CH)、 4.48 (2
H。
d 、 ) − 10.8)1z、 CH)
、 4.l1i2 (2H,d 、
J −10,8Hz、CH)、 7.30
(IOH,s、 C6H5)。
、 4.l1i2 (2H,d 、
J −10,8Hz、CH)、 7.30
(IOH,s、 C6H5)。
上記ジオール[27コ200mg、炭酸カリウム60B
及び無水ベンゼン4,5Nの混合液中に四酢酸鉛260
mgを4℃で加えて開成を3分間攪拌した。
及び無水ベンゼン4,5Nの混合液中に四酢酸鉛260
mgを4℃で加えて開成を3分間攪拌した。
反応終了後へキサン100m1を加え、セライh−54
5を用いて反応液を濾過し、濾液を飽和重曹水て洗浄し
、水層をヘキサンで2回抽出し、抽出液を併せて飽和食
塩水で洗浄した後無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶
媒の留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(エ
チルエーテル:ヘキサン−1:2(容量))で精製して
、(S)−2−ベンジルオキシヘプタナール[2]18
0II1g(収率80%)を得た。
5を用いて反応液を濾過し、濾液を飽和重曹水て洗浄し
、水層をヘキサンで2回抽出し、抽出液を併せて飽和食
塩水で洗浄した後無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶
媒の留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(エ
チルエーテル:ヘキサン−1:2(容量))で精製して
、(S)−2−ベンジルオキシヘプタナール[2]18
0II1g(収率80%)を得た。
〔α]25
Dニー83.23 。
(C−1,014、CHC/、 ) 。
IHNMR(CD Cl 3 ) δ :
0.87 (3H。
0.87 (3H。
t 、 J −5,8Hz 、 CHs )
、 L、0 1.8 (8)1゜m 、
CH2)、 3.73 (l)I、 dt、
J−2,2Hz、 6゜2Hz 、 CH)
、 4.51 (IH,d 、 J −1
1,6t(z、 CH)、 4.85 (IH
,d、 J =11.6Hz、 CH)、
7.35(5H,S、 C6H5)、 9.6
4 N)t、 d、 J =2.2Hz )
。
、 L、0 1.8 (8)1゜m 、
CH2)、 3.73 (l)I、 dt、
J−2,2Hz、 6゜2Hz 、 CH)
、 4.51 (IH,d 、 J −1
1,6t(z、 CH)、 4.85 (IH
,d、 J =11.6Hz、 CH)、
7.35(5H,S、 C6H5)、 9.6
4 N)t、 d、 J =2.2Hz )
。
13CNMRδ : 13.9. 22.4 、
’ 24.4 、 30.1. 31.6.
72.5. 83.6. 128.0. 1
28.5. L37.6. 203.5゜I
R(neat) 二 1728. 1179
、 1119 、 73g。
’ 24.4 、 30.1. 31.6.
72.5. 83.6. 128.0. 1
28.5. L37.6. 203.5゜I
R(neat) 二 1728. 1179
、 1119 、 73g。
898ca+−’。
H
上記(R)3−ベンジルオキシ−1,1−ジブロモ−5
,5−ジメトキシペンター1−エン[1コロ。
,5−ジメトキシペンター1−エン[1コロ。
62g (16,11iM)の無水テトラヒドロフラ
ン100m1溶液を一78℃に冷却し、窒素雰囲気下で
濃度1.62mol//のブチルリチウム/ヘキサン溶
液20.8712/ (33,8mM)を10分間かけ
て滴下し、混合液を〜78℃で更に1時間、室温で1時
間攪拌して、上記化合物[1]を(R)3−ベンジルオ
キシ−5゜5−ジメトキシペンタ−1−インのりチウム
アセチリドに変換した。この反応混合液を再び一78℃
に冷却し、これに(S)2−ベンジルオキシヘプタナー
ル[:2] 3.81g (18,411IM)の無
水テトラヒドロフラン20カ溶液を滴下し、30分間更
に攪拌の後、塩化アンモニウム水溶液を加え、ジエチル
エーテルで3回抽出を行ない、飽和食塩水で抽出液を洗
浄した。抽出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、
溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付し、ジエチルエーテル:ヘキサン−1;3の画分
よりエリトロ体とトレオ体の混合物である(3R,7S
)3.7−ジペンジルオキシー1.1−ジメトキシドデ
カ−4−イン−6−オールC3a35.73g (12
,8mM)を得た。収率77%。
ン100m1溶液を一78℃に冷却し、窒素雰囲気下で
濃度1.62mol//のブチルリチウム/ヘキサン溶
液20.8712/ (33,8mM)を10分間かけ
て滴下し、混合液を〜78℃で更に1時間、室温で1時
間攪拌して、上記化合物[1]を(R)3−ベンジルオ
キシ−5゜5−ジメトキシペンタ−1−インのりチウム
アセチリドに変換した。この反応混合液を再び一78℃
に冷却し、これに(S)2−ベンジルオキシヘプタナー
ル[:2] 3.81g (18,411IM)の無
水テトラヒドロフラン20カ溶液を滴下し、30分間更
に攪拌の後、塩化アンモニウム水溶液を加え、ジエチル
エーテルで3回抽出を行ない、飽和食塩水で抽出液を洗
浄した。抽出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、
溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付し、ジエチルエーテル:ヘキサン−1;3の画分
よりエリトロ体とトレオ体の混合物である(3R,7S
)3.7−ジペンジルオキシー1.1−ジメトキシドデ
カ−4−イン−6−オールC3a35.73g (12
,8mM)を得た。収率77%。
IHNMRCCCl4 ) δ: 0.87(38、
brt) 、 1.05−1.55(8H、m)、
1.77(2H、dd、 J−7Hz)、 3.
18(48,s)、 4.1(l−5,85(11
H,ll1)。
brt) 、 1.05−1.55(8H、m)、
1.77(2H、dd、 J−7Hz)、 3.
18(48,s)、 4.1(l−5,85(11
H,ll1)。
7.35(IOH、s)。
I R(neat) : 3430. 1
0B5 、 738. 697゜595 cm
−’。
0B5 、 738. 697゜595 cm
−’。
無水ジメチルスルホキシド680 mg (8,7mM
)の無水塩化メチレン15rIII溶液にオキザリルジ
クロリド0.38が(4,4mM)を−78℃で5分間
かけて滴下し、更に30分間同温度で攪拌を続けた。こ
の混合液に同温度で上記(3R,7S)3.7−ジペン
ジルオキシー1.1−ジメトキシドデカ−4−イン−6
−オール[3a] 132g (2,9mM)の無水塩
化メチレン溶液10II/を滴下し、10分間同温度で
攪拌し、無水トリエチルアミン2.1a] (15,
311IM)を−度に加えて反応を完結せしめた。この
混合液を1規定塩酸(6,8mM)中に注ぎ込み、水層
を塩化メチレンで3回抽出した。抽出液を併せて飽和塩
化アンモニウム水溶液次いで飽和食塩水で洗浄し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で溶媒を留去し
、(3R,7S)3.7−ジペンジルオキシー1,1−
ジメトキシドデカ−4−イン−5−オン[4コ1.25
g(2,76+nM)を得た。収率95%。
)の無水塩化メチレン15rIII溶液にオキザリルジ
クロリド0.38が(4,4mM)を−78℃で5分間
かけて滴下し、更に30分間同温度で攪拌を続けた。こ
の混合液に同温度で上記(3R,7S)3.7−ジペン
ジルオキシー1.1−ジメトキシドデカ−4−イン−6
−オール[3a] 132g (2,9mM)の無水塩
化メチレン溶液10II/を滴下し、10分間同温度で
攪拌し、無水トリエチルアミン2.1a] (15,
311IM)を−度に加えて反応を完結せしめた。この
混合液を1規定塩酸(6,8mM)中に注ぎ込み、水層
を塩化メチレンで3回抽出した。抽出液を併せて飽和塩
化アンモニウム水溶液次いで飽和食塩水で洗浄し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で溶媒を留去し
、(3R,7S)3.7−ジペンジルオキシー1,1−
ジメトキシドデカ−4−イン−5−オン[4コ1.25
g(2,76+nM)を得た。収率95%。
[α コ 25 : +30.37 。
(C−1,014、CHC/、 ) 。
IHNMR(CDC/3 ) δ: 0.87(3H
。
。
br t) 、 1.05−1.95(8H、m)、
1.95−2.10(2H。
1.95−2.10(2H。
、m) 、 3.26(3H,s)、 3.30(
3H,s)、 3.91(LH。
3H,s)、 3.91(LH。
t+ J−6,3Hz)、 4.22−4.95(
6H,m)、 7.20−7.50(IOH、ff1
)。
6H,m)、 7.20−7.50(IOH、ff1
)。
”CNMR(CDC/、) δ: 13.9. 2
2゜4、 24.8. 31.5. 32.2. 38
.5. 53.1゜53.5. 85.4. 71.3
. 72.5. 83.4. 85.0. 93.1.
101.3. 127.9. 12ft、L、 1
2g、5. 137.2. 137.5. 189.3
゜I R(neat) : 2200. 16g0
、 1130 、 1090、 740. 69
5c回″1゜上記(3R,7S)3.7−ジペンジルオ
キシー1,1−ジメトキシドデカ−4−イン−5−オン
[4] 944mg (2,11℃M)の無水ジエチ
ルエーテル20層溶液中へ、−30℃で濃度0.281
11ol/ lの水素化ホウ素亜鉛/ジエチルエーテル
溶液12.6が(3,3℃M)を窒素雰囲気下5分間か
けて滴下し、更に同温度で30分間攪拌を続けた。反応
終了後、水と0゜5規定塩酸20IIIlを加え、混合
液を0℃で30分間攪拌した。水層をジエチルエーテル
で3回抽出し、抽出液を併せて飽和重曹水と飽和食塩水
で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶
媒を減圧下に留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーに付し、ジエチルエーテル:ヘキサン−1
=3の画分より(3R,SR、7S) 3 、7−ジペ
ンジルオキシー1.1−ジメトキシドデカ−4−イン−
6−オール[3bコロ54B(1,44mM)を得た。
2゜4、 24.8. 31.5. 32.2. 38
.5. 53.1゜53.5. 85.4. 71.3
. 72.5. 83.4. 85.0. 93.1.
101.3. 127.9. 12ft、L、 1
2g、5. 137.2. 137.5. 189.3
゜I R(neat) : 2200. 16g0
、 1130 、 1090、 740. 69
5c回″1゜上記(3R,7S)3.7−ジペンジルオ
キシー1,1−ジメトキシドデカ−4−イン−5−オン
[4] 944mg (2,11℃M)の無水ジエチ
ルエーテル20層溶液中へ、−30℃で濃度0.281
11ol/ lの水素化ホウ素亜鉛/ジエチルエーテル
溶液12.6が(3,3℃M)を窒素雰囲気下5分間か
けて滴下し、更に同温度で30分間攪拌を続けた。反応
終了後、水と0゜5規定塩酸20IIIlを加え、混合
液を0℃で30分間攪拌した。水層をジエチルエーテル
で3回抽出し、抽出液を併せて飽和重曹水と飽和食塩水
で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶
媒を減圧下に留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーに付し、ジエチルエーテル:ヘキサン−1
=3の画分より(3R,SR、7S) 3 、7−ジペ
ンジルオキシー1.1−ジメトキシドデカ−4−イン−
6−オール[3bコロ54B(1,44mM)を得た。
収率69%。
[α] 2” : +50.59゜(C−0,85
4、CHC/ 、 ) 。
4、CHC/ 、 ) 。
’HNMR(CDC/3 ) δ: 0.1!8(
3H。
3H。
br t) 、 1.04−1.90(8H、lQ)
、 1.95−2.18(2H。
、 1.95−2.18(2H。
m)、 2.3=3.6(IH,11)、 3.2
7(3H,s)、 3.30(3H,s)、 3.
38−3.62(IH、l11)、 4.10−4.
90(7H。
7(3H,s)、 3.30(3H,s)、 3.
38−3.62(IH、l11)、 4.10−4.
90(7H。
m)、 7.2−7.6(LOH,m)。
工3CNMR(CDC/ 3 ) δ: 14.0
. 22゜5、 25.3. 30.2. 31.9.
53.1. 53.3゜64.2. 85.6. 7
0.7. 72.5. 81.7. 84.4. 84
.7. 101.7. 127.6. 127.7.
128.0. 12g、3. 128.4. 137.
9. 138.3゜I R(neat) : 34
26. 1091 、 1071 、 738、 69
8cm−’。
. 22゜5、 25.3. 30.2. 31.9.
53.1. 53.3゜64.2. 85.6. 7
0.7. 72.5. 81.7. 84.4. 84
.7. 101.7. 127.6. 127.7.
128.0. 12g、3. 128.4. 137.
9. 138.3゜I R(neat) : 34
26. 1091 、 1071 、 738、 69
8cm−’。
Me(J 8nQ
上記(3R,SR,7S)3.7−ジベンジルオキシ−
l。
l。
■−ジメトキシドデカー4−イン−6−オール[3b]
654mg (1,44mM)の無水テトラヒドロフ
ラン溶液107m溶液を、水素化リチウムアルミニウム
115.7+I1g (3,02mM)の無水テトラ
ヒドロフラン5が懸濁液中に0℃で加え、18分間攪拌
下還流を行なった。反応終了後、酢酸エチル、エタノー
ル、水及び0.1規定塩酸を順次加えた後、水層をジエ
チルエーテルで3回抽出した。抽出液を併せて飽和食塩
水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒
を減圧留去した。
654mg (1,44mM)の無水テトラヒドロフ
ラン溶液107m溶液を、水素化リチウムアルミニウム
115.7+I1g (3,02mM)の無水テトラ
ヒドロフラン5が懸濁液中に0℃で加え、18分間攪拌
下還流を行なった。反応終了後、酢酸エチル、エタノー
ル、水及び0.1規定塩酸を順次加えた後、水層をジエ
チルエーテルで3回抽出した。抽出液を併せて飽和食塩
水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒
を減圧留去した。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ジ
エチルエーテル:ヘキサン−に3の画分より(31?、
8R,7S) 3.7−ジベンジルオキシ−1,1−ジ
メトキシドデカ−4−エン−6−オール[51538m
g (1,18mM)を得た。収率82%。
エチルエーテル:ヘキサン−に3の画分より(31?、
8R,7S) 3.7−ジベンジルオキシ−1,1−ジ
メトキシドデカ−4−エン−6−オール[51538m
g (1,18mM)を得た。収率82%。
[α コ : +28.92 。
(C−1,964、CHC/、 ) 。
lHNMR(CD Cl i ) δ+ 0.88
(3H。
(3H。
br t)−、1,0−1,70(8H,a+)、
1.70−2.04(21,m)。
1.70−2.04(21,m)。
2.14−2.、H(It(、br s) 、 3
.26(3H,s)、 3.28(3H,s)、
3.32−3.60(LH、Il)、 3.76−4
.06(LH、m)、 4.18−4.80(6H、
m)、 5.80−5.84(2H。
.26(3H,s)、 3.28(3H,s)、
3.32−3.60(LH、Il)、 3.76−4
.06(LH、m)、 4.18−4.80(6H、
m)、 5.80−5.84(2H。
m)、 7.04−7.80(IOH,m)。
”CNMR(CDCI、) δ : 14.0.
22゜6、 25.4. 29.7. 32.0. 3
9.1. 52.6゜53.3. 70.3. 72.
3. 72.8. 7B、2. 82.3. LOL
、9. 127.5. 127.7. 128.3.
128.4. 131.9. l32.4. 138
.5. 138.6゜I R(neat) : 34
50. 1140−1040. 738. 898cv
−’。
22゜6、 25.4. 29.7. 32.0. 3
9.1. 52.6゜53.3. 70.3. 72.
3. 72.8. 7B、2. 82.3. LOL
、9. 127.5. 127.7. 128.3.
128.4. 131.9. l32.4. 138
.5. 138.6゜I R(neat) : 34
50. 1140−1040. 738. 898cv
−’。
上記(3R,8R,7S) 3.7−ジベンジルオキシ
−1゜1−ジメトキシドデカ−4−エン−6−オール[
5コ1.15g(2,53mM) 、トリエチルオルト
アセテート1.65 m/ (9,03mM)及び触媒
量のへブタン酸をキシレン15r!Il中160℃で2
0分間加熱反応させ、キシレンと生成したエタノールを
減圧留去し、反応終了後、飽和重曹水を加えた。水層を
ジエチルエーテルで3回抽出し、抽8液を併せて飽和食
塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒
を減圧留去した後、残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ーに付し、ジエチルエーテルニヘキサン−1:10の両
分より(1°R,3S、6S)6−ベンジルオキシ−3
−(1°−ベンジルオキシ−3°、3°−ジメトキシプ
ロピル)ウンデカ−4−エン酸エチル[8] 971m
g (1,85mM)を得た。収率73z0 IHNMR(CDC/、) δ: 0.87(3H
。
−1゜1−ジメトキシドデカ−4−エン−6−オール[
5コ1.15g(2,53mM) 、トリエチルオルト
アセテート1.65 m/ (9,03mM)及び触媒
量のへブタン酸をキシレン15r!Il中160℃で2
0分間加熱反応させ、キシレンと生成したエタノールを
減圧留去し、反応終了後、飽和重曹水を加えた。水層を
ジエチルエーテルで3回抽出し、抽8液を併せて飽和食
塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒
を減圧留去した後、残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ーに付し、ジエチルエーテルニヘキサン−1:10の両
分より(1°R,3S、6S)6−ベンジルオキシ−3
−(1°−ベンジルオキシ−3°、3°−ジメトキシプ
ロピル)ウンデカ−4−エン酸エチル[8] 971m
g (1,85mM)を得た。収率73z0 IHNMR(CDC/、) δ: 0.87(3H
。
br t) 、 1.00−2.00(14H,m)
、 2.18−2.78(2H。
、 2.18−2.78(2H。
m)、 3.24(3H,s)、 3.30(3H
,s)、 3.44−3.82(3)1 、 m>、
4.08(2H、q 、 J−7Hz)、 4
.24−4.90(4H、m)、 5.40−5.8
0(2H、m)、 7A2−7゜GO(IOH,m)
。
,s)、 3.44−3.82(3)1 、 m>、
4.08(2H、q 、 J−7Hz)、 4
.24−4.90(4H、m)、 5.40−5.8
0(2H、m)、 7A2−7゜GO(IOH,m)
。
I R(neat) : 1740. 1130 、
1090 、 740゜705ca+−’。
1090 、 740゜705ca+−’。
上記(1°R,3S、BS) 6−ベンジルオキシ−3
(1′−ベンジルオキシ−3’、3’−ジメトキシプロ
ピル)ウンデカ−4−エン酸エチル[6コ97fmg(
1,85a+M)を無水ジエチルエーテル151111
に溶かし、水素化リチウムアルミニウム1411I1g
(3゜7+*M)を加え、混合液を室温で1時間攪
拌した。
(1′−ベンジルオキシ−3’、3’−ジメトキシプロ
ピル)ウンデカ−4−エン酸エチル[6コ97fmg(
1,85a+M)を無水ジエチルエーテル151111
に溶かし、水素化リチウムアルミニウム1411I1g
(3゜7+*M)を加え、混合液を室温で1時間攪
拌した。
反応混合物に飽和硫酸ナトリウム水溶液衣いて10%水
酸化ナトリウムを加えた後、ジエチルエーテル溶液をデ
カントしてとり、残ったアルミニウム塩をジエチルエー
テルで5回洗浄した。
酸化ナトリウムを加えた後、ジエチルエーテル溶液をデ
カントしてとり、残ったアルミニウム塩をジエチルエー
テルで5回洗浄した。
これらジエチルエーテル溶液を併せて飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に溶媒
を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し
、ジエチルエーテル:ヘキサン−1=6の画分及び塩化
メチレンの画分より(3R,4S、7S) 3.7−ジ
ペンジルオキシー4−(2”−ヒドロキシエチル−1,
1−ジメトキシドデカ−5−エン[7コ8’86[11
g (1,83mM)を得た。収率99%。
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に溶媒
を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し
、ジエチルエーテル:ヘキサン−1=6の画分及び塩化
メチレンの画分より(3R,4S、7S) 3.7−ジ
ペンジルオキシー4−(2”−ヒドロキシエチル−1,
1−ジメトキシドデカ−5−エン[7コ8’86[11
g (1,83mM)を得た。収率99%。
[α]25
Dニー2.19゜
(C輸1.Il4 、 CHC/3 ) 。
’HNMR(CDC13) δ: 0.87(3H。
br t) 、 1.03−2.10(13H,m)
、 2.40−2.76(LH。
、 2.40−2.76(LH。
br) 、 3.24(3H,s)、 3.29(
3H,s)、 3.40−3゜84(3H、i)、
4.20−4.80(6H、m)、 5.40−5
.58(2H、01)、 7.06−7.56(1(
IH,l11)。
3H,s)、 3.40−3゜84(3H、i)、
4.20−4.80(6H、m)、 5.40−5
.58(2H、01)、 7.06−7.56(1(
IH,l11)。
I R(neat) : 3420. 16B5 、
1120 、 1070 。
1120 、 1070 。
729、 898 cロー1゜
0−ニトロフェニルセレンシアニド997o+g(3゜
87gM)の無水テトラヒドロフラン12カ懸濁液に上
記(3R,4S、7S) 3.7−ジペンジルオキシー
4−(2′−ヒドロキシエチル−1,1−ジメトキシド
デカ−5−エン[7コ88[1B(1,8311IM)
を滴下し、混合液を数分間攪拌し、トリーn−ブチルホ
スフィン0.91 m/ (3,6711IM)を滴下
し、10分間攪拌を続けた。反応液を0℃に冷却し、3
5%過酸化水素水を同温度で攪拌下に滴下し、3時間攪
拌後、ジエチルエーテル:ヘキサン−7:3の混合溶媒
で水層を3回抽出した。抽出液を併せて飽和重曹水と飽
和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
、溶媒を減圧下に留去し、残渣より析出した結晶を濾取
して、(3R,4S、7S) 3.7−ジペンジルオキ
シー4−ビニル−1,1−ジメトキシドデカ−5−エン
[8] 778mg(1,6711IM)を得た。収率
91%。
87gM)の無水テトラヒドロフラン12カ懸濁液に上
記(3R,4S、7S) 3.7−ジペンジルオキシー
4−(2′−ヒドロキシエチル−1,1−ジメトキシド
デカ−5−エン[7コ88[1B(1,8311IM)
を滴下し、混合液を数分間攪拌し、トリーn−ブチルホ
スフィン0.91 m/ (3,6711IM)を滴下
し、10分間攪拌を続けた。反応液を0℃に冷却し、3
5%過酸化水素水を同温度で攪拌下に滴下し、3時間攪
拌後、ジエチルエーテル:ヘキサン−7:3の混合溶媒
で水層を3回抽出した。抽出液を併せて飽和重曹水と飽
和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
、溶媒を減圧下に留去し、残渣より析出した結晶を濾取
して、(3R,4S、7S) 3.7−ジペンジルオキ
シー4−ビニル−1,1−ジメトキシドデカ−5−エン
[8] 778mg(1,6711IM)を得た。収率
91%。
’HNMR(CDC/3 ) δ: 0.8B(3
H。
H。
br t) 、 1.00−2.00(LLH,m)
、 3.25(3H,s)。
、 3.25(3H,s)。
3.29(3H,s)、 3.46−3.86(38
、m)、 4.3L 。
、m)、 4.3L 。
4.58(2H,ABq 、 J−11,9Hz)
、 4.48 、 4.84(28,ABq 、
J−LL、2Hz) 、 4.90−5.40(28
。
、 4.48 、 4.84(28,ABq 、
J−LL、2Hz) 、 4.90−5.40(28
。
m)、 5.40−8.14(3H、m)、 7.
18−7.60(IOH,11)。
18−7.60(IOH,11)。
I R(neat) : 2900. 1G30 、
1120 、 109= 5. 1070.
918. 730. 692cm−’。
1120 、 109= 5. 1070.
918. 730. 692cm−’。
上記(3R,4S、7S) 3.7−ジペンジルオキシ
ー4−ビニル−1,1−ジメトキシドデカ−5−エン[
D 778+ag (1,67d)を80%酢酸13
層とテトラヒドロフラン2II11の混合液中で40℃
で5時間加熱攪拌した。反応の完結を薄層クロマトグラ
フィーで確認し、反応液を飽和重曹水中に注ぎ、ジニチ
ル二一テル:ヘキサン−7=3の混合溶媒で3回抽圧を
行なった。抽出液を併せて飽和重曹水と飽和食塩水で順
次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶
媒を留去し、(3R,4S、7S) 3.7−ジペンジ
ルオキシー4−ビニルドデカ−5−エンカルボアルデヒ
ド[9] 70LII1g (1,87+M)を得た
。収率100%。
ー4−ビニル−1,1−ジメトキシドデカ−5−エン[
D 778+ag (1,67d)を80%酢酸13
層とテトラヒドロフラン2II11の混合液中で40℃
で5時間加熱攪拌した。反応の完結を薄層クロマトグラ
フィーで確認し、反応液を飽和重曹水中に注ぎ、ジニチ
ル二一テル:ヘキサン−7=3の混合溶媒で3回抽圧を
行なった。抽出液を併せて飽和重曹水と飽和食塩水で順
次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶
媒を留去し、(3R,4S、7S) 3.7−ジペンジ
ルオキシー4−ビニルドデカ−5−エンカルボアルデヒ
ド[9] 70LII1g (1,87+M)を得た
。収率100%。
〔α]25
D: +3.81’
(C−1,02,CHCl3 )+
’HNMR(CD C/ 3 ) δ : 0.
84(3H。
84(3H。
br t)、 1.06−1.80(8H、m)
、 2.50−2.75(2H。
、 2.50−2.75(2H。
m)、 2.92−3.34(IH、m)、
3.50−3.86(IH、111)。
3.50−3.86(IH、111)。
3.88−4.18(LH、m)、 4.20−4
.80(4H、m)、 4.90−5.44(2H
、m)、 5.44−6.10(3H、m>、
7.05−7.50(LOH,m)、 9.88
(IH,t)。
.80(4H、m)、 4.90−5.44(2H
、m)、 5.44−6.10(3H、m>、
7.05−7.50(LOH,m)、 9.88
(IH,t)。
13CNMR(CDC(! 3 ) 6 :
13.9. 22゜5、 25.0. 31.
6. 35.7. 48.4. 50.3゜70
.1. 72.1. 80.0. 117.1.
127.3. 127.5. 127.7.
128.2. 128.3. 130.7.
134.3. 136.9. 137.9. 1
38.9. 200.7゜I R(neat)
: 1730. 1100 、 1070 、
920゜740、 700co+−’。
13.9. 22゜5、 25.0. 31.
6. 35.7. 48.4. 50.3゜70
.1. 72.1. 80.0. 117.1.
127.3. 127.5. 127.7.
128.2. 128.3. 130.7.
134.3. 136.9. 137.9. 1
38.9. 200.7゜I R(neat)
: 1730. 1100 、 1070 、
920゜740、 700co+−’。
上記(3R,4S、7S) 3.7−ジペンジルオキシ
ー4−ビニルドデカ−5−エンカルボアルデヒド[9コ
ア01mg(1,67a+M)をピリジン5Hに溶かし
、再結晶したヒドロキシアミン・塩酸塩LHB (2
゜00mM)を加え、1時間攪拌した。反応液にエーテ
ル80IIIlを加え、混合液を飽和食塩水で4回洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧下
留去した。残渣をシリカゲルでフラッシュクロマトグラ
フィーに付し、12%のジエチルエーテル/ヘキサン液
で流出した両分より(3R,4S、7S)3.7−ジペ
ンジルオキシー4−ビニルドデカ−5−エンカルボオキ
シム[[O] 55211g(1,27ff1M>を得
た。収率76%。
ー4−ビニルドデカ−5−エンカルボアルデヒド[9コ
ア01mg(1,67a+M)をピリジン5Hに溶かし
、再結晶したヒドロキシアミン・塩酸塩LHB (2
゜00mM)を加え、1時間攪拌した。反応液にエーテ
ル80IIIlを加え、混合液を飽和食塩水で4回洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧下
留去した。残渣をシリカゲルでフラッシュクロマトグラ
フィーに付し、12%のジエチルエーテル/ヘキサン液
で流出した両分より(3R,4S、7S)3.7−ジペ
ンジルオキシー4−ビニルドデカ−5−エンカルボオキ
シム[[O] 55211g(1,27ff1M>を得
た。収率76%。
’HNMR(CDC/3) δ:0.86(3H。
br t) 、 1.0−1.80(8H,m)、
2.30−2.78(2Fl 。
2.30−2.78(2Fl 。
m)、 2.95−3.25(18、br Q) 、
3.40−3.88(21。
3.40−3.88(21。
a+)、 4.18−4.78(4H、m)、 4
.95−6.1B(6H、s)。
.95−6.1B(6H、s)。
7.18−7.60(IOH,m)、
I R(neat) : 3270. 1090−1
060. 915. 738、 695cm−’。
060. 915. 738、 695cm−’。
上記(3R,4S、7S)3.7−ジペンジルオキシー
4−ビニルドデカ−5−エンカルボオキシム[10]5
52B (1,27mM)と触媒量のトリエチルアミン
を塩化メチレン12層に溶かし、0℃で激しく攪拌した
。この溶液に10%次亜塩酸ナトリウム6m1(8,2
mM)を滴下し、混合液を同温度で1時間攪拌した。更
に室温で10時間攪拌後、反応混合物を飽和重曹水中に
注ぎ、水層をジエチルエーテル:ヘキサン−7二3の混
合溶媒で3回抽出し、抽出液を併せて飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に
留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付し、ジエチルエーテル:ヘキサン−3ニアの画分
より光学活性インオキサゾール誘導体[111400a
g (0,93mM)を得た。収率73z0’HNMR
(CD C/ 3 ) δ: 0.87(3H。
4−ビニルドデカ−5−エンカルボオキシム[10]5
52B (1,27mM)と触媒量のトリエチルアミン
を塩化メチレン12層に溶かし、0℃で激しく攪拌した
。この溶液に10%次亜塩酸ナトリウム6m1(8,2
mM)を滴下し、混合液を同温度で1時間攪拌した。更
に室温で10時間攪拌後、反応混合物を飽和重曹水中に
注ぎ、水層をジエチルエーテル:ヘキサン−7二3の混
合溶媒で3回抽出し、抽出液を併せて飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に
留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付し、ジエチルエーテル:ヘキサン−3ニアの画分
より光学活性インオキサゾール誘導体[111400a
g (0,93mM)を得た。収率73z0’HNMR
(CD C/ 3 ) δ: 0.87(3H。
br t) 、 1.0−1.80(8H,11)、
2.2−2.84(2H,m)。
2.2−2.84(2H,m)。
2.88−3.20(IH、m)、 3.20−3.
44(LH、11)、 3.44−4.00(28、
m)、 4.00−4.80(6H、a+)、 5
.00−5.80(28、m)、 7.20−7.6
0(IOH,m)。
44(LH、11)、 3.44−4.00(28、
m)、 4.00−4.80(6H、a+)、 5
.00−5.80(28、m)、 7.20−7.6
0(IOH,m)。
I R(neat) : 1740. 10
90 、 lo[io 、 910゜73
0、 693cm−’。
90 、 lo[io 、 910゜73
0、 693cm−’。
上記光学活性イソオキサゾール誘導体[:ll] 37
4mg(0,88mM)、不活性化したw−2ラネ一ニ
ツケル748mg及びlll1ol/l濃度の三塩化ホ
ウ素のヘキサン溶液0.88111を、80%メタノー
ル水溶液80カ中で水素ガス雰囲気下で3時間攪拌した
。
4mg(0,88mM)、不活性化したw−2ラネ一ニ
ツケル748mg及びlll1ol/l濃度の三塩化ホ
ウ素のヘキサン溶液0.88111を、80%メタノー
ル水溶液80カ中で水素ガス雰囲気下で3時間攪拌した
。
反応混合物をセライトを通して濾過し、セライトを酢酸
エチル70111で洗浄し、濾液を併せて飽和食塩水1
001 と塩化メチレン400++1の混合液中に注ぎ
、抽出を行なった。水層を更に塩化メチレンで3回抽出
し、抽出液を併せて飽和重曹水と飽和食塩水で順次洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を
留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
付し、ジエチルエーテル:ヘキサン−6:4の混合溶媒
で流出した画分より光学活性シクロペンタノン誘導体[
12] 328mg(0,75mM)を得た。収率87
%。
エチル70111で洗浄し、濾液を併せて飽和食塩水1
001 と塩化メチレン400++1の混合液中に注ぎ
、抽出を行なった。水層を更に塩化メチレンで3回抽出
し、抽出液を併せて飽和重曹水と飽和食塩水で順次洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を
留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
付し、ジエチルエーテル:ヘキサン−6:4の混合溶媒
で流出した画分より光学活性シクロペンタノン誘導体[
12] 328mg(0,75mM)を得た。収率87
%。
’HNMR(CDC/ 3) δ: 0.811(3
1(。
1(。
t 、 J−7,0Hz)、 1.20−1.80(
8!(、m)、 2.13(IH。
8!(、m)、 2.13(IH。
br t、 J−5,5Hz)、 2.30 (L
H、dd、 J−5,5Hz 、 18.4Hz)
、 2.65(18,d 、 J−18Hz) 、
2.86(LH,ddd 、 J−4Hz 、
9Hz 、 12Hz) 、 3.65(LH,dt
、 J−7Hz 、 9Hz)、 3.79(2
H,ABq)。
H、dd、 J−5,5Hz 、 18.4Hz)
、 2.65(18,d 、 J−18Hz) 、
2.86(LH,ddd 、 J−4Hz 、
9Hz 、 12Hz) 、 3.65(LH,dt
、 J−7Hz 、 9Hz)、 3.79(2
H,ABq)。
3.94−4.02(LH、■>、 4.t7(LH
,t 、 J■4,5H2)、 4.35(LH,
d 、 J −12Hz> 、 4.44(LH,d
。
,t 、 J■4,5H2)、 4.35(LH,
d 、 J −12Hz> 、 4.44(LH,d
。
J−12Hz) 、 4.58(2H,dd、 J
−6Hz 、 12Hz) 。
−6Hz 、 12Hz) 。
5.58(18,dd、 J−9H2、16Hz)
、 5.93(LH。
、 5.93(LH。
dd、 J=9Hz 、 18Hz) 、 7.2
3−7.35(IOH,m)。
3−7.35(IOH,m)。
I R(neat) : 3840. 1740 、
1090 、 10B5 、 980. 695 c
a+ −’。
1090 、 10B5 、 980. 695 c
a+ −’。
○
上記光学活性シクロペンタノン誘導体[12] 253
mg (0,58mM)を無水ピリジン19r111に
溶かし、0℃で攪拌下、蒸留したメタンスルホニルクロ
リド360μ/ (4,8mM)を滴下し、混合液を2
時間同温度で攪拌した後、0.5規定塩酸中に注ぎ、塩
化メチレンで抽出を行なった。抽出液を0.5規定塩酸
、飽和重曹水及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した後、残渣をODS化したシリカゲ
ルを用いて高速液体クロマトグラフィーに付し、0.5
%2−ブロノくノール/ヘキサンを溶離液として分取し
、光学活性2−メチレンシクロペンタノン誘導体[13
コ1881g (0,4!l+aM)を得た。収率78
x0[α ] 25 : −76,0
0’(C−0,287、CHC/3 ) 。
mg (0,58mM)を無水ピリジン19r111に
溶かし、0℃で攪拌下、蒸留したメタンスルホニルクロ
リド360μ/ (4,8mM)を滴下し、混合液を2
時間同温度で攪拌した後、0.5規定塩酸中に注ぎ、塩
化メチレンで抽出を行なった。抽出液を0.5規定塩酸
、飽和重曹水及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した後、残渣をODS化したシリカゲ
ルを用いて高速液体クロマトグラフィーに付し、0.5
%2−ブロノくノール/ヘキサンを溶離液として分取し
、光学活性2−メチレンシクロペンタノン誘導体[13
コ1881g (0,4!l+aM)を得た。収率78
x0[α ] 25 : −76,0
0’(C−0,287、CHC/3 ) 。
’HNMR(CDC/3’) δ: 0J7(3H。
br t) 、 1.00−1.1110(IIIH
、a+)、 2.20−2.95(2H。
、a+)、 2.20−2.95(2H。
謹)、 3.24−3.88(LH、m)、 3.
86−3.98(IH、m)。
86−3.98(IH、m)。
3.96(LH,dt、 J −8,8Hz 、 7.
3Hz)、 4.44<IH。
3Hz)、 4.44<IH。
d 、 J −IL、7Hz) 、 4.82(2)
1. s)、 4.85(l)l。
1. s)、 4.85(l)l。
d 、 J−11,7Hz)、 5.25(l
)I、 d 、 J −2,5Hz)。
)I、 d 、 J −2,5Hz)。
5.50−5.70(2H、m)、 6.14(I
H,d 、 J −2,5Hz)、 7.3
0(108、s)。
H,d 、 J −2,5Hz)、 7.3
0(108、s)。
I R(neat) : 1731. 1B
40 、 1095 、 1027 、
737. 698 c+n −’。
40 、 1095 、 1027 、
737. 698 c+n −’。
以 上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼[V] (式中、R^1はアルコキシ基を有していてもよいアル
キル基又はシクロアルキル基、又は−Ra−A−B(こ
こでRaはアルキル基、Aはヘテロ原子又は単結合、B
は置換基を有していてもよい芳香族環又はヘテロ環をそ
れぞれ意味する)で示される基を意味し、R^2及びR
^3は同一または異なり、アラルキル基、シリル基又は
アシル基を意味し、R^4はアルキル基を意味し、2つ
のR^4が互いに結合して環を形成していてもよい) で示される光学活性4−エン−6−オール化合物。 (2)請求項1記載の光学活性4−エン−6−オール化
合物[V]を製造するに当たり、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼[IIIb] (式中、R^1、R^2、R^3及びR^4は請求項1
のものと同じ意味を有する) で示される光学活性4−イン−6−オール化合物を部分
還元することを特徴とする方法。(3)請求項2記載の
方法において、光学活性4−イン−6−オール化合物[
IIIb]を製造するに当たり、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼[IV] (式中、R^1、R^2、R^3及びR^4は請求項2
のものと同じ意味を有する) で示される光学活性4−イン−6−オン化合物を還元す
ることを特徴とする方法。 (4)請求項3記載の方法において、光学活性4−イン
−6−オン化合物[IV]を製造するに当たり、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼[ I ] で示される光学活性ジプロモ化合物を 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼[II] で示される光学活性アルデヒド化合物と反応させて 一般式[IIIa] (上記各式中、R^1、R^2、R^3及びR^4は請
求項3のものと同じ意味を有する) で示される光学活性4−イン−6−オール化合物とし、
次いで同4−イン−6−オール化合物[IIIa]を酸化
することを特徴とする方法。 (5)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼[IIIb] (式中、R^1、R^2、R^3及びR^4は請求項1
のものと同じ意味を有する) で示される光学活性4−イン−6−オール化合物。 (6)請求項5記載の光学活性4−イン−6−オール化
合物[IIIb]を製造するに当たり、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼[IV] (式中、R^1、R^2、R^3及びR^4は請求項5
のものと同じ意味を有する) で示される光学活性4−イン−6−オン化合物を還元す
ることを特徴とする方法。 (7)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼[IV] (式中、R^1、R^2、R^3及びR^4は請求項1
のものと同じ意味を有する) で示される光学活性4−イン−6−オン化合物。 (8)請求項7記載の光学活性4−イン−6−オン化合
物[IV]を製造するに当たり、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼[IIIa] (式中、R^1、R^2、R^3及びR^4は請求項7
のものと同じ意味を有する) で示される光学活性4−イン−6−オール化合物[III
a]を酸化することを特徴とする方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1533190A JP2654835B2 (ja) | 1990-01-25 | 1990-01-25 | 光学活性4―エン―6―オール化合物、その製造中間体及びそれらの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1533190A JP2654835B2 (ja) | 1990-01-25 | 1990-01-25 | 光学活性4―エン―6―オール化合物、その製造中間体及びそれらの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04178343A true JPH04178343A (ja) | 1992-06-25 |
| JP2654835B2 JP2654835B2 (ja) | 1997-09-17 |
Family
ID=11885804
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1533190A Expired - Lifetime JP2654835B2 (ja) | 1990-01-25 | 1990-01-25 | 光学活性4―エン―6―オール化合物、その製造中間体及びそれらの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2654835B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996006839A1 (en) * | 1994-08-29 | 1996-03-07 | Kao Corporation | Synthetic lubricating oil |
-
1990
- 1990-01-25 JP JP1533190A patent/JP2654835B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996006839A1 (en) * | 1994-08-29 | 1996-03-07 | Kao Corporation | Synthetic lubricating oil |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2654835B2 (ja) | 1997-09-17 |
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