JPH04251449A - 光記録媒体および光記録ディスク用基板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光記録媒体、特にコン
パクトディスク対応のライト・ワンス型の光記録ディス
クと、光記録ディスク用基板とに関する。

【０００２】

【従来の技術】基板上に反射層を有する光情報媒体とし
て、例えば、コンパクトディスク（以下、ＣＤと略称す
る）規格に対応して追記ないし記録を行なうことのでき
る光記録ディスクが提案されている（日経エレクトロニ
クス１９８９年１月２３日号，Ｎｏ．４６５，Ｐ１０７
、社団法人近畿化学協会機能性色素部会，１９８９年３
月３日，大阪科学技術センター、ＳＰＩＥ　　ｖｏｌ　
　１０７８　　ＯｐｔｉｃａｌＤａｔａ　　Ｓｔｏｒａ
ｇｅ　　Ｔｏｐｉｃａｌ　　Ｍｅｅｔｉｎｇ，　　８０
　　１９８９等）。

【０００３】このものは、透明樹脂基板上に、色素層、
Ａｕ反射層および保護膜をこの順に設層して形成される
。すなわち、反射層を色素層に密着して設けるものであ
る。従来は、色素層にピットを形成するために色素層上
に空気層を設けていたが、この提案では、反射層を色素
層に密着して設ける密着型であるので、ＣＤ規格のディ
スク全厚１．２ｍｍの構成が可能となっている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかし、Ａｕ等の金属
製反射膜を密着して積層すると、記録感度が低下し、ま
た十分なＣ／Ｎが得られないことが判明した。

【０００５】本発明の主たる目的は、記録層上に反射層
を積層した密着型の光記録媒体において、記録感度を向
上し、Ｃ／Ｎを向上させることにある。また、他の目的
は、高い記録感度とＣ／Ｎとを得ることのできる光記録
ディスク用基板を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）〜（８）の本発明によって達成される。

【０００７】（１）樹脂製の基板上に記録層を有し、こ
の記録層上に反射層を有し、前記基板は、記録層側表層
部に、熱軟化点１４０℃以下のスキン層を有することを
特徴とする光記録媒体。

【０００８】（２）前記基板は、射出成形によって形成
されているディスク状基板である上記（１）に記載の光
記録媒体。

【０００９】（３）前記熱軟化点が１００〜１４０℃で
ある上記（１）または（２）に記載の光記録媒体。

【００１０】（４）前記記録層は色素を含有する上記（
１）ないし（３）のいずれかに記載の光記録媒体。

【００１１】（５）前記基板は、前記スキン層の熱軟化
点と、この熱軟化点より１０℃以上高い第２の熱軟化点
とを有する上記（１）ないし（４）のいずれかに記載の
光記録媒体。

【００１２】（６）前記基板は、環状ポリオレフインま
たはポリカーボネート製である上記（１）ないし（５）
のいずれかに記載の光記録媒体。

【００１３】（７）前記反射層上に保護膜を有する上記
（１）ないし（６）のいずれかに記載の光記録媒体。

【００１４】（８）表層部に熱軟化点１４０℃以下のス
キン層を有することを特徴とする光記録ディスク用基板
。

【００１５】

【作用】本発明の、基板は、基板内記録層側表層部に、
熱軟化点１４０℃以下のスキン層を形成する。この結果
、記録感度およびＣ／Ｎは臨界的に向上する。

【００１６】このような効果が臨界的に発現する理由の
詳細については必ずしも明らかではないが、以下のよう
な理由によるものであると考えられる。

【００１７】すなわち、ピット形成に際しては、記録層
を形成する色素等の分解物が生成する。そして、この分
解物生成の際には圧力が発生する。この際、基板表層部
の熱軟化点を規制すると、基板表層部は容易かつ速やか
に変形する。また、ピット面積も大面積化し、しかもピ
ット境界部の形状も良好なものとなる。この結果、高い
記録感度とＳ／Ｎ比が得られるものであると考えられる
。

【００１８】

【具体的構成】以下、本発明の具体的構成について詳細
に説明する。

【００１９】本発明の光記録媒体の好適例が図２に示さ
れる。この光記録媒体１は、基板２上に、色素を含有す
る記録層３を有し、記録層３に密着して、反射層４、保
護膜５を形成した密着型の光記録ディスクである。

【００２０】基板２は、記録光および再生光（６００〜
９００ｎｍ程度、特に７００〜８００ｎｍ程度の半導体
レーザー光、特に７８０ｎｍ）に対し、実質的に透明（
好ましくは透過率８０％以上）な樹脂あるいはガラスか
ら形成される。これにより、基板裏面側からの記録およ
び再生が可能となる。基板２は、通常のサイズのディス
ク状であって、ＣＤとして用いる場合、厚さは１．２ｍ
ｍ程度、直径は８０ないし１２０ｍｍ程度とする。

【００２１】この場合、基板材質としては樹脂を用いる
。樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂
、ポリオレフィン等の各種熱可塑性樹脂が好適である。

【００２２】このような基板２の記録層設層側の表層部
にはスキン層が存在し、このスキン層の熱軟化点は、１
４０℃以下、特に１００〜１４０℃、より好ましくは１
００〜１３５℃、さらに好ましくは１１０〜１３５℃で
ある。熱軟化点が１４０℃をこえると、記録感度が低下
し、Ｃ／Ｎが劣化してしまう。また、１００℃未満とな
ると、例えば反射層積層時の耐熱性に問題が生じたり、
寸法精度が低下してきたりする。

【００２３】この場合、表層部のスキン層の熱軟化点と
は、下記のように測定された温度である。まず、被検基
板の上に針を置いて、５ｇ程度の荷重を加え、昇温速度
２℃／ｍｉｎ程度で、３０℃程度から昇温していって、
針の進入量を測定する。針の断面は直径１ｍｍ程度の円
柱形とする。

【００２４】このように測定される温度と針進入量との
関係が図１に示される。図１に示されるように、本発明
の基板では、針進入量の温度特性プロファイルにおいて
、第１の屈曲点と第２の屈曲点とが生じる。

【００２５】例えば、注型基板や、ある種の射出成形基
板では、針進入量の温度特性には１つの屈曲点しか現わ
れないか、あるいは第１の屈曲点はわずかにしか現われ
ない。また、第１の屈曲点によって生じる１段目の針進
入量は、概ね２００μｍ程度以下である。従って、これ
らから第１の屈曲点は、基板表層のスキン層の軟化点に
由来するものと考えられる。

【００２６】そこで、温度特性プロファイルの第１の屈
曲点近傍にて、針進入前の直線部と、１段目の進入時の
直線部との交点をＴ１とし、これをスキン層の熱軟化点
Ｔ１と定義する。そして、本発明では、このＴ１を前記
のとおり規制するものである。

【００２７】一方、第２の屈曲点近傍においても、１段
目の進入時と２段目の進入時との直線部の交点をＴ２と
し、これを第２の熱軟化点Ｔ２と定義する。この第２の
熱軟化点Ｔ２は、基板中心部での熱軟化点であると考え
られる。

【００２８】そして、この第２の熱軟化点Ｔ２は、第１
の熱軟化点Ｔ１より１０℃以上、より好ましくは１０〜
５０℃高い温度であり、１４０℃以上、特に１４５〜１
８０℃の温度であると好ましい。これにより、寸法精度
や機械的特性や耐熱性等がすぐれたものとなる。

【００２９】なお、スキン層は、基板表層部断面のＳＥ
Ｍ像からも、周囲と色の異なる層として確認でき、その
厚さは、一般に１〜２００μｍ、特に１０〜１００μｍ
程度であると考えられる。また、前記の針進入量の温度
特性プロファイルは、ＴＭＡ（熱機械分析装置、サーモ
メカニカルアナライザー）として市販されている各種装
置、例えばデュポン社製９４３熱機械分折装置等によっ
て測定すればよい。

【００３０】このようなスキン層を形成するには、特に
環状ポリオレフィンや、ポリカーボネートを用いて射出
成形によって基板を形成することが好ましい。

【００３１】環状ポリオレフィンとしては、下記化１を
くり返し構造単位とする環状ポリオレフィンである。

【００３２】

【化１】

【００３３】化１において、Ｒ１およびＲ２は、炭化水
素残基であるが、特に、炭素数１〜５の非置換のアルキ
ル基であることが好ましい。

【００３４】用いる環状ポリオレフィンは、このような
化２のくり返し単位のみからなるホモポリマーであるこ
とが好ましいが、Ｒ１、Ｒ２の異なる化１のくり返し単
位の複数からなるコポリマーであってもよい。そして、
その数平均分子量は、１万〜１０万、特に２万〜５万で
あることが好ましい。

【００３５】このような環状ポリオレフィンは、別途常
法に従い重合を行なって用いてもよく、また、例えば日
本ゼオン社製Ｚｅｏｎｅｘ　　２８０等として市販され
ているものを用いてもよい。

【００３６】また、環状ポリオレフィンとしては、特開
平２−２５７４４６号等に記載された下記化２の環状オ
レフィンとエチレンとの共重合体の好ましくはブレンド
体も好適である。

【００３７】

【化２】

【００３８】さらに、ポリカーボネートとしては、数平
均分子量８０００〜１３０００程度のものや、末端にエ
ステル結合をもつもの、例えば三菱ガス化学社製Ｈ−４
５００等が好ましい。

【００３９】そして、これらは、例えば注型したとき、
前記の第２の熱軟化点Ｔ２をもつものとする。

【００４０】このような樹脂を用いて、射出成形時にス
キン層を形成するには、射出圧を２５０〜４００Ｋｇ／
ｃｍ２、程度に設定することが好ましい。そして、溶融
温度は３００〜４００℃程度、金型温度は８０〜１２０
℃程度とし、その他、保圧や型締力等は通常の条件とす
ればよい。

【００４１】なお、必要に応じ、基板２の外表面や、外
周面等に酸素遮断性の被膜を形成してもよい。

【００４２】基板２の記録層３形成面には、トラッキン
グ用のグルーブ２３が形成されることが好ましい。グル
ーブ２３は、スパイラル状の連続型グルーブであること
が好ましく、深さは２５０〜１８００Ａ、幅は０．２〜
１．１μｍ、特に０．３〜０．６μｍ、ランド（隣り合
うグルーブ同士の間の部分）幅は０．５〜１．４μｍ、
特に１．０〜１．３μｍであることが好ましい。グルー
ブをこのような構成とすることにより、グルーブ部の反
射レベルを下げることなく、良好なトラッキング信号を
得ることができる。なお、グルーブには、アドレス信号
用の凹凸を設けることもできる。

【００４３】本発明では、基板２がグルーブを有する場
合、記録光はグルーブ２３内の記録層３に照射されるよ
う構成されることが好ましい。すなわち、本発明の光記
録媒体は、グルーブ記録の光記録媒体として用いられる
ことが好ましい。グルーブ記録とすることにより、記録
層の有効厚さを大きくすることができる。

【００４４】記録層３は、１種あるいは２種以上の色素
を相溶して形成される。

【００４５】この場合、光吸収色素にクエンチャーを混
合してもよく、さらに、色素カチオンとクエンチャーア
ニオンとのイオン結合体を光吸収色素として用いてもよ
い。

【００４６】記録層３の記録光および再生光波長におけ
る消衰係数（複素屈折率の虚部）ｋは、０．０３〜０．
２５であることが好ましい。ｋが０．０３未満となると
記録層の吸収率が低下し、通常の記録パワーで記録を行
うことが困難となってくる。また、ｋが０．２５をこえ
ると、反射率が６０％を下回ってきて、ＣＤ規格による
再生を行うことが困難となってくる。

【００４７】また、屈折率（複素屈折率の実部）ｎは、
１．８〜４．０、より好ましくは、２．２〜３．３であ
ることが好ましい。ｎ＜１．８では反射率が低下し、Ｃ
Ｄ規格による再生が困難となる傾向にある。また、ｎ＞
４．０とするためには、原料色素の入手が難しい。

【００４８】ｎおよびｋの測定に際しては、所定の透明
基板上に、記録層を例えば４００〜１０００Ａ程度の厚
さに実際の条件にて設層して、測定サンプルを作製する
。次いで、基板を通しての、あるいは記録層側からの反
射率を測定する。反射率は記録再生光波長を用いて鏡面
反射（５°程度）にて測定する。また、サンプルの透過
率を測定する。これらの測定値から、例えば、共立全書
「光学」石黒浩三Ｐ１６８〜１７８に準じ、ｎ、ｋを算
出すればよい。

【００４９】用いる光吸収性の色素としては、吸収極大
が６００〜９００ｎｍ、好ましくは６００〜８００ｎｍ
、より好ましくは６５０〜７５０ｎｍであれば、他に特
に制限はないが、シアニン系、フタロシアニン系、ナフ
タロシアニン系、アントラキノン系、アゾ系、トリフェ
ニルメタン系、ピリリウムないしチアピリリウム塩系、
スクワリリウム系、クロコニウム系、金属錯体色素系等
の１種ないし２種以上が好ましい。シアニン色素として
は、インドレニン環、特にベンゾインドレニン環を有す
るシアニン色素であることが好ましい。

【００５０】記録層３の設層方法には特に制限がなく、
例えば、各種溶媒等を用いて塗布によって設層したり、
蒸着等公知の方法を用いればよい。この他、記録層は、
他の無機膜であってもよい。

【００５１】記録層３の厚さは、５００〜２０００Ａと
することが好ましい。この範囲外では反射率が低下して
、ＣＤ規格の再生を行うことが難しくなってくる。

【００５２】このような記録層３には、直接密着して反
射層４が設層される。反射層４には、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ
等の高反射率金属ないし合金を用いればよい。

【００５３】反射層４の厚さは５００Ａ以上であること
が好ましく、蒸着、スパッタ等により設層すればよい。 また、厚さの上限に特に制限はないが、コスト、生産作
業時間等を考慮すると、１２００Ａ程度以下であること
が好ましい。これにより、反射層４単独での反射率は、
９０％以上、媒体の未記録部の基板をとおしての反射率
は、６０％以上、特に７０％以上がえられる。

【００５４】反射層４上には、保護膜５が設層されるこ
とが好ましい。保護膜５は、例えば紫外線硬化樹脂等の
各種樹脂材質から、通常は、０．１〜１００μｍ程度の
厚さに設層すればよい。保護膜５は、層状であってもシ
ート状であってもよい。保護膜５は、特に放射線硬化型
化合物および光重合増感剤を含有する塗膜を放射線硬化
したものであることが好ましい。

【００５５】そして、保護膜５の硬度が、２５℃におけ
る鉛筆硬度（ＪＩＳ　　Ｋ−５４００）で、Ｈ〜８Ｈ、
特に２Ｈ〜７Ｈであるように構成されることが好ましい
。

【００５６】このように構成することにより、アイパタ
ーンが良好になり、ジッターが格段と減少する。また、
高温・高湿あるいは温湿度変化条件下の保存においても
、保護膜と反射層との剥離が生じない。より具体的には
、保護膜の硬度がＨより軟らかいとアイパターンが乱れ
、ジッターが増大し、８Ｈより硬くなると塗膜がもろく
なり膜形成能が低下する他、反射層との接着力が低下す
る。

【００５７】このような保護膜形成に用いる放射線硬化
型化合物には、オリゴエステルアクリレートが含まれる
ことが好ましい。オリゴエステルアクリレートは、アク
リレート基またはメタクリレート基を複数有するオリゴ
エステル化合物である。そして好ましいオリゴエステル
アクリレートとしては、分子量１０００〜１００００、
好ましくは２０００〜７０００であって、重合度２〜１
０、好ましくは、３〜５のものが挙げられる。また、こ
れらのうちアクリレート基またはメタクリレート基を２
〜６個、好ましくは３〜６個有する多官能オリゴエステ
ルアクリレートが好ましい。また、上記の化合物に加え
て、あるいはこれにかえて熱可塑性樹脂を放射線感応変
性することによって得られる放射線硬化型化合物を用い
てもよい。

【００５８】このような放射線硬化型化合物の保護膜の
膜厚は０．１〜３０μｍ、より好ましくは１〜１０μｍ
である。この膜厚が０．１μｍ未満になると、一様な膜
を形成しにくく、湿度が高い雰囲気中での防湿効果が十
分でなく、記録層の耐久性が下がる。しかも、ジッター
防止効果が低下する。また、３０μｍをこえると、樹脂
膜の硬化の際に伴う収縮により記録媒体の反りや保護膜
中のクラックが生じやすい。

【００５９】このような塗膜は、通常、スピンナーコー
ト、グラビア塗布、スプレーコート、ディッピング等、
種々の公知の方法を組み合わせて設層すればよい。この
時の塗膜の設層条件は、塗膜組成の混合物の粘度、目的
とする塗膜厚さ等を考慮して適宜決定すればよい。

【００６０】本発明において塗膜に照射する放射線とし
ては、紫外線、電子線等が挙げられるが、紫外線が好ま
しい。紫外線を用いる場合には、前述したような放射線
硬化型化合物の中には、通常、光重合増感剤が加えられ
る。

【００６１】光重合増感剤としては、例えば、ベンゾイ
ンメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、α−メ
チルベンゾイン、α−クロルデオキシベンゾイン等のベ
ンゾイン系、ベンゾフェノン、アセトフェノン、モルホ
リノジメチルメチル−４−メチルチオフェニルケトン、
ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケトン類、ア
ントラキノン、フェナントラキノン等のキノン類、ベン
ジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモノスルフィ
ド等のスルフィド類等を挙げることができる。

【００６２】そして、このような光重合増感剤と放射線
硬化型化合物を含有する塗膜を紫外線によって硬化させ
るには、公知の種々の方法に従えばよい。たとえば、キ
セノン放電管、水銀放電管などの紫外線電球等を用いれ
ばよい。また、場合によっては電子線を用いることもで
きる。

【００６３】このような構成の光記録媒体１に記録ない
し追記を行なうには、例えば７８０ｎｍの記録光を、基
板２をとおしてパルス状に照射する。

【００６４】これにより、記録層３が光を吸収して発熱
し、同時に基板２も加熱される。この結果、基板２と記
録層３との界面近傍において、色素等の記録層材質の融
解や分解が生じ、記録層３と基板２との界面に圧力が加
わり、グルーブ２３の底壁や側壁を変形させる。

【００６５】この場合記録層３の融解物や分解物を含有
する分解物層６１が、通常グルーブ２３の底部および基
板２との境界を覆うような形状に残存する。しかも、基
板表層部は所定の熱軟化点をもつので、分解物層６１は
、さらに凸状に基板側に侵入し、ピット部６の形状はよ
り大きく形成される。基板２のへこみ量は、ピット部６
の寸法が大きい程大きく、３００Ａ程度以下の深さであ
る。

【００６６】分解物層６１の材質は、実質的に基板材質
を含まない材質であり、記録層材質の分解物あるいは記
録層材質の分解物と、記録層材質との混合物によって構
成される。分解物層６１は、グルーブ内の記録層３の厚
さの通常３０〜１００％程度の厚さである。そして、通
常、分解物層６１上には、反射層との界面に空隙６３が
形成され、分解物層６１と、空隙６３とがピット部６に
形成される。空隙６３は、記録層３の厚さの通常５〜７
０％程度の厚さである。

【００６７】また、ピット部の外形形状や、凹形状も良
好なものである。そして、その結果、ピット形状が大き
くなるとともに良好となり、Ｃ／Ｎが向上するものであ
る。

【００６８】なお、記録光のパワーは５〜９ｍＷ程度、
基板回転線速度は１．２〜１．４ｍ／Ｓ程度とする。

【００６９】このようにして、微小記録部ないしピット
部６を形成したのち、例えば７８０ｎｍの再生光を、基
板２をとおして照射すると、ピット部６により未記録部
やランド部２１との間に反射光の位相差を生じ、再生反
射レベルが未記録部分の６０％以下、特に５０％以下、
さらには４０％以下に低下する。

【００７０】一方、未記録部では、６０％以上、特に７
０％以上の高反射率を示しているので、ＣＤ規格による
再生が可能となる。再生光のパワーは、０．１〜２ｍＷ
程度とする。

【００７１】

【実施例】以下、本発明の具休的実施例を挙げ、本発明
をさらに詳細に説明する。

【００７２】［実施例１］前記化１において、Ｒ１＝Ｒ
２＝エチルの１，４−ジメチレン−２，３−ジエチルシ
クロペンタンをくり返し単位とし、分子量２９，０００
の環状ポリオレフィンのペレットを得た。これを３５０
℃にて溶融し、金型温度１００℃、射出圧３５０Ｋｇ／
ｃｍ２で射出成形し、１２０ｍｍ径、厚さ１．２ｍｍの
基板サンプルＮｏ．１を得た。

【００７３】基板の熱軟化点を、ＴＭＡにて下記のよう
に測定した。

【００７４】針断面：１ｍｍ径円柱 荷重：５ｇ 昇温速度：２℃／ｍｉｎ

【００７５】上記条件にて、針進入量の温度プロファイ
ルを測定し、第１および第２の熱軟化点Ｔ１、Ｔ２を算
出した。表１に使用基板のＴ１、Ｔ２を示す。また、こ
の基板のＳＥＭ像から、スキン層の厚さは１００μｍ程
度以下であると考えられた。

【００７６】この基板上に色素を含有する記録層を設層
した。記録層に含有される色素を下記に示す。

【００７７】

【化３】

【００７８】記録層の設層は、基板を５００ｒｐｍで回
転させながら、スピンコート塗布により行なった。塗布
溶液としては、３．５ｗｔ％シクロヘキサノンの溶液を
用いた。乾燥後の色素層の厚さはグルーブ部で１４００
Ａ、ランド部で９００Ａであった。

【００７９】記録層に含有される色素およびその含有量
比はＡ１が６０ｗｔ％、Ａ２が３０ｗｔ％、一重項酸系
クエンチャーが１０ｗｔ％であり、記録層の屈折率（ｎ
）は２、６、消衰係数（ｋ）は、０．０６であった。ｎ
およびｋは、上記色素を含有する溶液を測定用基板上に
乾燥膜厚１０００Ａに成膜して被検記録層とし、この被
検記録層のｎおよびｋを測定することにより求めた。な
お、この測定は、「光学」（石黒浩三著、共立全書）第
１６８〜１７８ページの記載に準じて行なった。

【００８０】さらにこの記録層上に、スパッタリングに
よりＡｕ膜を１０００Ａ厚に設層して反射層とし、さら
に、オリゴエステルアクリレートを含有する紫外線硬化
型樹脂を塗布した後、紫外線硬化して５μｍ厚の保護膜
とし、光記録ディスクサンプルを得た。

【００８１】保護膜は、下記の放射線硬化型化合物およ
び光重合増感剤を含む塗布組成物をスピンナーコートで
設層した。

【００８２】（塗布組成物）多官能オリゴエステルアク
リレート［オリゴエステルアクリレート（３官能以上）
３０重量％、トリメチルプロパンアクリレート７０重量
％、商品名アロニックスＭ−８０３０；東亜合成社製］
　　　　　　　　１００重量部 光重合増感剤（前記化合物Ａ：商品名ＩＲＧＡＣＵＲＥ
９０７；日本チバガイギー社製）　　　　　　５重量部

【００８３】このような塗布組成物を設層後、１２０Ｗ
／ｃｍの紫外線を１５ｓｅｃ照射し架橋硬化させ、硬化
膜とした。この膜の鉛筆硬度は２Ｈであった。

【００８４】得られた各サンプルに対し、感度を測定し
た。感度の測定は、ＣＤ信号としてＥＦＭ変調信号によ
り記録を行ない、再生ＨＦ信号のアイパターンからアシ
ンメトリーが−５％となる記録パワーをもって記録感度
とした。結果を表１に示す。

【００８５】

【表１】

【００８６】次いで、波長７８０ｎｍ、７ｍＷのレーザ
ーにてコンパクトディスク信号の記録を行ない、次いで
市販のコンパクトディスクプレーヤで再生を行なったと
ころ、良好な結果を得た。

【００８７】なお、各サンプルとも未記録部で７０％以
上の反射率が得られ、記録部の反射率は未記録部の反射
率の４０％以下であり、しかもジッターの少ないもので
あった。

【００８８】実施例２ 実施例１における環状ポリオレフィン基板の代わりに、
数平均分子量１１，０００のビスフェノール系ポリカー
ボネートを用い、これを射出圧３００ｋｇ／ｃｍ２溶解
温度３３０℃、金型温度９５℃にて射出成形を行なった
基板サンプルＮｏ．２を作製し、実施例１と同様にディ
スクサンプルを得た。結果を表１に併記する。このもの
も良好なＣ／Ｎおよびジッター特性を示した。

【００８９】比較例１ 実施例２のポリカーボネートの数平均分子量を１５，０
００、射出圧を３００ｋｇ／ｃｍ２、溶融温度を３４０
℃、金型温度を１００℃とした他は、同様にディスクサ
ンプルを作製した。結果を表１に併記する。

【００９０】比較例２ 実施例２のポリカーボネートの数平均分子量を１７，０
００、射出圧を３００ｋｇ／ｃｍ２、溶融温度を３５０
℃、金型温度を１０５℃とした他は同様にディスクサン
プルを作製した。結果を表１に併記する。

【００９１】表１に示される結果から、本発明の効果が
明らかである。

【００９２】なお、前記化２の環状ポリオレフィンのブ
レンド体を用いて、実施例１と同様の射出成形を行ない
、スキン層を形成したところ、ほぼ同等の結果が得られ
た。

【００９３】

【発明の効果】本発明の光記録媒体によれば、高い記録
感度とＣ／Ｎとを得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光記録媒体の熱軟化点を説明するため
のグラフである。

【図２】本発明の光記録媒体の１例を示す部分断面図で
ある。

【符号の説明】

１　　光記録媒体 ２　　基板 ２１　　ランド部 ２３　　グルーブ ２４　　基板ピット部 ３　　記録層 ４　　反射層 ５　　保護膜 ６　　ピット部 ６１　　分解物層 ６３　　空隙 Ｔ１　　第１の熱軟化点 Ｔ２　　第２の熱軟化点

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　樹脂製の基板上に記録層を有し、この
   記録層上に反射層を有し、前記基板は、記録層側表層部
   に、熱軟化点１４０℃以下のスキン層を有することを特
   徴とする光記録媒体。
2. 【請求項２】　　前記基板は、射出成形によって形成さ
   れているディスク状基板である請求項１に記載の光記録
   媒体。
3. 【請求項３】　　前記熱軟化点が１００〜１４０℃であ
   る請求項１または２に記載の光記録媒体。
4. 【請求項４】　　前記記録層は色素を含有する請求項１
   ないし３のいずれかに記載の光記録媒体。
5. 【請求項５】　　前記基板は、前記スキン層の熱軟化点
   と、この熱軟化点より１０℃以上高い第２の熱軟化点と
   を有する請求項１ないし４のいずれかに記載の光記録媒
   体。
6. 【請求項６】　　前記基板は、環状ポリオレフィンまた
   はポリカーボネート製である請求項１ないし５のいずれ
   かに記載の光記録媒体。
7. 【請求項７】　　前記反射層上に保護膜を有する請求項
   １ないし６のいずれかに記載の光記録媒体。
8. 【請求項８】　　表層部に熱軟化点１４０℃以下のスキ
   ン層を有することを特徴とする光記録ディスク用基板。