JPH04224524A - 対応するエーテルの分解による少なくとも1つの第三オレフィンの製造方法 - Google Patents

対応するエーテルの分解による少なくとも1つの第三オレフィンの製造方法

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JPH04224524A
JPH04224524A JP3076212A JP7621291A JPH04224524A JP H04224524 A JPH04224524 A JP H04224524A JP 3076212 A JP3076212 A JP 3076212A JP 7621291 A JP7621291 A JP 7621291A JP H04224524 A JPH04224524 A JP H04224524A
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silica
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パトリック・ショーメット
Germain Martino
ジェルマン・マルチノ
Catherine Verdon
カトゥリーヌ・ヴェルドン
Serge Leporq
セルジュ・ルポール
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IFP Energies Nouvelles IFPEN
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、シリカをベースとする
少なくとも1つの特別な触媒の存在下、場合によっては
水蒸気の不存在下における、対応するエーテルの分解に
よる、少なくとも1つの非常に純粋な第三オレフィンの
製造方法に関する。
【0002】
【従来技術および解決すべき課題】第三オレフィンは、
いくつかの化学物質、特にポリマーの製造のためには非
常に重要な原料となる。従って非常に純粋な第三オレフ
ィンを製造することが肝要である。
【0003】オレフィンまたはオレフィン混合物と、第
一アルコールとの、酸、例えば硫酸または適切な酸性度
を有する固体の存在下における反応によって、1つまた
は複数の対応するエーテルを得ることができることは知
られている。さらに、この反応の速度は、操作条件、お
よび同様に基R、R1、R2およびR3の種類によるの
で、オレフィン留分、例えば蒸気クラッキング、熱クラ
ッキングまたは接触クラッキングから生じた留分におい
て、第三オレフィンと少なくとも1つの第一アルコール
とを選択的に反応させることが可能である。その際形成
された第三アルキル−アルキル−エーテルは、反応しな
かったオレフィンから容易に分離され、ついで分解され
て、精製された対応第三オレフィンを再び与えうる。
【0004】先行技術において、対応エーテルの接触分
解による第三オレフィンの接触製造方法が既に記載され
ている。
【0005】しかしながら、この反応は高温で促進され
るので、先行技術のいくつかの触媒は、第一アルコール
からジアルキルエーテルと水との形成を生じ、従って多
少なりとも大きなアルコールのロスを生じる。このよう
にして方法の経済性を損なう。この方法では、通常、ア
ルコールは、第三アルキル−アルキル−エーテルの合成
区域に再循環される。
【0006】先行技術のいくつかの触媒によって促進さ
れるもう1つの副反応は、オレフィンからのオリゴマー
の形成である。これは特に、製造されたオレフィンの純
度の実質的低下を引起こす。
【0007】本出願人は、前記の欠点が大部分解消され
ている、対応エーテルからのオレフィンの製造方法を既
に提案している(US−A−4,395,580)。こ
の方法は、最適化された酸性特徴を有する少なくとも1
つの触媒によって、水蒸気の存在下に操作を行なうこと
からなる。この水蒸気の添加によって、確かにアルコー
ルとオレフィンの収率の増加が可能にされるが、方法の
仕組みが複雑になり、無視できない追加コストが必要と
なる。
【0008】シリカが添加されたアルミナをベースとす
る触媒上での第三アルキルエーテルの分解も特許請求さ
れた(US−A−4,006,198)。しかしながら
この触媒は、反応温度が高くなるとすぐに、ジアルキル
エーテルの形成を生じる。
【0009】同様にアルミナ、またはクロム、ベリリウ
ム、チタン、バナジウム、マンガン、鉄、コバルト、亜
鉛、ジルコニウム、ロジウム、銀、錫、アンチモン、ホ
ウ素から選ばれる元素の酸化物が添加された、シリカを
ベースとする触媒の存在下における対応エーテルの分解
による第三オレフィンの製造法も提案された(US−A
−4,254,296)。しかしながらUS−A−4,
254,296の著者が、特許出願WO 87/001
66 において指摘しているように、これらの触媒は製
造が難しく、かつ製造コストが非常に高い。 さらに、これらは寿命が比較的短く、反応温度を上昇さ
せる必要があり、望ましくない物質の形成を伴なう。
【0010】特許出願WO 87/00166 には、
この適用のための改良された触媒が記載されている。こ
れらの触媒は、シリカに対して、アルミナ0.1 〜1
.5 重量%の添加によって変性されたシリカからなる
。これらの触媒は、前例のものより安定ではあるが、性
能の低下をなお示している。実際、70%以上の転換率
の維持には、130 〜350 ℃の範囲の温度上昇が
必要であり、3,000 時間の運転からは、この転換
率を維持するためには、250 ℃の温度で操作を行な
うのがよい。これは99%以下のメタノールの収率低下
を引起こす。
【0011】本発明によって、前記の欠点のすべてを大
部分解消することができる。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記欠点を解
消するために工夫されたものであって、式:
【0013
【化3】
【0014】で表わされる対応エーテルの分解による、
式:
【0015】
【化4】
【0016】(式中、RおよびR1は、同一または異な
って、各々水素原子、アルキル基、アリールアルキル基
、アリール基、およびアルキルアリール基からなる群か
ら選ばれ、R2およびR3は、同一または異なって、各
々アルキル基、アリールアルキル基、アリール基、およ
びアルキルアリール基からなる群から選ばれる)で表わ
される少なくとも1つの第三オレフィンの製造方法であ
って、リチウム、ルビジウム、セシウム、マグネシウム
、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、ガリウム、
ランタニドおよびウラニドからなる群から選ばれる、少
なくとも1つの元素または元素化合物の添加によって変
性されたシリカからなる、少なくとも1つの触媒の存在
下における製造方法である。
【0017】本発明は、少なくとも1つの特別な触媒の
存在下、および好ましくは水蒸気の不存在下に操作を行
なうことからなる。前記触媒は、リチウム、ルビジウム
、セシウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウ
ム、バリウム、ガリウム、ランタニド(La、Ce、P
r、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho
、Er、Tm、Yb、Lu)およびウラニド(U、Np
、Pu、Am)からなる群、好ましくはルビジウム、セ
シウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、
バリウム、ガリウム、ランタン、セリウム、プラセオジ
ム、ネオジムおよびウランからなる群、さらに好ましく
はルビジウム、マグネシウム、カルシウム、ランタン、
およびセリウムからなる群から選ばれる少なくとも1つ
の元素または元素化合物の添加によって、場合によって
はアルミニウム、チタンおよびジルコニウムからなる群
から選ばれる少なくとも1つの元素または元素化合物の
(補足的)添加によって変性されたシリカからなる。
【0018】用いられるシリカは、好ましくは前記1つ
または複数の元素または元素化合物の組込み後、および
適切な熱処理後、比表面積が少なくとも100m2/g
、より好ましくは150 〜700 m2/gである。
【0019】シリカに添加された1つまたは複数の元素
(またはそれらの化合物)は、ここではベースのシリカ
の添加元素または添加剤、あるいはさらには変性元素ま
たは変性剤と呼ばれるが、これらは当業者に知られたあ
らゆる方法、例えばイオン交換、乾式含浸、機械的混合
、または有機金属錯体のグラフト化を用いて導入されう
る。しかしながら一般に、前記ベースシリカを、選ばれ
た含浸溶媒中に可溶なそれらの塩、またはその他の有機
または無機誘導体の形態で添加したい1つまたは複数の
元素(化合物)を含む、少なくとも1つの溶液で含浸す
ることによって、これらを導入するのが好ましい。
【0020】従って本発明において用いられる触媒の調
製方法は、例えば導入したい1つまたは複数の変性剤を
含む、少なくとも1つの水溶液を用いて(または少なく
とも1つの適切な溶媒中で)、シリカ担体を含浸するこ
とからなる。1つまたは複数のこの変性剤は、例えばハ
ロゲン化物、硝酸塩、酢酸塩、蓚酸塩、硫酸塩、1つま
たは複数の前記変性剤を含む錯体、例えば蓚酸および蓚
酸塩、クエン酸およびクエン酸塩、酒石酸および酒石酸
塩、その他の多酸およびアルコール酸およびそれらの塩
と共に形成された錯体、アセチルアセトナート、および
選ばれた1つまたは複数の前記変性剤を含むその他のあ
らゆる無機または有機金属誘導体の形態で用いられる。
【0021】選ばれた1つまたは複数の変性元素は、シ
リカ上に担持され、ついで得られた生成物を、当業者に
知られたあらゆる方法で、例えば窒素流または空気流下
で熱処理、すなわち乾燥する。ついで例えば空気流また
は窒素流下、例えば300 〜800 ℃の温度で焼成
する。
【0022】シリカの表面上に担持された(従って触媒
中に含まれる)1つまたは複数の変性元素または変性元
素化合物の、シリカ重量に対する酸化物重量で表示され
た含量は、通常0.01〜35%、好ましくは0.05
〜25%である。
【0023】本発明による1つまたは複数のエーテルの
分解反応は、一般に温度100 〜500 ℃、好まし
くは130 〜350 ℃で実施される。もしエーテル
の分解が大気圧で良好な収率で展開されるならば、一般
に、製造したいオレフィンの蒸気圧に少なくとも等しい
圧力で、予期される凝縮温度で操作を行なうことが好ま
しい。通常、0.11〜2MPa 、好ましくは0.4
 〜1.5 MPa の圧力で操作を行なう。
【0024】触媒1容あたり毎時の液体仕込原料の容積
で表示されたエーテル(類)の流量(毎時液体空間速度
またはVVH )は、一般に0.1 〜200 、好ま
しくは0.7 〜30である。
【0025】本発明による方法は、式:
【0026】
【化5】
【0027】で表わされる対応するエーテルからの、式
【0028】
【化6】
【0029】で表わされる第三オレフィンの純粋状態で
の製造に特に適している(式中、RおよびR1は、同一
または異なって、各々水素原子、メチル基、エチル基、
n−プロピル基、およびイソプロピル基からなる群から
選ばれ、R2およびR3は、同一または異なって、各々
メチル基、エチル基、n−プロピル基、およびイソプロ
ピル基からなる群から選ばれる)。
【0030】エーテルの分解後に回収される第一アルコ
ールは、好ましくは1〜6個の炭素原子を有する。
【0031】本発明による方法は、特に、純粋なイソブ
テン(およびメタノールまたはエタノール)の製造のた
めに、メチル第三ブチルエーテル(MTBE)またはエ
チル第三ブチルエーテル(ETBE)の分解に適用され
うる。
【0032】本発明の方法による、エーテルの第一アル
コールおよび第三オレフィンへの分解反応は、ほぼ定量
的であり、アルコールおよびオレフィンの回収率は、1
00 %に非常に近い。
【0033】
【実施例】下記実施例は本発明を例証するが、その範囲
を限定するものではない。
【0034】[実施例1]本発明において用いられる触
媒と合致した触媒Aの調製。
【0035】比表面積250 m2/g、細孔容積1.
32cm3/gのシリカ50gと、六水和硝酸マグネシ
ウム25gを含む65cm3の水溶液(S1)とを、回
転混練機内で接触させ、ついで溶液をゆっくりと80℃
で乾燥蒸発させる。
【0036】次にこのようにして得られた含浸シリカを
、100 ℃で約1時間、ついで150 ℃で約16時
間乾燥し、最後に600 ℃で約3時間焼成する。
【0037】得られた触媒Aは、比表面積が220 m
2/gであり、(シリカ重量に対して)7.7 重量%
のMgOを含む。
【0038】[実施例2]本発明において用いられる触
媒に合致した触媒Bの調製。
【0039】触媒Bの調製は、下記の点で実施例1に記
載されたものと異なる。すなわち、水溶液(S1)の代
わりに、六水和硝酸マグネシウム1.6 gを含む65
cm3の水溶液(S2)を用いることである。
【0040】得られた触媒Bは、比表面積が245 m
2/gであり、(シリカ重量に対して)0.46重量%
のMgOを含む。
【0041】[実施例3]本発明において用いられる触
媒に合致した触媒Cの調製。
【0042】六水和硝酸マグネシウム67gを含む19
5 cm3の水溶液(S3)を調製する。この溶液を、
各々65cm3の3つの溶液(Z1)(Z2)(Z3)
に分ける。
【0043】比表面積250 m2/g、細孔容積1.
32cm3/gのシリカ50gと、溶液(Z1)とを、
回転混練機内で接触させ(工程(a) )、ついで溶液
をゆっくりと80℃で乾燥蒸発させる(工程(b) )
【0044】次にこのようにして得られた含浸シリカを
、100 ℃で約1時間(工程(c) )、ついで15
0 ℃で約16時間(工程(d) )乾燥し、最後に6
00 ℃で約3時間焼成する(工程(e) )。
【0045】ついでこのようにして得られた変性シリカ
と、溶液(Z2)とを、回転混練機内で接触させ(工程
(a) )、ついでこれは再び工程(b) 〜(e) 
を受ける。この第二含浸後、最後に工程(a) 〜(e
) に従って、溶液(Z3)を用いて第三含浸を実施す
る。
【0046】このようにして得られた触媒Cは、比表面
積が210 m2/gであり、(シリカ重量に対して)
20.0重量%のMgOを含む。
【0047】[実施例4]本発明において用いられる触
媒に合致した触媒Dの調製。
【0048】実施例1で調製された触媒Aを、九水和硝
酸アルミニウム1.4gを含む60cm3の水溶液(S
4)によって処理し、ついで溶液をゆっくりと80℃で
乾燥蒸発させる。
【0049】次にこのようにして得られた固体を、10
0 ℃で約1時間、ついで150 ℃で約16時間乾燥
し、最後に600 ℃で約3時間焼成する。
【0050】このようにして得られた触媒Dは、比表面
積が240 m2/gであり、(シリカ重量に対して)
7.7 重量%のMgOおよび0.37重量%のAl2
O3を含む。
【0051】[実施例5]本発明において用いられる触
媒に合致した触媒Eの調製。
【0052】触媒Eの調製は、下記の点で実施例4に記
載されたものと異なる。すなわち、水溶液(S4)の代
わりに、二水和硝酸ジルコニル0.30gを含む60c
m3の水溶液(S5)を用いることである。
【0053】得られた触媒Eは、比表面積が235 m
2/gであり、(シリカ重量に対して)7.7 重量%
のMgOおよび0.27重量%のZrO2を含む。
【0054】[実施例6]本発明において用いられる触
媒に合致した触媒Fの調製。
【0055】触媒Fの調製は、下記の点で実施例1に記
載されたものと異なる。すなわち、水溶液(S1)の代
わりに、六水和硝酸ランタン6.8 gを含む65cm
3の水溶液(S6)を用いることである。
【0056】得られた触媒Fは、比表面積が210 m
2/gであり、(シリカ重量に対して)4.6 重量%
のLa2O3を含む。
【0057】[実施例7]本発明において用いられる触
媒に合致した触媒Gの調製。
【0058】触媒Gの調製は、下記の点で実施例1に記
載されたものと異なる。すなわち、水溶液(S1)の代
わりに、硝酸ルビジウム1.6 gを含む65cm3の
水溶液(S7)を用いることである。
【0059】得られた触媒Gは、比表面積が247 m
2/gであり、(シリカ重量に対して)2.0 重量%
のRb2Oを含む。
【0060】[実施例8](比較例)本発明において用
いられる触媒に合致しない触媒H。
【0061】触媒Hは、比表面積250 m2/g、細
孔容積1.32cm3/gの非変性シリカからなる(こ
れは実施例1〜7において用いられる原料に対応する)
【0062】[実施例9](比較例)本発明において用
いられる触媒に合致しない触媒Iの調製。
【0063】触媒Iの調製は、下記の点で実施例1に記
載されたものと異なる。すなわち、水溶液(S1)の代
わりに、実施例4に記載された水溶液(S4)と同一の
水溶液(S9)を用いることである。
【0064】得られた触媒Iは、比表面積が250 m
2/gであり、(シリカ重量に対して)0.37重量%
のAl2O3を含む。
【0065】[実施例10](比較例)本発明において
用いられる触媒に合致しない触媒Jの調製。
【0066】触媒Jの調製は、下記の操作マニュアルに
従って実施される(これは特許US−A−4,254,
296に記載されたものに相当する)。
【0067】オルトケイ酸エチル40gを、窒素下80
℃で加熱し、ついで窒素雰囲気で、攪拌下、水酸化テト
ラプロピルアンモニウム20重量%の水溶液100 m
lと接触させる。温度を80℃に維持する。
【0068】混合物が均質で透明になった時、エタノー
ル80ml中に溶解した四水和硝酸ベリリウム4gと、
蒸溜水10ml中に溶解した水酸化ナトリウム1.5 
gを添加する。
【0069】高密度のゲルが形成される。全体の容積を
200 mlにするために、これに蒸溜水を添加する。
【0070】次に加水分解を完了し、かつエタノールを
排出するために、強く攪拌しながら全体を沸騰させる。 ついでゲルは白い粉末に転換される。容積を150 m
lとするために蒸溜水を再び添加し、オートクレーブ内
で全体を17日間、155 ℃にする。
【0071】次に、形成された固体を遠心分離機によっ
て分離し、ケークを蒸溜水で洗浄し、4回遠心分離し、
ついで乾燥機で120 ℃で乾燥し、最後に掃気下55
0 ℃で16時間焼成する。
【0072】次に得られた固体を、沸騰させられた酢酸
アンモニウムの水溶液中で再懸濁させることにより、再
び3回洗浄する。最後に固体を550 ℃で6時間焼成
する。
【0073】このようにして得られた触媒Jは、比表面
積が470 m2/gであり、(シリカ重量に対して)
3.2 重量%のBeOを含む。
【0074】[実施例11](比較例)本発明において
用いられる触媒に合致しない触媒Kの調製。
【0075】比表面積60m2/g、細孔容積0.50
cm3/gのシリカ50gと、六水和硝酸マグネシウム
15gを含む25cm3の水溶液(S11)とを、回転
混練機内で接触させ、ついで溶液をゆっくりと80℃で
乾燥蒸発させる。
【0076】次にこのようにして得られた含浸シリカを
、100 ℃で約1時間、ついで150 ℃で約16時
間乾燥し、最後に600 ℃で約3時間焼成する。
【0077】このようにして得られた触媒Kは、比表面
積が50m2/gであり、(シリカ重量に対して)4.
6 重量%のMgOを含む。
【0078】[実施例12](比較例)本発明において
用いられる触媒に合致しない触媒Lの調製。
【0079】触媒Lの調製は、下記の点で実施例3に記
載されたものと異なる。すなわち、水溶液(S3)の代
わりに、六水和硝酸マグネシウム130 gを含む19
5 cm3の水溶液(S12)を用いることである。
【0080】得られた触媒Lは、比表面積が200 m
2/gであり、(シリカ重量に対して)40.0重量%
のMgOを含む。
【0081】[実施例13](本発明)触媒A〜Gを反
応器に装入し、乾燥窒素下で2時間処理し、ついで下記
操作条件下、メチル第三ブチルエーテル(MTBE)の
メタノールおよびイソブテンへの分解反応の試験を行な
う。
【0082】温度:170 〜250 ℃圧力:0.7
 MPa  VVH :1または2h−l 表1は、示された温度(T)とVVH 条件下での、こ
れらの種々の触媒を用いて得られた結果をまとめている
【0083】生成されたジメチル−エーテル(DME)
 濃度もここに記載されている(ppm )。
【0084】
【表1】
【0085】[実施例14](比較例)触媒H〜Lを反
応器に装入し、乾燥窒素下で2時間処理し、ついで0.
7 MPa の圧力で、メチル第三ブチルエーテル(M
TBE)のメタノールおよびイソブテンへの分解反応の
試験を行なう。
【0086】表2は、用いられた操作条件および得られ
た結果をまとめている。
【0087】表1と表2の比較によれば、本発明によっ
て推奨されている触媒に合致した触媒を用いた場合に、
より良い結果が得られることがわかる。
【0088】
【表2】
【0089】
【発明の効果】本発明の方法によれば、エーテルの第一
アルコールおよび第三オレフィンへの分解反応は、ほぼ
定量的であり、アルコールおよびオレフィンの回収率は
、100 %に非常に近く、純粋な第一アルコールおよ
び第三オレフィンを得ることができる。
【0090】また、本発明の方法によれば、触媒の製造
は容易で、かつ製造コストも高くない。

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  式: 【化1】 で表わされる対応エーテルの分解による、式:【化2】 (式中、RおよびR1は、同一または異なって、各々水
    素原子、アルキル基、アリールアルキル基、アリール基
    、およびアルキルアリール基からなる群から選ばれ、R
    2およびR3は、同一または異なって、各々アルキル基
    、アリールアルキル基、アリール基、およびアルキルア
    リール基からなる群から選ばれる)で表わされる少なく
    とも1つの第三オレフィンの製造方法であって、リチウ
    ム、ルビジウム、セシウム、マグネシウム、カルシウム
    、ストロンチウム、バリウム、ガリウム、ランタニドお
    よびウラニドからなる群から選ばれる、少なくとも1つ
    の元素または元素化合物の添加によって変性されたシリ
    カからなる、少なくとも1つの触媒の存在下における製
    造方法。
  2. 【請求項2】  水蒸気の不存在下において操作を行な
    う、請求項1による方法。
  3. 【請求項3】  前記触媒が、ルビジウム、セシウム、
    マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム
    、ガリウム、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオ
    ジムおよびウランからなる群から選ばれる、少なくとも
    1つの元素または元素化合物の添加によって変性された
    シリカからなる、請求項1または2による方法。
  4. 【請求項4】  前記触媒が、ルビジウム、マグネシウ
    ム、カルシウム、ランタンおよびセリウムからなる群か
    ら選ばれる、少なくとも1つの元素または元素化合物の
    添加によって変性されたシリカからなる、請求項1また
    は2による方法。
  5. 【請求項5】  さらにシリカが、アルミニウム、チタ
    ン、およびジルコニウムからなる群から選ばれる、少な
    くとも1つの元素または元素化合物の添加によって変性
    される、請求項1〜4のうちの1つによる方法。
  6. 【請求項6】  前記触媒中に含まれる、1つまたは複
    数の前記元素または元素化合物の、シリカ重量に対する
    酸化物重量として表示された含量が、0.01〜35%
    である、請求項1〜5のうちの1つによる方法。
  7. 【請求項7】  前記含量が0.05〜25%である、
    請求項6による方法。
  8. 【請求項8】  前記シリカは、1つまたは複数の前記
    元素または元素化合物の組込み後、比表面積が少なくと
    も100 m2/gである、請求項1〜7のうちの1つ
    による方法。
  9. 【請求項9】  前記シリカは、1つまたは複数の前記
    元素または元素化合物の組込み後、比表面積が150 
    〜700 m2/gである、請求項1〜7のうちの1つ
    による方法。
  10. 【請求項10】  圧力0.11〜2MPa 、温度1
    00 〜500 ℃、触媒1容あたり毎時の液体仕込原
    料0.1 〜200 容の毎時液体空間速度で操作を行
    なう、請求項1〜9のうちの1つによる方法。
  11. 【請求項11】  圧力0.4 〜1.5 MPa 、
    温度130 〜350 ℃、触媒1容あたり毎時の液体
    仕込原料0.7 〜30容の毎時液体空間速度で操作を
    行なう、請求項1〜9のうちの1つによる方法。
  12. 【請求項12】  出発エーテルは、所望の第三オレフ
    ィンを含むオレフィン留分をアルコールで処理して、所
    望の第三オレフィンに対応するエーテルを製造し、つい
    で前記エーテルの蒸溜による単離を行なった結果生じる
    生成物である、請求項1〜11のうちの1つによる方法
  13. 【請求項13】  RおよびR1は、同一または異なっ
    て、各々水素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル
    基、およびイソプロピル基からなる群から選ばれ、R2
    およびR3は、同一または異なって、各々メチル基、エ
    チル基、n−プロピル基、およびイソプロピル基からな
    る群から選ばれる、請求項1〜11のうちの1つによる
    方法。
  14. 【請求項14】  前記エーテルは、メチル第三ブチル
    エーテルであり、前記第三オレフィンは、イソブテンで
    ある、請求項1〜13のうちの1つによる方法。
  15. 【請求項15】  前記エーテルは、エチル第三ブチル
    エーテルであり、前記第三オレフィンは、イソブテンで
    ある、請求項1〜13のうちの1つによる方法。
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