JPH0424364B2 - - Google Patents
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- JPH0424364B2 JPH0424364B2 JP2229917A JP22991790A JPH0424364B2 JP H0424364 B2 JPH0424364 B2 JP H0424364B2 JP 2229917 A JP2229917 A JP 2229917A JP 22991790 A JP22991790 A JP 22991790A JP H0424364 B2 JPH0424364 B2 JP H0424364B2
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- formula
- hydrogen atom
- resin
- solvent
- alkyl group
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- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Description
産業上の利用分野
本発明は、新規な高分子四級塩の製造方法に関
するものであり、更に詳しくはイミダゾリウム塩
を主鎖に有する新規な高分子四級塩の製造方法に
関するものである。 本発明の方法により製造される新規な高分子四
級塩は、合成樹脂の改質剤、織物後処理剤、紙処
理剤、凝集剤、帯電防止剤、洗剤・化粧品・シヤ
ンプー等の助剤、防腐剤、抗菌剤・コレステロー
ル低下剤等の医薬としての応用等が期待されるも
のである。 従来の技術と発明が解決しようとする課題 従来、高分子四級塩としてアンモニウム塩、ピ
リニジウム塩を有する高分子等が知られている。 しかし、この種の高分子四級塩は高分子の熱安
定性が劣るため、使用時、特に加熱される場合に
おいて著しく不快なアミン臭を発し、作業環境を
悪化させたり、あるいは改良すべき材料の品質を
低下させる等の欠点を有していた。 本発明者らは、この様な従来品の欠点を克服す
べく鋭意研究を重ね本発明を完成した。 本発明
は、高分子四級塩の無臭化および耐熱性の改良を
はかり、重合体に臭気がなく、かつ加熱を必要と
する使用時においても不快臭のない新規な高分子
四級塩の製造方法を提供するものである。 発明の構成 本発明は、下記式（） （式中、R1水素原子、C1〜17のアルキル基また
はC6〜8のアリール基を、R2およびR3は同一また
は異なる置換基で水素原子またはC1〜3のアルキ
ル基を、R4は水素原子またはメチル基を、Ｘは
ハロゲン原子を、ｎは２以上の整数をそれぞれ表
わす） で示される新規な高分子四級塩の製造方法を提供
するものである。 本発明の方法により製造される高分子四級塩の
前記式（）中で用いられるR1は水素原子、メ
チル、エチル、プロピル、ヘキシル、ウンデシ
ル、ヘプタデシル基等のC1〜17のアルキル基また
はフエニル、トリル、キシリル基等のC6〜8のア
リール基、R2およびR3は同一または異なる置換
基で水素原子またはメチル、エチル、プロピル基
等のC1〜3のアルキル基、R4は水素原子またはメ
チル基、Ｘは塩素、臭素等のハロゲン原子から選
んで用いられる。これらの中でも特に好ましい高
分子四級塩の具体例は、次記の構造を有するもの
である。
するものであり、更に詳しくはイミダゾリウム塩
を主鎖に有する新規な高分子四級塩の製造方法に
関するものである。 本発明の方法により製造される新規な高分子四
級塩は、合成樹脂の改質剤、織物後処理剤、紙処
理剤、凝集剤、帯電防止剤、洗剤・化粧品・シヤ
ンプー等の助剤、防腐剤、抗菌剤・コレステロー
ル低下剤等の医薬としての応用等が期待されるも
のである。 従来の技術と発明が解決しようとする課題 従来、高分子四級塩としてアンモニウム塩、ピ
リニジウム塩を有する高分子等が知られている。 しかし、この種の高分子四級塩は高分子の熱安
定性が劣るため、使用時、特に加熱される場合に
おいて著しく不快なアミン臭を発し、作業環境を
悪化させたり、あるいは改良すべき材料の品質を
低下させる等の欠点を有していた。 本発明者らは、この様な従来品の欠点を克服す
べく鋭意研究を重ね本発明を完成した。 本発明
は、高分子四級塩の無臭化および耐熱性の改良を
はかり、重合体に臭気がなく、かつ加熱を必要と
する使用時においても不快臭のない新規な高分子
四級塩の製造方法を提供するものである。 発明の構成 本発明は、下記式（） （式中、R1水素原子、C1〜17のアルキル基また
はC6〜8のアリール基を、R2およびR3は同一また
は異なる置換基で水素原子またはC1〜3のアルキ
ル基を、R4は水素原子またはメチル基を、Ｘは
ハロゲン原子を、ｎは２以上の整数をそれぞれ表
わす） で示される新規な高分子四級塩の製造方法を提供
するものである。 本発明の方法により製造される高分子四級塩の
前記式（）中で用いられるR1は水素原子、メ
チル、エチル、プロピル、ヘキシル、ウンデシ
ル、ヘプタデシル基等のC1〜17のアルキル基また
はフエニル、トリル、キシリル基等のC6〜8のア
リール基、R2およびR3は同一または異なる置換
基で水素原子またはメチル、エチル、プロピル基
等のC1〜3のアルキル基、R4は水素原子またはメ
チル基、Ｘは塩素、臭素等のハロゲン原子から選
んで用いられる。これらの中でも特に好ましい高
分子四級塩の具体例は、次記の構造を有するもの
である。
【表】
【表】
これらの置換基で特定される高分子四級塩の分
子量は水溶性である限り特に制限はないが、好ま
しくはｎが２以上、好ましくは２〜5000の高分子
四級塩である。 本発明の高分子四級塩の製造方法は、下記式
（） （式中、R1は水素原子、C1〜17のアルキル基ま
たはC6〜8のアリール基を、R2およびR3は同一ま
たは異なる置換基で水素原子またはC1〜3のアル
キル基をそれぞれ表わす） で示されるイミダゾール類を下記式（） （式中、R4は水素原子またはメチル基を、Ｘ
はハロゲン原子をそれぞれ表わす）で示されるハ
ロメチルオキシラン化合物と反応させる方法であ
る。 上記製造方法に用いられる前記式（）で示さ
れるイミダゾール類としては、イミダゾール、２
−エチルイミダゾール、２−メチルイミダゾー
ル、２−プロピルイミダゾール、２−フエニルイ
ミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、２−
ヘプタデシルイミダゾール、２−エチル−４−メ
チルイミダゾール、２，４−ジメチルイミダゾー
ル、２−フエニル−４−メチルイミダゾールなど
が挙げられる。また、前記式（）で示されるハ
ロメチルオキシラン化合物としては、エピクロル
ヒドリン、β−メチルエピクロルヒドリン、エピ
ブロムヒドリンなどが挙げられる。 反応溶媒としては、水が用いられ、このことに
より高分子量体を得ることができる。 反応モル比は、イミダゾール類１モルに対して
ハロメチルオキシラン化合物0.5〜2.0モルが用い
られ特に0.9〜1.1モルが好ましい。 反応温度は30〜150℃が用いられるが特に50〜
120℃が好ましい。30℃未満では反応速度が遅く、
120℃を越えると副反応が起りやすいので好まし
くない。 反応時間は２〜30時間が適当である。 反応方法は溶媒として水を使用する場合、ハロ
メチルオキシラン化合物をイミダゾール類の水溶
液中に滴下するのが好ましいが、同時に仕込むこ
ともできる。反応終了時、得られた粘稠な反応液
をエタノール、アセトン等の本発明の方法により
製造される高分子四級塩の貧溶媒中に注ぐことに
より白色粉末状の高分子四級塩を得ることができ
る。 実施例 （製造例 １） イミダゾール30g（0.441モル）を水60mlに溶か
し300mlの四ツ口フラスコに入れた。次にエピク
ロルヒドリン40.8g（0.441モル）を滴下ロートに
より50℃で２時間かけて加えた後、100℃に昇温
しこの温度で14時間反応を行なつた。得られた粘
稠な反応液を200mlのエタノール中に注ぎ重合体
を析出させた。別後、洗浄を行ない減圧乾燥に
より白色粉末樹脂（樹脂Ａとする）68.6gを得た。 得られた上記樹脂を分析して以下の結果を得
た。 (1) 赤外線吸収スペクトル特性吸収位置（KBr
法、単位cm-1） 3400、2040、1620、1560、1440、1340、1160、
1100、760、630 (2) プロトン核磁気共鳴スペクトル特性吸収位置
（溶媒：D2Ｏ、単位δ（ppm）） 3.9〜4.4（ｍ，
5H，
子量は水溶性である限り特に制限はないが、好ま
しくはｎが２以上、好ましくは２〜5000の高分子
四級塩である。 本発明の高分子四級塩の製造方法は、下記式
（） （式中、R1は水素原子、C1〜17のアルキル基ま
たはC6〜8のアリール基を、R2およびR3は同一ま
たは異なる置換基で水素原子またはC1〜3のアル
キル基をそれぞれ表わす） で示されるイミダゾール類を下記式（） （式中、R4は水素原子またはメチル基を、Ｘ
はハロゲン原子をそれぞれ表わす）で示されるハ
ロメチルオキシラン化合物と反応させる方法であ
る。 上記製造方法に用いられる前記式（）で示さ
れるイミダゾール類としては、イミダゾール、２
−エチルイミダゾール、２−メチルイミダゾー
ル、２−プロピルイミダゾール、２−フエニルイ
ミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、２−
ヘプタデシルイミダゾール、２−エチル−４−メ
チルイミダゾール、２，４−ジメチルイミダゾー
ル、２−フエニル−４−メチルイミダゾールなど
が挙げられる。また、前記式（）で示されるハ
ロメチルオキシラン化合物としては、エピクロル
ヒドリン、β−メチルエピクロルヒドリン、エピ
ブロムヒドリンなどが挙げられる。 反応溶媒としては、水が用いられ、このことに
より高分子量体を得ることができる。 反応モル比は、イミダゾール類１モルに対して
ハロメチルオキシラン化合物0.5〜2.0モルが用い
られ特に0.9〜1.1モルが好ましい。 反応温度は30〜150℃が用いられるが特に50〜
120℃が好ましい。30℃未満では反応速度が遅く、
120℃を越えると副反応が起りやすいので好まし
くない。 反応時間は２〜30時間が適当である。 反応方法は溶媒として水を使用する場合、ハロ
メチルオキシラン化合物をイミダゾール類の水溶
液中に滴下するのが好ましいが、同時に仕込むこ
ともできる。反応終了時、得られた粘稠な反応液
をエタノール、アセトン等の本発明の方法により
製造される高分子四級塩の貧溶媒中に注ぐことに
より白色粉末状の高分子四級塩を得ることができ
る。 実施例 （製造例 １） イミダゾール30g（0.441モル）を水60mlに溶か
し300mlの四ツ口フラスコに入れた。次にエピク
ロルヒドリン40.8g（0.441モル）を滴下ロートに
より50℃で２時間かけて加えた後、100℃に昇温
しこの温度で14時間反応を行なつた。得られた粘
稠な反応液を200mlのエタノール中に注ぎ重合体
を析出させた。別後、洗浄を行ない減圧乾燥に
より白色粉末樹脂（樹脂Ａとする）68.6gを得た。 得られた上記樹脂を分析して以下の結果を得
た。 (1) 赤外線吸収スペクトル特性吸収位置（KBr
法、単位cm-1） 3400、2040、1620、1560、1440、1340、1160、
1100、760、630 (2) プロトン核磁気共鳴スペクトル特性吸収位置
（溶媒：D2Ｏ、単位δ（ppm）） 3.9〜4.4（ｍ，
5H，
【式】）
7.37（ｓ，2H，
【式】）
8.71（ｓ，1H，
【式】）
(3) 13Ｃ−核磁気共鳴スペクトル特性吸収位置
（溶媒：D2Ｏ、単位δ（ppm）） 51.97（Ｃ−４，６）
（溶媒：D2Ｏ、単位δ（ppm）） 51.97（Ｃ−４，６）
【式】
67.72（Ｃ−５）
123.04（Ｃ−２，３）
136.86（Ｃ−１）
(4) 元素分析
【表】
(5) 固有粘度〔η〕（溶媒：水、25℃）
0.72
以上の結果から樹脂Ａは、
なる構造を有するものであることが判る。
（なお、式中、核磁気共鳴スペクトルデータよ
り算出したｎの値は31である。） （製造例 ２） ２−メチルイミダゾール41g（0.5モル）を水60
mlに溶かし300mlの四つ口フラスコに入れた。次
にエピクロルヒドリン46.3g（0.5モル）を滴下ロ
ートにより、50℃で２時間かけて加えた後、100
℃に昇温しこの温度で14時間反応を行なつた。製
造例１と同様な後処理を行ない83.9gの白色粉末
状樹脂（樹脂Ｂとする）を得た。 得られた上記樹脂を製造例１と同様に分析して
以下の結果を得た。 (1) 赤外線吸収スペクトル特性吸収位置（KBr
法、単位cm-1） 3400、2050、1620、1580、
1520、1420、1340、1260、1180、1100、1030、
870、760、660 (2) プロトン核磁気共鳴スペクトル特性吸収位置
（溶媒：D2Ｏ、単位δ（ppm）） 2.52（ｓ、3H、
CH3） 4.0〜4.4（ｍ、5H、
り算出したｎの値は31である。） （製造例 ２） ２−メチルイミダゾール41g（0.5モル）を水60
mlに溶かし300mlの四つ口フラスコに入れた。次
にエピクロルヒドリン46.3g（0.5モル）を滴下ロ
ートにより、50℃で２時間かけて加えた後、100
℃に昇温しこの温度で14時間反応を行なつた。製
造例１と同様な後処理を行ない83.9gの白色粉末
状樹脂（樹脂Ｂとする）を得た。 得られた上記樹脂を製造例１と同様に分析して
以下の結果を得た。 (1) 赤外線吸収スペクトル特性吸収位置（KBr
法、単位cm-1） 3400、2050、1620、1580、
1520、1420、1340、1260、1180、1100、1030、
870、760、660 (2) プロトン核磁気共鳴スペクトル特性吸収位置
（溶媒：D2Ｏ、単位δ（ppm）） 2.52（ｓ、3H、
CH3） 4.0〜4.4（ｍ、5H、
【式】）
7.32（ｓ、2H、
【式】）
(3) 13Ｃ−核磁気共鳴スペクトル特性吸収位置
（溶媒：D2Ｏ、単位δ（ppm）） 9.53（Ｃ−７） 50.45（Ｃ−４、６） 68.16（Ｃ−５） 121.63（Ｃ−２、３） 145.81（Ｃ−１）
（溶媒：D2Ｏ、単位δ（ppm）） 9.53（Ｃ−７） 50.45（Ｃ−４、６） 68.16（Ｃ−５） 121.63（Ｃ−２、３） 145.81（Ｃ−１）
【式】
(4) 元素分析
【表】
(5) 固有粘度〔η〕（溶媒：水、25℃）
1.00
以上の結果から本製造例で得られた樹脂Ｂは、
なる構造を有するものであることが判る。
（なお、式中、核磁気共鳴スペクトルデータよ
り算出したｎの値は35である。） （製造例 ３） ２−フエニルイミダゾール63.5g（0.44モル）を
水100mlに一部分溶けた状態で分散させ300mlの四
ツ口フラスコに入れた。次にエピクロルヒドリン
40.8g（0.44モル）を滴下ロートにより50℃で２時
間かけて加えた後、100℃に昇温しこの温度で16
時間反応を行なつた。製造例１と同様な後処理を
行ない99.7gの白色粉末状樹脂（樹脂Ｃとする）
を得た。 この樹脂を製造例１と同様に分析した。 (1) 赤外線吸収スペクトル特性吸収位置（KBr
法、単位：cm-1） 3400、3200、1620、1600、
1580、1500、1470、1430、1260、1170、1100、
1030、870、770、690 (2) プロトン核磁気共鳴スペクトル特性吸収位置
（溶媒：D2Ｏ、単位：δ（ppm）） 3.6〜3.9（ｍ、5H、
り算出したｎの値は35である。） （製造例 ３） ２−フエニルイミダゾール63.5g（0.44モル）を
水100mlに一部分溶けた状態で分散させ300mlの四
ツ口フラスコに入れた。次にエピクロルヒドリン
40.8g（0.44モル）を滴下ロートにより50℃で２時
間かけて加えた後、100℃に昇温しこの温度で16
時間反応を行なつた。製造例１と同様な後処理を
行ない99.7gの白色粉末状樹脂（樹脂Ｃとする）
を得た。 この樹脂を製造例１と同様に分析した。 (1) 赤外線吸収スペクトル特性吸収位置（KBr
法、単位：cm-1） 3400、3200、1620、1600、
1580、1500、1470、1430、1260、1170、1100、
1030、870、770、690 (2) プロトン核磁気共鳴スペクトル特性吸収位置
（溶媒：D2Ｏ、単位：δ（ppm）） 3.6〜3.9（ｍ、5H、
【式】）
7.10（ｄ、2H、
【式】）
7.34（ｓ、2H，
【式】）
7.40（ｍ、2H、
【式】）
7.56（ｍ、1H、
【式】）
(3) 13Ｃ−核磁気共鳴スペクトル特性吸収位置
（溶媒：D2Ｏ、単位δ（ppm）） 50.53（Ｃ−４、６） 67.35（Ｃ−５） 119.67（Ｃ−７） 122.40（Ｃ−２、３） 129.63（Ｃ−８、12） 129.83（Ｃ−９、11） 132.77（Ｃ−10） 145.35（Ｃ−１）
（溶媒：D2Ｏ、単位δ（ppm）） 50.53（Ｃ−４、６） 67.35（Ｃ−５） 119.67（Ｃ−７） 122.40（Ｃ−２、３） 129.63（Ｃ−８、12） 129.83（Ｃ−９、11） 132.77（Ｃ−10） 145.35（Ｃ−１）
【式】
(4) 元素分析
【表】
(5) 固有粘度〔η〕（溶媒：水、25℃）
0.41
以上の結果から樹脂Ｃは、
なる構造を有するものであることが判る。
（なお、式中、核磁気共鳴スペクトルにより算
出したｎの値は23である。） （製造例 ４） ２−ウンデシルイミダゾール97.9g（0.44モル）
を水120mlに一部分溶けた状態で分散させ300mlの
四ツ口フラスコに入れた。次にエピクロルヒドリ
ン40.8g（0.44モル）を滴下ロートにより50℃で２
時間かけて加えた後、100℃に昇温しこの温度で
16時間反応を行なつた。製造例１と同様な後処理
を行ない134.7gの白色粉末状樹脂（樹脂Ｄとす
る）を得た。 この樹脂を製造例１と同様に分析した。 (1) 赤外線吸収スペクトル特性吸収位置（KBr
法、単位：cm-1） 3400、3200、2900、2850、1620、1580、1520、
1460、1440、1370、1260、1180、1100、870、
760、720 (2) プロトン核磁気共鳴スペクトル特性吸収位置
（溶媒：D2Ｏ、単位δ（ppm）） 0.7〜1.4（ｍ、23H、C11H23） 3.7〜4.4（ｍ、5H、
出したｎの値は23である。） （製造例 ４） ２−ウンデシルイミダゾール97.9g（0.44モル）
を水120mlに一部分溶けた状態で分散させ300mlの
四ツ口フラスコに入れた。次にエピクロルヒドリ
ン40.8g（0.44モル）を滴下ロートにより50℃で２
時間かけて加えた後、100℃に昇温しこの温度で
16時間反応を行なつた。製造例１と同様な後処理
を行ない134.7gの白色粉末状樹脂（樹脂Ｄとす
る）を得た。 この樹脂を製造例１と同様に分析した。 (1) 赤外線吸収スペクトル特性吸収位置（KBr
法、単位：cm-1） 3400、3200、2900、2850、1620、1580、1520、
1460、1440、1370、1260、1180、1100、870、
760、720 (2) プロトン核磁気共鳴スペクトル特性吸収位置
（溶媒：D2Ｏ、単位δ（ppm）） 0.7〜1.4（ｍ、23H、C11H23） 3.7〜4.4（ｍ、5H、
【式】）
7.38（ｓ、2H、
【式】）
(3) 13Ｃ−核磁気共鳴スペクトル特性吸収位置
（溶媒：D2Ｏ、単位δ（ppm）） 13.56、22.34 26.35、28.71 29.25、31.76（Ｃ−C11） 50.79（Ｃ−４、６） 68.24（Ｃ−５） 121.89（Ｃ−２、３） 210.83（Ｃ−１）
（溶媒：D2Ｏ、単位δ（ppm）） 13.56、22.34 26.35、28.71 29.25、31.76（Ｃ−C11） 50.79（Ｃ−４、６） 68.24（Ｃ−５） 121.89（Ｃ−２、３） 210.83（Ｃ−１）
【式】
(4) 元素分析
【表】
(5) 固有粘度〔η〕（溶媒：水、25℃）
0.27
以上の結果から樹脂Ｄは、
なる構造を有するものであることが判る。
（なお、式中、核磁気共鳴スペクトルデータに
より算出したｎの値は12である。） （製造例 ５） ２−エチル−４−メチルイミダゾール48.6g
（0.44モル）を水60mlに溶かし300mlの四ツ口フラ
スコに入れた。次にエピクロルヒドリン40.8g
（0.44モル）を滴下ロートにより50℃で２時間か
けて加えた後、100℃に昇温しこの温度で14時間
反応を行なつた。製造例１と同様な後処理を行な
い89.3gの白色粉末状樹脂（樹脂Ｅとする）を得
た。 この樹脂を製造例１と同様に分析した。 (1) 赤外吸収スペクトル特性吸収位置（KBr法、
単位：cm-1） 3400、3000、2050、1630、1520、1450、1390、
1240、1180、1100、1060、880、780 (2) プロトン核磁気共鳴スペクトル特性吸収位置
（溶媒：D2Ｏ、単位δ（ppm）） 1.09（ｓ、3H、−CH2CH3） 2.14（ｓ、3H、−CH3） 2.92（brd、2H、−CH2CH3） 4.1〜4.6（ｍ、5H、
より算出したｎの値は12である。） （製造例 ５） ２−エチル−４−メチルイミダゾール48.6g
（0.44モル）を水60mlに溶かし300mlの四ツ口フラ
スコに入れた。次にエピクロルヒドリン40.8g
（0.44モル）を滴下ロートにより50℃で２時間か
けて加えた後、100℃に昇温しこの温度で14時間
反応を行なつた。製造例１と同様な後処理を行な
い89.3gの白色粉末状樹脂（樹脂Ｅとする）を得
た。 この樹脂を製造例１と同様に分析した。 (1) 赤外吸収スペクトル特性吸収位置（KBr法、
単位：cm-1） 3400、3000、2050、1630、1520、1450、1390、
1240、1180、1100、1060、880、780 (2) プロトン核磁気共鳴スペクトル特性吸収位置
（溶媒：D2Ｏ、単位δ（ppm）） 1.09（ｓ、3H、−CH2CH3） 2.14（ｓ、3H、−CH3） 2.92（brd、2H、−CH2CH3） 4.1〜4.6（ｍ、5H、
【式】）
7.09（ｓ、1H、
【式】）
(3) 13Ｃ−核磁気共鳴スペクトル特性吸収位置
（溶媒：D2Ｏ、単位δ（ppm）） 8.67（Ｃ−８）、 10.65（Ｃ−９）、 16.82（Ｃ−７）、 47.63（Ｃ−４） 49.96（Ｃ−６） 67.67（Ｃ−５） 118.43（Ｃ−３） 130.78（Ｃ−２） 149.13（Ｃ−１）
（溶媒：D2Ｏ、単位δ（ppm）） 8.67（Ｃ−８）、 10.65（Ｃ−９）、 16.82（Ｃ−７）、 47.63（Ｃ−４） 49.96（Ｃ−６） 67.67（Ｃ−５） 118.43（Ｃ−３） 130.78（Ｃ−２） 149.13（Ｃ−１）
【式】
(4) 元素分析
【表】
(5) 固有粘度〔η〕（溶媒：水、25℃）
0.20
以上の結果から樹脂Ｅは、
なる構造を有することが判る。
（なお、式中、核磁気共鳴スペクトルデータよ
り算出したｎの値は15である。） （耐熱性試験例） 本発明樹脂の方法により製造される高分子四級
塩の耐熱性を調べるため前記製造例１及び２で得
られた樹脂Ａ及びＢと市販高分子四級塩（アルド
リツチ社製ポリジアリルジメチルアンモニウムク
ロライド）について示差熱天秤装置（理学電機
製、恒温型示差熱天秤8002H型）を用いて熱減量
を次の条件で測定した。 雰囲気：空気中 昇温速度：10℃／分 結果を第１図に示す。 図から明らかなように、本発明の方法により製
造される高分子四級塩は300℃迄ほとんど重量減
が認められなかつた。 一方、市販高分子四級塩は、100℃位から重量
減少が認められ、300℃で約17％の熱減量がある
ことがわかる。
り算出したｎの値は15である。） （耐熱性試験例） 本発明樹脂の方法により製造される高分子四級
塩の耐熱性を調べるため前記製造例１及び２で得
られた樹脂Ａ及びＢと市販高分子四級塩（アルド
リツチ社製ポリジアリルジメチルアンモニウムク
ロライド）について示差熱天秤装置（理学電機
製、恒温型示差熱天秤8002H型）を用いて熱減量
を次の条件で測定した。 雰囲気：空気中 昇温速度：10℃／分 結果を第１図に示す。 図から明らかなように、本発明の方法により製
造される高分子四級塩は300℃迄ほとんど重量減
が認められなかつた。 一方、市販高分子四級塩は、100℃位から重量
減少が認められ、300℃で約17％の熱減量がある
ことがわかる。
第１図は、本発明の方法により製造される高分
子四級塩と従来品との耐熱性を示す熱天秤チヤー
トである。
子四級塩と従来品との耐熱性を示す熱天秤チヤー
トである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 下記式（） （式中、R1は水素原子、C1〜17のアルキル基ま
たはC6〜8のアリール基を、R2およびR3は同一ま
たは異なる置換基で水素原子またはC1〜3のアル
キル基を、R4は水素原子またはメチル基を、Ｘ
はハロゲン原子を、ｎは２〜5000の整数をそれぞ
れ表わす） で示される新規な高分子四級塩を製造するにあた
り、下記式（） （式中、R1は水素原子、C1〜17のアルキル基ま
たはC6〜8のアリール基を、R2およびR3は同一ま
たは異なる置換基で水素原子またはC1〜3のアル
キル基をそれぞれ表わす） で示されるイミダゾール類を下記式（） （式中、R4は水素原子またはメチル基を、Ｘ
はハロゲン原子をそれぞれ表わす）で示されるハ
ロメチルオキシラン化合物と水性溶媒中で反応さ
せることを特徴とする前記式（）で示される新
規な高分子四級塩の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2229917A JPH03277631A (ja) | 1990-08-31 | 1990-08-31 | 新規な高分子四級塩の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2229917A JPH03277631A (ja) | 1990-08-31 | 1990-08-31 | 新規な高分子四級塩の製造方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1190283A Division JPS59138228A (ja) | 1983-01-27 | 1983-01-27 | 新規な高分子四級塩 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03277631A JPH03277631A (ja) | 1991-12-09 |
| JPH0424364B2 true JPH0424364B2 (ja) | 1992-04-24 |
Family
ID=16899766
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2229917A Granted JPH03277631A (ja) | 1990-08-31 | 1990-08-31 | 新規な高分子四級塩の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03277631A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007114792A1 (en) * | 2006-04-05 | 2007-10-11 | Agency For Science, Technology And Research | Polymeric salts and polymeric metal complexes |
| EP2134694A4 (en) * | 2007-03-12 | 2011-02-09 | Univ Mcgill | IONIC IMIDAZOLE OLIGOMERS |
| US8268157B2 (en) | 2010-03-15 | 2012-09-18 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Plating bath and method |
| US8262895B2 (en) | 2010-03-15 | 2012-09-11 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Plating bath and method |
| US20110220512A1 (en) | 2010-03-15 | 2011-09-15 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Plating bath and method |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5332344A (en) * | 1976-09-08 | 1978-03-27 | Tokyo Shibaura Electric Co | Zinc alkali storage battery |
-
1990
- 1990-08-31 JP JP2229917A patent/JPH03277631A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03277631A (ja) | 1991-12-09 |
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