JPH04232946A - 写真要素 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C7/00—Multicolour photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents; Photosensitive materials for multicolour processes
- G03C7/30—Colour processes using colour-coupling substances; Materials therefor; Preparing or processing such materials
- G03C7/3003—Materials characterised by the use of combinations of photographic compounds known as such, or by a particular location in the photographic element
- G03C7/3005—Combinations of couplers and photographic additives
- G03C7/3008—Combinations of couplers having the coupling site in rings of cyclic compounds and photographic additives
- G03C7/301—Combinations of couplers having the coupling site in pyrazoloazole rings and photographic additives
-
- G—PHYSICS
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- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
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- G03C7/30—Colour processes using colour-coupling substances; Materials therefor; Preparing or processing such materials
- G03C7/392—Additives
- G03C7/39208—Organic compounds
- G03C7/39236—Organic compounds with a function having at least two elements among nitrogen, sulfur or oxygen
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は写真に関し、詳細にはピ
ラゾロアゾールカプラー及びヒドラジド酸化カラー現像
競合剤を含有するカラー写真材料に関する。
ラゾロアゾールカプラー及びヒドラジド酸化カラー現像
競合剤を含有するカラー写真材料に関する。
【0002】
【従来の技術】写真材料の露光に対する応答性は、通常
、センシトメトリーもしくは特性曲線又は一組の特性曲
線により定義される。上記特性曲線は、処理された写真
材料の画像濃度を、その濃度を得るのに必要な log
露光に対してプロットしたものである。写真材料の感度
、又はスピードは、写真材料の未露光域で観察される濃
度と比較して、検出可能な濃度変化を与えるのに必要な
最少露光の関数である。これを閾(threshold
)スピードと呼ぶ。ネガ写真材料において、この閾スピ
ードは、写真材料の未露光域で観察されるバックグラウ
ンド濃度と比較して、検出可能な濃度増加を加えるのに
必要な最少露光レベルである。反転写真材料においては
閾スピードは、写真材料の未露光域で観察される最高濃
度と比較して、検出可能な濃度減少を与えるのに必要な
最少露光である。
、センシトメトリーもしくは特性曲線又は一組の特性曲
線により定義される。上記特性曲線は、処理された写真
材料の画像濃度を、その濃度を得るのに必要な log
露光に対してプロットしたものである。写真材料の感度
、又はスピードは、写真材料の未露光域で観察される濃
度と比較して、検出可能な濃度変化を与えるのに必要な
最少露光の関数である。これを閾(threshold
)スピードと呼ぶ。ネガ写真材料において、この閾スピ
ードは、写真材料の未露光域で観察されるバックグラウ
ンド濃度と比較して、検出可能な濃度増加を加えるのに
必要な最少露光レベルである。反転写真材料においては
閾スピードは、写真材料の未露光域で観察される最高濃
度と比較して、検出可能な濃度減少を与えるのに必要な
最少露光である。
【0003】写真材料の画像濃度は、金属性銀によって
又は色素によって与えることができる。カプラー化合物
は写真材料に広く用いられて、ハロゲン化銀現像剤の酸
化生成物と反応させることにより色素画像を形成する。 ピラゾロアゾールカプラー化合物はマゼンタ色素形成性
カプラーとしてよく知られている。かかるカプラーは、
例えば、米国特許第 4,443,536号、同 4,
665,015号、同 4,639,415号、同 4
,639,413号、同 4,559,297号、同
4,618,573号及び同 4,762,775号各
明細書に記載されている。
又は色素によって与えることができる。カプラー化合物
は写真材料に広く用いられて、ハロゲン化銀現像剤の酸
化生成物と反応させることにより色素画像を形成する。 ピラゾロアゾールカプラー化合物はマゼンタ色素形成性
カプラーとしてよく知られている。かかるカプラーは、
例えば、米国特許第 4,443,536号、同 4,
665,015号、同 4,639,415号、同 4
,639,413号、同 4,559,297号、同
4,618,573号及び同 4,762,775号各
明細書に記載されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ピラゾールアゾール化
合物は有用な色素形成性カプラーであるが、それらを用
いる写真材料及び組成物は望まれる程の高い閾スピード
を与えないことが多い。従って、ピラゾロアゾールカプ
ラー化合物を含有する写真組成物に、より高い閾スピー
ドを与えることが本発明の目的である。
合物は有用な色素形成性カプラーであるが、それらを用
いる写真材料及び組成物は望まれる程の高い閾スピード
を与えないことが多い。従って、ピラゾロアゾールカプ
ラー化合物を含有する写真組成物に、より高い閾スピー
ドを与えることが本発明の目的である。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、写真要
素は、ハロゲン化銀乳剤層、前記ハロゲン化銀乳剤と反
応可能な状態で組み合されているピラゾロアゾールカプ
ラー、及び前記カプラーと反応可能な状態で組み合され
ている、酸化現像剤についての競合剤(competi
tor)であって、式:
素は、ハロゲン化銀乳剤層、前記ハロゲン化銀乳剤と反
応可能な状態で組み合されているピラゾロアゾールカプ
ラー、及び前記カプラーと反応可能な状態で組み合され
ている、酸化現像剤についての競合剤(competi
tor)であって、式:
【化2】
前記式中、R1 は電子供与基を表し、R2 は水素、
アルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、ア
ラルキル又は式−NHR3(式中、R3 はフェニル又
はベンジルである)のアミノであり、ここで置換基R1
及びR2 の少くとも1つは、(a)アルカリ性処理
溶液で現像する前は前記ヒドラジド化合物を写真要素中
で非−拡散性とするのに十分な大きさの(1)バラスト
基を表し、かつ(b)極性基からなるという条件があり
、及びnは0,1又は2である、の競合剤、を含有する
。
アルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、ア
ラルキル又は式−NHR3(式中、R3 はフェニル又
はベンジルである)のアミノであり、ここで置換基R1
及びR2 の少くとも1つは、(a)アルカリ性処理
溶液で現像する前は前記ヒドラジド化合物を写真要素中
で非−拡散性とするのに十分な大きさの(1)バラスト
基を表し、かつ(b)極性基からなるという条件があり
、及びnは0,1又は2である、の競合剤、を含有する
。
【0006】
【実施態様】式(I)によれば、電子供与基であるR1
置換基としては、置換もしくは非置換の、線状もしく
は分枝鎖の、炭素原子数1〜20個、好ましくは8〜1
6個であってよいアルキル;置換もしくは非置換の線状
もしくは分枝鎖の、炭素原子数1〜20個、好ましくは
8〜16個であってよいアルコキシ;カルボキシ、式−
NR4COR5のカルボンアミド、式−NR4SO2R
5のスルホンアミド;又は式−NR4R5(式中、R4
は水素又は炭素原子数1〜8個のアルキルであり、R
5 はR4 について定義したようであるか又は置換し
ていてもよいベンジル又はフェニル基である)のアミノ
が挙げられる。
置換基としては、置換もしくは非置換の、線状もしく
は分枝鎖の、炭素原子数1〜20個、好ましくは8〜1
6個であってよいアルキル;置換もしくは非置換の線状
もしくは分枝鎖の、炭素原子数1〜20個、好ましくは
8〜16個であってよいアルコキシ;カルボキシ、式−
NR4COR5のカルボンアミド、式−NR4SO2R
5のスルホンアミド;又は式−NR4R5(式中、R4
は水素又は炭素原子数1〜8個のアルキルであり、R
5 はR4 について定義したようであるか又は置換し
ていてもよいベンジル又はフェニル基である)のアミノ
が挙げられる。
【0007】アルキル又はアルコキシであるR2 置換
基は、R1 におけると同一の置換基について定義した
ようであってよく、又はR2 は炭素原子数6〜30個
の置換もしくは非置換のアリール又は置換もしくは非置
換のアリールオキシ、例えば、フェニル、フェノキシ、
ナフチル又はナフトオキシであってよい。
基は、R1 におけると同一の置換基について定義した
ようであってよく、又はR2 は炭素原子数6〜30個
の置換もしくは非置換のアリール又は置換もしくは非置
換のアリールオキシ、例えば、フェニル、フェノキシ、
ナフチル又はナフトオキシであってよい。
【0008】R2 がフェニル又はフェノキシを表す場
合には、アリール環が、ヒドラジド窒素原子へのカルボ
ニル基の結合点に対してオルソの位置に水素結合置換基
を有することが好ましい。好ましい水素結合基としては
ヒドロキシ、式−NR4R5 の第一もしくは第二アミ
ノ基、式−NHSO2R4 のスルホンアミド基、式−
NR4COR5 のカルボンアミド及び式−NHCON
HR4のウレイドが挙げられ、式中、R4 及びR5
は水素又は炭素原子数1〜8個のアルキルであってよく
、R5 はR4 について定義したようであるか又はベ
ンジル基もしくはフェニル基である。
合には、アリール環が、ヒドラジド窒素原子へのカルボ
ニル基の結合点に対してオルソの位置に水素結合置換基
を有することが好ましい。好ましい水素結合基としては
ヒドロキシ、式−NR4R5 の第一もしくは第二アミ
ノ基、式−NHSO2R4 のスルホンアミド基、式−
NR4COR5 のカルボンアミド及び式−NHCON
HR4のウレイドが挙げられ、式中、R4 及びR5
は水素又は炭素原子数1〜8個のアルキルであってよく
、R5 はR4 について定義したようであるか又はベ
ンジル基もしくはフェニル基である。
【0009】これらの基はR2 アルキル基の置換基と
して又はR2 アリール基の他の位置に存在することも
できる。
して又はR2 アリール基の他の位置に存在することも
できる。
【0010】R1 又はR2 を表すことができる極性
基は、−1.0より更に陰性であるπ定数を有する単一
基又は組み合せ基であってよい。π定数は C.Han
sch, A.Leo, S.Unger, K.Hw
an Kim, D.Nikaitani及びE.T.
Lienにより、Journal of Organi
c Chemistry, 11, 1973 (12
07〜1216頁)に定義されている。R1 又はR2
の極性基として以下のものが挙げられるがこれらに限
定されるものではない:
基は、−1.0より更に陰性であるπ定数を有する単一
基又は組み合せ基であってよい。π定数は C.Han
sch, A.Leo, S.Unger, K.Hw
an Kim, D.Nikaitani及びE.T.
Lienにより、Journal of Organi
c Chemistry, 11, 1973 (12
07〜1216頁)に定義されている。R1 又はR2
の極性基として以下のものが挙げられるがこれらに限
定されるものではない:
【0011】
【化3】
【0012】これらの基はアルカリ処理の際、ヒドラジ
ンの界面活性能を高める傾向がある。
ンの界面活性能を高める傾向がある。
【0013】R1,R2,R3,R4 及びR5 の1
個又はそれ以上により表されるアルキル基、アルコキシ
基、アリール基、アリールオキシ基、アラルキル基及び
ベンジル基は、ハロゲン原子、例えば、塩素で、又はハ
ロアルキル基、例えばトリフルオロメチルで、又は
個又はそれ以上により表されるアルキル基、アルコキシ
基、アリール基、アリールオキシ基、アラルキル基及び
ベンジル基は、ハロゲン原子、例えば、塩素で、又はハ
ロアルキル基、例えばトリフルオロメチルで、又は
【0
014】
014】
【化4】
で置換されてもよい。上記構造式内の典型的な化合物と
しては次のものが挙げられる:
しては次のものが挙げられる:
【0015】
【化5】
【0016】式(I)による他の化合物及びこれらの合
成方法は米国特許出願番号第07/351,515 号
明細書に記載されており、それらの開示は引用すること
により本明細書中に包含する。
成方法は米国特許出願番号第07/351,515 号
明細書に記載されており、それらの開示は引用すること
により本明細書中に包含する。
【0017】クラスとしてのピラゾロアゾールカプラー
は当業者によく知られている。本発明を実施するのに有
用なピラゾロアゾールカプラーとしては、式:
は当業者によく知られている。本発明を実施するのに有
用なピラゾロアゾールカプラーとしては、式:
【化6】
前記式中、R1 は水素又は置換基を表し、Xは水素又
は酸化芳香族第一アミン現像剤とのカプリング反応によ
り離脱可能な基を表し、そしてZは複素環を完成させる
のに必要な非金属性原子を表す、を有するものが挙げら
れる。
は酸化芳香族第一アミン現像剤とのカプリング反応によ
り離脱可能な基を表し、そしてZは複素環を完成させる
のに必要な非金属性原子を表す、を有するものが挙げら
れる。
【0018】式(II)による化合物は、式(III)
:
:
【化7】
前記式中、R1 は水素又は置換基を表し、Xは水素又
は酸化芳香族第一アミン現像剤とのカプリング反応によ
り離脱可能な基を表し、Za ,Zb 及びZc は各
々置換もしくは非置換のメチン基、=N−又は−NH−
を表し、Za −Zb 結合又はZb −Zc 結合の
いずれか1つは二重結合であり、他の1つは単結合であ
り、Zb −Zc 結合が炭素−炭素二重結合である場
合には、その結合が芳香族環の一部を形成してもよく、
そしてR1 ,X及びZa ,Zb 又はZc により
表される置換メチン基のいずれか1つが二価又は多価基
である場合には、二量体又はポリマーを形成してもよい
、により更に具体的に表される。R1 として有用な置
換基の例はR2 について以下に述べるようなものであ
る。
は酸化芳香族第一アミン現像剤とのカプリング反応によ
り離脱可能な基を表し、Za ,Zb 及びZc は各
々置換もしくは非置換のメチン基、=N−又は−NH−
を表し、Za −Zb 結合又はZb −Zc 結合の
いずれか1つは二重結合であり、他の1つは単結合であ
り、Zb −Zc 結合が炭素−炭素二重結合である場
合には、その結合が芳香族環の一部を形成してもよく、
そしてR1 ,X及びZa ,Zb 又はZc により
表される置換メチン基のいずれか1つが二価又は多価基
である場合には、二量体又はポリマーを形成してもよい
、により更に具体的に表される。R1 として有用な置
換基の例はR2 について以下に述べるようなものであ
る。
【0019】Xは水素又は酸化芳香族第一アミン現像剤
とのカプリング反応により離脱可能な基(以下カプリン
グ離脱基と呼ぶ)を表す。カプリング離脱基は当該技術
分野において知られており、脂肪族基;芳香族基;複素
環式基;脂肪族、芳香族もしくは複素環式スルホニル基
、又は酸素原子、窒素原子、硫黄原子又は炭素原子を介
してカプリング活性炭素に結合している複素環式カルボ
ニル基を含む基;ハロゲン原子;芳香族アゾ基等が挙げ
られる。かかるカプリング離脱基に含まれる脂肪族、芳
香族又は複素環式基は、R2,R3 又はR4 につい
て以下に述べるような置換基を1個又はそれ以上有して
もよい。
とのカプリング反応により離脱可能な基(以下カプリン
グ離脱基と呼ぶ)を表す。カプリング離脱基は当該技術
分野において知られており、脂肪族基;芳香族基;複素
環式基;脂肪族、芳香族もしくは複素環式スルホニル基
、又は酸素原子、窒素原子、硫黄原子又は炭素原子を介
してカプリング活性炭素に結合している複素環式カルボ
ニル基を含む基;ハロゲン原子;芳香族アゾ基等が挙げ
られる。かかるカプリング離脱基に含まれる脂肪族、芳
香族又は複素環式基は、R2,R3 又はR4 につい
て以下に述べるような置換基を1個又はそれ以上有して
もよい。
【0020】カプリング離脱基の例としては、ハロゲン
原子(例えば、フッ素、塩素、臭素)、アルコキシ基(
例えば、エトキシ、ドデシルオキシ、カルボキシプロピ
ルオキシ)、アリールオキシ基(例えば、4−クロロフ
ェノキシ基、4−メトキシフェノキシ基)、アシルオキ
シ基(例えば、アセトキシ基、テトラデカノイルオキシ
基)、脂肪族もしくは芳香族スルホニルオキシ基(例え
ば、メタンスルホニルオキシ基、トルエンスルホニルオ
キシ基)、アシルアミノ基(例えば、ジクロロアセチル
アミノ基、トリフルオロアセチルアミノ基)、脂肪族も
しくは芳香族スルホンアミド基(例えば、メタンスルホ
ンアミド基、p−トルエンスルホンアミド基)、アルコ
キシカルボニルオキシ基(例えば、エトキシカルボニル
オキシ基、ベンジルオキシカルボニルオキシ基)、アリ
ールオキシカルボニルオキシ基(例えば、フェノキシカ
ルボニルオキシ基)、脂肪族、芳香族もしくは複素環式
チオ基(例えば、エチルチオ基、フェニルチオ基)、カ
ルバモイルアミノ基(例えば、N−メチルカルバモイル
アミノ基、N−フェニルカルバモイルアミノ基)、5員
のもしくは6員の窒素含有複素環式基(例えば、イミダ
ゾリル基、ピラゾリル基)、イミド基(例えば、スクシ
ンイミド基、ヒダントイニル基)、芳香族アゾ基(例え
ば、フェニルアゾ基)等が挙げられる。これらの基は、
R2,R3 及びR4 について述べたものから選ばれ
る置換基を有するものもある。
原子(例えば、フッ素、塩素、臭素)、アルコキシ基(
例えば、エトキシ、ドデシルオキシ、カルボキシプロピ
ルオキシ)、アリールオキシ基(例えば、4−クロロフ
ェノキシ基、4−メトキシフェノキシ基)、アシルオキ
シ基(例えば、アセトキシ基、テトラデカノイルオキシ
基)、脂肪族もしくは芳香族スルホニルオキシ基(例え
ば、メタンスルホニルオキシ基、トルエンスルホニルオ
キシ基)、アシルアミノ基(例えば、ジクロロアセチル
アミノ基、トリフルオロアセチルアミノ基)、脂肪族も
しくは芳香族スルホンアミド基(例えば、メタンスルホ
ンアミド基、p−トルエンスルホンアミド基)、アルコ
キシカルボニルオキシ基(例えば、エトキシカルボニル
オキシ基、ベンジルオキシカルボニルオキシ基)、アリ
ールオキシカルボニルオキシ基(例えば、フェノキシカ
ルボニルオキシ基)、脂肪族、芳香族もしくは複素環式
チオ基(例えば、エチルチオ基、フェニルチオ基)、カ
ルバモイルアミノ基(例えば、N−メチルカルバモイル
アミノ基、N−フェニルカルバモイルアミノ基)、5員
のもしくは6員の窒素含有複素環式基(例えば、イミダ
ゾリル基、ピラゾリル基)、イミド基(例えば、スクシ
ンイミド基、ヒダントイニル基)、芳香族アゾ基(例え
ば、フェニルアゾ基)等が挙げられる。これらの基は、
R2,R3 及びR4 について述べたものから選ばれ
る置換基を有するものもある。
【0021】式(III) により表されるカプラーの
中で、好ましい化合物としては、次の式(IV−1),
(IV−2),(IV−3),(IV−4),(IV−
5)及び(IV−6)により表されるものが挙げられる
:
中で、好ましい化合物としては、次の式(IV−1),
(IV−2),(IV−3),(IV−4),(IV−
5)及び(IV−6)により表されるものが挙げられる
:
【化8】
【0022】上記の(IV)式によれば、Xは式(II
I) について述べたようなものである。
I) について述べたようなものである。
【0023】また、上記の(IV)式によれば、R2,
R3 及びR4 の各々は、独立して水素原子、置換も
しくは非置換のアルキル基(例えば、メチル基、プロピ
ル基、t−ブチル基、トリフルオロメチル基、トリデシ
ル基、3−(2,4−ジ−t−アミルフェノキシ)プロ
ピル基)、置換もしくは非置換のアリール基(例えば、
フェニル基、4−t−ブチルフェニル基、2,4,6−
トリメチルフェニル基)、置換もしくは非置換の複素環
式基(例えば、2−フリル基、2−チエニル基)、シア
ノ基、置換もしくは非置換のアルコキシ基(例えば、メ
トキシ基、エトキシ基)、置換もしくは非置換のアリー
ルオキシ基(例えば、フェノキシ基、2−メチルフェノ
キシ基)、置換もしくは非置換の複素環式オキシ基(例
えば、2−ベンゾイミダゾリルオキシ基)、置換もしく
は非置換のアシルオキシ基(例えば、アセトキシ基、ヘ
キサデカノイルオキシ基)、置換もしくは非置換のカル
バモイルオキシ基(例えば、N−フェニルカルバモイル
オキシ基、N−エチルカルバモイルオキシ基)、置換も
しくは非置換のシリルオキシ基(例えば、トリメチルシ
リルオキシ基)、置換もしくは非置換のスルホニルオキ
シ基(例えば、ドデシルスルホニルオキシ基)、置換も
しくは非置換のアシルアミノ基(例えば、アセトアミド
基、ベンゾアミド基)、置換もしくは非置換のアニリノ
基(例えば、フェニルアミノ基、2−クロロアニリノ基
)、置換もしくは非置換のウレイド基(例えば、フェニ
ルウレイド基、メチルウレイド基)、置換もしくは非置
換のイミド基(例えば、N−スクシンイミド基、3−ベ
ンジルヒダントイニル基)、置換もしくは非置換のスル
ファモイルアミノ基(例えば、N,N−ジプロピルスル
ファモイルアミノ基、N−メチル−N−デシルスルファ
モイルアミノ基)、置換もしくは非置換のカルバモイル
アミノ基(例えば、N−ブチルカルバモイルアミノ基、
N,N−ジメチルカルバモイルアミノ基)、置換もしく
は非置換のアルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、オ
クチルチオ基)、置換もしくは非置換のアリールチオ基
(例えば、フェニルチオ基、2−ブトキシ−5−t−オ
クチルフェニルチオ基)、置換もしくは非置換の複素環
式チオ基(例えば、2−ベンゾチアゾリル基)、置換も
しくは非置換のアルコキシカルボニルアミノ基(例えば
、メドキシカルボニルアミノ基、テトラデシルオキシカ
ルボニルアミノ基)、置換もしくは非置換のアリールオ
キシカルボニルアミノ基(例えば、フェノキシカルボニ
ルアミノ基、2,4−ジ−t−ブチルフェノキシカルボ
ニルアミノ基)、置換もしくは非置換のスルホンアミド
基(例えば、メタンスルホンアミド基、ヘキサデカンス
ルホンアミド基)、置換もしくは非置換のカルバモイル
基(例えば、N−エチルカルバモイル基、N,N−ジブ
チルカルバモイル基)、置換もしくは非置換のアシル基
(例えば、アセチル基、(2,4−ジ−tert−アミ
ルフェノキシ)アセチル基)、置換もしくは非置換のス
ルファモイル基(例えば、N−エチルスルファモイル基
、N,N−ジプロピルスルファモイル基)、置換もしく
は非置換のスルホニル基(例えば、メタンスルホニル基
、オクタンスルホニル基)、置換もしくは非置換のスル
フィニル基(例えば、オクタンスルフィニル基、ドデシ
ルスルフィニル基)、置換もしくは非置換のアルコキシ
カルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基、ブチル
オキシカルボニル基)、置換もしくは非置換のアリール
オキシカルボニル基(例えば、フェニルオキシカルボニ
ル基、3−ペンタデシルオキシカルボニル基)、置換も
しくは非置換のアルケニル基、置換もしくは非置換のカ
ルボキシル基、置換もしくは非置換のスルホ基、ヒドロ
キシ基、置換もしくは非置換のアミノ基又は置換もしく
は非置換のカルボンアミド基を表す。これらの基の置換
基としてはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、複
素環式基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基
、複素環式オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオ
キシ基、シリルオキシ基、スルホニルオキシ基、アシル
アミノ基、アニリノ基、ウレイド基、イミド基、スルホ
ニルアミノ基、カルバモイルアミノ基、アルキルチオ基
、アリールチオ基、複素環式チオ基、アルコキシカルボ
ニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、ス
ルホンアミド基、カルバモイル基、アシル基、スルファ
モイル基、スルホニル基、スルフィニル基、アルコキシ
カルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルケニ
ル基、カルボキシル基、スルホ基、ヒドロキシル基、ア
ミノ基及びカルボンアミド基等が挙げられる。R2,R
3 及びR4 の各々は好ましくはアルキル基、アリー
ル基、カルボンアミド基、スルホンアミド基又はウレイ
ド基を表す。
R3 及びR4 の各々は、独立して水素原子、置換も
しくは非置換のアルキル基(例えば、メチル基、プロピ
ル基、t−ブチル基、トリフルオロメチル基、トリデシ
ル基、3−(2,4−ジ−t−アミルフェノキシ)プロ
ピル基)、置換もしくは非置換のアリール基(例えば、
フェニル基、4−t−ブチルフェニル基、2,4,6−
トリメチルフェニル基)、置換もしくは非置換の複素環
式基(例えば、2−フリル基、2−チエニル基)、シア
ノ基、置換もしくは非置換のアルコキシ基(例えば、メ
トキシ基、エトキシ基)、置換もしくは非置換のアリー
ルオキシ基(例えば、フェノキシ基、2−メチルフェノ
キシ基)、置換もしくは非置換の複素環式オキシ基(例
えば、2−ベンゾイミダゾリルオキシ基)、置換もしく
は非置換のアシルオキシ基(例えば、アセトキシ基、ヘ
キサデカノイルオキシ基)、置換もしくは非置換のカル
バモイルオキシ基(例えば、N−フェニルカルバモイル
オキシ基、N−エチルカルバモイルオキシ基)、置換も
しくは非置換のシリルオキシ基(例えば、トリメチルシ
リルオキシ基)、置換もしくは非置換のスルホニルオキ
シ基(例えば、ドデシルスルホニルオキシ基)、置換も
しくは非置換のアシルアミノ基(例えば、アセトアミド
基、ベンゾアミド基)、置換もしくは非置換のアニリノ
基(例えば、フェニルアミノ基、2−クロロアニリノ基
)、置換もしくは非置換のウレイド基(例えば、フェニ
ルウレイド基、メチルウレイド基)、置換もしくは非置
換のイミド基(例えば、N−スクシンイミド基、3−ベ
ンジルヒダントイニル基)、置換もしくは非置換のスル
ファモイルアミノ基(例えば、N,N−ジプロピルスル
ファモイルアミノ基、N−メチル−N−デシルスルファ
モイルアミノ基)、置換もしくは非置換のカルバモイル
アミノ基(例えば、N−ブチルカルバモイルアミノ基、
N,N−ジメチルカルバモイルアミノ基)、置換もしく
は非置換のアルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、オ
クチルチオ基)、置換もしくは非置換のアリールチオ基
(例えば、フェニルチオ基、2−ブトキシ−5−t−オ
クチルフェニルチオ基)、置換もしくは非置換の複素環
式チオ基(例えば、2−ベンゾチアゾリル基)、置換も
しくは非置換のアルコキシカルボニルアミノ基(例えば
、メドキシカルボニルアミノ基、テトラデシルオキシカ
ルボニルアミノ基)、置換もしくは非置換のアリールオ
キシカルボニルアミノ基(例えば、フェノキシカルボニ
ルアミノ基、2,4−ジ−t−ブチルフェノキシカルボ
ニルアミノ基)、置換もしくは非置換のスルホンアミド
基(例えば、メタンスルホンアミド基、ヘキサデカンス
ルホンアミド基)、置換もしくは非置換のカルバモイル
基(例えば、N−エチルカルバモイル基、N,N−ジブ
チルカルバモイル基)、置換もしくは非置換のアシル基
(例えば、アセチル基、(2,4−ジ−tert−アミ
ルフェノキシ)アセチル基)、置換もしくは非置換のス
ルファモイル基(例えば、N−エチルスルファモイル基
、N,N−ジプロピルスルファモイル基)、置換もしく
は非置換のスルホニル基(例えば、メタンスルホニル基
、オクタンスルホニル基)、置換もしくは非置換のスル
フィニル基(例えば、オクタンスルフィニル基、ドデシ
ルスルフィニル基)、置換もしくは非置換のアルコキシ
カルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基、ブチル
オキシカルボニル基)、置換もしくは非置換のアリール
オキシカルボニル基(例えば、フェニルオキシカルボニ
ル基、3−ペンタデシルオキシカルボニル基)、置換も
しくは非置換のアルケニル基、置換もしくは非置換のカ
ルボキシル基、置換もしくは非置換のスルホ基、ヒドロ
キシ基、置換もしくは非置換のアミノ基又は置換もしく
は非置換のカルボンアミド基を表す。これらの基の置換
基としてはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、複
素環式基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基
、複素環式オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオ
キシ基、シリルオキシ基、スルホニルオキシ基、アシル
アミノ基、アニリノ基、ウレイド基、イミド基、スルホ
ニルアミノ基、カルバモイルアミノ基、アルキルチオ基
、アリールチオ基、複素環式チオ基、アルコキシカルボ
ニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、ス
ルホンアミド基、カルバモイル基、アシル基、スルファ
モイル基、スルホニル基、スルフィニル基、アルコキシ
カルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルケニ
ル基、カルボキシル基、スルホ基、ヒドロキシル基、ア
ミノ基及びカルボンアミド基等が挙げられる。R2,R
3 及びR4 の各々は好ましくはアルキル基、アリー
ル基、カルボンアミド基、スルホンアミド基又はウレイ
ド基を表す。
【0024】式(IV−6)が2個以上のR3 置換基
を含む場合には、それらは同一でも異なっていてもよい
。
を含む場合には、それらは同一でも異なっていてもよい
。
【0025】好ましい実施態様においては、本発明の実
施において用いるピラゾロアゾールカプラーはピラゾロ
トリアゾールカプラーである。特に好ましいピラゾロト
リアゾールカプラーは上記の式(IV−3)のものであ
る。他の好ましいピラゾロトリアゾールカプラーは上記
の式(IV)−4のものである。
施において用いるピラゾロアゾールカプラーはピラゾロ
トリアゾールカプラーである。特に好ましいピラゾロト
リアゾールカプラーは上記の式(IV−3)のものであ
る。他の好ましいピラゾロトリアゾールカプラーは上記
の式(IV)−4のものである。
【0026】本発明に実施するのに有用なピラゾロアゾ
ールカプラーの例としては次のものが挙げられる:
ールカプラーの例としては次のものが挙げられる:
【化
9】
9】
【0027】
【化10】
【0028】本発明を実施するのに有用な他のピラゾロ
アゾールカプラーは米国特許第 4,762,775号
明細書に記載されており、その開示は引用することによ
り本明細書中に包含する。
アゾールカプラーは米国特許第 4,762,775号
明細書に記載されており、その開示は引用することによ
り本明細書中に包含する。
【0029】本発明の写真要素はネガ又は反転写真要素
であってよい。本発明の好ましい実施態様においては、
写真要素はカラー反転材料、例えば、Kodak E−
6(登録商標)処理(例えば、Kodak Ektac
hrome(登録商標)製品、Fuji Fujich
rome(登録商標)製品)で処理可能なものである。 E−6(登録商標)処理については BritishJ
ournal of Photography Ann
ual, 1977, 194〜197 頁に記載さ
れている。
であってよい。本発明の好ましい実施態様においては、
写真要素はカラー反転材料、例えば、Kodak E−
6(登録商標)処理(例えば、Kodak Ektac
hrome(登録商標)製品、Fuji Fujich
rome(登録商標)製品)で処理可能なものである。 E−6(登録商標)処理については BritishJ
ournal of Photography Ann
ual, 1977, 194〜197 頁に記載さ
れている。
【0030】本発明要素の支持体は、写真要素用として
周知の数多くの支持体の任意のものであってよい。これ
らとしてはポリマー性フィルム、例えば、セルロースエ
ステル類(例えば、セルローストリアセテート及びジア
セテート)及び二塩基性芳香族カルボン酸と二価のアル
コールのポリエステル類(例えば、ポリ(エチレンテレ
フタレート))、紙及びポリマー塗布紙が挙げられる。 かかる支持体は、 Research Disclos
ure, 1989年12月, Item 30811
9(以下、ResearchDisclosure I
と呼ぶ)、第XVII章に更に詳細に記載されている。
周知の数多くの支持体の任意のものであってよい。これ
らとしてはポリマー性フィルム、例えば、セルロースエ
ステル類(例えば、セルローストリアセテート及びジア
セテート)及び二塩基性芳香族カルボン酸と二価のアル
コールのポリエステル類(例えば、ポリ(エチレンテレ
フタレート))、紙及びポリマー塗布紙が挙げられる。 かかる支持体は、 Research Disclos
ure, 1989年12月, Item 30811
9(以下、ResearchDisclosure I
と呼ぶ)、第XVII章に更に詳細に記載されている。
【0031】本発明を実施するのに用いられるハロゲン
化銀乳剤は、例えば、臭化銀、塩化銀、沃化銀、塩臭化
銀、塩沃化銀、臭沃化銀又はそれらの混合物を含むこと
ができる。これらの乳剤は、100, 111又は 1
10結晶面により規制される粗の、中間の又は微細のハ
ロゲン化銀粒子を含むことができる。ハロゲン化銀乳剤
及びそれらの製造については、Research Di
sclosure I, Section Iに更に記
載されている。Research Disclosur
e , 1983年1月,Item 22534及び米
国特許第 4,425,426号に記載されているよう
な平板状粒子ハロゲン化銀乳剤もまた有用である。
化銀乳剤は、例えば、臭化銀、塩化銀、沃化銀、塩臭化
銀、塩沃化銀、臭沃化銀又はそれらの混合物を含むこと
ができる。これらの乳剤は、100, 111又は 1
10結晶面により規制される粗の、中間の又は微細のハ
ロゲン化銀粒子を含むことができる。ハロゲン化銀乳剤
及びそれらの製造については、Research Di
sclosure I, Section Iに更に記
載されている。Research Disclosur
e , 1983年1月,Item 22534及び米
国特許第 4,425,426号に記載されているよう
な平板状粒子ハロゲン化銀乳剤もまた有用である。
【0032】本発明の実施に用いられる、ピラゾロアゾ
ールカプラー(又はかかるカプラーの混合物又は他のマ
ゼンタカプラーとの混合物)及び式(I)の競合剤(又
はかかる競合剤の混合物)は写真材料の親水性層中に、
当該技術分野で周知の技法により取り入れることができ
る。1つの普通の技法では、高沸点水非混和性有機溶媒
及び/又は界面活性剤を使用する。有用な有機溶媒とし
てはトリクレジルホスフェート類、ジ−n−ブチルフタ
レート及びResearch Disclosure
I, Section XIV に記載されている他の
ものが挙げられる。界面活性剤は当業者に周知であり、
Research Disclosure I, Se
ction XIに記載されている。溶媒及び界面活性
剤の混合物も用いてよい。
ールカプラー(又はかかるカプラーの混合物又は他のマ
ゼンタカプラーとの混合物)及び式(I)の競合剤(又
はかかる競合剤の混合物)は写真材料の親水性層中に、
当該技術分野で周知の技法により取り入れることができ
る。1つの普通の技法では、高沸点水非混和性有機溶媒
及び/又は界面活性剤を使用する。有用な有機溶媒とし
てはトリクレジルホスフェート類、ジ−n−ブチルフタ
レート及びResearch Disclosure
I, Section XIV に記載されている他の
ものが挙げられる。界面活性剤は当業者に周知であり、
Research Disclosure I, Se
ction XIに記載されている。溶媒及び界面活性
剤の混合物も用いてよい。
【0033】上記のハロゲン化銀は、特定波長域の放射
線、例えば、可視スペクトルの赤色部、青色部又は緑色
部に、又は他の波長域、例えば、紫外線、赤外線等に増
感することができる。好ましい実施態様においては、ピ
ラゾロアゾールカプラーと組み合せたハロゲン化銀乳剤
は、処理の際にカプラーにより形成される色素のマゼン
タカラーを補完するように、緑色光に分光増感させる。 ハロゲン化銀の化学増感は、化学増感剤、例えば、金化
合物、イリジウム化合物、又は他のVIII族金属化合
物を用いて達成することができる。分光増感は、分光増
感剤、例えば、シアニン色素、メロシアニン色素、スチ
リル、又は他の公知の分光増感剤を用いて達成される。 ハロゲン化銀の増感についての更なる情報はResea
rch Disclosure I, Section
I〜IVに記載されている。
線、例えば、可視スペクトルの赤色部、青色部又は緑色
部に、又は他の波長域、例えば、紫外線、赤外線等に増
感することができる。好ましい実施態様においては、ピ
ラゾロアゾールカプラーと組み合せたハロゲン化銀乳剤
は、処理の際にカプラーにより形成される色素のマゼン
タカラーを補完するように、緑色光に分光増感させる。 ハロゲン化銀の化学増感は、化学増感剤、例えば、金化
合物、イリジウム化合物、又は他のVIII族金属化合
物を用いて達成することができる。分光増感は、分光増
感剤、例えば、シアニン色素、メロシアニン色素、スチ
リル、又は他の公知の分光増感剤を用いて達成される。 ハロゲン化銀の増感についての更なる情報はResea
rch Disclosure I, Section
I〜IVに記載されている。
【0034】本発明の写真要素はカラー写真要素又は単
色光(モノクローム)写真要素であってよい。本発明に
よる多色写真要素は一般にイエロー色素形成性カプラー
と組み合わさった青感性ハロゲン化銀層、マゼンタ色素
形成性カプラーと組み合わさった緑感性層及びシアン色
素形成性カプラーと組み合わさった赤感性ハロゲン化銀
層を含んでなる。カラー写真要素及び色素形成性カプラ
ーは当該技術分野においてよく知られており、Rese
arch Disclosure I, Sectio
n VII に更に記載されている。
色光(モノクローム)写真要素であってよい。本発明に
よる多色写真要素は一般にイエロー色素形成性カプラー
と組み合わさった青感性ハロゲン化銀層、マゼンタ色素
形成性カプラーと組み合わさった緑感性層及びシアン色
素形成性カプラーと組み合わさった赤感性ハロゲン化銀
層を含んでなる。カラー写真要素及び色素形成性カプラ
ーは当該技術分野においてよく知られており、Rese
arch Disclosure I, Sectio
n VII に更に記載されている。
【0035】本発明要素はまた、Research D
isclosureI、に記載されているように、多く
の他の周知の添加物及び層の任意のものを含むことがで
きる。これらとしては、例えば、光学的蛍光増白剤、か
ぶり防止剤、酸化現像剤スキャベンジャー(式(I)に
よる競合剤と同一であってもよいし異っていてもよい)
、現像促進剤、画像安定剤、光吸収材料、例えば、フィ
ルター層又は中間粒子吸収剤、光散乱材料、ゼラチン硬
化剤、塗布助剤及び各種界面活性剤、オーバーコート層
、中間層及びバリア層、静電防止層、可塑剤及び潤滑剤
、マット剤、現像阻止剤−放出カプラー、漂白加速剤−
放出カプラー、並びに当該技術分野において公知の他の
添加物及び層が挙げられる。
isclosureI、に記載されているように、多く
の他の周知の添加物及び層の任意のものを含むことがで
きる。これらとしては、例えば、光学的蛍光増白剤、か
ぶり防止剤、酸化現像剤スキャベンジャー(式(I)に
よる競合剤と同一であってもよいし異っていてもよい)
、現像促進剤、画像安定剤、光吸収材料、例えば、フィ
ルター層又は中間粒子吸収剤、光散乱材料、ゼラチン硬
化剤、塗布助剤及び各種界面活性剤、オーバーコート層
、中間層及びバリア層、静電防止層、可塑剤及び潤滑剤
、マット剤、現像阻止剤−放出カプラー、漂白加速剤−
放出カプラー、並びに当該技術分野において公知の他の
添加物及び層が挙げられる。
【0036】本発明の写真要素は、露光されると処理さ
れて画像を生成する。処理は、Research Di
sclosure I, Section XIX〜
XXIVに記載されているように、任意のタイプの公知
の写真処理であってよい。ネガ画像はカラー現像剤を用
いてカラー現像により現像し、それに続いて漂白及び定
着をすることができる。ポジ画像は非カラー現像剤を用
いて第1現像により現像し、次に均一に要素をかぶらせ
、次にカラー現像剤で現像することにより現像すること
ができる。
れて画像を生成する。処理は、Research Di
sclosure I, Section XIX〜
XXIVに記載されているように、任意のタイプの公知
の写真処理であってよい。ネガ画像はカラー現像剤を用
いてカラー現像により現像し、それに続いて漂白及び定
着をすることができる。ポジ画像は非カラー現像剤を用
いて第1現像により現像し、次に均一に要素をかぶらせ
、次にカラー現像剤で現像することにより現像すること
ができる。
【0037】漂白及び定着はその目的に用いることが知
られている物質の任意のものを用いて行うことができる
。漂白浴は一般に酸化剤、例えば、鉄(III)(例え
ば、フェリシアン化カリウム、塩化第二鉄、鉄エチレン
ジアミン四酢酸のカリウム塩のアンモニウム)の水溶性
塩及び錯体、水溶性過硫酸塩(例えば、カリウム、ナト
リウム又はアンモニウムの過硫酸塩)、水溶性のジクロ
メート(例えば、カリウム、ナトリウム及びリチウムの
ジクロメート)等の水溶液を含んでなる。定着浴は一般
に、銀イオンと可溶性塩を形成する化合物、例えば、ナ
トリウムチオサルフェート、アンモニウムチオサルフェ
ート、カリウムチオシアネート、ナトリウムチオシアネ
ート、チオ尿素等を含んでなる。
られている物質の任意のものを用いて行うことができる
。漂白浴は一般に酸化剤、例えば、鉄(III)(例え
ば、フェリシアン化カリウム、塩化第二鉄、鉄エチレン
ジアミン四酢酸のカリウム塩のアンモニウム)の水溶性
塩及び錯体、水溶性過硫酸塩(例えば、カリウム、ナト
リウム又はアンモニウムの過硫酸塩)、水溶性のジクロ
メート(例えば、カリウム、ナトリウム及びリチウムの
ジクロメート)等の水溶液を含んでなる。定着浴は一般
に、銀イオンと可溶性塩を形成する化合物、例えば、ナ
トリウムチオサルフェート、アンモニウムチオサルフェ
ート、カリウムチオシアネート、ナトリウムチオシアネ
ート、チオ尿素等を含んでなる。
【0038】
【実施例】本発明を、次の例により更に説明する:例1
セルローストリアセテートフィルム支持体を、臭沃化銀
乳剤(0.81gAg/m2)、ゼラチン(2.16g
/m2)及びトリクレジルホスフェートの重量の半分に
分散させかつ1.84ミリモル/m2 で塗布された、
第I表に示したカプラーの1つを含有する感光性層で塗
布することにより写真要素を製造した。第I表の競合剤
の1つを塗布物に添加した場合には、同一の塗布におけ
るカプラーと比較して、第I表に列挙したような相対モ
ルレイダウン(laydown) で塗布した。この感
光層を、ゼラチン(2.16g/m2)及び1,1′−
〔メチレンビス(スルホニル)〕ビス−エテン(全ゼラ
チンを基にして1.75重量%)を含有する層でオーバ
ーコーティングした。
乳剤(0.81gAg/m2)、ゼラチン(2.16g
/m2)及びトリクレジルホスフェートの重量の半分に
分散させかつ1.84ミリモル/m2 で塗布された、
第I表に示したカプラーの1つを含有する感光性層で塗
布することにより写真要素を製造した。第I表の競合剤
の1つを塗布物に添加した場合には、同一の塗布におけ
るカプラーと比較して、第I表に列挙したような相対モ
ルレイダウン(laydown) で塗布した。この感
光層を、ゼラチン(2.16g/m2)及び1,1′−
〔メチレンビス(スルホニル)〕ビス−エテン(全ゼラ
チンを基にして1.75重量%)を含有する層でオーバ
ーコーティングした。
【0039】各要素試料を段階的濃度試験物体を介して
像様露光し、次いで4分の短縮第一現像で、標準Kod
ak E−6(登録商標)処理溶液及び処理方法を用い
て処理した。試料の光学的色素濃度曲線を1.0に近接
する濃度のパッチから 400nm〜700nm の範
囲に亘って測定し、次いで得られたデータをλmax
での1.0の濃度に標準化した。これらの曲線から、
430nmでの光学吸収を測定した。
像様露光し、次いで4分の短縮第一現像で、標準Kod
ak E−6(登録商標)処理溶液及び処理方法を用い
て処理した。試料の光学的色素濃度曲線を1.0に近接
する濃度のパッチから 400nm〜700nm の範
囲に亘って測定し、次いで得られたデータをλmax
での1.0の濃度に標準化した。これらの曲線から、
430nmでの光学吸収を測定した。
【0040】
【化11】
【0041】
【化12】
【0042】
【表1】
【0043】表に示されているように、本発明のカプラ
ーを本発明の競合剤と組み合せた場合だけ、スペクトル
の青色濃度域の望ましくない色素汚染の発生なしに、ス
ピードが増加した。
ーを本発明の競合剤と組み合せた場合だけ、スペクトル
の青色濃度域の望ましくない色素汚染の発生なしに、ス
ピードが増加した。
【発明の効果】本発明の写真要素は、放射線での露光に
応答してマゼンタ色素画像を与える。露光に対する写真
要素の応答は、従来技術のピラゾロアゾールカプラー含
有写真要素と比較して改良された閾スピードを示した。
応答してマゼンタ色素画像を与える。露光に対する写真
要素の応答は、従来技術のピラゾロアゾールカプラー含
有写真要素と比較して改良された閾スピードを示した。
Claims (1)
- 【請求項1】 支持体を含んでなる写真要素であって
、前記支持体がその上に、ハロゲン化銀乳剤層、前記ハ
ロゲン化銀乳剤と反応可能な状態で組み合されているピ
ラゾロアゾールカプラー、及び前記カプラーと反応可能
な状態で組み合されている、酸化現像剤についての競合
剤(competitor)であって、式:【化1】 前記式中、R1 は電子供与基を表し、R2 は水素、
アルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、ア
ラルキル又は式−NHR3(式中、R3 はフェニル又
はベンジルである)のアミノであり、ここで置換基R1
及びR2 の少くとも1つは、(a)アルカリ性処理
溶液で現像する前は前記ヒドラジド化合物を写真要素中
で非−拡散性とするのに十分な大きさの(1)バラスト
基を表し、かつ(b)極性基からなるという条件があり
、及びnは0,1又は2である、の競合剤、を有する写
真要素。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/529,290 US5164288A (en) | 1990-05-29 | 1990-05-29 | Photographic element containing pyrazoloazole coupler and oxidized developer competitor |
| US529290 | 1990-05-29 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04232946A true JPH04232946A (ja) | 1992-08-21 |
Family
ID=24109281
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3123682A Pending JPH04232946A (ja) | 1990-05-29 | 1991-05-28 | 写真要素 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5164288A (ja) |
| EP (1) | EP0459340A1 (ja) |
| JP (1) | JPH04232946A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012014954A1 (ja) | 2010-07-30 | 2012-02-02 | 富士フイルム株式会社 | 新規なアゾ化合物、水溶液、インク組成物、インクジェット記録用インク、インクジェット記録方法、インクジェット記録用インクカートリッジ、及びインクジェット記録物 |
| WO2012014955A1 (ja) | 2010-07-30 | 2012-02-02 | 富士フイルム株式会社 | 新規なアゾ化合物、水溶液、インク組成物、インクジェット記録用インク、インクジェット記録方法、インクジェット記録用インクカートリッジ、及びインクジェット記録物 |
| EP2455431A1 (en) | 2003-10-23 | 2012-05-23 | Fujifilm Corporation | Ink and ink set for inkjet recording |
| EP2712894A1 (en) | 2012-09-26 | 2014-04-02 | Fujifilm Corporation | Azo compound, aqueous solution, ink composition, ink for inkjet recording, inkjet recording method, ink cartridge for inkjet recording, and inkjet recorded material |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5629140A (en) * | 1995-01-17 | 1997-05-13 | Eastman Kodak Company | Photographic elements containing scavengers for oxidized developing agent |
| US5683853A (en) * | 1995-02-21 | 1997-11-04 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Silver halide color photographic material |
| EP4284804A1 (en) | 2021-01-26 | 2023-12-06 | Schrödinger, Inc. | Tricyclic compounds useful in the treatment of cancer, autoimmune and inflammatory disorders |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3605713A1 (de) * | 1986-02-22 | 1987-08-27 | Agfa Gevaert Ag | Farbfotografisches aufzeichnungsmaterial |
| JPS63153548A (ja) * | 1986-12-17 | 1988-06-25 | Konica Corp | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料 |
| EP0283041B1 (en) * | 1987-03-20 | 1992-10-07 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Direct positive silver halide photosensitive material and method for forming direct positive image |
| JPS6490444A (en) * | 1987-09-30 | 1989-04-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | Direct positive image forming method |
| DE3743006A1 (de) * | 1987-12-18 | 1989-06-29 | Agfa Gevaert Ag | Farbfotografisches silberhalogenidmaterial |
| JPH01193737A (ja) * | 1988-01-28 | 1989-08-03 | Konica Corp | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| US4923787A (en) * | 1988-04-21 | 1990-05-08 | Eastman Kodak Company | Photographic element containing scavenger for oxidized developing agent |
| DE68929026T2 (de) * | 1988-04-21 | 2000-01-27 | Eastman Kodak Co. (A New Jersey Corp.), Rochester | Photographisches Element, das einen Fänger für das Entwickleroxidationsprodukt enthält |
| JPH0786666B2 (ja) * | 1988-05-11 | 1995-09-20 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| DE68923591T2 (de) * | 1988-09-14 | 1996-03-28 | Eastman Kodak Co | Photographisches Aufzeichnungsmaterial mit Magenta-Kuppler und einem Chalcogenazoliumsalz. |
-
1990
- 1990-05-29 US US07/529,290 patent/US5164288A/en not_active Expired - Fee Related
-
1991
- 1991-05-27 EP EP91108562A patent/EP0459340A1/en not_active Withdrawn
- 1991-05-28 JP JP3123682A patent/JPH04232946A/ja active Pending
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| EP2455431A1 (en) | 2003-10-23 | 2012-05-23 | Fujifilm Corporation | Ink and ink set for inkjet recording |
| WO2012014954A1 (ja) | 2010-07-30 | 2012-02-02 | 富士フイルム株式会社 | 新規なアゾ化合物、水溶液、インク組成物、インクジェット記録用インク、インクジェット記録方法、インクジェット記録用インクカートリッジ、及びインクジェット記録物 |
| WO2012014955A1 (ja) | 2010-07-30 | 2012-02-02 | 富士フイルム株式会社 | 新規なアゾ化合物、水溶液、インク組成物、インクジェット記録用インク、インクジェット記録方法、インクジェット記録用インクカートリッジ、及びインクジェット記録物 |
| EP2712894A1 (en) | 2012-09-26 | 2014-04-02 | Fujifilm Corporation | Azo compound, aqueous solution, ink composition, ink for inkjet recording, inkjet recording method, ink cartridge for inkjet recording, and inkjet recorded material |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5164288A (en) | 1992-11-17 |
| EP0459340A1 (en) | 1991-12-04 |
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