JPH0426122A - 水洗浄後の高集積度ワークの乾燥方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は水洗浄後の高集積度ワークの乾燥方法及び装置
に係わり、更に詳しくは低い露点を持つ乾燥空気を利用
することによって、その乾燥速度をより早くすることが
できる水洗浄後の高集積度ワークの乾燥方法及び装置に
関する。

〔従来の技術〕

周知の通り１表面に他の部材が搭載又は実装されていて
、その単位面積当りの密度が高い高集積度ワークは、そ
の性質上汚れやほこり等の付着を嫌う為、しばしば水洗
浄が行われている。そして上記水洗浄後の高集積度ワー
クの各部材の密着部分には水分が残留しており、そのま
ま放置しておくと、腐食等の不具合が生じるので、それ
を防止する為に高集積度ワークを水洗浄した後、密着部
分に残留している水分を除去し、乾燥させる必要がある
。そしてその為に従来は水洗浄後の高集積度ワークを熱
風にさらすことにより、密着部分に残留している水分を
加熱し、蒸発させることによって除去し、水洗浄後の高
集積度ワークを乾燥させるものであった・ 〔発明が解決しようとする課題〕 上記従来の技術は、水洗浄後の高集積度ワークの密着部
分に残留している水分を熱風によって加熱し、蒸発させ
るものであるが、高集積度ワーク自体及び密着部分に残
留している水分がある程度の湿度に達しないと水分が蒸
発しないので、乾燥に長時間を要してしまうという不具
合が生じており、またそれを補う為に熱風の温度を高く
することは、高集積度ワークの耐熱性の面を考慮すると
必ずしも好ましいものではなく、よって水洗浄後の高集
積度ワークの乾燥時間を短くすることは困難であった。

〔発明の目的〕

よって本発明の目的とする所は上述の如き従来の技術の
有する問題点を解決するものであって、水洗浄後の高集
積度ワークの密着部分に残留している水分を短時間で除
去でき、よって水洗浄後の高集積度ワークの乾燥が短時
間で行える水洗浄後の高集積度ワークの乾燥方法及び装
置を提供することにある。

〔課題を解決する為の手段〕

上記目的を達成する為に本発明は次の技術的手段を有す
る。即ち実施例に対応する添付図面に使用した符号を用
いて説明すると、水洗浄後の高集積度ワークを密閉した
部屋に閉じ込め、その状態で上記密閉した部屋内に低い
露点を持つ乾燥空気を通し、上記水洗浄後の高集積度ワ
ークの密着部分に残留している水分を上記低い露点を持
つ乾燥空気中に水蒸気化させて除去し、水洗浄後の高集
積度ワークを乾燥させることを特徴とする水洗浄後の高
集積度ワークの乾燥方法であり、順次送られてくる水洗
浄後の高集積度ワーク１の１つ又は複数を開いた状態で
入れることができ、その１つ又は複数を１つの単位ごと
に閉じ込める様に構成された乾燥装置本体２より成り、
上記乾燥装置本体２の中に低い露点を持つ乾燥空気を供
給、排気できる手段を持つことを特徴とする水洗浄後の
高集積度ワークの乾燥装置である。

〔作用〕

本発明は上記技術的手段より成るので、水洗浄後の高集
積度ワークは、密閉された部屋に閉じ込められた後、低
い露点を持つ乾燥空気にさらされる。このとき密着部分
に残留している水分は、上記低い露点を持つ乾燥空気に
接触することにより水蒸気化していくので残留している
水分の表面から次々と水蒸気化して蒸発していくことと
なり、よって低い露点を持つ乾燥空気を密閉した部屋内
に通した瞬間から水洗浄後の高集積度ワークの密着部分
に残留している水分の除去が行われるので、水洗浄後の
高集積度ワークの乾燥が速やかに行われ、乾燥時間を短
縮することができるものである。そして、順次送られて
くる１つ又は複数の水洗浄後の高集積度ワーク１を１つ
又は複数の１単位ごとに収容できる様構成した乾燥装置
本体２に低い露点を持つ乾燥空気を供給、排気できる手
段を設けることにより、上述の如き水洗浄後の高集積度
ワークｌの乾燥を行うことができる水洗浄後の高集積度
ワークの乾燥装置を提供できるものであり、しかも上記
水洗浄後の高集積度ワークの乾燥は短時間で行えるので
、順次送られてくる水洗浄後の高集積度ワークｌを効率
よく乾燥させることができるものである。

〔実施例〕

以下、本発明の実施例を添付図面に基づき詳細に説明す
る。

第１図、第２図に示した様に、水洗浄後の高集積度ワー
クｌの乾燥装置は、乾燥装置本体２とコンベア部１５よ
り成り、上記乾燥装置本体２は−Ｅブタ３と下受皿４よ
り構成されており、上記上ブタ３にはスリット５が設け
られており、低い露点を持つ乾燥空気を供給、排気する
為の乾燥空気供給口８及び乾燥空気排気口９と連接して
いることにより、乾燥空気の供給、排気状態を良好なも
のとしている。さらに上記Ｌブタ３の」一方にはスライ
ド軸６が設けられており、スライド軸６をシリンダー等
によって上下動させることにより乾燥装置本体２の開閉
を行うものである。そして、上記コンベア部１５は、コ
ンベア架台１４と上記コンベア架台１４に設けられた軸
受１１に支持され搬送用コロ１０を配設した軸１２より
成り、上記軸１２の一方端に設けられたスプロケット１
３をチェーンを介して回転させることにより水洗浄後の
高集積度ワークｌを搬送するものである。

次にその使用例を説明する。

コンベア部１５によって搬送されてきた水洗浄後の高集
積度ワークｌは乾燥装置本体２内に収容される位置で一
旦停止させられ、上ブタ３が下降してくることによって
第３図に示した様に乾燥装置本体２内に閉じ込められる
。このとき、」１記乾燥装置本体２は下受皿４及びコン
ベア架台１４に設けられたＯリング７によって完全に密
閉される。そして低い露点を持つ乾燥空気を乾燥空気供
給口８から供給し、乾燥空気排気口９から排気すること
によって水洗浄後の高集積度ワークｌを低い露点を持つ
乾燥空気にさらし、密着部分に残留している水分を除去
するものである。そして、上記低い露点を持つ乾燥空気
は、密着部分に残留している水分に接触した際、その接
触面から次々に水分を水蒸気化させて除去していくので
短時間で残留水分の除去ができ乾燥を終了させることが
できるものである。更に、このとき、上記低い露点を持
つ乾燥空気はスリット５を介して供給、排気されるので
、乾燥装置本体２内を充分に循環、対流することができ
、より効率よく残留水分の除去が行われるものである。

そして、上記低い露点を持つ乾燥空気として、露点が一
３０℃の乾燥空気を用いることにより、水洗浄後の高集
積度ワーク１の乾燥が短時間で行えることに加えて、比
較的容易に乾燥空気を得ることができるものである。

そして、水洗浄後の高集積度ワーク１の乾燥が終了後−
Ｌブタ３を上方へ移動させ、乾燥装置本体２を開放し、
高集積度ワークｌを図中矢印り方向へ移動させ、水洗浄
後の高集積度ワーク１の乾燥作業が終了する。そしてＬ
記動作を繰り返すことによってｊ順次送られてくる水洗
浄後の高集積度ワークｌの乾燥を行うものである。尚、
本実施例では高集積度ワーク１として電気・電子部品を
実装したプリント基板の場合を示したがこれに限らず、
その搬送方法もコンベア方式の場合を示したがこれに限
られるものではない。

〔効果〕

以上詳述した如く、本発明によると次の様な効果を奏す
る。

即ち請求項第１項によると、水洗浄後の高集積度ワーク
を密閉した部屋に閉じ込めると共に、低い露点を持つ乾
燥空気にさらし、低い露点を持つ乾燥空気が水分と接触
した際、その水分を接触部位すなわち表面から水蒸気と
して次々と除去して行く性質を利用することによって熱
風では短時間に除去し得なかった水洗浄後の高集積度ワ
ークの密着部分の残留水分を短時間で除去することがで
きるものである。そして請求項第２項によると。

上記低い露点を持つ乾燥空気の霜点を一３０℃とするこ
とによって水洗浄後の高集積度ワークの乾燥が短時間で
行えると共に、比較的容易に乾燥空気を？’）ることが
できるものである、さらに請求項第３項によると、順次
送られてくる１つ又は複数の水洗浄後の高集積度ワーク
を１つ又は複数の１単位ごとに収容できる様、構成した
乾燥装置本体２に低い露点を持つ乾燥空気を供給、排気
できる手段を設けることによって短時間に、しかも効率
良く水洗浄後の高集積度ワークの乾燥を行える水洗浄後
の高集積度ワークの乾燥装置を提供できる。

加えて請求項第４項によると低い霜点を持つ乾燥空気の
露点を一３０℃とすることによって、水洗浄後の高集積
度ワークの乾燥が短時間で行えると共に比較的容易に乾
燥空気を得ることができるものである。

【図面の簡単な説明】

添付図面は本発明の実施例を示しており、第１図は乾燥
装置の構成を示す全体断面図、第２図は第１図に於ける
Ａ−Ａ　′線に沿う断面図を示しており、第３図は、第
２ｒ！！Ｊに於て、乾燥装置本体を密閉した状態を示す
断面図を示している。 尚、図中符号は、 １　、、、、高集積度ワーク　　２　、、、、乾燥装置
本体３　、、、、上ブタ　　　　　　４　、、、、下受
皿５　、、、、スリット　　　　　　６　、、、、スラ
イド軸７、、、．０リング ８　、、、、乾燥空気供給口 ９　、、、、乾燥空気排気口　　１０．、、、搬送用コ
ロ１１、、、、軸受　　　　　　　１２．、、、軸１３
・・・・スプロケット　　　１４．、、、コンベア架台
１５、、、、コンベア部 をそれぞれ示す。 代理人　　　弁理士　　　池　　１）　　宏男 図

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）水洗浄後の高集積度ワークを密閉した部屋に閉じ
   込め、その状態で上記密閉した部屋内に低い露点を持つ
   乾燥空気を通し、上記水洗浄後の高集積度ワークの密着
   部分に残留している水分を上記低い露点を持つ乾燥空気
   中に水蒸気化させて除去し、水洗浄後の高集積度ワーク
   を乾燥させることを特徴とする水洗浄後の高集積度ワー
   クの乾燥方法。
2. （２）上記低い露点を持つ乾燥空気の露点が−３０℃で
   あることを特徴とする請求項第１項記載の水洗浄後の高
   集積度ワークの乾燥方法。
3. （３）順次送られてくる水洗浄後の高集積度ワーク１の
   １つ又は複数を開いた状態で入れることができ、その１
   つ又は複数を１つの単位ごとに閉じ込める様に構成され
   た乾燥装置本体２より成り、上記乾燥装置本体２の中に
   低い露点を持つ乾燥空気を供給、排気できる手段を持つ
   ことを特徴とする水洗浄後の高集積度ワークの乾燥装置
   。
4. （４）上記乾燥装置本体２中に供給、排気される低い露
   点を持つ乾燥空気の露点が−３０℃であることを特徴と
   する請求項第３項記載の水洗浄後の高集積度ワークの乾
   燥装置。