JPH04230364A - ピペリジニル基を有する新規な化合物及びそれらの重合体への使用 - Google Patents
ピペリジニル基を有する新規な化合物及びそれらの重合体への使用Info
- Publication number
- JPH04230364A JPH04230364A JP3188251A JP18825191A JPH04230364A JP H04230364 A JPH04230364 A JP H04230364A JP 3188251 A JP3188251 A JP 3188251A JP 18825191 A JP18825191 A JP 18825191A JP H04230364 A JPH04230364 A JP H04230364A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- group
- compound
- carbon atoms
- polymer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 63
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims description 13
- -1 2,2,6,6-tetramethylpiperidinyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 54
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 claims abstract description 8
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 claims abstract description 3
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 claims abstract description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 21
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 17
- RKMGAJGJIURJSJ-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-Tetramethylpiperidine Substances CC1(C)CCCC(C)(C)N1 RKMGAJGJIURJSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 10
- IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N dimethyl carbonate Chemical compound COC(=O)OC IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 7
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 5
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 claims description 5
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 claims description 5
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 claims description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 4
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 claims description 4
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- VUZNLSBZRVZGIK-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-Tetramethyl-1-piperidinol Chemical compound CC1(C)CCCC(C)(C)N1O VUZNLSBZRVZGIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 125000006201 3-phenylpropyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Chemical group CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 claims description 2
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 claims description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 claims description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 claims description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 claims description 2
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 230000009931 harmful effect Effects 0.000 claims description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 229920001903 high density polyethylene Polymers 0.000 claims description 2
- 239000004700 high-density polyethylene Substances 0.000 claims description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- 229920001684 low density polyethylene Polymers 0.000 claims description 2
- 239000004702 low-density polyethylene Substances 0.000 claims description 2
- OJURWUUOVGOHJZ-UHFFFAOYSA-N methyl 2-[(2-acetyloxyphenyl)methyl-[2-[(2-acetyloxyphenyl)methyl-(2-methoxy-2-oxoethyl)amino]ethyl]amino]acetate Chemical compound C=1C=CC=C(OC(C)=O)C=1CN(CC(=O)OC)CCN(CC(=O)OC)CC1=CC=CC=C1OC(C)=O OJURWUUOVGOHJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- 125000003884 phenylalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229920001643 poly(ether ketone) Polymers 0.000 claims description 2
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 claims description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 claims description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 claims description 2
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 claims description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 2
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 claims description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 claims description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 claims description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 claims description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 claims description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 claims description 2
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 claims 1
- 125000003386 piperidinyl group Chemical group 0.000 abstract description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 abstract 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 abstract 1
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 12
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 11
- 238000004566 IR spectroscopy Methods 0.000 description 7
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 7
- 150000003983 crown ethers Chemical class 0.000 description 7
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 7
- VDVUCLWJZJHFAV-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-ol Chemical compound CC1(C)CC(O)CC(C)(C)N1 VDVUCLWJZJHFAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N dodecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCO LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KGNPZFRYISHGHC-UHFFFAOYSA-N 10-carboxyoxydecyl hydrogen carbonate Chemical compound OC(=O)OCCCCCCCCCCOC(O)=O KGNPZFRYISHGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 2
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- 150000005208 1,4-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- QIZBRMNBWQKXKL-UHFFFAOYSA-N 10-methoxycarbonyloxydecyl methyl carbonate Chemical compound C(OCCCCCCCCCCOC(OC)=O)(OC)=O QIZBRMNBWQKXKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJGQBLRYBUAASW-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1N1N=C2C=CC=CC2=N1 FJGQBLRYBUAASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYHNVMBUGHLFRI-UHFFFAOYSA-N 2-phenylphenol;sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O.OC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 YYHNVMBUGHLFRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPMYUUITDBHVQZ-UHFFFAOYSA-N 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoic acid Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CCC(O)=O)=CC(C(C)(C)C)=C1O WPMYUUITDBHVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- 239000004604 Blowing Agent Substances 0.000 description 1
- YIKSCQDJHCMVMK-UHFFFAOYSA-N Oxamide Chemical class NC(=O)C(N)=O YIKSCQDJHCMVMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKIJEFPNVSHHEI-UHFFFAOYSA-N Phenol, 2,4-bis(1,1-dimethylethyl)-, phosphite (3:1) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1OP(OC=1C(=CC(=CC=1)C(C)(C)C)C(C)(C)C)OC1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1C(C)(C)C JKIJEFPNVSHHEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical class OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000288 alkali metal carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008041 alkali metal carbonates Chemical class 0.000 description 1
- 229910000102 alkali metal hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008046 alkali metal hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 150000001558 benzoic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- FOTKYAAJKYLFFN-UHFFFAOYSA-N decane-1,10-diol Chemical compound OCCCCCCCCCCO FOTKYAAJKYLFFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 125000000040 m-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000006078 metal deactivator Substances 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- ORECYURYFJYPKY-UHFFFAOYSA-N n,n'-bis(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)hexane-1,6-diamine;2,4,6-trichloro-1,3,5-triazine;2,4,4-trimethylpentan-2-amine Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)N.ClC1=NC(Cl)=NC(Cl)=N1.C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1NCCCCCCNC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 ORECYURYFJYPKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002816 nickel compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000006072 paste Substances 0.000 description 1
- 238000007539 photo-oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 150000003151 propanoic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000012744 reinforcing agent Substances 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D211/00—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings
- C07D211/04—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D211/06—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D211/08—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals directly attached to ring carbon atoms
- C07D211/10—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals directly attached to ring carbon atoms with radicals containing only carbon and hydrogen atoms attached to ring carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3412—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having one nitrogen atom in the ring
- C08K5/3432—Six-membered rings
- C08K5/3435—Piperidines
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D211/00—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings
- C07D211/04—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D211/06—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D211/36—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D211/56—Nitrogen atoms
- C07D211/58—Nitrogen atoms attached in position 4
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G64/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbonic ester link in the main chain of the macromolecule
- C08G64/02—Aliphatic polycarbonates
- C08G64/0208—Aliphatic polycarbonates saturated
- C08G64/0225—Aliphatic polycarbonates saturated containing atoms other than carbon, hydrogen or oxygen
- C08G64/0241—Aliphatic polycarbonates saturated containing atoms other than carbon, hydrogen or oxygen containing nitrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L101/00—Compositions of unspecified macromolecular compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L2201/00—Properties
- C08L2201/08—Stabilised against heat, light or radiation or oxydation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Hydrogenated Pyridines (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、置換ピペリジニル基、
特に２，２，６，６−テトラメチルピペリジニル基を有
する新規な化合物に関する。また、本発明は、このよう
な化合物を有機重合体の添加剤として使用することに関
する。 【０００２】 【発明が解決しようとする課題】本発明は、合成が比較
的簡単で且つ重合体を保護するのに有効な、特に光線や
紫外線に起因する分解に対して有効な２，２，６，６−
テトラメチルピペリジニル基を有する新規な化合物を提
供することを目的とする。 【０００３】 【課題を解決するための手段】しかして、本発明は、次
の一般式（Ｉ） 【化８】 ［ここで、Ｒは、 ・１〜１８個の炭素原子を有する線状若しくは分岐状ア
ルキル基、 ・５〜１２個の炭素原子を有するシクロアルキル基、・
フェニル基、 ・１〜１２個の炭素原子を有するアルキル置換基を１若
しくは２個含むフェニル基、 ・アルキル部分が線状若しくは分岐状で１〜１２個の炭
素原子を含むフェニルアルキル基又は ・次式（ＩＩ） 【化９】 （ここで、Ｒ１ は水素原子又はメチル基を表す）の２
，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル基を表
し、Ｚは、 ・次式（ＩＩＩ） 【化１０】 の基又は ・２〜１５個の炭素原子を有するポリメチレン基を表し
、Ｚがポリメチレン基を表すときは、Ｒは式（ＩＩ）の
２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル基を
表しかつｎは１〜２の数を表し、Ｚが式（ＩＩＩ） の
基を表すときは、ｎは１〜１００の数を表す］に相当す
ることを特徴とする２，２，６，６−テトラメチルピペ
リジニル基を有する化合物に関する。 【０００４】さらに詳しくは、本発明の化合物は、Ｒが
、 ・１〜１８個の炭素原子を有する線状若しくは分岐状の
アルキル基、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ヘキシル、オクチル、デ
シル、ドデシル、ヘキサデシル及びオクタデシル基、・
シクロヘキシル基、 ・フェニル基、 ・１〜９個の炭素原子を有する線状若しくは分岐状のア
ルキル置換基を１若しくは２個含むフェニル基、例えば
メチルフェニル、ジメチルフェニル、イソプロピルフェ
ニル、ジイソプロピルフェニル、ｔ−ブチルフェニル、
ジ−ｔ−ブチルフェニル、ノニルフェニル及びジノニル
フェニル基、 ・アルキル部分が線状若しくは分岐状で１〜４個の炭素
原子を含むフェニルアルキル基、例えばベンジル、フェ
ネチル及び３−フェニルプロピル基、又は・式（ＩＩ）
の２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル基
（ここでＲ１ は水素原子又はメチル基を表す）を表し
、Ｚは、 ・次式（ＩＩＩ） 【化１１】 の基又は ・２〜１５個の炭素原子を有するポリメチレン基を表し
、Ｚがポリメチレン基を表すときは、Ｒは式（ＩＩＩ）
の２，２，６，６−テトラメチル基を表しかつｎは１〜
２の数を表し、Ｚが式（ＩＩＩ） の基を表すときは、
ｎは１〜２０の数を表す式（Ｉ）の化合物である。 【０００５】本発明に従う前記式（Ｉ）の化合物は、各
種の方法によって製造することができる。しかして、記
号Ｚが式（ＩＩ）の基を表すときは、まず、例えばアル
カリ金属炭酸塩、アルカリ金属アルコラート、アルカリ
金属水素化物のような塩基性エステル交換触媒及び要す
ればクラウンエーテルのようなクリプタント剤の存在下
に次の一般式（ＩＶ） 【化１２】 のジオールを化学量論的量よりも過剰の炭酸ジメチルと
反応させることができる。次いで、このようにして得ら
れた次式（Ｖ） 【化１３】 の４−Ｎ，Ｎ−ビス（エチレン）アミノ−２，２，６，
６−テトラメチルピペリジンビスカーボネートジメチル
は、１よりも大きい単位数ｎを望む場合には式（ＩＶ）
のジオール及び次式（ＶＩ） Ｒ’ −ＯＨ （ＶＩ）（ここでＲ
’ は式（ＩＩ）の基を除いて式（Ｉ）においてＲにつ
いて前記した意味を有する）のモノアルコール又はモノ
フェノールとさらに反応させることにより式（Ｉ）の化
合物に転化することができる。 【０００６】式（Ｖ）、式（ＩＶ）及び式（ＶＩ）の各
種反応体の比率は、所望の単位数ｎに応じて選択される
。即ち（ｎ＋１）／２モルの式（Ｖ）の化合物について
、（ｎ−１）／２モルの式（ＩＶ）の化合物及び２モル
の式（ＶＩ）の化合物Ｒ’ −ＯＨが使用される。この
反応は、最初の反応と同じ触媒の存在下に実施される。 最初のエステル交換反応の終了時には、過剰の炭酸ジメ
チルを、例えば減圧蒸留によって具合よく除去し、次い
で触媒を含有する式（Ｖ）の化合物に式（ＩＶ）及び式
（ＶＩ）の化合物を添加することができる。 【０００７】また、Ｚがポリメチレン基を表す式（Ｉ）
の化合物を製造するためには、まず、前記のようなエス
テル交換触媒の存在下に次式（ＶＩＩＩ）ＨＯ−（ＣＨ
２ ）ｐ −ＯＨ のジオールと過剰量の炭酸ジメチルとの反応によって次
式（ＶＩＩ） ＣＨ３ −Ｏ−ＣＯ−［（ＣＨ２ ）ｐ −Ｏ
−ＣＯ−］ｎ −Ｏ−ＣＨ３ （ここでｎは式（Ｉ）に
ついて先に示した意味を有し、ｐは２〜１５の数を表す
）の混成炭酸ポリメチレンジメチルエステルを製造する
。次いで、このように製造された式（ＶＩＩ） の化合
物と次式（ＩＸ）【化１４】 の２，２，６，６−テトラメチルピペリジノールとの間
のエステル交換が行なわれる。 【０００８】本発明の式（Ｉ）の化合物は、記号ｎの値
に応じて単量体化合物か又は重合体化合物のいずれかで
ある。従って、本発明はいろいろな分子量を広く選択で
き、このことがそれらを薄膜中の安定化作用を維持しな
がら重合体内のより容易な移動のような種々の要求に対
する紫外線防止剤として応用することを可能にさせる。 【０００９】式（Ｉ）の化合物は、特に有機重合体にお
ける光安定剤として使用することができる。しかして、
これらは、ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリアルカ
ジエン、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエステル、ポ
リカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル−スルホ
ン、ポリエーテル−ケトン、アクリル重合体、ハロゲン
化重合体、これらの共重合体及びこれらの混合物におけ
る紫外線防止剤として使用することができる。さらに特
定すれば、式（Ｉ）の化合物は、ポリプロピレン、高密
度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、低密度線状ポリ
エチレン、ポリブタジエン、これらの共重合体及びこれ
らの混合物のようなポリオレフィン及びポリアルカジエ
ンに使用することができる。 【００１０】従って、本発明の目的は、有効量の式（Ｉ
）の化合物の少なくとも１種により光線及び紫外線の有
害作用に対して安定化された有機重合体組成物を提供す
ることにある。通常、これらの組成物は、重合体１００
ｇあたり０．００４〜２０ミリ当量の２，２，６，６−
テトラメチルピペリジニル基を含有する。好ましくは、
本発明に従って安定化された重合体組成物は、重合体１
００ｇあたり０．０２０〜４ミリ当量の２，２，６，６
−テトラメチルピペリジニル基を含有する。また、例え
ば、安定化された重合体組成物は、０．０１〜５重量％
の式（Ｉ）の化合物を含有する。 【００１１】式（Ｉ）の化合物の添加は、重合体の製造
中に又は製造後に実施することができる。 【００１２】式（Ｉ）の化合物を含有する有機重合体の
組成物は、慣用されている各種の安定剤、例えば・酸化
防止剤、例えばアルキル化されたモノフェノール、アル
キル化されたヒドロキノン、ヒドロキシル化された硫酸
ビフェニル、アルキリデンビスフェノール、ベンジル化
合物、アシルアミノフェノール、３−（３，５−ジ−ｔ
−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のエ
ステル、３−（５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−
３−メチルフェニル）プロピオン酸のエステル、３−（
３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオン酸のエステル、３−（３，５−ジ−ｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミドな
ど、 ・紫外線吸収剤及び光安定剤、例えば２−（２’ −ヒ
ドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−ヒドロキ
シベンゾフェノン、置換されていてもよい安息香酸エス
テル、アクリル酸エステル、ニッケル化合物、オキザル
アミドなど、 ・金属失活剤、 ・ホスフィン酸塩及びホスホン酸塩、 ・過酸化物分解剤、 ・核形成剤、 ・補強剤、 ・可塑剤、 ・滑剤、 ・乳化剤、 ・顔料、 ・蛍光増白剤、 ・不燃剤、 ・静電防止剤、 ・発泡剤をさらに含有することができる。 【００１３】本発明に従って安定化された重合体組成物
は、あらゆる種類の形態で、例えば成形物品、フィルム
、シート、繊維、気泡材料（塊体）、異形材又は被覆製
品の形で、或いは塗料、ワニス、糊料又はセメントのよ
うな被膜形成材（バインダー）として使用することがで
きる。 【００１４】 【実施例】下記の実施例は、本発明を例示するためのも
のである。 例１： 化合物（Ｉａ）：４−（Ｎ，Ｎ−ジエチレンアミノ）−
２，２，６，６−テトラメチルピペリジンビスカーボネ
ートジメチル、即ちＲがメチル基であり、ｎが１であり
且つＺが式（ＩＩＩ） の基である一般式（Ｉ）の化合
物の製造 中央攪拌機、温度計用外装、側面にある窒素導入管及び
蒸留カラムを備えた５００ｃｃのフラスコに、・２１６
ｇ（２．４モル）の炭酸ジメチル、・４８．８ｇ（０．
２モル）の４−Ｎ，Ｎ−ビス（ヒドロキシエチル）アミ
ノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、 ・０．００８ｇの粉末状苛性ソーダ を装入する。反応混合物を窒素気流中で９２〜９５℃に
５時間加熱する。この工程中に二成分混合物メタノール
／炭酸ジメチル（６３〜７０℃の間で）が蒸留される（
高い還流率を維持して）。次いで、揮発性留分を蒸留し
続けながら温度を２時間で１２０℃まで昇温させる。 合わせて１７５ｇが蒸留された。次いで、１３３Ｐａま
で徐々に減圧させながら揮発性生成物の残部を１２０℃
で除去した。このようにしてさらに１５ｇの揮発性生成
物が得られた。最後に、７０．２ｇの淡黄色の粘稠な油
状物が得られた。ＩＲ及び核磁気共鳴（ＮＭＲ）スペク
トル分析により、この生成物の所期の構造が確認された
。その純度は９５％以上であった。 【００１５】例２： 化合物（Ｉｂ）：ペンタキス（４−Ｎ，Ｎ−ジエチレン
アミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン）ヘ
キサキスカーボネートジメチル、即ちＲがメチル基であ
り、ｎが５であり且つＺが式（ＩＩＩ） の基である一
般式（Ｉ）の化合物の製造 中央攪拌機、温度計用外装及び蒸留カラムを備えた２０
０ｃｃのフラスコに、 ・４３．２ｇ（０．１２モル）の例１で製造した化合物
（Ｉａ）、 ・１９．５ｇ（０．０８モル）の４−Ｎ，Ｎ−ビス（ヒ
ドロキシエチル）アミノ−２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジン、 ・０．０１９ｇの炭酸カリウム、 ・５μｌのＣ１８／６クラウンエーテルを装入する。反
応混合物を２６６００Ｐａの圧力下に１０５℃に４時間
２０分加熱する。次いで２７Ｐａまで徐々に減圧し、メ
タノールをその生成に応じて除去しながら温度を１００
〜１０５℃に保持する。最後に、５８．６ｇの黄色粘稠
油状物を得た。ＩＲ及び核磁気共鳴（ＮＭＲ）スペクト
ル分析により、この生成物の所期の構造が確認された。 【００１６】例３： 化合物（Ｉｃ）：４−（Ｎ，Ｎ−ジエチレンアミノ）−
２，２，６，６−テトラメチルピペリジンビスカーボネ
ートビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジニル）、即ちＲが式（ＩＩ）の基であってＲ１ が水
素原子であり、ｎが１であり且つＺが式（ＩＩＩ） の
基である一般式（Ｉ）の化合物の製造中央攪拌機、温度
計用外装及び蒸留カラムを備えた２００ｃｃのフラスコ
に、・３６ｇ（０．１モル）の例１で製造した化合物（
Ｉａ）、 ・３１．４ｇ（０．２モル）の４−ヒドロキシ−２，２
，６，６−テトラメチルピペリジン、・０．０１６５ｇ
の炭酸カリウム、 ・５μｌのＣ１８／６クラウンエーテルを装入する。反
応混合物を窒素雰囲気下に７時間、次いで２６６００Ｐ
ａの圧力下に２時間１１０〜１１５℃で加熱する。次い
で６６５Ｐａまで徐々に減圧し、温度を１１５℃で３０
分間保持した。この操作の間、メタノールをその生成に
応じて除去するとともに少量の４−ヒドロキシ−２，２
，６，６−テトラメチルピペリジンを除去した。次いで
、２６６Ｐａの圧力下に１２０℃に２時間加熱すること
によって反応混合物からの揮発性化合物の除去を停止し
た。最後に、５５ｇの黄色の非常に粘稠な油状物を得た
。ＮＭＲスペクトルは、このものが下記の組成 ・出発化合物（Ｉａ ）：１０モル％ ・所期化合物（Ｉｃ ）：９０モル％ に相当する混合物であることを示した。 【００１７】例４： 化合物（Ｉｄ）：デカキス（４−Ｎ，Ｎ−ジエチレンア
ミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン）ウン
デカキスカーボネートビス（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジニル）、即ちＲが式（ＩＩ）の基で
あってＲ１ が水素原子であり、ｎが１０であり且つＺ
が式（ＩＩＩ） の基である一般式（Ｉ）の化合物の製
造中央攪拌機、温度計用外装及び蒸留カラムを備えた２
００ｃｃのフラスコに、 ・３９．６ｇ（０．１１モル）の例１で製造した化合物
（Ｉａ）、 ・２２．０ｇ（０．０９モル）の４−Ｎ，Ｎ−ビス（ヒ
ドロキシエチル）アミノ−２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジン、 ・６．２８ｇ（０．０４モル）の４−ヒドロキシ−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジン、・０．０２０ｇ
の炭酸カリウム、 ・６μｌのＣ１８／６クラウンエーテルを装入する。反
応混合物を窒素雰囲気下に７時間、次いで２６６００Ｐ
ａの圧力下に２時間１１０〜１１５℃で加熱する。次い
で６６５Ｐａまで徐々に減圧し、温度を１１５℃で３０
分間保持した。この操作の間、メタノールをその生成に
応じて除去するとともに少量の４−ヒドロキシ−２，２
，６，６−テトラメチルピペリジンを除去した。次いで
、２６６Ｐａの圧力下に１２０℃に２時間加熱すること
によって反応混合物からの揮発性化合物の除去を停止し
た。最後に、５２ｇの黄色の非常に粘稠な油状物を得た
。ＩＲ及びＮＭＲスペクトル分析によりこの生成物の所
期の構造が確認された。 【００１８】例５： 化合物（Ｉａ）：デカキス（４−Ｎ，Ｎ−ジエチレンア
ミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン）ウン
デカキスカーボネートビスジドデシル、即ちＲがドデシ
ル基であり、ｎが１０であり且つＺが式（ＩＩＩ） の
基である一般式（Ｉ）の化合物の製造 中央攪拌機、温度計用外装及び蒸留カラムを備えた２０
０ｃｃのフラスコに、 ・４９．５ｇ（０．１３８モル）の例１で製造した化合
物（Ｉａ）、 ・２７．４５ｇ（０．１１３モル）の４−Ｎ，Ｎ−ビス
（ヒドロキシエチル）アミノ−２，２，６，６−テトラ
メチルピペリジン、 ・９．３ｇ（０．０５モル）のｎ−ドデカノール、・０
．０２０ｇの炭酸カリウム、 ・５μｌのＣ１８／６クラウンエーテルを装入する。反
応混合物を２６６００Ｐａの圧力下に１０５℃に４時間
２０分加熱する。次いで２７Ｐａまで徐々に減圧し、メ
タノールをその生成に応じて除去しながら温度を１００
〜１０５℃に２時間保持する。最後に、８１．１ｇの黄
色粘稠油状物を得た。ＩＲ及びＮＭＲスペクトル分析に
よりこの生成物の所期の構造が確認された。 【００１９】例６： 化合物（Ｉｆ）：ペンタキス（４−Ｎ，Ｎ−ジエチレン
アミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン）ヘ
キサキスカーボネートジドデシル、即ちＲがドデシル基
であり、ｎが５であり且つＺが式（ＩＩＩ） の基であ
る一般式（Ｉ）の化合物の製造 中央攪拌機、温度計用外装及び蒸留カラムを備えた２０
０ｃｃのフラスコに、 ・５４ｇ（０．１５モル）の例１で製造した化合物（Ｉ
ａ）、 ・２４．４ｇ（０．１０モル）の４−Ｎ，Ｎ−ビス（ヒ
ドロキシエチル）アミノ−２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジン、 ・１８．６ｇ（０．１０モル）のｎ−ドデカノール、・
０．０２０ｇの炭酸カリウム、 ・５μｌのＣ１８／６クラウンエーテルを装入する。反
応混合物を２６６００Ｐａの圧力下に１０５℃に４時間
２０分加熱する。次いで２７Ｐａまで徐々に減圧し、メ
タノールをその生成に応じて除去しながら温度を１００
〜１０５℃に２時間保持する。最後に、９１．３ｇの黄
色粘稠油状物を得た。ＩＲ及びＮＭＲスペクトル分析に
よりこの生成物の所期の構造が確認された。 【００２０】例７： 化合物（Ｉｆ）：デカメチレンビスカーボネートビス（
２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）、即
ちＲが式（ＩＩ）の基であってＲ１ が水素原子であり
、ｎが１であり且つＺがデカメチレン基である一般式（
Ｉ）の化合物の製造Ａ）デカメチレンビスカーボネート
ジメチルの製造 中央攪拌機、温度計用外装、側面にある窒素導入管及び
蒸留カラムを備えた１０００ｃｃのフラスコに、・３２
４ｇ（３．６モル）の炭酸ジメチル、・５２．２ｇ（０
．３モル）の１，１０−デカンジオール、 ・０．０４６ｇの粉末状苛性ソーダ を装入する。装置を窒素でパージし、次いで反応混合物
を窒素気流中で９０〜９２℃に加熱し、次いで高い還流
率を維持しながら二成分混合物メタノール／炭酸ジメチ
ルを蒸留する。蒸気中の温度は、最初６３℃であるが、
５時間の反応後には徐々に９０℃に上昇する。次いで、
温度を１２３０℃まで上昇させると共に過剰の炭酸ジメ
チルのほとんど全部を除去する。５３Ｐａまで減圧させ
ながら１２０℃で揮発性生成物の残部を除去する。最後
に８４ｇの黄色粘稠油状物を得た。このものは冷却する
と固化する（ＭＰ＝約６０℃）。ＩＲ及びＮＭＲスペク
トル分析によりこの生成物の所期の構造が確認された。 Ｂ）デカメチレンビスカーボネートビス（２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジル）の製造中央攪拌機
、温度計用外装、側面にある窒素導入管及び蒸留カラム
を備えた１００ｃｃのフラスコに、・２９ｇ（０．１モ
ル）のＡ）で製造した化合物、・３６．１ｇ（０．２３
モル）の４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジン、・０．０３２ｇの炭酸カリウム、 ・５μｌのＣ１８／６クラウンエーテルを装入する。反
応混合物を窒素雰囲気下に７時間、次いで２６６００Ｐ
ａの圧力下に２時間１１０〜１１５℃で加熱する。次い
で６６５Ｐａまで徐々に減圧し、温度を１１５℃で３０
分間保持した。この操作の間、メタノールをその生成に
応じて除去するとともに少量の４−ヒドロキシ−２，２
，６，６−テトラメチルピペリジンを除去した。次いで
、２６６Ｐａの圧力下に１２０℃に２時間加熱すること
によって反応混合物からの揮発性化合物の除去を停止し
た。最後に、４９ｇの黄色粘稠油状物を得た。ＩＲ及び
ＮＭＲスペクトル分析によりこの生成物の所期の構造が
確認された。 【００２１】例８：ポリプロピレン（ＰＰ）（ＡＰＰＲ
ＹＬ３０３０Ｐ ；ＢＰケミカル社製）の光安定化速度
の遅い混合機で、重量組成を下記の表１に示す各３００
ｇの混合物を製造する。 【００２２】 【表１】 ＊テトラ［３−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブ
チルフェニル）プロピオネート）ペンタエリスリチル＊
＊亜リン酸トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル） ＊＊＊ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ ９４４ 【化１５】 これらの組成物を下記の条件で押出成形する。 ・押出機（商標名ＴＨＯＲＥＴ）：スクリュウの直径＝
２０ｍｍ、スクリュウの長さ＝４００ｍｍ ・温度分布：帯域１＝２００℃、帯域２＝２２０℃、帯
域３＝２２０℃、帯域４＝２３０℃、ノズルヘッド＝２
１５℃得られた棒状物を造粒し、次いで粒状物を下記の
条件でカルバープレスにより２００μｍのフィルムにプ
レスする。温度＝２１０℃、時間＝５分、圧力＝２０Ｍ
Ｐａ これらのフィルムをＳＡＩＲＥＭ−ＳＥＰＡＰ １２−
２４型促進老化試験室において暴露する。この室では、
試験片は、円を描く回転運動により動かされた円柱形タ
レット上に配置する。タレット自体は、四隅がＭＡＺＤ
Ａ ＭＡ４００Ｗ型の加圧水銀灯により占められている
並行六面体の室の中央に位置する。水銀灯の覆いは３０
０ｎｍよりも長い波長の放射線しか通さない（このよう
な装置は仏国特許第２４３０６０９号に記載されている
）。室内の温度は制御系により６０℃に保持する。フィ
ルムの老化は赤外線分光計により追跡する。１７２０〜
１７４０ｃｍ−１のカルボニル吸収帯の光学濃度から重
合体材料の光酸化の程度が示される。得られた結果を下
記の表２に要約する。表２は、０．３の光学濃度（＝組
成物の寿命）を得るのに必要な時間を示す。 【００２３】 【表２】
特に２，２，６，６−テトラメチルピペリジニル基を有
する新規な化合物に関する。また、本発明は、このよう
な化合物を有機重合体の添加剤として使用することに関
する。 【０００２】 【発明が解決しようとする課題】本発明は、合成が比較
的簡単で且つ重合体を保護するのに有効な、特に光線や
紫外線に起因する分解に対して有効な２，２，６，６−
テトラメチルピペリジニル基を有する新規な化合物を提
供することを目的とする。 【０００３】 【課題を解決するための手段】しかして、本発明は、次
の一般式（Ｉ） 【化８】 ［ここで、Ｒは、 ・１〜１８個の炭素原子を有する線状若しくは分岐状ア
ルキル基、 ・５〜１２個の炭素原子を有するシクロアルキル基、・
フェニル基、 ・１〜１２個の炭素原子を有するアルキル置換基を１若
しくは２個含むフェニル基、 ・アルキル部分が線状若しくは分岐状で１〜１２個の炭
素原子を含むフェニルアルキル基又は ・次式（ＩＩ） 【化９】 （ここで、Ｒ１ は水素原子又はメチル基を表す）の２
，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル基を表
し、Ｚは、 ・次式（ＩＩＩ） 【化１０】 の基又は ・２〜１５個の炭素原子を有するポリメチレン基を表し
、Ｚがポリメチレン基を表すときは、Ｒは式（ＩＩ）の
２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル基を
表しかつｎは１〜２の数を表し、Ｚが式（ＩＩＩ） の
基を表すときは、ｎは１〜１００の数を表す］に相当す
ることを特徴とする２，２，６，６−テトラメチルピペ
リジニル基を有する化合物に関する。 【０００４】さらに詳しくは、本発明の化合物は、Ｒが
、 ・１〜１８個の炭素原子を有する線状若しくは分岐状の
アルキル基、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ヘキシル、オクチル、デ
シル、ドデシル、ヘキサデシル及びオクタデシル基、・
シクロヘキシル基、 ・フェニル基、 ・１〜９個の炭素原子を有する線状若しくは分岐状のア
ルキル置換基を１若しくは２個含むフェニル基、例えば
メチルフェニル、ジメチルフェニル、イソプロピルフェ
ニル、ジイソプロピルフェニル、ｔ−ブチルフェニル、
ジ−ｔ−ブチルフェニル、ノニルフェニル及びジノニル
フェニル基、 ・アルキル部分が線状若しくは分岐状で１〜４個の炭素
原子を含むフェニルアルキル基、例えばベンジル、フェ
ネチル及び３−フェニルプロピル基、又は・式（ＩＩ）
の２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル基
（ここでＲ１ は水素原子又はメチル基を表す）を表し
、Ｚは、 ・次式（ＩＩＩ） 【化１１】 の基又は ・２〜１５個の炭素原子を有するポリメチレン基を表し
、Ｚがポリメチレン基を表すときは、Ｒは式（ＩＩＩ）
の２，２，６，６−テトラメチル基を表しかつｎは１〜
２の数を表し、Ｚが式（ＩＩＩ） の基を表すときは、
ｎは１〜２０の数を表す式（Ｉ）の化合物である。 【０００５】本発明に従う前記式（Ｉ）の化合物は、各
種の方法によって製造することができる。しかして、記
号Ｚが式（ＩＩ）の基を表すときは、まず、例えばアル
カリ金属炭酸塩、アルカリ金属アルコラート、アルカリ
金属水素化物のような塩基性エステル交換触媒及び要す
ればクラウンエーテルのようなクリプタント剤の存在下
に次の一般式（ＩＶ） 【化１２】 のジオールを化学量論的量よりも過剰の炭酸ジメチルと
反応させることができる。次いで、このようにして得ら
れた次式（Ｖ） 【化１３】 の４−Ｎ，Ｎ−ビス（エチレン）アミノ−２，２，６，
６−テトラメチルピペリジンビスカーボネートジメチル
は、１よりも大きい単位数ｎを望む場合には式（ＩＶ）
のジオール及び次式（ＶＩ） Ｒ’ −ＯＨ （ＶＩ）（ここでＲ
’ は式（ＩＩ）の基を除いて式（Ｉ）においてＲにつ
いて前記した意味を有する）のモノアルコール又はモノ
フェノールとさらに反応させることにより式（Ｉ）の化
合物に転化することができる。 【０００６】式（Ｖ）、式（ＩＶ）及び式（ＶＩ）の各
種反応体の比率は、所望の単位数ｎに応じて選択される
。即ち（ｎ＋１）／２モルの式（Ｖ）の化合物について
、（ｎ−１）／２モルの式（ＩＶ）の化合物及び２モル
の式（ＶＩ）の化合物Ｒ’ −ＯＨが使用される。この
反応は、最初の反応と同じ触媒の存在下に実施される。 最初のエステル交換反応の終了時には、過剰の炭酸ジメ
チルを、例えば減圧蒸留によって具合よく除去し、次い
で触媒を含有する式（Ｖ）の化合物に式（ＩＶ）及び式
（ＶＩ）の化合物を添加することができる。 【０００７】また、Ｚがポリメチレン基を表す式（Ｉ）
の化合物を製造するためには、まず、前記のようなエス
テル交換触媒の存在下に次式（ＶＩＩＩ）ＨＯ−（ＣＨ
２ ）ｐ −ＯＨ のジオールと過剰量の炭酸ジメチルとの反応によって次
式（ＶＩＩ） ＣＨ３ −Ｏ−ＣＯ−［（ＣＨ２ ）ｐ −Ｏ
−ＣＯ−］ｎ −Ｏ−ＣＨ３ （ここでｎは式（Ｉ）に
ついて先に示した意味を有し、ｐは２〜１５の数を表す
）の混成炭酸ポリメチレンジメチルエステルを製造する
。次いで、このように製造された式（ＶＩＩ） の化合
物と次式（ＩＸ）【化１４】 の２，２，６，６−テトラメチルピペリジノールとの間
のエステル交換が行なわれる。 【０００８】本発明の式（Ｉ）の化合物は、記号ｎの値
に応じて単量体化合物か又は重合体化合物のいずれかで
ある。従って、本発明はいろいろな分子量を広く選択で
き、このことがそれらを薄膜中の安定化作用を維持しな
がら重合体内のより容易な移動のような種々の要求に対
する紫外線防止剤として応用することを可能にさせる。 【０００９】式（Ｉ）の化合物は、特に有機重合体にお
ける光安定剤として使用することができる。しかして、
これらは、ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリアルカ
ジエン、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエステル、ポ
リカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル−スルホ
ン、ポリエーテル−ケトン、アクリル重合体、ハロゲン
化重合体、これらの共重合体及びこれらの混合物におけ
る紫外線防止剤として使用することができる。さらに特
定すれば、式（Ｉ）の化合物は、ポリプロピレン、高密
度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、低密度線状ポリ
エチレン、ポリブタジエン、これらの共重合体及びこれ
らの混合物のようなポリオレフィン及びポリアルカジエ
ンに使用することができる。 【００１０】従って、本発明の目的は、有効量の式（Ｉ
）の化合物の少なくとも１種により光線及び紫外線の有
害作用に対して安定化された有機重合体組成物を提供す
ることにある。通常、これらの組成物は、重合体１００
ｇあたり０．００４〜２０ミリ当量の２，２，６，６−
テトラメチルピペリジニル基を含有する。好ましくは、
本発明に従って安定化された重合体組成物は、重合体１
００ｇあたり０．０２０〜４ミリ当量の２，２，６，６
−テトラメチルピペリジニル基を含有する。また、例え
ば、安定化された重合体組成物は、０．０１〜５重量％
の式（Ｉ）の化合物を含有する。 【００１１】式（Ｉ）の化合物の添加は、重合体の製造
中に又は製造後に実施することができる。 【００１２】式（Ｉ）の化合物を含有する有機重合体の
組成物は、慣用されている各種の安定剤、例えば・酸化
防止剤、例えばアルキル化されたモノフェノール、アル
キル化されたヒドロキノン、ヒドロキシル化された硫酸
ビフェニル、アルキリデンビスフェノール、ベンジル化
合物、アシルアミノフェノール、３−（３，５−ジ−ｔ
−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のエ
ステル、３−（５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−
３−メチルフェニル）プロピオン酸のエステル、３−（
３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオン酸のエステル、３−（３，５−ジ−ｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミドな
ど、 ・紫外線吸収剤及び光安定剤、例えば２−（２’ −ヒ
ドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−ヒドロキ
シベンゾフェノン、置換されていてもよい安息香酸エス
テル、アクリル酸エステル、ニッケル化合物、オキザル
アミドなど、 ・金属失活剤、 ・ホスフィン酸塩及びホスホン酸塩、 ・過酸化物分解剤、 ・核形成剤、 ・補強剤、 ・可塑剤、 ・滑剤、 ・乳化剤、 ・顔料、 ・蛍光増白剤、 ・不燃剤、 ・静電防止剤、 ・発泡剤をさらに含有することができる。 【００１３】本発明に従って安定化された重合体組成物
は、あらゆる種類の形態で、例えば成形物品、フィルム
、シート、繊維、気泡材料（塊体）、異形材又は被覆製
品の形で、或いは塗料、ワニス、糊料又はセメントのよ
うな被膜形成材（バインダー）として使用することがで
きる。 【００１４】 【実施例】下記の実施例は、本発明を例示するためのも
のである。 例１： 化合物（Ｉａ）：４−（Ｎ，Ｎ−ジエチレンアミノ）−
２，２，６，６−テトラメチルピペリジンビスカーボネ
ートジメチル、即ちＲがメチル基であり、ｎが１であり
且つＺが式（ＩＩＩ） の基である一般式（Ｉ）の化合
物の製造 中央攪拌機、温度計用外装、側面にある窒素導入管及び
蒸留カラムを備えた５００ｃｃのフラスコに、・２１６
ｇ（２．４モル）の炭酸ジメチル、・４８．８ｇ（０．
２モル）の４−Ｎ，Ｎ−ビス（ヒドロキシエチル）アミ
ノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、 ・０．００８ｇの粉末状苛性ソーダ を装入する。反応混合物を窒素気流中で９２〜９５℃に
５時間加熱する。この工程中に二成分混合物メタノール
／炭酸ジメチル（６３〜７０℃の間で）が蒸留される（
高い還流率を維持して）。次いで、揮発性留分を蒸留し
続けながら温度を２時間で１２０℃まで昇温させる。 合わせて１７５ｇが蒸留された。次いで、１３３Ｐａま
で徐々に減圧させながら揮発性生成物の残部を１２０℃
で除去した。このようにしてさらに１５ｇの揮発性生成
物が得られた。最後に、７０．２ｇの淡黄色の粘稠な油
状物が得られた。ＩＲ及び核磁気共鳴（ＮＭＲ）スペク
トル分析により、この生成物の所期の構造が確認された
。その純度は９５％以上であった。 【００１５】例２： 化合物（Ｉｂ）：ペンタキス（４−Ｎ，Ｎ−ジエチレン
アミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン）ヘ
キサキスカーボネートジメチル、即ちＲがメチル基であ
り、ｎが５であり且つＺが式（ＩＩＩ） の基である一
般式（Ｉ）の化合物の製造 中央攪拌機、温度計用外装及び蒸留カラムを備えた２０
０ｃｃのフラスコに、 ・４３．２ｇ（０．１２モル）の例１で製造した化合物
（Ｉａ）、 ・１９．５ｇ（０．０８モル）の４−Ｎ，Ｎ−ビス（ヒ
ドロキシエチル）アミノ−２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジン、 ・０．０１９ｇの炭酸カリウム、 ・５μｌのＣ１８／６クラウンエーテルを装入する。反
応混合物を２６６００Ｐａの圧力下に１０５℃に４時間
２０分加熱する。次いで２７Ｐａまで徐々に減圧し、メ
タノールをその生成に応じて除去しながら温度を１００
〜１０５℃に保持する。最後に、５８．６ｇの黄色粘稠
油状物を得た。ＩＲ及び核磁気共鳴（ＮＭＲ）スペクト
ル分析により、この生成物の所期の構造が確認された。 【００１６】例３： 化合物（Ｉｃ）：４−（Ｎ，Ｎ−ジエチレンアミノ）−
２，２，６，６−テトラメチルピペリジンビスカーボネ
ートビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジニル）、即ちＲが式（ＩＩ）の基であってＲ１ が水
素原子であり、ｎが１であり且つＺが式（ＩＩＩ） の
基である一般式（Ｉ）の化合物の製造中央攪拌機、温度
計用外装及び蒸留カラムを備えた２００ｃｃのフラスコ
に、・３６ｇ（０．１モル）の例１で製造した化合物（
Ｉａ）、 ・３１．４ｇ（０．２モル）の４−ヒドロキシ−２，２
，６，６−テトラメチルピペリジン、・０．０１６５ｇ
の炭酸カリウム、 ・５μｌのＣ１８／６クラウンエーテルを装入する。反
応混合物を窒素雰囲気下に７時間、次いで２６６００Ｐ
ａの圧力下に２時間１１０〜１１５℃で加熱する。次い
で６６５Ｐａまで徐々に減圧し、温度を１１５℃で３０
分間保持した。この操作の間、メタノールをその生成に
応じて除去するとともに少量の４−ヒドロキシ−２，２
，６，６−テトラメチルピペリジンを除去した。次いで
、２６６Ｐａの圧力下に１２０℃に２時間加熱すること
によって反応混合物からの揮発性化合物の除去を停止し
た。最後に、５５ｇの黄色の非常に粘稠な油状物を得た
。ＮＭＲスペクトルは、このものが下記の組成 ・出発化合物（Ｉａ ）：１０モル％ ・所期化合物（Ｉｃ ）：９０モル％ に相当する混合物であることを示した。 【００１７】例４： 化合物（Ｉｄ）：デカキス（４−Ｎ，Ｎ−ジエチレンア
ミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン）ウン
デカキスカーボネートビス（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジニル）、即ちＲが式（ＩＩ）の基で
あってＲ１ が水素原子であり、ｎが１０であり且つＺ
が式（ＩＩＩ） の基である一般式（Ｉ）の化合物の製
造中央攪拌機、温度計用外装及び蒸留カラムを備えた２
００ｃｃのフラスコに、 ・３９．６ｇ（０．１１モル）の例１で製造した化合物
（Ｉａ）、 ・２２．０ｇ（０．０９モル）の４−Ｎ，Ｎ−ビス（ヒ
ドロキシエチル）アミノ−２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジン、 ・６．２８ｇ（０．０４モル）の４−ヒドロキシ−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジン、・０．０２０ｇ
の炭酸カリウム、 ・６μｌのＣ１８／６クラウンエーテルを装入する。反
応混合物を窒素雰囲気下に７時間、次いで２６６００Ｐ
ａの圧力下に２時間１１０〜１１５℃で加熱する。次い
で６６５Ｐａまで徐々に減圧し、温度を１１５℃で３０
分間保持した。この操作の間、メタノールをその生成に
応じて除去するとともに少量の４−ヒドロキシ−２，２
，６，６−テトラメチルピペリジンを除去した。次いで
、２６６Ｐａの圧力下に１２０℃に２時間加熱すること
によって反応混合物からの揮発性化合物の除去を停止し
た。最後に、５２ｇの黄色の非常に粘稠な油状物を得た
。ＩＲ及びＮＭＲスペクトル分析によりこの生成物の所
期の構造が確認された。 【００１８】例５： 化合物（Ｉａ）：デカキス（４−Ｎ，Ｎ−ジエチレンア
ミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン）ウン
デカキスカーボネートビスジドデシル、即ちＲがドデシ
ル基であり、ｎが１０であり且つＺが式（ＩＩＩ） の
基である一般式（Ｉ）の化合物の製造 中央攪拌機、温度計用外装及び蒸留カラムを備えた２０
０ｃｃのフラスコに、 ・４９．５ｇ（０．１３８モル）の例１で製造した化合
物（Ｉａ）、 ・２７．４５ｇ（０．１１３モル）の４−Ｎ，Ｎ−ビス
（ヒドロキシエチル）アミノ−２，２，６，６−テトラ
メチルピペリジン、 ・９．３ｇ（０．０５モル）のｎ−ドデカノール、・０
．０２０ｇの炭酸カリウム、 ・５μｌのＣ１８／６クラウンエーテルを装入する。反
応混合物を２６６００Ｐａの圧力下に１０５℃に４時間
２０分加熱する。次いで２７Ｐａまで徐々に減圧し、メ
タノールをその生成に応じて除去しながら温度を１００
〜１０５℃に２時間保持する。最後に、８１．１ｇの黄
色粘稠油状物を得た。ＩＲ及びＮＭＲスペクトル分析に
よりこの生成物の所期の構造が確認された。 【００１９】例６： 化合物（Ｉｆ）：ペンタキス（４−Ｎ，Ｎ−ジエチレン
アミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン）ヘ
キサキスカーボネートジドデシル、即ちＲがドデシル基
であり、ｎが５であり且つＺが式（ＩＩＩ） の基であ
る一般式（Ｉ）の化合物の製造 中央攪拌機、温度計用外装及び蒸留カラムを備えた２０
０ｃｃのフラスコに、 ・５４ｇ（０．１５モル）の例１で製造した化合物（Ｉ
ａ）、 ・２４．４ｇ（０．１０モル）の４−Ｎ，Ｎ−ビス（ヒ
ドロキシエチル）アミノ−２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジン、 ・１８．６ｇ（０．１０モル）のｎ−ドデカノール、・
０．０２０ｇの炭酸カリウム、 ・５μｌのＣ１８／６クラウンエーテルを装入する。反
応混合物を２６６００Ｐａの圧力下に１０５℃に４時間
２０分加熱する。次いで２７Ｐａまで徐々に減圧し、メ
タノールをその生成に応じて除去しながら温度を１００
〜１０５℃に２時間保持する。最後に、９１．３ｇの黄
色粘稠油状物を得た。ＩＲ及びＮＭＲスペクトル分析に
よりこの生成物の所期の構造が確認された。 【００２０】例７： 化合物（Ｉｆ）：デカメチレンビスカーボネートビス（
２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）、即
ちＲが式（ＩＩ）の基であってＲ１ が水素原子であり
、ｎが１であり且つＺがデカメチレン基である一般式（
Ｉ）の化合物の製造Ａ）デカメチレンビスカーボネート
ジメチルの製造 中央攪拌機、温度計用外装、側面にある窒素導入管及び
蒸留カラムを備えた１０００ｃｃのフラスコに、・３２
４ｇ（３．６モル）の炭酸ジメチル、・５２．２ｇ（０
．３モル）の１，１０−デカンジオール、 ・０．０４６ｇの粉末状苛性ソーダ を装入する。装置を窒素でパージし、次いで反応混合物
を窒素気流中で９０〜９２℃に加熱し、次いで高い還流
率を維持しながら二成分混合物メタノール／炭酸ジメチ
ルを蒸留する。蒸気中の温度は、最初６３℃であるが、
５時間の反応後には徐々に９０℃に上昇する。次いで、
温度を１２３０℃まで上昇させると共に過剰の炭酸ジメ
チルのほとんど全部を除去する。５３Ｐａまで減圧させ
ながら１２０℃で揮発性生成物の残部を除去する。最後
に８４ｇの黄色粘稠油状物を得た。このものは冷却する
と固化する（ＭＰ＝約６０℃）。ＩＲ及びＮＭＲスペク
トル分析によりこの生成物の所期の構造が確認された。 Ｂ）デカメチレンビスカーボネートビス（２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジル）の製造中央攪拌機
、温度計用外装、側面にある窒素導入管及び蒸留カラム
を備えた１００ｃｃのフラスコに、・２９ｇ（０．１モ
ル）のＡ）で製造した化合物、・３６．１ｇ（０．２３
モル）の４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジン、・０．０３２ｇの炭酸カリウム、 ・５μｌのＣ１８／６クラウンエーテルを装入する。反
応混合物を窒素雰囲気下に７時間、次いで２６６００Ｐ
ａの圧力下に２時間１１０〜１１５℃で加熱する。次い
で６６５Ｐａまで徐々に減圧し、温度を１１５℃で３０
分間保持した。この操作の間、メタノールをその生成に
応じて除去するとともに少量の４−ヒドロキシ−２，２
，６，６−テトラメチルピペリジンを除去した。次いで
、２６６Ｐａの圧力下に１２０℃に２時間加熱すること
によって反応混合物からの揮発性化合物の除去を停止し
た。最後に、４９ｇの黄色粘稠油状物を得た。ＩＲ及び
ＮＭＲスペクトル分析によりこの生成物の所期の構造が
確認された。 【００２１】例８：ポリプロピレン（ＰＰ）（ＡＰＰＲ
ＹＬ３０３０Ｐ ；ＢＰケミカル社製）の光安定化速度
の遅い混合機で、重量組成を下記の表１に示す各３００
ｇの混合物を製造する。 【００２２】 【表１】 ＊テトラ［３−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブ
チルフェニル）プロピオネート）ペンタエリスリチル＊
＊亜リン酸トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル） ＊＊＊ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ ９４４ 【化１５】 これらの組成物を下記の条件で押出成形する。 ・押出機（商標名ＴＨＯＲＥＴ）：スクリュウの直径＝
２０ｍｍ、スクリュウの長さ＝４００ｍｍ ・温度分布：帯域１＝２００℃、帯域２＝２２０℃、帯
域３＝２２０℃、帯域４＝２３０℃、ノズルヘッド＝２
１５℃得られた棒状物を造粒し、次いで粒状物を下記の
条件でカルバープレスにより２００μｍのフィルムにプ
レスする。温度＝２１０℃、時間＝５分、圧力＝２０Ｍ
Ｐａ これらのフィルムをＳＡＩＲＥＭ−ＳＥＰＡＰ １２−
２４型促進老化試験室において暴露する。この室では、
試験片は、円を描く回転運動により動かされた円柱形タ
レット上に配置する。タレット自体は、四隅がＭＡＺＤ
Ａ ＭＡ４００Ｗ型の加圧水銀灯により占められている
並行六面体の室の中央に位置する。水銀灯の覆いは３０
０ｎｍよりも長い波長の放射線しか通さない（このよう
な装置は仏国特許第２４３０６０９号に記載されている
）。室内の温度は制御系により６０℃に保持する。フィ
ルムの老化は赤外線分光計により追跡する。１７２０〜
１７４０ｃｍ−１のカルボニル吸収帯の光学濃度から重
合体材料の光酸化の程度が示される。得られた結果を下
記の表２に要約する。表２は、０．３の光学濃度（＝組
成物の寿命）を得るのに必要な時間を示す。 【００２３】 【表２】
Claims (10)
- 【請求項１】 次の一般式（Ｉ） 【化１】 ［ここで、Ｒは、 ・１〜１８個の炭素原子を有する線状若しくは分岐状ア
ルキル基、 ・５〜１２個の炭素原子を有するシクロアルキル基、・
フェニル基、 ・１〜１２個の炭素原子を有するアルキル置換基を１若
しくは２個含むフェニル基、 ・アルキル部分が線状若しくは分岐状で１〜１２個の炭
素原子を含むフェニルアルキル基又は ・次式（ＩＩ） 【化２】 （ここで、Ｒ１ は水素原子又はメチル基を表す）の２
，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル基を表
し、Ｚは、 ・次式（ＩＩＩ） 【化３】 の基又は ・２〜１５個の炭素原子を有するポリメチレン基を表し
、Ｚがポリメチレン基を表すときは、Ｒは式（ＩＩ）の
２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル基を
表しかつｎは１〜２の数を表し、Ｚが式（ＩＩＩ） の
基を表すときは、ｎは１〜１００の数を表す］に相当す
ることを特徴とする２，２，６，６−テトラメチルピペ
リジニル基を有する化合物。 - 【請求項２】 Ｒが、 ・１〜１８個の炭素原子を有する線状若しくは分岐状の
アルキル基、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ヘキシル、オクチル、デ
シル、ドデシル、ヘキサデシル及びオクタデシル基、・
シクロヘキシル基、 ・フェニル基、 ・１〜９個の炭素原子を有する線状若しくは分岐状のア
ルキル置換基を１若しくは２個含むフェニル基、例えば
メチルフェニル、ジメチルフェニル、イソプロピルフェ
ニル、ジイソプロピルフェニル、ｔ−ブチルフェニル、
ジ−ｔ−ブチルフェニル、ノニルフェニル及びジノニル
フェニル基、 ・アルキル部分が線状若しくは分岐状で１〜４個の炭素
原子を含むフェニルアルキル基、例えばベンジル、フェ
ネチル及び３−フェニルプロピル基、又は・式（ＩＩ）
の２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル基
（ここでＲ１ は水素原子又はメチル基を表す）を表し
、Ｚは、 ・次式（ＩＩＩ） 【化４】 の基又は ・２〜１５個の炭素原子を有するポリメチレン基を表し
、Ｚがポリメチレン基を表すときは、Ｒは式（ＩＩＩ）
の２，２，６，６−テトラメチルピペリジニル基を表し
かつｎは１〜２の数を表し、Ｚが式（ＩＩＩ） の基を
表すときは、ｎは１〜２０の数を表す式（Ｉ）に相当す
ることを特徴とする請求項１記載の化合物。 - 【請求項３】 Ｚが式（ＩＩ）の基を表す請求項１又
は２記載の式（Ｉ）の化合物を製造するにあたり、塩基
性エステル交換触媒及び要すればクリプタント剤の存在
下に次の一般式（ＩＶ） 【化５】 のジオールを化学量論的量よりも過剰の炭酸ジメチルと
反応させ、次いでこのようにして得られた次式（Ｖ）【
化６】 の４−Ｎ，Ｎ−ビス（エチレン）アミノ−２，２，６，
６−テトラメチルピペリジンビスカーボネートジメチル
を次式（ＶＩ） Ｒ’ −ＯＨ （ＶＩ）（ここでＲ
’ は式（ＩＩ）の基を除いて式（Ｉ）においてＲにつ
いて前記した意味を有する）のモノアルコール又はモノ
フェノール及び要すれば１よりも大きい単位数ｎを望む
場合には式（ＩＶ）のジオールと反応させることにより
式（Ｉ）の化合物に転化することを特徴とする式（Ｉ）
の化合物の製造法。 - 【請求項４】 式（Ｖ）、式（ＩＶ）及び式（ＶＩ）
の反応体の比率が、（ｎ＋１）／２モルの式（Ｖ）の化
合物について、（ｎ−１）／２モルの式（ＩＶ）の化合
物及び２モルの式（ＶＩ）の化合物Ｒ’ −ＯＨを使用
するようなものであることを特徴とする請求項３記載の
方法。 - 【請求項５】 最初のエステル交換反応の終了時に過
剰の炭酸ジメチルを除去し、次いで触媒を含む式（Ｖ）
の化合物に式（ＩＶ）及び式（ＶＩ）の化合物を添加す
ることを特徴とする請求項２又は３記載の方法。 - 【請求項６】 Ｚがポリメチレン基を表す請求項１又
は２記載の式（Ｉ）の化合物を製造するにあたり、エス
テル交換触媒の存在下に次式（ＶＩＩＩ）ＨＯ−（ＣＨ
２ ）ｐ −ＯＨ のジオールと過剰量の炭酸ジメチルとの反応によって次
式（ＶＩＩ） ＣＨ３ −Ｏ−ＣＯ−［（ＣＨ２ ）ｐ −Ｏ
−ＣＯ−］ｎ −Ｏ−ＣＨ３ （ここでｎは式（Ｉ）に
ついて先に示した意味を有し、ｐは２〜１５の数を表す
）の混成炭酸ポリメチレンジメチルエステルを製造し、
次いで式（ＶＩＩ） の化合物と次式（ＩＸ） 【化７】 の２，２，６，６−テトラメチルピペリジノールとの間
のエステル交換を行うことを特徴とする前記式（Ｉ）の
化合物の製造法。 - 【請求項７】 有効量の請求項１又は２記載の式（Ｉ
）の化合物の少なくとも１種により光線及び紫外線の有
害作用に対して安定化された有機重合体組成物。 - 【請求項８】 有機重合体がポリオレフィン、ポリス
チレン、ポリアルカジエン、ポリウレタン、ポリアミド
、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポ
リエーテル−スルホン、ポリエーテル−ケトン、アクリ
ル重合体、ハロゲン化重合体、これらの共重合体及びこ
れらの混合物のうちから選択されることを特徴とする請
求項７記載の組成物。 - 【請求項９】 有機重合体がポリプロピレン、高密度
ポリエチレン、低密度ポリエチレン、低密度線状ポリエ
チレン、ポリブタジエン、これらの共重合体及びこれら
の混合物のようなポリオレフィン及びポリアルカジエン
のうちから選択されることを特徴とする請求項７又は８
記載の組成物。 - 【請求項１０】 重合体１００ｇあたり０．００４〜
２０ミリ当量の２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
ニル基、好ましくは重合体１００ｇあたり０．０２０〜
４ミリ当量の２，２，６，６−テトラメチルピペリジニ
ル基を含有することを特徴とする請求項７〜９のいずれ
かに記載の組成物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR90-08659 | 1990-07-03 | ||
| FR9008659A FR2664275B1 (fr) | 1990-07-03 | 1990-07-03 | Nouveaux composes a fonction piperidinyle et leur utilisation dans les polymeres. |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04230364A true JPH04230364A (ja) | 1992-08-19 |
| JPH0717604B2 JPH0717604B2 (ja) | 1995-03-01 |
Family
ID=9398485
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3188251A Expired - Lifetime JPH0717604B2 (ja) | 1990-07-03 | 1991-07-03 | ピペリジニル基を有する新規な化合物及びそれらの重合体への使用 |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5124380A (ja) |
| EP (1) | EP0465379A1 (ja) |
| JP (1) | JPH0717604B2 (ja) |
| KR (1) | KR930009816B1 (ja) |
| AU (1) | AU645578B2 (ja) |
| CA (1) | CA2046032A1 (ja) |
| CS (1) | CS201091A3 (ja) |
| FR (1) | FR2664275B1 (ja) |
| NO (1) | NO912574L (ja) |
| PT (1) | PT98191A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011504953A (ja) * | 2007-11-28 | 2011-02-17 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 液体安定剤混合物 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5096948A (en) * | 1989-07-03 | 1992-03-17 | Sankyo Company, Limited | Resistant resin compositions |
| CN101817947B (zh) * | 2010-04-06 | 2012-07-25 | 四川大学 | 聚烯烃用宽频紫外光吸收剂及其制备方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52140555A (en) * | 1976-05-19 | 1977-11-24 | Adeka Argus Chem Co Ltd | Stabilized synthetic resin composition |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2661090C2 (ja) * | 1975-11-07 | 1990-02-08 | Ciba-Geigy Ag, Basel, Ch | |
| JPS52100543A (en) * | 1976-02-18 | 1977-08-23 | Adeka Argus Chem Co Ltd | Stabilized synthetic resin compositions |
| US4116933A (en) * | 1976-06-28 | 1978-09-26 | Ciba-Geigy Corporation | Hindered piperidine carboxylic acids, metal salts thereof and stabilized compositions |
| IT7928324A0 (it) * | 1979-12-21 | 1979-12-21 | Chimosa Chimica Organica Spa | Derivati piperidinici, stabilizzanti per polimeri sintetici. |
| EP0052579B1 (de) * | 1980-11-17 | 1984-11-14 | Ciba-Geigy Ag | Neue Lichtschutzmittel |
| JPS58194931A (ja) * | 1982-05-07 | 1983-11-14 | Adeka Argus Chem Co Ltd | 合成樹脂組成物 |
| EP0119961B1 (de) * | 1983-03-21 | 1988-01-20 | Ciba-Geigy Ag | Oligoester mit Polyalkylpiperidingruppen |
| US4812500A (en) * | 1987-09-30 | 1989-03-14 | Shell Oil Company | Polyolefin compositions for water pipes and for wire and cable coatings |
| EP0389419B1 (en) * | 1989-03-21 | 1996-05-01 | Ciba-Geigy Ag | Non-migrating 1-hydrocarbyloxy hindered amine compounds as polymer stabilizers |
| US5180830A (en) * | 1991-04-24 | 1993-01-19 | Himont Incorporated | Process for preparing hindered amine light stabilizers |
-
1990
- 1990-07-03 FR FR9008659A patent/FR2664275B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1991
- 1991-06-14 EP EP91420196A patent/EP0465379A1/fr not_active Withdrawn
- 1991-06-25 AU AU79320/91A patent/AU645578B2/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-07-01 NO NO91912574A patent/NO912574L/no unknown
- 1991-07-01 CS CS912010A patent/CS201091A3/cs unknown
- 1991-07-02 CA CA002046032A patent/CA2046032A1/fr not_active Abandoned
- 1991-07-02 PT PT98191A patent/PT98191A/pt not_active Application Discontinuation
- 1991-07-03 JP JP3188251A patent/JPH0717604B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1991-07-03 KR KR1019910011264A patent/KR930009816B1/ko not_active Expired - Lifetime
- 1991-07-03 US US07/725,079 patent/US5124380A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52140555A (en) * | 1976-05-19 | 1977-11-24 | Adeka Argus Chem Co Ltd | Stabilized synthetic resin composition |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011504953A (ja) * | 2007-11-28 | 2011-02-17 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 液体安定剤混合物 |
| US8680183B2 (en) | 2007-11-28 | 2014-03-25 | Basf Se | Liquid stabilizer mixture |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NO912574D0 (no) | 1991-07-01 |
| EP0465379A1 (fr) | 1992-01-08 |
| US5124380A (en) | 1992-06-23 |
| JPH0717604B2 (ja) | 1995-03-01 |
| KR920002538A (ko) | 1992-02-28 |
| KR930009816B1 (ko) | 1993-10-11 |
| CS201091A3 (en) | 1992-02-19 |
| PT98191A (pt) | 1992-04-30 |
| CA2046032A1 (fr) | 1992-01-04 |
| AU645578B2 (en) | 1994-01-20 |
| NO912574L (no) | 1992-01-06 |
| FR2664275A1 (fr) | 1992-01-10 |
| FR2664275B1 (fr) | 1994-04-29 |
| AU7932091A (en) | 1992-01-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8329787B2 (en) | Weakly basic hindered amines compounds having carbonate skeletons, synthetic resin compositions and coating compositions | |
| JPS5817500B2 (ja) | ゲンセイ ニタイシ アンテイカサレタ ゴウセイジユウゴウタイ | |
| CA2993973C (en) | Encapsulated stabilizer compositions | |
| BE1003823A3 (fr) | Nouvelles compositions stabilisantes a base de derives du phosphore. | |
| JPH0581608B2 (ja) | ||
| CA1307604C (en) | Process for producing bisphenol compounds | |
| EP0625518B1 (en) | Spiro-pyranic compounds endowed with photochromic characteristics | |
| JPH04230364A (ja) | ピペリジニル基を有する新規な化合物及びそれらの重合体への使用 | |
| EP4077469A1 (de) | Verfahren zur herstellung eines polyestercarbonats | |
| JPH0678310B2 (ja) | ヒンダードアミン基を持つ新規なジヒドロピリジン | |
| WO2006054446A1 (ja) | ヒドロキシベンゾエート化合物の製造方法 | |
| JP4225707B2 (ja) | （メタ）アクリル酸ピペリジルエステル誘導体の製造法 | |
| US5726285A (en) | Condensation and addition polymers having N,N'-bridged bistetramethylpiperidyloxy groups | |
| ITMI980377A1 (it) | Composizioni fotocromatiche dotate di resistenza a fatica alla luce ed articoli fotocromatici che le contengono | |
| JP4873612B2 (ja) | ヒンダードアミン化合物の製造方法 | |
| JPH04244092A (ja) | 置換３，７，９−トリオキサ−１−アザ−２，８−ジホスファスピロ〔４．５〕デカン及び安定化組成物 | |
| US4645853A (en) | Hindered phenolic oxamide compounds and stabilized compositions | |
| US3833636A (en) | Polymers stabilized with acyl hydrazones | |
| WO1993011111A1 (de) | POLYALKYLPIPERIDINGRUPPEN ENHALTENDEN β-AMINOACRYLSÄURE-ESTER-DERIVATE | |
| US5973040A (en) | Tetramethylpiperidine-containing copolymers | |
| TW201632536A (zh) | 亞磷酸化合物、其製造方法及其用途 | |
| JP2748508B2 (ja) | 安定化されたポリエチレン組成物 | |
| JPH05213818A (ja) | エステル化ベンゾフェノン誘導体、合成および使用方法、これを含むポリマー組成物 | |
| EP0550001B1 (en) | Cyclohexylamine derivatives | |
| JPH0578317A (ja) | 環式ポリアルキルピペリジニルβ−ケトカルボキシレート |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19950822 |