JPH04208593A - 厚膜印刷基板 - Google Patents

厚膜印刷基板

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Publication number
JPH04208593A
JPH04208593A JP40015390A JP40015390A JPH04208593A JP H04208593 A JPH04208593 A JP H04208593A JP 40015390 A JP40015390 A JP 40015390A JP 40015390 A JP40015390 A JP 40015390A JP H04208593 A JPH04208593 A JP H04208593A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thick film
pad
printed board
screen printing
copper
Prior art date
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Pending
Application number
JP40015390A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshiaki Nishikawa
敏明 西川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP40015390A priority Critical patent/JPH04208593A/ja
Publication of JPH04208593A publication Critical patent/JPH04208593A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/09Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
    • H05K1/092Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/24Reinforcing of the conductive pattern
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/40Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K3/4007Surface contacts, e.g. bumps

Landscapes

  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
[00011
【産業上の利用分野]本発明は厚膜印刷基板に関し、特
に部品搭載用のパッドの構造に関する。 [0002] 【従来の技術】従来、混成集積回路等に用いられる厚膜
印刷基板は、セラミック基板上にスクリーン印刷法で銅
導体ペーストを用いて印刷し、乾燥したのち中性ガス雰
囲気中で600〜900℃で焼成して銅の厚膜導体を形
成している。この種の厚膜印刷基板は、回路構成や用途
等により、銅の厚膜導体からなる配線と部品搭載用のパ
ッドのほかに、抵抗体、クロスガラスや保護ガラス等が
それぞれの場合に合せて形成されている。 [0003]銅の厚膜導体の表面あらさRmaxは2〜
3μm程度であり、膜内体ポーラスであるため、メツキ
等で形成されたバルク状態の銅導体に比べて表面積が大
きく、それだけ酸化する確率も高い。また、銅厚膜導体
を形成した後に形成する抵抗体、クロスガラスや保護ガ
ラスは、銅厚膜導体の表面の酸化が起こらない様に15
0℃以上の処理を行う場合は中性雰囲気中(通常は窒素
雰囲気中)で行っている。 [00041
【発明が解決しようとする課題]この従来の厚膜印刷基
板は、スクリーン印刷法で形成した銅厚膜導体のパッド
に部品を直接半田付していたので、半田付時に基板にか
かる熱のため表面が酸化し、半田付性が低下するという
欠点がある。また、半田付温度にさらされることがなく
とも、室温中にパッド表面を露出したまま長期間(たと
えば1力月)放置した場合も表面が酸化するため、半田
付性が低下するという欠点がある。 [0005]さらに、表面の酸化に対して半田付性を十
分に保つために強力なフラックスを使用すると、フラッ
クスに含有するハロゲン元素が搭載する部品に対して悪
影響を及ぼし、混成集積回路の信頼性を低下させるとい
う欠点がある。 [0006] 【課題を解決するための手段】本発明の厚膜印刷基板は
、セラミック基板上にスクリーン印刷法で形成された銅
からなるパッドを有する厚膜印刷基板において、前記パ
ッドは半田付性がよくかつ酸化されにくい金属膜で覆わ
れているものである。 [0007]
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明する
。図1 (a) 、  (b)は本発明の実施例1の平
面図及びA−A線断面図である。 [0008]アルミナセラミツク基板4上に銅の厚膜導
体からなる配線とパッド1とが形成されており、このパ
ッド上には酸化されにくい金属としてのAg−Pd膜3
が形成されている。尚、2はパッドの周囲の配線部を覆
う保護ガラスである。 [0009]製造方法としては、まずアルミナセラミッ
ク基板4上にスクリーン印刷法で銅導体ペーストを用い
てパターン形成後、120℃で10分間乾燥する。次で
900℃の窒素雰囲気中で焼成を行う。次に銅導体上の
半田付用のパッド1の上だけに、スクリーン印刷法で銀
パラジウム(Ag−Pd)ペーストを用いてパターン形
成後、120℃で10分間乾燥し、次で900℃の窒素
雰囲気中で焼成する。この時用いるAg−Pdペースト
は市販の空気中焼成用のものは使用できないので、ペー
スト中の樹脂成分が熱のみで分解する高分解性の組成の
ものを使用した。次に、スクリーン印刷法で非晶質ガラ
スの保護ガラスペーストを印刷し、120℃10分間乾
燥後500℃の窒素雰囲気中で焼成した。 [00101このように構成された実施例1によれば、
半田付用のパッド1の表面がAg−Pd膜3で覆われて
いるので、熱等による表面酸化は発生することがなく、
半田付性の優れた厚膜印刷基板を得ることができた。 [0011]図2 (a) 、  (b)は本発明の実
施例2の平面図及びB−B線断面図である。 [0012]アルミナセラミツク基板4上にスクリーン
印刷法で銅導体ペーストを用いて印刷後、120℃で1
0分間乾燥し、次で900℃の窒素雰囲気中で焼成し配
線及びパッド1のパターンを形成する。次にパッド1を
除く部分にソルダーレジスト5を形成し、窒素雰囲気中
で200℃で30分間硬化させる。次でパッド1上を除
く部分に選択的にメツキ用レジストを塗布し、無電解金
メツキを行ない、パッド1上に金メツキ膜6を形成する
。次でメツキ用のレジストを剥離する。 [0013]このように構成された実施例2によれば、
パッド1の表面が金メツキ膜6で覆われているので、熱
等による表面酸化は発生することなく、半田付性に優れ
た特性を得ることができる。更にパッド1の表面がなめ
らかになるので、ワイヤポンディング用パッドとしても
使用が可能になるという利点がある。 [0014]尚、上記実施例においては、パッドを覆う
酸化されにくい金属膜としてAg−Pd及びAuを用い
た場合について説明したが、これに限定されるものでは
なく、Au、Ag、Pt、Pdのうち少くとも一つを成
分として含むものであればよい。 [0015]
【発明の効果】以上説明したように本発明は、スクリー
ン印刷法で形成した銅厚膜導体からなる半田付用のパッ
ド上を半田付性がよくかつ酸化されにくい金属膜で覆う
ことにより、半田付性に優れた厚膜印刷基板が得られる
という効果がある。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】セラミック基板上にスクリーン印刷法で形
    成された銅からなるパッドを有する厚膜印刷基板におい
    て、前記パッドは半田付性がよくかつ酸化されにくい金
    属膜で覆われていることを特徴とする厚膜印刷基板。
JP40015390A 1990-12-03 1990-12-03 厚膜印刷基板 Pending JPH04208593A (ja)

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JP40015390A JPH04208593A (ja) 1990-12-03 1990-12-03 厚膜印刷基板

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Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0730242A (ja) * 1993-07-14 1995-01-31 Nec Corp 薄膜回路基板
US5424093A (en) * 1991-11-15 1995-06-13 Murata Mfg. Co., Ltd. Method of manufacturing electronic elements
JPH08232072A (ja) * 1994-12-09 1996-09-10 Alpha Metals Ltd 銀めっき
JPH08335602A (ja) * 1995-06-08 1996-12-17 Ngk Spark Plug Co Ltd セラミック基板及びその製造方法
JP2002124744A (ja) * 2000-10-12 2002-04-26 Eastern Co Ltd 回路基板
US6885104B2 (en) * 1998-10-05 2005-04-26 Kulicke & Soffa Investments, Inc. Semiconductor copper bond pad surface protection
JP2007103840A (ja) * 2005-10-07 2007-04-19 Nec Electronics Corp 電子回路装置の製造方法
JP2007103816A (ja) * 2005-10-07 2007-04-19 Nec Electronics Corp 配線基板および電子回路装置
WO2010084592A1 (ja) * 2009-01-22 2010-07-29 Smk株式会社 電子部品実装用回路基板
JP2012221983A (ja) * 2011-04-04 2012-11-12 Murata Mfg Co Ltd セラミック基板
JPWO2014103541A1 (ja) * 2012-12-27 2017-01-12 日本碍子株式会社 電子部品及びその製造方法

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5424093A (en) * 1991-11-15 1995-06-13 Murata Mfg. Co., Ltd. Method of manufacturing electronic elements
JPH0730242A (ja) * 1993-07-14 1995-01-31 Nec Corp 薄膜回路基板
JPH08232072A (ja) * 1994-12-09 1996-09-10 Alpha Metals Ltd 銀めっき
JPH08335602A (ja) * 1995-06-08 1996-12-17 Ngk Spark Plug Co Ltd セラミック基板及びその製造方法
US6885104B2 (en) * 1998-10-05 2005-04-26 Kulicke & Soffa Investments, Inc. Semiconductor copper bond pad surface protection
JP2002124744A (ja) * 2000-10-12 2002-04-26 Eastern Co Ltd 回路基板
JP2007103840A (ja) * 2005-10-07 2007-04-19 Nec Electronics Corp 電子回路装置の製造方法
JP2007103816A (ja) * 2005-10-07 2007-04-19 Nec Electronics Corp 配線基板および電子回路装置
WO2010084592A1 (ja) * 2009-01-22 2010-07-29 Smk株式会社 電子部品実装用回路基板
JP2012221983A (ja) * 2011-04-04 2012-11-12 Murata Mfg Co Ltd セラミック基板
JPWO2014103541A1 (ja) * 2012-12-27 2017-01-12 日本碍子株式会社 電子部品及びその製造方法

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