JPH04228595A - ブリキ板の高速電気めっき - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、アルキルスルホン酸ベ
ースの電解液から鋼ストリップの上に錫を電気めっきし
て、ブリキ板を製造する方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】錫、鉛又はこれらの合金をめっきするた
めの電気めっき浴はこれまで電気めっき設備の中で使用
されていた。高速電気めっきの設備及び方法は工業界で
はよく知られており、その方法は一般に一方の端部から
電気めっき槽の中へめっきされる被加工物を向かわせ、
被加工品が電気めっき槽を通りながら進みその後他方の
端部で槽を出るようにすることからなる。電気めっき用
溶液は動かされるか又は電気めっき槽から溜めの中へ流
出しそしてその溜めから電気めっき槽の中へ吸入排出さ
せて戻して、活発に溶液を撹拌又は循環させる。

【０００３】この種のタイプの設備及び処理を使用した
作業を改善するために、電気めっき用溶液は、以下のよ
うな特性を有する必要がある。

【０００４】１．溶液は、必要な高速度で望ましいめっ
き層を電気めっきすることができなければならない。

【０００５】２．溶液は、リフローによって、すなわち
錫の融点以上でブリキ板を加熱しそのブリキ板を水で急
冷することによって、光沢のある反射性めっき層が得ら
れるように十分な純度及び粒子特性を有する錫をめっき
しうるものでなければならない。

【０００６】３．溶液は安定であり、更に、添加剤は強
い酸性溶液、更には、高速めっき機械内の活発な溶液の
移動の結果導入される空気にも耐えられるものでなけれ
ばならない。

【０００７】４．溶液は清浄で、１２０〜１３０°Ｆ又
はそれ以上の高温であっても濁りがないようでなければ
ならない。高い電流密度及び比較的低い溶液の容積のた
め、溶液が高温で平衡に達するまで電気めっき用装内で
加熱され易い。使用する添加剤は、このような高温で濁
った溶液を撹拌（ｔｕｒｎ）させないような種類のもの
でなければならない。

【０００８】５．活発な溶液の移動及び空気と溶液の混
合のため、電気めっき処理に悪影響を与える気泡がかな
り生じ易い。過剰な条件下では、この気泡は溜めのタン
クの中に蓄積して、結果として床に流出して大量の溶液
をむだにして廃汽することになる可能性がある。気泡は
、一般に撹拌するために使用するポンプが機能するのを
妨害する場合もある。気泡が存在するため、アノードと
カソードとの間でアークが発生する場合もある。これら
の問題があるため、使用する添加剤は、めっき設備で気
泡を発生させないものである必要がある。

【０００９】多くの電解液は、米国特許第４，７０１，
２４４号明細書に詳述されているように、錫、鉛、及び
錫／鉛合金、並びにこれらの内の１種を電気めっきする
のに用いる。この特許明細書は、光沢剤に加えて種々の
タイプの湿潤剤を含有する低級アルキルスルホン酸浴を
使用して、錫、鉛、又は錫／鉛合金を電気めっきするこ
とを開示している。クレームに記載された有用な界面活
性剤は、ベタイン、アルキレンオキシドポリマー、イミ
ダゾリニウム化合物、第四アンモニウム化合物、アミン
のエチレンオキシド誘導体、ホスホネート、アミド及び
同様な多種のものである。米国特許第４，６６２，９９
９号明細書は、界面活性剤に加えて他の添加剤も含有す
るアルケン又はアルカノールびスルホン酸浴から錫、鉛
又は錫／鉛合金を電気めっきするのに使用する電気めっ
き浴を開示している。この特許明細書において、界面活
性剤は、非イオン、陽イオン、陰イオン又は両性でもよ
い。種々のタイプの界面活性剤として非常に多くの例が
上げられており、更に、特許明細書は使用することがで
きる非常に多くの種類の湿潤剤を列挙している。

【００１０】米国特許第４，６７３，４７０号明細書は
、錫、鉛又は錫／鉛合金のめっき用脂肪族又は芳香族の
スルホカルボン酸浴を開示している。先行の特許明細書
に開示されたアルカン又はアルカノールのスルホン酸の
代わりに、この特許明細書では、カルボン酸基の有機ス
ルホン酸化合物が開示されている。詳述されている電気
めっき用浴は、光沢剤に加えて界面活性剤を含有してお
り、特に、界面活性剤は非イオンであることを強調して
いる。非常に広い範囲の有用な非イオン界面活性剤及び
多種の湿潤剤が記載されている。

【００１１】鋼ストリップに錫を電気めっきしてブリキ
板を製造することはこの分野においてはよく知られてい
る。このプロセスの概要は、ホーレ（Ｗ．Ｅ．Ｈｏａｒ
ｅ）らの著した「ブリキ板の技術」（Ｔｈｅ　Ｔｅｃｈ
ｎｏｌｏｇｙ　ｏｆ　Ｔｉｎｐｌａｔｅ）（１９６５年
，Ｎｅｗ　Ｙｏｒｋ，Ｍａｒｔｉｎ出版社発行）に記載
されている。典型的なめっき設備は、第２２３−２５２
頁の第８章に記載されている。

【００１２】種々のタイプのアルカリ性及び酸性の電解
液を使用してめっきしてブリキ板を製造しているが、現
在使用している技術は、主として、この用途用にフェノ
ールスルホン酸を更に含有する硫酸ベースの電解液を使
用する。これらの浴からの廃棄物処理は困難である。そ
れらは、環境に有害な毒性物質を含有するからである。 他の浴は、フルオリド、硼酸塩及び他の環境的に安全な
化合物を含有する。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、高速電気め
っき条件下において、鋼ストリップの上に錫をめっきし
てブリキ板を製造する方法に関する。

【００１４】

【課題を解決するための手段】この方法においては、ア
ルキルスルホン酸、溶液可溶性錫化合物及び界面活性剤
のベース溶液からなる電解液を使用する。界面活性剤と
しては、高速電気めっき条件下において実質的に気泡を
発生させないものが好ましい。界面活性剤は、１〜７、
好ましくは６以下の炭素原子及び少なくとも１つのヒド
ロキシ基を含む脂肪族炭化水素のアルキレンオキシド縮
合化合物、又はその溶液可溶性誘導体であるのが好まし
い。加えて、好適な界面活性剤は、溶液に約１１０°Ｆ
以上の曇り点を与える。光沢のあるめっき層を得たい場
合には、電解液に光沢剤を含有させてもよい。

【００１５】好適な界面活性剤の１つは、ブチルアルコ
ールのようなアルコールのアルキレンオキシド縮合体で
ある。更に、望ましい曇り点を得るために、アルキレン
オキシド化合物は、約４〜４０モルのエチレンオキシド
、好ましくは６〜２８のエチレンオキシドを使用して縮
合化合物を形成するエチレンオキシドでもよい。何モル
かのエチレンオキシドを、プロピレンオキシドで置換す
ることもできる。

【００１６】その他の適切な界面活性剤は、２０以下の
炭素原子を含む芳香族有機化合物のアルキレンオキシド
縮合化合物、又はその溶液可溶性誘導体である。この芳
香族化合物は１又は２つの環を含むことができるのが好
ましく、更に、２つの環の方をを使用する場合には１０
〜１２の炭素原子を含むのが好ましい。更に、芳香族有
機化合物は、６又はそれ以下の炭素からなるアルキル部
分、及び１又はそれ以上のヒドロキシ基を含む場合もあ
る。芳香族有機化合物はフェノール、ビスフェノールＡ
、スチレン化フェノール、又はそれらのアルキレート誘
導体であるのが好ましい。更に、それぞれ少なくとも１
つのヒドロキシ基を有するベンゼン、ナフタレン及びト
ルエン、並びにそれらのアルキレート化誘導体をも使用
してもよい。

【００１７】従って、溶液に１１０°Ｆ以上の曇り点を
与えるために、最も好適な界面活性剤は、十分な量のア
ルキレンオキシド化合物と縮合された２０又はそれ以下
の炭素原子を有する有機化合物、又はその溶液可溶性誘
導体である。

【００１８】本発明の方法は、上述の種類の高速電気め
っき設備内で実施する。このような設備は、電気めっき
槽、槽に近接する流出溜め、溜めから１又はそれ以上の
スパージ（ｓｐａｒｇｅ）管を通って槽に溶液を戻すた
めのポンプ、及びめっき用鋼ストリップを槽の一方の端
部にある入口地点から槽の他方の端部にある出口地点ま
で向かわせる手段を含む。本発明の電解液は、槽を実質
的に電解液で満たすように入れる。更に、電解液は、連
続的に溜めの中へ流出し、且つ連続的に槽の中へ戻って
、槽中の電解液の活発な撹拌及び循環を達成する。従っ
て、鋼ストリップを、槽を通過するときに連続的に電気
めっきする。

【００１９】ここで詳述されている組成物は、ブリキ板
を製造するのに使用するモダンな高速電気めっき設備内
での高速作業に適している電解液から望ましい艶消又は
光沢めっき層をめっきするように特につくられている。 限定された数のこのような湿潤剤のみが気泡や錫スラッ
ジを発生しない清浄な溶液中で最適な高速電気めっきす
るために上でリストした要求を全て充足する。これらの
化合物は、比較的低分子量の８以下の炭素原子のアルキ
ル基を含む脂肪族アルコールのエチレンオキシド誘導体
又はアルキル置換して６以下の炭素原子を含むアルキル
基を与えて更に化合物を含むことができる芳香族環を最
大２つ含む芳香族アルコールの誘導体からなる。但し、
アルキル基は６以下の炭素原子を含むものである。アル
キレート化の有無にかかわらず、芳香族化合物はアルキ
レンオキシド化合物との縮合の前に２０以上の炭素原子
を含むべきではない。

【００２０】本発明用に適しているスルホン酸は、５以
下の炭素原子を有するアルキルスルホン酸である。アル
カンスルホン酸、特にメタンスルホン酸が好ましい。こ
れらの酸は、遊離酸が含まれるように、電解液の５〜３
０容量％の量だけ一般に含まれている。このように電解
液のｐＨは、２又はそれ以下、一般には０．５以下であ
ろう。

【００２１】適切な溶液可溶性の二価錫化合物を、浴の
錫の初期源として使用することができる。その後、純粋
な錫アノードが電解の間源として働いて二価を補充する
。更に、白金、イリジウム、他の白金金属又はそれらの
酸化物のような不溶性材料からなるアノードを使用する
ことも可能である。この手配のために、二価の錫化合物
は本発明の技術分野で知られているような外部源から浴
に添加する。

【００２２】本発明に適した界面活性剤は、上でリスト
した要求の全てを充足するものである。すなわち、満足
すべき粒子微細化及びリフロー特性を有する艶消仕上げ
又は光沢仕上げのめっき層を製造するのを助けるもので
あり、且つ、溶液は酸性浴で安定で、高速条件下におい
て電気めっきが可能であり、約１１０°Ｆ以上の曇り点
を有し、且つ、電気めっき作業の間に気泡を殆ど発生さ
せないものである。

【００２３】発泡は、実験室で高速電気めっき機械で使
用する種類の基本溶液を使用して定量した。溶液は以下
のものを含有する。

【００２４】 錫金属（錫メタンスルホネートとして）：　　２０ｇ／
ｌメタンスルホン酸　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　：　　１５容量％試験下のメタン界面活性剤　
　　　　　　　　　　　：　　　　１容量％温度　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　：　　周囲温度から７５°Ｆ 基本溶液で界面活性剤がどの程度気泡を発生させるかを
、１００ｍｌの溶液を２５０ｍｌのメスシリンダー入れ
て試験する。

【００２５】空気を市販されている実験用又はフィッシ
ュタンクの通風器を用いて供給して、メスシリンダー中
の溶液の底へスパーガ−（ｓｐａｒｇｅｒ）を通して送
りこむ。２つの試験を実施する。１番目の試験は、２分
間空気を吸入排気して、気泡の高さが１５０ｍｌを超え
たとき又はメスシリンダーの頂部を超えたときに測定す
る。 気泡の高さが上記の場合には、界面活性剤としては不適
切であり、従って、更なる作業はしない。２番目の試験
は空気を新鮮な溶液中で１０秒間泡立ちさせることを含
む。１０秒後に、気泡の最大高さをメスシリンダーで読
み、更に、気泡が完全に散逸して元の１００ｍｌのマー
クに至る時間を記載する。界面活性剤がこのような試験
をパスするためには、気泡の最大高さが１５０ｍｌを超
えてはならない。さらに気泡が散逸するまでの時間が２
０秒以上であってはならない。

【００２６】１％の表面活性剤を含有する基本溶液を採
取して、溶液が撹拌して曇ってくるまで温度を徐々に上
げて曇り点を測定する。約１２０°Ｆ以上の曇り点はか
なり満足しうるものである。１１０°Ｆ又はそれ以下の
温度は概して満足しうるものではない。

【００２７】本発明の高速電気めっきの設備及び方法に
使用する基本溶液は、一般に比較的高い濃度の金属及び
酸を含有する。このような高い濃度は、更に、電解液の
曇り点に影響を及ぼす。例えば、高い曇り点を希薄電解
液に与える表面活性剤は、低い曇り点をこれらの高い濃
度の電解液に与える場合もある。従って、望ましいめっ
き層を電気めっきするのに使用する特定の全ての電解液
の曇り点を測定することが重要である。

【００２８】加えて、高速電気めっき条件下においては
、急速なポンプ作用及び溶液の移動によって空気が溶液
と混合され、それによって、二価の錫から４価の状態ま
で酸化する源を提供する。４価の状態は、浴中で四価の
錫を含む酸化物として沈殿し易い。この酸化物は錫スラ
ッジを形成して、電気めっき用に使用できる錫がそれに
相当する量だけ無駄になる。スラッジは、また、浴の有
効性を減じ、その結果、作業上の問題が生ずる。撹拌シ
ステムのジェット及びスパーガーの働きを阻害する傾向
があるからである。これは、また、掃除及び除去のため
に手間と費用がかかるため製造の中止につながる。

【００２９】ここで用いる特殊な高速電気めっき条件下
において四価の錫の形成を減少又は最少にするために、
少量のヒドロキシフェニル化合物を電解液に酸化防止剤
として又は還元剤として含有させることもできる。適切
なヒドロキシフェニル化合物は、米国特許第４，８７１
，４２９号明細書に開示されており、かかる明細書の内
容は、本明細書中で引用している。最も好適な酸化防止
剤は、ジヒドロキシベンゼン、すなわち、レソルシノー
ル、カテコール及びヒドロキノンである。

【００３０】「高速電気めっき」は、上述の設備で７５
ＡＳＦ以上の電流密度及び８５°Ｆ以上の温度において
作業するプロセスを意味する。このようなプロセスは、
５００ＡＳＦ又はそれ以上の電流密度及び９５°Ｆ又は
それ以上の温度で実施するのが好ましい。１２０〜１４
０°Ｆの温度及び１５００〜２０００ＡＳＦ又はそれ以
上に高い電流密度はこのようなプロセスにおいて珍しい
ことではない。

【００３１】高速電気めっき特性及び溶液の粒子微細化
ポテンシャルは、ハルセル内で２アンペアの合計電流で
３分１２０°Ｆで櫂形撹拌機を使用して測定した。溶液
は以下のものを含んでいた。

【００３２】 錫金属（錫金属スルホン酸として）：　　２０ｇ／ｌメ
タンスルホン酸の総量　　　　　　　　　　：　　　　
５容量％界面活性剤　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　：　　１〜１０ｍｌ／ｌ（必要な量） これらの条件下で、ハルセルパネルは、高電流密度領域
で１”以下のバーン（ｂｕｒｎ）を示すめっき層を示し
、且つパネルの残りのめっき層は艶消し又はやや光沢が
あり、満足できるグレーで平滑な仕上げ面を有していた
。

【００３３】界面活性剤を含有する電解液の安定性は、
少なくとも２０アンペア時間／リットルの間浴を電解し
て測定する。電気めっき溶液の特性及びそのめっき層は
電解液によって影響される。

【００３４】本発明の範囲に含まれる界面活性剤は、全
て、十分な量のアルキレンオキシド、好ましくはエチレ
ンオキシドと縮合された疎水性の有機化合物を含有して
、高い曇り点、安定性、及び高い電流密度での粒子微細
化の要求を満足させる。プロピレンオキシドは、また、
エチレンオキシドを使用して含有させることもできる。 しかしながら、使用するプロピレンオキシドの量及びエ
チレンオキシドの使用量に対するその割合は、曇り点が
上記の要求を満たすように十分に高いようなものでなけ
らばならない。プロピレンオキシドを含有させて、界面
活性剤の発泡特性を減ずることが可能である。しかしな
がら、限定された量のみを使用することができるにすぎ
ない。プロピレンオキシドは、また、結果として得た電
解液の曇り点を下げるからである。当業者は、日常的な
試験で簡単にプロピレンオキシドの量を定めることがで
きる。

【００３５】有機化合物は、少なくとも１つのヒドロキ
シ基を含有する７又はそれ以下の炭素原子からなる（飽
和又は不飽和の）脂肪族炭化水素のいずれでもよい。同
様に、有機化合物は、また、ベンゼン、ナフタレン、フ
ェノール、トルエン、ビスフェノールＡ、スチレン化フ
ェノールなどのような芳香族環化合物でもよい。但し、
環は２つ以下であり、置換されたアルキル鎖の長さは６
又はそれ以下の炭素原子に限定される。ベンゼン、ナフ
タレン及びトルエン用については、化合物は、少なくと
も１つのヒドロキシ基を含有してアルキレンオキシド化
合物との縮合を促進する。さらに、これらの化合物のい
くつかの芳香族環は、１又はそれ以上の付加的なヒドロ
キシ基と置換することができる。さらに、界面活性剤の
溶解度又はその望ましい結果を得る能力に有害な影響を
及ぼさない限り、有機化合物は、窒素、硫黄又は酸素の
原子又はそれを含有する部分を含んでもよい。

【００３６】特定の化合物を例示すると、１２モルのエ
チレンオキシドを有するオクチルフェノールエトキシレ
ートは本発明用には適していない。アルキル鎖の長さが
あまりにも長いため、発泡特性が強いからである。１３
モルのエチレンオキシドを有するビタフェノールは本発
明に適しており、全ての要求を満たす。１２モルのエチ
レンオキシドと縮合された２又はそれ以上のモルのスチ
レンを有するスチレン化フェノールは、３つの芳香族環
を有するため、適していない。エチルオキシレート化ビ
スフェノールＡは、また、本発明に適しており、上の全
ての要求を満たすことができる。この化合物は、２つの
芳香族環及び３つの炭素原子を有している。

【００３７】本発明の他の適切な界面活性剤には、プロ
ピレンオキシドを有する又は有さないエトキシレート化
ブチルアルコールがある。脂肪族アルコールの鎖の長さ
が長くなるにつれて、発泡特性も増大する。この基の化
合物の発泡特性は、いくらかのプロピレンオキシドを分
子に含有させることによってかなり弱めることができる
。しかしながら、この場合には、曇り点を下げないよう
に制御しなけらばならない。結果として曇り点が１１０
°Ｆ以下になった場合には、化合物は不適切なものとな
る。アルキル基の最大長さは、このシリーズにおいては
８又はそれ以下の炭素原子である必要がある。

【００３８】本発明においては、めっき浴は、溶液可溶
性錫、好ましくは、アルキルスルホネート又はアルカノ
ールスルホネートとしての錫、さらに、いくらかの過剰
な又は遊離したアルカン又はアルカノールスルホン酸を
含有する。本発明に適切な界面活性剤は、艶消しされた
又は半光沢のある適切なめっき層を製造するために詳述
している。しかしながら、めっき層の光沢度を、いずれ
かの先行特許の明細書の中で開示されたような既知の光
沢剤を添加して増大させることも可能である。

【００３９】本発明の技術分野で公知の技術を用いて、
界面活性剤をより溶液可溶性にすることもできる。この
ような溶液可溶性誘導体の望ましい界面活性剤は、例え
ばスルフェート化、スルホン化、ホスフェート化、ホス
ホネート化、カルボキシ化などによってつくることがで
きる。但し、誘導体が、前で記載した目的のために材料
の適切性を損なわないことが必要である。

【００４０】現在、市販している高速電気めっき設備に
は種々の種類がある。典型的装置が１つ、本明細書の冒
頭で言及したホーレらによって開示されている。これは
、添付した図面に示した電気めっき槽を使用している。 槽（１００）は、電解液（１２０）を中に戻すためのタ
ンク（１１０）と錫を電解液に供給するための錫アノー
ド（１３０）を含む。鋼ストリップ（１４０）は、コン
ダクターロール（１５０）の周囲を通過して、槽（１２
０）中の錫アノード（１３０）の間を下方に向かって通
る。ストリップ（１４０）がアノード（１３０）の間を
下方に向かって通るときに、錫被膜がその上に形成し始
める。その後、ストリップ（１４０）は、槽（１００）
の底の近くに置かれたシンク（ｓｉｎｋ）ロール（１６
０）の周囲を通過し、槽を出る前に追加的に錫めっきさ
れるように上方に向かって追加的なアノード（１３０）
の間の通過する。その後、ストリップ（１４０）は別の
コンダクタロール（１５０）の間を通過して、近接する
槽の中に入る。このような槽の多数は、ブリキ板製造機
械に使用されてかなりの量の錫被膜を鋼ストリップの上
にめっきする。

【００４１】図面には示されていないが、めっき用電解
液は、連続的にシステムと貯蔵タンクの間を循環する。 溶液は、ストリップの頂部をぬらすのに使用する少量を
除いてそれぞれの槽の底に主として吸入排出させる。そ
れぞれの槽中の溶液は、槽の入り口端部で流出部を使用
して適切なレベルに維持する。流出部で制御した溶液は
、再循環のために貯蔵タンクに向かわせる。

【００４２】最後の槽を出た後、ストリップは電解液の
回収及び濯ぎ洗いのステーションを通過する。回収した
電解液は、再循環のために貯蔵タンクに向かわせる。濯
ぎ洗いは、熱水スプレー及び絞りロールからなるシステ
ムで２番目のタンク内で実施する。最後に、ブリキ板は
空気乾燥機を通過させて乾燥し、電気めっき作業を終了
する。光沢のあるめっき層を希望するときは、ブリキ板
に簡便なリフロー加工を施す。

【００４３】濯ぎ洗い用の水は処理及び排出のために集
める。錫イオンは、排出の前にこの溶液から中和させて
回収しなければならない。しかし、残りの成分、主とし
てアルキルスルホネート塩と界面活性剤は、更に処理す
ることなく通常の方法で排出することが可能である。こ
れらの成分は環境に有害ではないからである。これは、
従来技術に比べて本発明の方法が有利である重要な利点
である。

【００４４】

【実施例】本発明の範囲は、更に、以下の実施例から詳
述する。実施例は、本発明の好適な実施態様を示すため
に記載するものであって、いかなる場合においても本発
明の範囲を限定するものではない。

【００４５】２種類の原液をそれぞれの実施例で使用し
て純粋な錫を電気めっきするのに十分なそれぞれの界面
活性剤の能力を試験した。これらの溶液は、以下に示す
。

【００４６】 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　Ａ　　　　　　　　Ｂ　　錫金属（錫メタンスルホネ
ートとして）ｇ／ｌ　　　　　　　２０　　　　　　７
２メタンスルホン酸（容量％）　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　５　　　　　　１５それ
ぞれの実施例の界面活性剤は、最適な量に達するまで加
えた増大させた。溶液及び電気めっきの試験は、全て上
でリストした試験方法にしたがって行った。すなわち、
以下のものを試験した。

【００４７】１）発泡 ２）溶液の曇り点 ３）粒子微細化（平滑なライトグレーの梨地仕上げ）４
）めっきリフロー能力 ５）電気めっきの速度 ６）溶液の安定性 これらの実施例で使用した溶液のそれぞれは、１以下の
ｐＨを示し、且つハルセルで２アンペアで試験した。

【００４８】実施例１ ８モルのエチレンオキシドを含むビスフェノールＡを、
６〜１２ｍ／ｌの量だけ使用した。この界面活性剤を含
む溶液は、６つの試験を全てパスした。

【００４９】実施例２ １０モルのエチレンオキシドを含むビスフェノールＡを
、実施例１で使用したのと同じ量だけ使用した。この界
面活性剤を含む溶液は、同様に、全ての試験をパスした
。

【００５０】実施例３ ３０モルのエチレンオキシドを含むスルフェート化ビス
フェノールＡを３〜６ｍｌだけ使用した。この界面活性
剤を含む溶液は、同様に、全ての試験をパスした。

【００５１】実施例４ １３モルのエチレンオキシドを含むベータフェノールを
０．５〜１ｍｌだけ使用した。この界面活性剤を含む溶
液は、同様に、全ての試験をパスした。

【００５２】実施例５（比較例） １２モルのエチレンオキシドを含むポリスチレン化フェ
ノールを３〜６ｍ／ｌだけ使用した。この界面活性剤は
非常に多くの気泡を発生させたため、他の試験はパスし
たが安全ではなかった。

【００５３】実施例６（比較例） １２モルのエチレンオキシドを含むオチルオルコールを
３〜８ｍ／ｌだけ使用した。このこの界面活性剤は非常
に多くの気泡を発生させたため、安全ではなかった。

【００５４】実施例７（比較例） ５モルのエチレンオキシドを含むブチルアルコールを２
〜８ｍ／ｌだけ使用した。めっき層の粒子微細化につい
ては満足できるものではなかったが、他の試験はパスし
た。従って、実施例８及び９に示すように、エチレンオ
キシドのモル数は少なくとも６又はそれ以上でなければ
ならない。

【００５５】実施例８ １６モルのエチレンオキシドに更に１２モルのプロピレ
ンオキシドを含むブチルアルコールを１〜４ｍ／ｌだけ
使用した。この界面活性剤を含む溶液は全ての試験をパ
スした。

【００５６】実施例９ ８モルのエチレンオキシドに更に６モルのプロピレンオ
キシドを含むブチルアルコールを０．５〜２ｍ／ｌだけ
使用した。この界面活性剤を含む溶液は全ての試験をパ
スした。

【００５７】実施例１０ 光沢のあるめっき層は既知の光沢剤、例えば、クロロベ
ンゼンアルデヒドのような芳香族アルデヒド又はその誘
導体、ベンザルアセトンのような光沢剤を上述のいずれ
かの溶液に添加して得られた。この溶液は全ての試験を
パスした。

【００５８】ここで記載した本発明は上述の目的を達成
するのに十分な程度に理解されることは明らかであるが
、種々の改良及び実施態様は当業者によって適宜なされ
うるものであり、請求項が本発明の趣旨及び範囲にある
種々の改良及び実施態様を全てカバーすることを意図し
ている。

【図面の簡単な説明】

【図１】　　鋼ストリップ上に錫をめっきするのに使用
する電気めっき槽の断面図である。

【符号の説明】

１００　　めっき設備 １１０　　槽 １２０　　電解液 １３０　　アノード １４０　　鋼ストリップ １５０　　コンダクタロール １６０　　シンクロール

Claims (22)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　電気めっき槽；前記槽に近接する流出
   溜め；前記溜めから前記電気めっき槽へ溶液を戻す手段
   ；及び、めっき用鋼ストリップを前記槽の一方の端部に
   ある入口地点から前記槽の他方の端部にある出口地点ま
   で向かわせる手段；からなる高速電気めっき設備を使用
   し：アルキルスルホン酸、溶液可溶性錫化合物及び界面
   活性剤の基本溶液からなる電解液を前記設備の中に電解
   液が前記槽を実質的に満たし、連続的に前記溜めの中へ
   流出し且つ連続的に前記槽へ戻るように入れて、前記槽
   内で前記電解液が活発に撹拌し且つ循環するようにし：
   前記鋼ストリップが前記電気めっき溶液の入った前記槽
   を通過するときに、前記鋼ストリップに、高速電気めっ
   きするのに十分な電流密度及び十分な温度で、錫を連続
   的に電気めっきする：各工程からなる、ブリキ板を製造
   する方法。
2. 【請求項２】　　前記電解液を前記槽に戻す手段はポン
   プを含む、請求項１に記載の方法。
3. 【請求項３】　　前記界面活性剤は高速電気めっき条件
   下で実質的に非発泡性である、請求項１に記載の方法。
4. 【請求項４】　　界面活性剤は、少なくとも１つのヒド
   ロキシ基と２０以下の炭素元素を有する芳香族の又は脂
   肪族の化合物のアルキレンオキシド縮合化合物である、
   請求項３に記載の方法。
5. 【請求項５】　　芳香族化合物は、６以下の炭素原子を
   有するアルキル部分を任意に含有する、フェノール、ビ
   スフェノールＡ又はスチレン化フェノールである、請求
   項４記載の方法。
6. 【請求項６】　　芳香族化合物は、ベンゼン、ナフタレ
   ン又はトルエンであって、それぞれ少なくとも１つのヒ
   ドロキシ基を有するものである、請求項４に記載の方法
   。
7. 【請求項７】　　電解液への界面活性剤の溶解度は、縮
   合化合物をスルフェート化、スルホン化、ホスフェート
   化、ホスホネート化又はカルボキシ化することによって
   増大させる、請求項４に記載の方法。
8. 【請求項８】　　アルキレンオキシド化合物はエチレン
   オキシドであり、４〜２０モルのオキシドを使用して縮
   合化合物を形成する、請求項４に記載の方法。
9. 【請求項９】　　何モルかのエチレンオキシドをプロピ
   レンオキシドと置換する、請求項８に記載の方法。
10. 【請求項１０】　　界面活性剤は溶液に１１０°Ｆ以上
    の曇り点を与える、請求項１に記載の方法。
11. 【請求項１１】　　光沢剤を前記電解液に入れて、光沢
    のある錫めっき層を生ぜしめる、請求項１に記載の方法
    。
12. 【請求項１２】　　更に、電気めっきの後にめっきした
    鋼ストリップを洗浄する工程を含む、請求項１に記載の
    方法。
13. 【請求項１３】　　更に、洗浄工程からの水を処理して
    、排出前にそれから錫イオンを除去する工程を含む、請
    求項１１に記載の方法。
14. 【請求項１４】　　更に、酸化防止剤を電解液に含める
    ことにより、電気めっきの間に生ずる錫酸化物のスラッ
    ジの量を減ずることを特徴とする、請求項１に記載の方
    法。
15. 【請求項１５】　　酸化防止剤はヒドロキシフェニル化
    合物である、請求項１４に記載の方法。
16. 【請求項１６】　　電気めっき槽；前記槽に近接する流
    出溜め；前記溜めから前記電気めっき槽へ溶液を戻す手
    段；及び、めっき用鋼ストリップを前記槽の一方の端部
    にある入口地点から前記槽の他方の端部にある出口地点
    まで向かわせる手段；からなる高速電気めっき設備を使
    用し：アルキルスルホン酸、溶液可溶性錫化合物及び十
    分な量のアルキレンオキシド化合物と縮合した少なくと
    も１つのヒドロキシ基及び２０以下の炭素原子を含む有
    機化合物又はその溶液可溶性誘導体の界面活性剤の基本
    溶液からなる電解液を前記設備の中に、電解液が前記槽
    を実質的に満たし、前記溜めに連続的に流出し、且つ前
    記槽に連続的に戻るように入れて、前記槽内で前記電解
    液が活発に撹拌し且つ循環するようにし：前記鋼ストリ
    ップが前記電気めっき溶液の入った前記槽を通過すると
    きに、高速電気めっき用に７５ＡＦＳ以上の電流密度及
    び８５°Ｆ以上の温度で錫を前記鋼ストリップに連続的
    に電気めっきする：各工程からなり、前記界面活性剤は
    電解液が実質的に非発泡性で清浄で濁りがなく、更に高
    速電気めっき条件下において安定で、グレーな梨地仕上
    げを有する平滑な電気めっき層を与えるものであり；前
    記有機化合物は、１〜７の炭素原子を含む脂肪族炭化水
    素、芳香族化合物又はアルキル化芳香族化合物の一つで
    ある；各工程からなる、ブリキ板を製造する方法。
17. 【請求項１７】　　槽は多数の錫アノードを含み、その
    アノードが二価の錫化合物を供給する、請求項１６に記
    載の方法。
18. 【請求項１８】　　槽は多数の不溶性アノードを含み、
    外部源から二価の錫化合物を供給する、請求項１６に記
    載の方法。
19. 【請求項１９】　　更に、電解液に酸化防止剤を入れて
    電気めっきの間に発生する錫酸化物スラッジの量を減ず
    る工程を含む、請求項１６に記載の方法。
20. 【請求項２０】　　酸化防止剤はヒドロキシフェニル化
    合物である、請求項１９に記載の方法。
21. 【請求項２１】　　更に、電気めっきの後にめっきした
    鋼ストリップを水で洗浄する工程を含む、請求項１６に
    記載の方法。
22. 【請求項２２】　　更に、洗浄工程から水を処理して、
    排出前にそこから錫イオンを除去する工程を含む、請求
    項２１に記載の方法