JPH02247382A - 真空連続処理装置 - Google Patents
真空連続処理装置Info
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- JPH02247382A JPH02247382A JP1066213A JP6621389A JPH02247382A JP H02247382 A JPH02247382 A JP H02247382A JP 1066213 A JP1066213 A JP 1066213A JP 6621389 A JP6621389 A JP 6621389A JP H02247382 A JPH02247382 A JP H02247382A
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- vacuum
- tension
- chamber
- preliminary
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C51/00—Shaping by thermoforming, i.e. shaping sheets or sheet like preforms after heating, e.g. shaping sheets in matched moulds or by deep-drawing; Apparatus therefor
- B29C51/10—Forming by pressure difference, e.g. vacuum
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S264/00—Plastic and nonmetallic article shaping or treating: processes
- Y10S264/78—Processes of molding using vacuum
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
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- Y10S425/00—Plastic article or earthenware shaping or treating: apparatus
- Y10S425/06—Vacuum
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はプラスチック成形品たとえばＰＥＴフィルム、
天然あるいは合成繊維、また塗装鋼板などの被処理物を
連続的に真空状態で処理、たとえばプラズマ処理、蒸着
等の処理を行なう装置に関するものである。
天然あるいは合成繊維、また塗装鋼板などの被処理物を
連続的に真空状態で処理、たとえばプラズマ処理、蒸着
等の処理を行なう装置に関するものである。
この種の真空連続処理装置には、特開昭５７−１９５７
３９号に記載のようにロールタイプのシール装置が一般
的になっており、被処理物を一対のロールで圧着してシ
ールを行なっている。また、特開昭６３−３０５１４０
号のようにスリット状のシール装置を有するものもある
。
３９号に記載のようにロールタイプのシール装置が一般
的になっており、被処理物を一対のロールで圧着してシ
ールを行なっている。また、特開昭６３−３０５１４０
号のようにスリット状のシール装置を有するものもある
。
上記従来技術では非常に薄い被処理物の搬送。
あるいは、プラズマ処理等の真空処理時に被処理物には
たらく熱については考慮されていなかった。
たらく熱については考慮されていなかった。
本発明の目的は、被処理物に損傷等を与えずに真空連続
処理を可能とする真空連続処理装置の提供にある。
処理を可能とする真空連続処理装置の提供にある。
上記目的は、真空処理室内に張力付与装置と張力をカッ
トする装置を設け、真空処理室の前後に備えである予備
真空室内に張力付与装置を設け、前記予備真空室の前方
あるいは後方側に張力をカットする装置を設け、予備真
空室及び真空処理室において個々に被処理物に適切な張
力を与えることにより達成される。
トする装置を設け、真空処理室の前後に備えである予備
真空室内に張力付与装置を設け、前記予備真空室の前方
あるいは後方側に張力をカットする装置を設け、予備真
空室及び真空処理室において個々に被処理物に適切な張
力を与えることにより達成される。
予備真空室の前方側より搬送された被処理物は。
予備真空室前に設けられた張力カット装置により張力は
カットされ、真空処理室前後の予備真空室内の被処理物
の張力は、予備真空室内に設けである張力付与装置によ
り適切な張力が与えられる。
カットされ、真空処理室前後の予備真空室内の被処理物
の張力は、予備真空室内に設けである張力付与装置によ
り適切な張力が与えられる。
次に真空処理室内の被処理物は張力は真空処理室内にあ
る張力カット装置により真空処理室前方側及び後方側の
予備真空室内の張力とは無関係にない、真空処理室内に
ある張力付与装置により適切な張力に設定できる。さら
に真空処理室後方側の予備真空室内の被処理物の張力は
、予備真空室内に設けられている張力付与装置により適
切に設定される。これにより被処理物に損傷等を与える
ことなく真空連続処理することが可能となる。
る張力カット装置により真空処理室前方側及び後方側の
予備真空室内の張力とは無関係にない、真空処理室内に
ある張力付与装置により適切な張力に設定できる。さら
に真空処理室後方側の予備真空室内の被処理物の張力は
、予備真空室内に設けられている張力付与装置により適
切に設定される。これにより被処理物に損傷等を与える
ことなく真空連続処理することが可能となる。
以下、本発明の一実施例を図面により説明する。
第１図及び第２図において、１はプラスチックフィルム
例えばＰＥＴフィルムのような可撓性の被処理物Ｆを真
空状態で連続的にプラズマ処理する真空処理室、２は真
空処理室１の前方側に配置される予備真空室、３は真空
処理室１の後方側に配置される予備真空室で、前記真空
処理室内はこれに接続する真空ポンプ４により１０−’
トール程度の真空圧力に保持するように排気導管５を介
して真空排気される。
例えばＰＥＴフィルムのような可撓性の被処理物Ｆを真
空状態で連続的にプラズマ処理する真空処理室、２は真
空処理室１の前方側に配置される予備真空室、３は真空
処理室１の後方側に配置される予備真空室で、前記真空
処理室内はこれに接続する真空ポンプ４により１０−’
トール程度の真空圧力に保持するように排気導管５を介
して真空排気される。
前記予備真空室２，３は、これに接続する真空ポンプ６
により、前記真空処理室１内に真空圧力より若干高く、
かつ大気圧より段階的に減じる真空を保持するように排
気導管７を介して真空排気される。
により、前記真空処理室１内に真空圧力より若干高く、
かつ大気圧より段階的に減じる真空を保持するように排
気導管７を介して真空排気される。
処理される被処理物Ｆは巻出軸８より送り出され１巻出
し張力を制御する張力制御用ガイドローラ９を通り前記
予備真空室に送られる。前記予備真空室前方には張力カ
ット装置２７があり被処理物Ｆの張力を巻出し張力と切
りはなす、この時前記予備真空室２内の被処理物Ｆの張
力は張力検出器２８により検出する。前方側予備真空室
２を通過した被処理物Ｆは真空処理室１内に設けられた
張力カット装置２９を介して真空処理室１内でプラズマ
処理される。この時真空処理室内の被処理物Ｆの張力は
張力カット装置３０と３１間で張力付与用ガイドローラ
により適切な値に設定される。
し張力を制御する張力制御用ガイドローラ９を通り前記
予備真空室に送られる。前記予備真空室前方には張力カ
ット装置２７があり被処理物Ｆの張力を巻出し張力と切
りはなす、この時前記予備真空室２内の被処理物Ｆの張
力は張力検出器２８により検出する。前方側予備真空室
２を通過した被処理物Ｆは真空処理室１内に設けられた
張力カット装置２９を介して真空処理室１内でプラズマ
処理される。この時真空処理室内の被処理物Ｆの張力は
張力カット装置３０と３１間で張力付与用ガイドローラ
により適切な値に設定される。
その後、被処理物Ｆは真空処理室１の後方の予備真空室
３に送られる。予備真空室３内被処理物Ｆの張力は張力
カット族［３１及び３２により真空処理室１内ならびに
巻取時の張力とは無関係に予備真空室３内の張力付与用
ガイドローラにより適切な値に設定され、その張力は張
力検出器３３により検出される。その後、被処理物Ｆは
巻取張力を制御するガイドローラ１０を経て巻取軸１１
にて巻きとられる。１２ａ、１２ｂは、被処理物Ｆを搬
送するためのＤＣモータである。また、３４ａ及び３４
ｂは張力カットするガイドローラを駆動するＤＣモータ
である。
３に送られる。予備真空室３内被処理物Ｆの張力は張力
カット族［３１及び３２により真空処理室１内ならびに
巻取時の張力とは無関係に予備真空室３内の張力付与用
ガイドローラにより適切な値に設定され、その張力は張
力検出器３３により検出される。その後、被処理物Ｆは
巻取張力を制御するガイドローラ１０を経て巻取軸１１
にて巻きとられる。１２ａ、１２ｂは、被処理物Ｆを搬
送するためのＤＣモータである。また、３４ａ及び３４
ｂは張力カットするガイドローラを駆動するＤＣモータ
である。
第３図、第４図及び第５図は前記予備真空室２及び３を
構成するシール装置の主要部を示すものであり、第４図
は第３図のＡ−Ａ断面図であり。
構成するシール装置の主要部を示すものであり、第４図
は第３図のＡ−Ａ断面図であり。
第５図は第３図のＢ−Ｂ断面図である。１３は上ケース
、１４は下ケース、１５は上ケース１３に案内支持され
るシールブロックであり、被処理物Ｆは下ケース１４と
シールブロック１５で形成されるスリットの間を接触し
ないで搬送される。
、１４は下ケース、１５は上ケース１３に案内支持され
るシールブロックであり、被処理物Ｆは下ケース１４と
シールブロック１５で形成されるスリットの間を接触し
ないで搬送される。
１６はハンドルであり、これを回転させることにより減
速機１７．歯車１８．ボールネジ１９及びナツト２０を
介してシールブロック１５と一体的に形成されるコラム
２１及びシールブロック１５を被処理物Ｆの厚さに応じ
て上下方向に動かす。
速機１７．歯車１８．ボールネジ１９及びナツト２０を
介してシールブロック１５と一体的に形成されるコラム
２１及びシールブロック１５を被処理物Ｆの厚さに応じ
て上下方向に動かす。
２２はＬＭガイドであり、シールブロック１５の上下方
向の動きを案内する。２３は０リングであり、上ケース
１３とシールブロック１５の間のシールをする。０リン
グ２３はシールブロック１５が上下方向に移動（最大２
＋ｍ）にもかかわらず上ケース１３とシールブロック１
５間のシールを施すため、十分な弾性体のものを使用し
ている。上ケース１３とシールブロック１５のサイドの
間隙２４はシールブロック１５が滑らかに上下し、かつ
空気の漏れ麓が小さくなるように、可能な範囲で小さく
（例えば３０ミクロン）している、２５は被処理物Ｆを
案内するガイドロールであり、下ケース１４のシール面
と被処理物Ｆが接触しないよう、ガイドロール２５の外
周面の高さを下ケース１４より高くしている０通常の使
用でき、被処理物Ｆとシールブロック１５の間隔及び被
処理物Ｆと下ケース１４の間隔がいずれも０．１膿とな
るようにガイドロール２５とシールブロック１５の位置
を決定している。２６は、被処理物Ｆとガイドロール２
５に対する巻き付は角度を大きくするとともに被処理物
Ｆに張力を付与する張力付与用ロールで、シール部分で
被処理物Ｆが振動し、シール部分の壁面に接触するのを
防止している。
向の動きを案内する。２３は０リングであり、上ケース
１３とシールブロック１５の間のシールをする。０リン
グ２３はシールブロック１５が上下方向に移動（最大２
＋ｍ）にもかかわらず上ケース１３とシールブロック１
５間のシールを施すため、十分な弾性体のものを使用し
ている。上ケース１３とシールブロック１５のサイドの
間隙２４はシールブロック１５が滑らかに上下し、かつ
空気の漏れ麓が小さくなるように、可能な範囲で小さく
（例えば３０ミクロン）している、２５は被処理物Ｆを
案内するガイドロールであり、下ケース１４のシール面
と被処理物Ｆが接触しないよう、ガイドロール２５の外
周面の高さを下ケース１４より高くしている０通常の使
用でき、被処理物Ｆとシールブロック１５の間隔及び被
処理物Ｆと下ケース１４の間隔がいずれも０．１膿とな
るようにガイドロール２５とシールブロック１５の位置
を決定している。２６は、被処理物Ｆとガイドロール２
５に対する巻き付は角度を大きくするとともに被処理物
Ｆに張力を付与する張力付与用ロールで、シール部分で
被処理物Ｆが振動し、シール部分の壁面に接触するのを
防止している。
予備真空室２あるいは３は互いに相対するシール装置で
構成されており、排気導管７を介して真空ポンプ６で排
気される。
構成されており、排気導管７を介して真空ポンプ６で排
気される。
第６図及び第７図は前記張力付与用ガイドローラ２６の
支持構造の実施例である。ガイドローラ２６はベアリン
グ３５を介してアーム３６により支持される。アーム３
６はベアリング３７を介してベアリングハウジング３８
．３９により支持される。ベアリングハウジング３９と
アーム３６の支持部の真空シール↓よ、オイルシール４
ｏにより行う、アーム３６の大気側の１端にはプレート
４１がとりつけられている。プレート４１の他の１端は
エアシリンダ４２のピストン４３の１端に接続されてい
る。これにより張力付与用ガイドローラ２６はエアシリ
ンダ４２及びそのピストン４３の動きに応じて作動する
。エアシリンダ４２に供給するエア圧により被処理物Ｆ
に与える張力は制御が可能となり、またピストン４３に
位置検出器を設けることにより張力付与用ガイドローラ
２６の位置を検出し、さらに適切な位置に設定できる、
尚、真空処理室１内の張力付与装置も同様の構造により
達成される。
支持構造の実施例である。ガイドローラ２６はベアリン
グ３５を介してアーム３６により支持される。アーム３
６はベアリング３７を介してベアリングハウジング３８
．３９により支持される。ベアリングハウジング３９と
アーム３６の支持部の真空シール↓よ、オイルシール４
ｏにより行う、アーム３６の大気側の１端にはプレート
４１がとりつけられている。プレート４１の他の１端は
エアシリンダ４２のピストン４３の１端に接続されてい
る。これにより張力付与用ガイドローラ２６はエアシリ
ンダ４２及びそのピストン４３の動きに応じて作動する
。エアシリンダ４２に供給するエア圧により被処理物Ｆ
に与える張力は制御が可能となり、またピストン４３に
位置検出器を設けることにより張力付与用ガイドローラ
２６の位置を検出し、さらに適切な位置に設定できる、
尚、真空処理室１内の張力付与装置も同様の構造により
達成される。
第８図及び第９図は真空処理室１内の張力カット装置の
１実施例である６本実施例では張力カット装置は主に１
対のガイドローラから構成される。
１実施例である６本実施例では張力カット装置は主に１
対のガイドローラから構成される。
４４は、真空中でのガス放出量が小さい高分子材料をコ
ーティングしたガイドローラであり、その表面と被処理
物Ｆとのすべりはない、ガイドローラ４４の両端はベア
リング４６を介してベアリングハウジング４７と４８に
より支持されている。
ーティングしたガイドローラであり、その表面と被処理
物Ｆとのすべりはない、ガイドローラ４４の両端はベア
リング４６を介してベアリングハウジング４７と４８に
より支持されている。
ベアリングハウジング４７はステー４９に固定され、他
方のベアリングハウジング４９は真空処理室１の側板５
０に固定されている。ガイドローラ４４とベアリングハ
ウジング４８との真空シールはオイルシール５１により
行う、ガイドローラ４４の大気側の１端には歯車５２が
とりつけられ、さらにカップリング５３を介して駆動用
ＤＣモータ５４に連結されている。ＤＣモータ５４は張
力付与用ガイドローラ３０（図１中）の位置を検出し被
処理物Ｆが設定速度で適切な張力を付加された状態で搬
送するように制御される。ガイドローラ４４と１対をな
す他方のガイドローラ５５は回転部５６．ベアリング５
７．及びシャフト５８により構成される。ガイドローラ
５５はシャフト５８の両端にとりつけられたベアリング
５９を介してベアリングハウジング６０及び６１により
支持され、ベアリングハウジング６ｏ及び６１はアーム
６２に固定されている。また、シャフト５８の１端には
歯車６３がとりつけられている。アーム６２はベアリン
グ６４を介してベアリングハウジング６５及び歯車６５
に支持されている。ベアリングハウジング６５はステー
４９に固定される。
方のベアリングハウジング４９は真空処理室１の側板５
０に固定されている。ガイドローラ４４とベアリングハ
ウジング４８との真空シールはオイルシール５１により
行う、ガイドローラ４４の大気側の１端には歯車５２が
とりつけられ、さらにカップリング５３を介して駆動用
ＤＣモータ５４に連結されている。ＤＣモータ５４は張
力付与用ガイドローラ３０（図１中）の位置を検出し被
処理物Ｆが設定速度で適切な張力を付加された状態で搬
送するように制御される。ガイドローラ４４と１対をな
す他方のガイドローラ５５は回転部５６．ベアリング５
７．及びシャフト５８により構成される。ガイドローラ
５５はシャフト５８の両端にとりつけられたベアリング
５９を介してベアリングハウジング６０及び６１により
支持され、ベアリングハウジング６ｏ及び６１はアーム
６２に固定されている。また、シャフト５８の１端には
歯車６３がとりつけられている。アーム６２はベアリン
グ６４を介してベアリングハウジング６５及び歯車６５
に支持されている。ベアリングハウジング６５はステー
４９に固定される。
歯車６５はベアリング６６を介してベアリングハウジン
グ６７により支持され、ベアリングハウジング６７は真
空処理室１の側板５０に固定されている。尚歯車６５と
アーム６２．歯車６５とベアリングハウジング６７の真
空シールはオイルシール６８と６９によりおこなう、歯
車６５の大気側の１端には歯車７０が固定されており、
歯車５１がＤＣモータ５４により回転し、歯車７０及び
６５が歯車９０と逆回転する。歯車６５と歯車６３はタ
イミングベルト７１を介して連結されており、ガイドロ
ーラ５５は、ガイドローラ４５と同じ速度で逆回転する
。アーム６２の１端はプレート７２がとりつけられてお
り、プレート７２がエアシリンダ等により作動させるこ
とでガイドローラ５５は位置を移動できる。初期、被処
理物搬通時にはガイドローラ４５と５５は間隔が開いて
いる。張力カット作動時は、被処理物Ｆをガイドローラ
４５と５５によりはさみつける。この時ガイドローラ５
５の被処理物Ｆへの押しつけ圧力は、被処理物Ｆに傷が
つかない値にエアシリンダへのエア圧を調整することで
設定する。
グ６７により支持され、ベアリングハウジング６７は真
空処理室１の側板５０に固定されている。尚歯車６５と
アーム６２．歯車６５とベアリングハウジング６７の真
空シールはオイルシール６８と６９によりおこなう、歯
車６５の大気側の１端には歯車７０が固定されており、
歯車５１がＤＣモータ５４により回転し、歯車７０及び
６５が歯車９０と逆回転する。歯車６５と歯車６３はタ
イミングベルト７１を介して連結されており、ガイドロ
ーラ５５は、ガイドローラ４５と同じ速度で逆回転する
。アーム６２の１端はプレート７２がとりつけられてお
り、プレート７２がエアシリンダ等により作動させるこ
とでガイドローラ５５は位置を移動できる。初期、被処
理物搬通時にはガイドローラ４５と５５は間隔が開いて
いる。張力カット作動時は、被処理物Ｆをガイドローラ
４５と５５によりはさみつける。この時ガイドローラ５
５の被処理物Ｆへの押しつけ圧力は、被処理物Ｆに傷が
つかない値にエアシリンダへのエア圧を調整することで
設定する。
本実施例によれば、被処理物Ｆには損傷等を与えず、プ
ラズマ処理を連続的に行うことが可能となる。
ラズマ処理を連続的に行うことが可能となる。
本発明によれば、真空連続処理装置の巻出装置。
予備真空室とシール装置、真空処理室及び巻取装置にお
いて、それぞれの部分で被処理物Ｆに適切な張力を付与
できるので、被処理物に機械的な損傷を与えることなく
、またプラズマ処理による熱的なしわの発生をさせるこ
となく連続的に処理ができる。さらに真空連続処理装置
前後に張力カット装置を設けていることにより真空連続
処理装置の前及び後工程の影響を受けることなく被処理
物を搬送することができる。
いて、それぞれの部分で被処理物Ｆに適切な張力を付与
できるので、被処理物に機械的な損傷を与えることなく
、またプラズマ処理による熱的なしわの発生をさせるこ
となく連続的に処理ができる。さらに真空連続処理装置
前後に張力カット装置を設けていることにより真空連続
処理装置の前及び後工程の影響を受けることなく被処理
物を搬送することができる。
図面は本発明に係る真空連続処理装置の実施例の説明図
で、第１図は真空連続処理装置の概略縦断面図、第２図
は第１図の概略平面図、第３図はシール装置の縦断面図
、第４図は第３図のＡ−Ａ断面図、第５図は第３図のＢ
−Ｂ断面図、第６図及び第７図は、それぞれ張力付与用
ガイドローラ部の横断面図及び側面図、第８図は第１図
のＣ−Ｃ断面図、第９図は第８図の上面図である。 １・・・真空処理室、２，３・・・予備真空室、４，６
・・・真空ポンプ、５，７・・・排気導管、８・・・巻
出軸、９゜１０ 、２５ 、４１ ａ 、 ４ ｌ ｂ
−ガイドロール、１１・・・巻取軸、１３・・・上ケー
ス、１４・・・下ケース、１５・・・シールブロック、
１７・・・減速機、１８・・・歯車、１９・・・ボール
ネジ、２６・・・張力付与用ロール、２７．３２・・・
張力カット装置、２８．３３・・・張力検出器、２９．
３１・・・張力カット装置、３０・・・張力付与用ガイ
ドローラ、３４ａ、ｂ・・・ＤＣモータ、３６・・・ア
ーム、４４．４５・・・ガイドローラ、６２・・・アー
ム、５４・・・ＤＣモータ。 代理人 弁理士 小用勝、５Ｓ７）
で、第１図は真空連続処理装置の概略縦断面図、第２図
は第１図の概略平面図、第３図はシール装置の縦断面図
、第４図は第３図のＡ−Ａ断面図、第５図は第３図のＢ
−Ｂ断面図、第６図及び第７図は、それぞれ張力付与用
ガイドローラ部の横断面図及び側面図、第８図は第１図
のＣ−Ｃ断面図、第９図は第８図の上面図である。 １・・・真空処理室、２，３・・・予備真空室、４，６
・・・真空ポンプ、５，７・・・排気導管、８・・・巻
出軸、９゜１０ 、２５ 、４１ ａ 、 ４ ｌ ｂ
−ガイドロール、１１・・・巻取軸、１３・・・上ケー
ス、１４・・・下ケース、１５・・・シールブロック、
１７・・・減速機、１８・・・歯車、１９・・・ボール
ネジ、２６・・・張力付与用ロール、２７．３２・・・
張力カット装置、２８．３３・・・張力検出器、２９．
３１・・・張力カット装置、３０・・・張力付与用ガイ
ドローラ、３４ａ、ｂ・・・ＤＣモータ、３６・・・ア
ーム、４４．４５・・・ガイドローラ、６２・・・アー
ム、５４・・・ＤＣモータ。 代理人 弁理士 小用勝、５Ｓ７）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、真空処理室の前後方側にそれぞれ少なくとも１個の
予備真空室を配置してなる真空連続処理装置において、
前記予備真空室は被処理物を搬送すると共に真空処理室
を処理室外からシールするスリット状のシール装置を有
し、当該シール装置の前後もしくは一方に被処理物を案
内する案内部材を設け、前記真空処理室及び予備真空室
に、それぞれ個々に張力付与装置を設けたことを特徴と
する真空連続処理装置。 ２、真空処理室内に被処理物の張力をカットする装置を
設けたことを特徴とする請求項１項記載の真空連続処理
装置。 ３、前記予備真空室の前方側あるいは後方側に張力をカ
ットする装置を設けたことを特徴とする請求項１項記載
の真空連続処理装置。 ４、張力を付与する装置が移動構造のローラであること
を特徴とする請求項１項記載の真空連続処理装置。 ５、張力を付与する装置の位置を検出して張力をカット
する装置を制御することを特徴とする請求項４項記載の
真空連続処理装置。 ６、真空処理室及び予備真空室の前方あるいは後方に配
置してある張力をカットする装置が、それぞれ被処物を
はさみ、回転するローラであることを特徴とする請求項
５項記載の真空連続処理装置。 ７、真空処理室の前後方側にそれぞれ少なくとも１個の
予備真空室を配置してなる真空連続処理装置において、
前記予備真空室は被処理物を搬送すると共に真空処理室
を処理室外からシールするスリット状のシール装置を有
し、当該シール装置の前後もしくは一方に被処理物を案
内する案内部材を設け、前記真空処理室及び予備真空室
に、それぞれ個々に張力カット装置を設けたことを特徴
とする真空連続処理装置。 ８、真空処理室の前後方側にそれぞれ少なくとも１個の
予備真空室を配置してなる真空連続処理装置において、
前記予備真空室は被処理物を搬送すると共に真空処理室
を処理室外からシールするスリット状のシール装置を有
し、当該シール装置の前後もしくは一方に被処理物を案
内する案内部材を設け、前記予備真空室に張力付与装置
を設けたことを特徴とする真空連続処理装置。 ９、真空処理室の前後方側にそれぞれ少なくとも１個の
予備真空室を配置してなる真空連続処理装置において、
前記予備真空室は被処理物を搬送すると共に真空処理室
を処理室外からシールするスリット状のシール装置を有
し、当該シール装置の前後もしくは一方に被処理物を案
内する案内部材を設け、前記真空処理室に張力付与装置
を設けたことを特徴とする真空連続処理装置。 １０、前記予備真空室の前方側あるいは後方側に張力を
カットする装置を設けたことを特徴とする請求項９項記
載の真空連続処理装置。
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