JPH04205703A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
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- JPH04205703A JPH04205703A JP33339390A JP33339390A JPH04205703A JP H04205703 A JPH04205703 A JP H04205703A JP 33339390 A JP33339390 A JP 33339390A JP 33339390 A JP33339390 A JP 33339390A JP H04205703 A JPH04205703 A JP H04205703A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
固定ディスク用の磁気ヘッドとして、第２図に示すメタ
ルインギャップ型といわれる形式のものが知られている
。これは、フェライトからなる一対の磁気コア１ａ、１
ｂの一方１ａの対向端面に、例えば、Ｆｅ −Ａ ｌ−
Ｓｉ系合金（センダスト）、パーマロイ、アルモファス
金属等の磁性金属からなる金属層２を例えば１５μｍ厚
設けると共に、この磁性金属の金属層２と他方の磁気コ
ア１ｂの対向端面との間に、Ｓ １０２等の非磁性体か
らなるキャップ層３により磁気キャップを形成した構成
のものである。 このようなメタルインギャップ型の磁気ヘットは、磁気
コア１ａ、１ｂの対向端面に何も設（Ｊない一般的な磁
気へりト′に比較して、強くしかも鋭い記録磁界を得ら
れるという利点かあり、今後の活用か期待されている。
ルインギャップ型といわれる形式のものが知られている
。これは、フェライトからなる一対の磁気コア１ａ、１
ｂの一方１ａの対向端面に、例えば、Ｆｅ −Ａ ｌ−
Ｓｉ系合金（センダスト）、パーマロイ、アルモファス
金属等の磁性金属からなる金属層２を例えば１５μｍ厚
設けると共に、この磁性金属の金属層２と他方の磁気コ
ア１ｂの対向端面との間に、Ｓ １０２等の非磁性体か
らなるキャップ層３により磁気キャップを形成した構成
のものである。 このようなメタルインギャップ型の磁気ヘットは、磁気
コア１ａ、１ｂの対向端面に何も設（Ｊない一般的な磁
気へりト′に比較して、強くしかも鋭い記録磁界を得ら
れるという利点かあり、今後の活用か期待されている。
前記メタルインギャップ型の磁気ヘッドにおいては、そ
の記録特性、即ち記録磁界Ｈｘや磁界勾配θＨｘ／ Ｂ
ｘ （ｆｉｅｌｄ ｇｒａｄｉｅｎｔ）を良好なも
のとするためには、金属層２に飽和磁束密度Ｂｓの高い
材質のものを用いれば良いが、飽和磁束密度Ｂｓがある
値に至った以降は、記録磁界Ｈｘや磁場勾配は飽和値に
達し、Ｂｓの上昇によってもこれらの値は改善されない
ことが明らかになっている。（ＩＥＥＥ Ｔｒａｎｓ
、ｏｎ Ｍａｇｎ、ＭＡＧ−２４゜ｐｐ、２６２３−２
６２５．Ｎｏｖ、１９８８）これは、磁気コアに使用さ
れるフェライト等の飽和磁束密度Ｂｓの値が低いことに
起因すると考えられる。 一方、同様の目的で金属層２の膜厚を厚くすることも考
えられるが（同論文）、金属層２は磁気コア１ａの端面
にスパッタリングにより金属薄膜を形成することにより
作成されるため、膜厚の増加は即ちスパッタ時間の増加
につながり、製造上の難点がある。 そこで本願発明者等は上記問題を解決した磁気ヘッドを
特願平２−１０７１４３号にて特許出願している。 この特許出願された磁気ヘットは、磁気コアに形成され
た磁気ギャップ内に磁性金属からなる金属層が設けられ
てなるメタルインギャップ型の磁気ヘッドにおいて、前
記金属層を、その飽和磁束密度が磁気コアのそれよりも
高い材質で形成された複数の薄膜層から構成すると共に
、これら薄膜層を、前記磁気ギャップにより近い位置の
薄膜層（第２金属層）のほうが、手前の薄膜層（第１金
属層）よりその飽和磁束密度が高い材質で形成したもの
である。 この磁気ヘッドによれば、従来、磁気コアの飽和磁束密
度の低さに起因して起こっていた記録磁界、磁界勾配の
飽和という現象を避け、複数の薄膜層の存在によりこれ
ら薄膜層（特に磁気キャップ近傍の薄膜層）の存する飽
和磁束密度の高さを有効に利用して、記録磁界、磁界勾
配の改善を図ることができる。また、金属層全体の厚み
を増加させずに十分な特性を確保することが可能であり
、スパッタ時間の増加といった製造上の難点も回避でき
た。 しかしながら、第２金属層をＦｅのみからなる材質で形
成すると、飽和磁束密度Ｂｓは良好であるが、さらに磁
気特性を向上すべく金属層の膜厚を大きくすると、軟磁
気特性の劣化およびザビ等の発生の可能性が生じてしま
うものである。 本発明は前記事情に鑑みてなされたものであり、メタル
インギャップ型の磁気ヘッドにおいて、その記録特性の
向上を図ることができ、しかも製造」二の難点もない磁
気ヘッドで、かつ上記金属層の組成を限定することで、
軟磁気特性の劣化およびザビの発生等の不具合を生じさ
せることなく、金属層の厚みを増加させて磁気特性をさ
らに向上さ且ることのできる磁気ヘッドの提供を目的と
している。
の記録特性、即ち記録磁界Ｈｘや磁界勾配θＨｘ／ Ｂ
ｘ （ｆｉｅｌｄ ｇｒａｄｉｅｎｔ）を良好なも
のとするためには、金属層２に飽和磁束密度Ｂｓの高い
材質のものを用いれば良いが、飽和磁束密度Ｂｓがある
値に至った以降は、記録磁界Ｈｘや磁場勾配は飽和値に
達し、Ｂｓの上昇によってもこれらの値は改善されない
ことが明らかになっている。（ＩＥＥＥ Ｔｒａｎｓ
、ｏｎ Ｍａｇｎ、ＭＡＧ−２４゜ｐｐ、２６２３−２
６２５．Ｎｏｖ、１９８８）これは、磁気コアに使用さ
れるフェライト等の飽和磁束密度Ｂｓの値が低いことに
起因すると考えられる。 一方、同様の目的で金属層２の膜厚を厚くすることも考
えられるが（同論文）、金属層２は磁気コア１ａの端面
にスパッタリングにより金属薄膜を形成することにより
作成されるため、膜厚の増加は即ちスパッタ時間の増加
につながり、製造上の難点がある。 そこで本願発明者等は上記問題を解決した磁気ヘッドを
特願平２−１０７１４３号にて特許出願している。 この特許出願された磁気ヘットは、磁気コアに形成され
た磁気ギャップ内に磁性金属からなる金属層が設けられ
てなるメタルインギャップ型の磁気ヘッドにおいて、前
記金属層を、その飽和磁束密度が磁気コアのそれよりも
高い材質で形成された複数の薄膜層から構成すると共に
、これら薄膜層を、前記磁気ギャップにより近い位置の
薄膜層（第２金属層）のほうが、手前の薄膜層（第１金
属層）よりその飽和磁束密度が高い材質で形成したもの
である。 この磁気ヘッドによれば、従来、磁気コアの飽和磁束密
度の低さに起因して起こっていた記録磁界、磁界勾配の
飽和という現象を避け、複数の薄膜層の存在によりこれ
ら薄膜層（特に磁気キャップ近傍の薄膜層）の存する飽
和磁束密度の高さを有効に利用して、記録磁界、磁界勾
配の改善を図ることができる。また、金属層全体の厚み
を増加させずに十分な特性を確保することが可能であり
、スパッタ時間の増加といった製造上の難点も回避でき
た。 しかしながら、第２金属層をＦｅのみからなる材質で形
成すると、飽和磁束密度Ｂｓは良好であるが、さらに磁
気特性を向上すべく金属層の膜厚を大きくすると、軟磁
気特性の劣化およびザビ等の発生の可能性が生じてしま
うものである。 本発明は前記事情に鑑みてなされたものであり、メタル
インギャップ型の磁気ヘッドにおいて、その記録特性の
向上を図ることができ、しかも製造」二の難点もない磁
気ヘッドで、かつ上記金属層の組成を限定することで、
軟磁気特性の劣化およびザビの発生等の不具合を生じさ
せることなく、金属層の厚みを増加させて磁気特性をさ
らに向上さ且ることのできる磁気ヘッドの提供を目的と
している。
そこで本発明は、磁気コアに形成された磁気ギャップ内
に磁性金属からなる金属層が設置Ｊられてなるメタルイ
ンギャップ型の磁気ヘットにおいて、前記金属層は、そ
の飽和磁束密度が磁気コアのそれよりも高い材質で形成
された第１金属層と第２金属層の２層の薄膜層から構成
されると共に、前記磁気コアに面する第１金属層の組成
は、Ｆｅを主組成分とし、Ｓｌを８〜１１重量％、Ａｌ
を５〜８重量％含有し、第１金属層と前記磁気コアの間
に介在する第２金属層の組成は、Ｆｅを主組成分とし、
Ｓｌを３〜７重量％、Ａｌを１〜５重量％含有すること
により、前記課題を解決せんとしている。
に磁性金属からなる金属層が設置Ｊられてなるメタルイ
ンギャップ型の磁気ヘットにおいて、前記金属層は、そ
の飽和磁束密度が磁気コアのそれよりも高い材質で形成
された第１金属層と第２金属層の２層の薄膜層から構成
されると共に、前記磁気コアに面する第１金属層の組成
は、Ｆｅを主組成分とし、Ｓｌを８〜１１重量％、Ａｌ
を５〜８重量％含有し、第１金属層と前記磁気コアの間
に介在する第２金属層の組成は、Ｆｅを主組成分とし、
Ｓｌを３〜７重量％、Ａｌを１〜５重量％含有すること
により、前記課題を解決せんとしている。
本発明では、金属層をその飽和磁束密度が磁気コアのそ
れよりも高い材質で形成された第１金属層と第２金属層
の２層の薄膜層から構成し、さらに第２金属層の方が第
１金属層より飽和磁束密度が高い材質で形成したので、
従来、磁気コアの飽和磁束密度の低さに起因して起こっ
ていた記録磁界、磁界勾配の飽和という現象を避け、複
数の薄膜層の存在によりこれら薄膜層（特に第２金属層
）の有する飽和磁束密度の高さを有効に利用し、記録磁
界、磁界勾配の改善を図ることができる。 さらに、本発明では、第１金属層および第２金属層の材
質を限定したことにより、金属層の膜厚をさらに厚くし
て磁気特性を向上させたとしてもなんら問題の生じない
磁気ヘッドとすることができる。
れよりも高い材質で形成された第１金属層と第２金属層
の２層の薄膜層から構成し、さらに第２金属層の方が第
１金属層より飽和磁束密度が高い材質で形成したので、
従来、磁気コアの飽和磁束密度の低さに起因して起こっ
ていた記録磁界、磁界勾配の飽和という現象を避け、複
数の薄膜層の存在によりこれら薄膜層（特に第２金属層
）の有する飽和磁束密度の高さを有効に利用し、記録磁
界、磁界勾配の改善を図ることができる。 さらに、本発明では、第１金属層および第２金属層の材
質を限定したことにより、金属層の膜厚をさらに厚くし
て磁気特性を向上させたとしてもなんら問題の生じない
磁気ヘッドとすることができる。
以下、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。 第１図は本発明の一実施例である磁気ヘッドを示す図で
ある。なお、以下の実施例の説明において、前記従来例
と同一の構成要素については同一の符号を付し、その説
明を省略する。 本実施例の磁気ヘッドと前記従来例の磁気ヘッドとの相
違点は、その金属層２にある。即ち、本実施例では、金
属層２は第１金属層２ａと第２金属層２ｂの２層から構
成されている。 これら第１金属層２ａ、第２金属層２ｂは、その材質が
磁性金属で構成されていると共に、磁気コア１ａに面す
る側の第１金属層２ａは、Ｓｉを８〜１１重量％、Ａｌ
を５〜８重量％含有する鉄合金で形成され、一方、磁気
ギャップ３に而する側の第２金属層２ｂは、Ｓｉを３〜
７重出％、Δ１を１〜５重量％含有する鉄合金で形成さ
れることで、磁気ギャップ３により近い位置の第２金属
層２ｂのほうが、手前の第１金属層２ａよりその飽和磁
束密度Ｂｓが高いように構成するとともに、耐錆性等に
優れたものとしている。 第２金属層の組成を請求範囲外、例えばＦｅ含含量量多
い組成にすると飽和磁束密度は高くなるが、磁気ヘッド
として必要な軟磁気特性が損なわれ、透磁率が低くなり
保磁力が大きくなってしまう。またＳｉ及びＡｌの含有
量を増加させるとＦｅの含有量が少なく飽和磁束密度が
低くなり目的を達成しなくなる。 次に、第１図に示される磁気ヘッドにおいて、第１金属
層２ａをＳｉ：９．６２重量％、Ａｌ：５．３８重量％
、残部をＦｅとした材料から形成し、第２金属層２ｂを
Ｓｉ：５．５８重里％、Ａｌ＋２．７４重量％、残部を
Ｆｅとした材料から形成し、第２金属層２ｂの膜厚を変
化させた時の磁気特性を測定した。この時の第１金属層
２ａの膜厚は１５μＭで一定とし、各グラフにお１プる
横軸を第２金属層２ｂの膜厚とした。 尚、比較例として、第２図に示される如〈従来例の１層
の金属層を磁気コア１ａに設けた磁気ヘッドを製造し、
同様に磁気特性を測定した。 膜厚と飽和磁束密度Ｂｓの関係を示す結果を第３図に、
膜厚と透磁率μの関係を示す結果を第４図に、膜厚と保
磁力Ｈｃの関係を示す結果を第５図に示した。 第３図から明らかなように、従来例の１層の金属層から
なる磁気ヘッドにおいては、その膜厚を変化させても飽
和磁束密度Ｂｓは一定であるが、本実施例の磁気ヘッド
においては膜厚とともにその飽和磁束密度Ｂｓが格段に
増加していることがわかる。 ざらｌこ、第４図と第５図から、従来例の磁気ヘッドに
おいては膜厚とμ及びＨｃは無関係であるにもかかわら
ず、本実施例の磁気ヘッドにおいては、膜厚とともにμ
は減少し、Ｈｃは増加することがわかる。 従って、本実施例の磁気ヘッドにおいては、その第２金
属層２ｂの膜厚を調整することにより、所望のＢｓ、μ
、Ｈｅをもつ磁気ヘッドを得ることができる。 さらに本実施例の磁気ヘッドでは、膜厚を厚くしても錆
等の不具合の生じないものである。
。 第１図は本発明の一実施例である磁気ヘッドを示す図で
ある。なお、以下の実施例の説明において、前記従来例
と同一の構成要素については同一の符号を付し、その説
明を省略する。 本実施例の磁気ヘッドと前記従来例の磁気ヘッドとの相
違点は、その金属層２にある。即ち、本実施例では、金
属層２は第１金属層２ａと第２金属層２ｂの２層から構
成されている。 これら第１金属層２ａ、第２金属層２ｂは、その材質が
磁性金属で構成されていると共に、磁気コア１ａに面す
る側の第１金属層２ａは、Ｓｉを８〜１１重量％、Ａｌ
を５〜８重量％含有する鉄合金で形成され、一方、磁気
ギャップ３に而する側の第２金属層２ｂは、Ｓｉを３〜
７重出％、Δ１を１〜５重量％含有する鉄合金で形成さ
れることで、磁気ギャップ３により近い位置の第２金属
層２ｂのほうが、手前の第１金属層２ａよりその飽和磁
束密度Ｂｓが高いように構成するとともに、耐錆性等に
優れたものとしている。 第２金属層の組成を請求範囲外、例えばＦｅ含含量量多
い組成にすると飽和磁束密度は高くなるが、磁気ヘッド
として必要な軟磁気特性が損なわれ、透磁率が低くなり
保磁力が大きくなってしまう。またＳｉ及びＡｌの含有
量を増加させるとＦｅの含有量が少なく飽和磁束密度が
低くなり目的を達成しなくなる。 次に、第１図に示される磁気ヘッドにおいて、第１金属
層２ａをＳｉ：９．６２重量％、Ａｌ：５．３８重量％
、残部をＦｅとした材料から形成し、第２金属層２ｂを
Ｓｉ：５．５８重里％、Ａｌ＋２．７４重量％、残部を
Ｆｅとした材料から形成し、第２金属層２ｂの膜厚を変
化させた時の磁気特性を測定した。この時の第１金属層
２ａの膜厚は１５μＭで一定とし、各グラフにお１プる
横軸を第２金属層２ｂの膜厚とした。 尚、比較例として、第２図に示される如〈従来例の１層
の金属層を磁気コア１ａに設けた磁気ヘッドを製造し、
同様に磁気特性を測定した。 膜厚と飽和磁束密度Ｂｓの関係を示す結果を第３図に、
膜厚と透磁率μの関係を示す結果を第４図に、膜厚と保
磁力Ｈｃの関係を示す結果を第５図に示した。 第３図から明らかなように、従来例の１層の金属層から
なる磁気ヘッドにおいては、その膜厚を変化させても飽
和磁束密度Ｂｓは一定であるが、本実施例の磁気ヘッド
においては膜厚とともにその飽和磁束密度Ｂｓが格段に
増加していることがわかる。 ざらｌこ、第４図と第５図から、従来例の磁気ヘッドに
おいては膜厚とμ及びＨｃは無関係であるにもかかわら
ず、本実施例の磁気ヘッドにおいては、膜厚とともにμ
は減少し、Ｈｃは増加することがわかる。 従って、本実施例の磁気ヘッドにおいては、その第２金
属層２ｂの膜厚を調整することにより、所望のＢｓ、μ
、Ｈｅをもつ磁気ヘッドを得ることができる。 さらに本実施例の磁気ヘッドでは、膜厚を厚くしても錆
等の不具合の生じないものである。
以上詳細に説明したように、本発明によれば、磁気コア
に形成された磁気ギャップ内に磁性金属からなる金属層
が設けられてなるメタルインギャップ型の磁気ヘッドに
おいて、前記金属層を、その飽和磁束密度か磁気コアの
それよりも高い材質で形成された第１金属層と第２金属
層から構成すると共に、これら金属層を、前記磁気ギャ
ップにより近い位置の第２金属層のほうが、手前の第１
金属層よりその飽和磁束密度か高い材質で形成したので
、記録磁界、磁界勾配の改善を図ることができる。 ＝１０− 特に、第１金属層と第２金属層の組成をそれぞれ限定し
たことにより、膜厚を厚くしても錆等の発生のない良好
な磁気ヘッドとすることかできる。
に形成された磁気ギャップ内に磁性金属からなる金属層
が設けられてなるメタルインギャップ型の磁気ヘッドに
おいて、前記金属層を、その飽和磁束密度か磁気コアの
それよりも高い材質で形成された第１金属層と第２金属
層から構成すると共に、これら金属層を、前記磁気ギャ
ップにより近い位置の第２金属層のほうが、手前の第１
金属層よりその飽和磁束密度か高い材質で形成したので
、記録磁界、磁界勾配の改善を図ることができる。 ＝１０− 特に、第１金属層と第２金属層の組成をそれぞれ限定し
たことにより、膜厚を厚くしても錆等の発生のない良好
な磁気ヘッドとすることかできる。
第１図は本発明の一実施例である磁気ヘットを示す断面
図である。 第２図は従来例の磁気ヘットを示す断面図である。 第３図は金属層の膜厚と飽和磁束密度の関係を示す測定
結果のグラフである。 第４図は金属層の膜厚と透磁率の関係を示す測定結果の
グラフである。 第５図は金属層の膜厚と保磁力の関係を示す測定結果の
グラフ□である。 Ｉａ 、Ｉｂ・・・・・・磁気コア、２・・・・・・金
属層、２ａ・・・・・・第１金属層、２ｂ・・・・・・
第２金属層、３・・・・・・磁気ギャップ。 出願人 アルプス電気株式会社 代表者 片 岡 政 隆 ＝１１− 第１図 第２図 膜厚（Ａ） 膜厚（Ａ） 特開平４−２０５７０３ （’））
図である。 第２図は従来例の磁気ヘットを示す断面図である。 第３図は金属層の膜厚と飽和磁束密度の関係を示す測定
結果のグラフである。 第４図は金属層の膜厚と透磁率の関係を示す測定結果の
グラフである。 第５図は金属層の膜厚と保磁力の関係を示す測定結果の
グラフ□である。 Ｉａ 、Ｉｂ・・・・・・磁気コア、２・・・・・・金
属層、２ａ・・・・・・第１金属層、２ｂ・・・・・・
第２金属層、３・・・・・・磁気ギャップ。 出願人 アルプス電気株式会社 代表者 片 岡 政 隆 ＝１１− 第１図 第２図 膜厚（Ａ） 膜厚（Ａ） 特開平４−２０５７０３ （’））
Claims (1)
- 磁気コアに形成された磁気ギャップ内に磁性金属からな
る金属層が設けられてなるメタルインギャップ型の磁気
ヘッドにおいて、前記金属層は、その飽和磁束密度が磁
気コアの飽和磁束密度よりも高い材質で形成された第１
金属層と第２金属層の２層の薄膜層から構成されると共
に、前記磁気コアに面する第１金属層の組成は、Ｆｅを
主組成分とし、Ｓｉを８〜１１重量％、Ａｌを５〜８重
量％含有し、第１金属層と前記磁気ギャップの間に介在
する第２金属層の組成は、Ｆｅを主組成分とし、Ｓｉを
３〜７重量％、Ａｌを１〜５重量％含有することを特徴
とする磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33339390A JPH04205703A (ja) | 1990-11-29 | 1990-11-29 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33339390A JPH04205703A (ja) | 1990-11-29 | 1990-11-29 | 磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04205703A true JPH04205703A (ja) | 1992-07-27 |
Family
ID=18265619
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33339390A Pending JPH04205703A (ja) | 1990-11-29 | 1990-11-29 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04205703A (ja) |
-
1990
- 1990-11-29 JP JP33339390A patent/JPH04205703A/ja active Pending
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