JPH0428098B2 - - Google Patents
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- JPH0428098B2 JPH0428098B2 JP58021709A JP2170983A JPH0428098B2 JP H0428098 B2 JPH0428098 B2 JP H0428098B2 JP 58021709 A JP58021709 A JP 58021709A JP 2170983 A JP2170983 A JP 2170983A JP H0428098 B2 JPH0428098 B2 JP H0428098B2
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- JP
- Japan
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- exposed
- weight
- photosensitive layer
- parts
- sulfonic acid
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/022—Quinonediazides
- G03F7/0226—Quinonediazides characterised by the non-macromolecular additives
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は湿し水不要平版印刷版に関するもので
あり、支持体上に、特に選ばれた感光層とシリコ
ーンゴム層を塗設した湿し水不要平版印刷版に関
するものである。
あり、支持体上に、特に選ばれた感光層とシリコ
ーンゴム層を塗設した湿し水不要平版印刷版に関
するものである。
従来のオフセツト方式による平版印刷では、湿
し水の組成、供給量等とインキのバランスが印刷
結果に大きな影響を及ぼすため、湿し水の供給に
ついて非常に高度な技術が要求される。このため
オフセツト印刷を専らとする業界では、湿し水が
不要な平版印刷版の出現が久しく待望されてい
た。
し水の組成、供給量等とインキのバランスが印刷
結果に大きな影響を及ぼすため、湿し水の供給に
ついて非常に高度な技術が要求される。このため
オフセツト印刷を専らとする業界では、湿し水が
不要な平版印刷版の出現が久しく待望されてい
た。
近年、この要求を満たすものとして、数多くの
水なし平版印刷版に関する提案がなされている。
水なし平版印刷版に関する提案がなされている。
たとえば、特開昭55−59466号公報および特開
昭55−110249号公報にはノボラツク樹脂のナフト
キノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エス
テルを感光層とした湿し水不要平版印刷版が開示
されている。この印刷版はシリコーンゴム層を浸
透し、露光部のカルボン酸化合物に変化した部分
を溶解する溶媒を含浸させた布、ブラシ等で表面
をこすり、露光部の感光層を溶解するとともに、
上部のシリコーン層を剥ぎとる方法で現像を行な
つている。しかしながら、その現像速度は十分で
なく、またその速度にばらつきがあり、とくに乾
燥雰囲気に保存された場合に現像速度が著しく低
下するため、現像条件の管理が困難であるという
欠点があつた。
昭55−110249号公報にはノボラツク樹脂のナフト
キノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エス
テルを感光層とした湿し水不要平版印刷版が開示
されている。この印刷版はシリコーンゴム層を浸
透し、露光部のカルボン酸化合物に変化した部分
を溶解する溶媒を含浸させた布、ブラシ等で表面
をこすり、露光部の感光層を溶解するとともに、
上部のシリコーン層を剥ぎとる方法で現像を行な
つている。しかしながら、その現像速度は十分で
なく、またその速度にばらつきがあり、とくに乾
燥雰囲気に保存された場合に現像速度が著しく低
下するため、現像条件の管理が困難であるという
欠点があつた。
本発明者らは上述のような問題点を解決すべく
鋭意検討した結果、感光層として、(a)エステル化
率35〜65%のノボラツク樹脂のナフトキノン−
1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステルまた
は4−スルホン酸エステル100重量部と、(b)水酸
基当量(水酸基1個当りの分子量)200以下で常
温では実質的に不揮発性の水酸基含有有機化合物
10〜150重量部からなる感光層を用いると、現像
速度が速く、またその速度にばらつきがなく、し
かも乾燥雰囲気に保存された場合にも現像速度が
ほとんど変化しないことを見出し本発明をなすに
到つた。
鋭意検討した結果、感光層として、(a)エステル化
率35〜65%のノボラツク樹脂のナフトキノン−
1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステルまた
は4−スルホン酸エステル100重量部と、(b)水酸
基当量(水酸基1個当りの分子量)200以下で常
温では実質的に不揮発性の水酸基含有有機化合物
10〜150重量部からなる感光層を用いると、現像
速度が速く、またその速度にばらつきがなく、し
かも乾燥雰囲気に保存された場合にも現像速度が
ほとんど変化しないことを見出し本発明をなすに
到つた。
すなわち、本発明は支持体上に前記の感光性樹
脂組成物からなる感光層、シリコーンゴム層をこ
の順に塗設してなる湿し水不要平版に関するもの
である。
脂組成物からなる感光層、シリコーンゴム層をこ
の順に塗設してなる湿し水不要平版に関するもの
である。
本発明の構成からなる湿し水不要平版印刷版の
現像速度がほとんど変動しない理由は、未だ解明
されていないが、以下のように説明できると考え
られる。
現像速度がほとんど変動しない理由は、未だ解明
されていないが、以下のように説明できると考え
られる。
即ち、従来のノボラツク樹脂のオルトナフトキ
ノンジアジドスルホン酸エステルを感光層とした
印刷版の現像速度が十分でなく、また速度が変動
するのは露光により生成したケテン化合物が感光
層中に存在する水分と反応してカルボン酸化合物
が生成するばかりでなく、ノボラツク樹脂により
由来する残存水酸基と反応してエステル結合によ
り橋かけが一部で起こり、しかもカルボン酸化合
物とエステル結合の生成比率が露光時の感光層中
に存在する水分率によつて変動するためと考えら
れる。当然、乾燥雰囲気に保存した場合には、エ
ステル結合の生成比率が高くなり現像速度が著し
くおそくなる事は言うまでもない。
ノンジアジドスルホン酸エステルを感光層とした
印刷版の現像速度が十分でなく、また速度が変動
するのは露光により生成したケテン化合物が感光
層中に存在する水分と反応してカルボン酸化合物
が生成するばかりでなく、ノボラツク樹脂により
由来する残存水酸基と反応してエステル結合によ
り橋かけが一部で起こり、しかもカルボン酸化合
物とエステル結合の生成比率が露光時の感光層中
に存在する水分率によつて変動するためと考えら
れる。当然、乾燥雰囲気に保存した場合には、エ
ステル結合の生成比率が高くなり現像速度が著し
くおそくなる事は言うまでもない。
これに対して、本発明の組成からなる感光層の
場合には、露光により生成したケテン化合物と、
(b)成分の水酸基含有有機化合物との反応が起るた
め、とくに乾燥雰囲気に保存され水分が少ない場
合にでも、橋かけがほとんど生じることがなく、
現像溶媒のアルコール等に対する溶解性が低下し
ないものと考えられる。さらには多価の水酸基を
持つ有機化合物の場合には、ケテン化合物と一部
反応して水酸基が残存し、現像溶媒のアルコール
等に対する溶解性が低下しないので好適である。
場合には、露光により生成したケテン化合物と、
(b)成分の水酸基含有有機化合物との反応が起るた
め、とくに乾燥雰囲気に保存され水分が少ない場
合にでも、橋かけがほとんど生じることがなく、
現像溶媒のアルコール等に対する溶解性が低下し
ないものと考えられる。さらには多価の水酸基を
持つ有機化合物の場合には、ケテン化合物と一部
反応して水酸基が残存し、現像溶媒のアルコール
等に対する溶解性が低下しないので好適である。
以下に本発明の構成を詳細に述べる。
感光層としては、(a)エステル化率35〜65%のノ
ボラツク樹脂のナフトキノン−1,2−ジアジド
−5−スルホン酸エステルまたは4−スルホン酸
エステル100重量部と、(b)水酸基当量(水酸基1
個当りの分子量)200以下で常温では実質的に不
揮発性である1価アルコール、脂肪族多価アルコ
ール、ポリアルキレングリコール、フエノール
類、ナフトール類および2−ヒドロキシエチル
(メタ)アクリレートのホモポリマの群から選ば
れた少なくとも1種の水酸基含有有機化合物10〜
150重量部からなる感光層を用いる。
ボラツク樹脂のナフトキノン−1,2−ジアジド
−5−スルホン酸エステルまたは4−スルホン酸
エステル100重量部と、(b)水酸基当量(水酸基1
個当りの分子量)200以下で常温では実質的に不
揮発性である1価アルコール、脂肪族多価アルコ
ール、ポリアルキレングリコール、フエノール
類、ナフトール類および2−ヒドロキシエチル
(メタ)アクリレートのホモポリマの群から選ば
れた少なくとも1種の水酸基含有有機化合物10〜
150重量部からなる感光層を用いる。
(a)成分はフエノールまたはクレゾールをホルム
アルデヒドと縮合して得られるノボラツク樹脂の
ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン
酸エステルまたは4−スルホン酸エステルで、エ
ステル化率35〜65%(I.R.スペクトルより測定)
のものが好ましく用いられる。エステル化率が35
%より小さい場合には露光部と未露光部の現像溶
媒に対する溶解性に差が出現しにくく、65%を超
えると経済的に不利である。(b)成分は水酸基当量
が200以下の水酸基含有有機化合物を用いる。水
酸基当量が200を越えるとおそらくはケテン化合
物と反応して分子量が巨大化するとともに、現像
溶媒のアルコール等に対する溶解性が低下するた
め現像性が極端に悪くなり本発明には使用できな
い。そして、保存中に輝散し添加効果がなくなら
ないように、常温では実質的に不揮発性の化合物
が選ばれる。その最適添加量は適用する化合物に
よつて異なるが10〜150重量部の範囲で用いられ
る。10重量部より少ないと添加効果がなく、150
重量部を超えると相対的に感光主成分である(a)成
分が少なくなるため、未露光部と露光部の現像溶
媒に対する溶解性に差が出現しにくく本発明の構
成には適さない。
アルデヒドと縮合して得られるノボラツク樹脂の
ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン
酸エステルまたは4−スルホン酸エステルで、エ
ステル化率35〜65%(I.R.スペクトルより測定)
のものが好ましく用いられる。エステル化率が35
%より小さい場合には露光部と未露光部の現像溶
媒に対する溶解性に差が出現しにくく、65%を超
えると経済的に不利である。(b)成分は水酸基当量
が200以下の水酸基含有有機化合物を用いる。水
酸基当量が200を越えるとおそらくはケテン化合
物と反応して分子量が巨大化するとともに、現像
溶媒のアルコール等に対する溶解性が低下するた
め現像性が極端に悪くなり本発明には使用できな
い。そして、保存中に輝散し添加効果がなくなら
ないように、常温では実質的に不揮発性の化合物
が選ばれる。その最適添加量は適用する化合物に
よつて異なるが10〜150重量部の範囲で用いられ
る。10重量部より少ないと添加効果がなく、150
重量部を超えると相対的に感光主成分である(a)成
分が少なくなるため、未露光部と露光部の現像溶
媒に対する溶解性に差が出現しにくく本発明の構
成には適さない。
(b)成分の有機化合物の具体例としては次のよう
なものが挙げられる。
なものが挙げられる。
エチレングリコールモノアセテート、メチルカ
ルビトール等の1価アルコール、エチレングリコ
ール、プロピレングリコール、ブタンジオールグ
リセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリ
スリトール等の脂肪族多価アルコール、ジエチレ
ングリコール、トリエチレングリコール、テトラ
エチレングリコール、ジプロピレングリコール、
トリプロピレングリコール、テトラプロピレング
リコール等のポリアルキレングリコール、フエノ
ール、ハイドロキノン、レゾルシン、ピロカテコ
ール、ビスフエノールA、ビスフエノールB、ノ
ボラツク樹脂等のフエノール類、ナフトール、ナ
フトレゾルシノール等のナフトール類、2−ヒド
ロキシエチル(メタ)アクリレートのホモポリマ
等。
ルビトール等の1価アルコール、エチレングリコ
ール、プロピレングリコール、ブタンジオールグ
リセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリ
スリトール等の脂肪族多価アルコール、ジエチレ
ングリコール、トリエチレングリコール、テトラ
エチレングリコール、ジプロピレングリコール、
トリプロピレングリコール、テトラプロピレング
リコール等のポリアルキレングリコール、フエノ
ール、ハイドロキノン、レゾルシン、ピロカテコ
ール、ビスフエノールA、ビスフエノールB、ノ
ボラツク樹脂等のフエノール類、ナフトール、ナ
フトレゾルシノール等のナフトール類、2−ヒド
ロキシエチル(メタ)アクリレートのホモポリマ
等。
これら本発明に用いられる(b)成分は所定量を(a)
成分とともに同一溶媒に溶解混合して後述する方
法で所望の支持体に塗布される。
成分とともに同一溶媒に溶解混合して後述する方
法で所望の支持体に塗布される。
感光層の厚さは0.5〜5μが好ましい。薄くしす
ぎるとピンホールの原因になり、厚くしすぎると
クラツクが発生しやすくなり、また経済的な見地
からも不利となる。
ぎるとピンホールの原因になり、厚くしすぎると
クラツクが発生しやすくなり、また経済的な見地
からも不利となる。
感光層中にはその性能を損わない限り、必要な
添加剤、例えば顔料、染料、樹脂、可塑剤等を加
えることができる。
添加剤、例えば顔料、染料、樹脂、可塑剤等を加
えることができる。
本発明に用いられるインキ反撥層として、使用
されるシリコーンゴム層の厚みは0.5〜100μ好ま
しくは1〜50μのものが用いられる。有用なシリ
コーンゴムは次のような繰返し単位を有する分子
量数千〜数十万の線状有機ポリシロキサンを主成
分とするシリコーンゴムである。
されるシリコーンゴム層の厚みは0.5〜100μ好ま
しくは1〜50μのものが用いられる。有用なシリ
コーンゴムは次のような繰返し単位を有する分子
量数千〜数十万の線状有機ポリシロキサンを主成
分とするシリコーンゴムである。
(Rは炭素数1〜10のアルキル基あるいはフエ
ニル基であり、Rの60%以上がメチル基であるも
のが好ましい)。
ニル基であり、Rの60%以上がメチル基であるも
のが好ましい)。
この線状有機ポリシロキサンは、通常末端水酸
基を有するものを用い、アセトキシシラン、ケト
オキシムシラン、アルコオキシシラン等の橋かけ
剤を存在させ有機スズ化合物等の触媒共存下に、
熱処理により橋かけし、シリコーンゴム層として
用いられる。
基を有するものを用い、アセトキシシラン、ケト
オキシムシラン、アルコオキシシラン等の橋かけ
剤を存在させ有機スズ化合物等の触媒共存下に、
熱処理により橋かけし、シリコーンゴム層として
用いられる。
また必要に応じて、シリコーンゴム層と感光層
間あるいは感光層と支持体間の接着のために、層
間に公知のシリコーンプライマやシリコーンカツ
プリング剤層を設けたり、シリコーンゴム層ある
いは感光層に公知のシリコーンプライマやシラン
カツプリング剤を添加することも効果的である。
間あるいは感光層と支持体間の接着のために、層
間に公知のシリコーンプライマやシリコーンカツ
プリング剤層を設けたり、シリコーンゴム層ある
いは感光層に公知のシリコーンプライマやシラン
カツプリング剤を添加することも効果的である。
支持体としては、紙、プラスチツクフイルムま
たはシート、天然あるいは人造ゴムシート、金属
板等が用いられる。これらの支持体はハレーシヨ
ン防止その他の目的でさらにコーテイング層また
は貼合せ層を設け支持体として用いることも可能
である。
たはシート、天然あるいは人造ゴムシート、金属
板等が用いられる。これらの支持体はハレーシヨ
ン防止その他の目的でさらにコーテイング層また
は貼合せ層を設け支持体として用いることも可能
である。
以上説明したように構成された湿し水不要平版
印刷版の表面を形成するシリコーンゴム層は傷の
発生、ほこりの付着などを防止するために、保護
フイルムを積層することもできる。有用な保護フ
イルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、ポ
リエチレンテレフタレート等が挙げられる。
印刷版の表面を形成するシリコーンゴム層は傷の
発生、ほこりの付着などを防止するために、保護
フイルムを積層することもできる。有用な保護フ
イルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、ポ
リエチレンテレフタレート等が挙げられる。
本発明に基づく湿し水不要平版印刷版は、例え
ば次のようにして製造される。まず、支持体の上
にリバースロールコータ、エアナイフコータ、メ
ーヤバーコータ等の通常のコータあるいはホエラ
のような回転塗布装置を用い、感光性物質溶液を
塗布、乾燥後、この感光層の上に同様な方法で必
要に応じて接着層を塗布、乾燥して、次いでシリ
コーンゴム溶液を同様に塗布し、通常100〜120℃
の温度で数分間熱処理して十分に硬化させシリコ
ーンゴム層を形成する。さらに必要ならば保護フ
イルムをこのシリコーンゴム層の上にラミネータ
等を用いて積層する。
ば次のようにして製造される。まず、支持体の上
にリバースロールコータ、エアナイフコータ、メ
ーヤバーコータ等の通常のコータあるいはホエラ
のような回転塗布装置を用い、感光性物質溶液を
塗布、乾燥後、この感光層の上に同様な方法で必
要に応じて接着層を塗布、乾燥して、次いでシリ
コーンゴム溶液を同様に塗布し、通常100〜120℃
の温度で数分間熱処理して十分に硬化させシリコ
ーンゴム層を形成する。さらに必要ならば保護フ
イルムをこのシリコーンゴム層の上にラミネータ
等を用いて積層する。
このようにして製造された本発明の湿し水不要
平版印刷版は、例えば所定のパターンを有するネ
ガフイルムを真空密着して紫外線により露光され
る。紫外線を発生する光源としては、水銀灯、カ
ーボンアーク灯、キセノンランプ、メタルハライ
ドランプ、螢光灯等を用いることができる。次い
で現像液を含浸させた布、ブラシ等の現像パツド
で表面をこすると露光部の感光層が溶解するとと
もに上部のシリコーンゴム層が容易にはぎとられ
支持体が露出する。
平版印刷版は、例えば所定のパターンを有するネ
ガフイルムを真空密着して紫外線により露光され
る。紫外線を発生する光源としては、水銀灯、カ
ーボンアーク灯、キセノンランプ、メタルハライ
ドランプ、螢光灯等を用いることができる。次い
で現像液を含浸させた布、ブラシ等の現像パツド
で表面をこすると露光部の感光層が溶解するとと
もに上部のシリコーンゴム層が容易にはぎとられ
支持体が露出する。
現像液としては、シリコーンゴム層を浸透し、
かつ露光された感光層のみを溶解するものが用い
られる。このような現像液としてはメタノール、
エタノール等のアルコール類等が好ましいが、感
光層への浸透をより容易にするため、シリコーン
層を膨潤させ得るヘキサン、ヘプタン等の脂肪族
炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素類等を混合して用いることも好ましい。
かつ露光された感光層のみを溶解するものが用い
られる。このような現像液としてはメタノール、
エタノール等のアルコール類等が好ましいが、感
光層への浸透をより容易にするため、シリコーン
層を膨潤させ得るヘキサン、ヘプタン等の脂肪族
炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素類等を混合して用いることも好ましい。
以下実施例を示し、本発明をさらに詳細に説明
するが、本発明の実施の態様がこれにより限定さ
れるものではない。
するが、本発明の実施の態様がこれにより限定さ
れるものではない。
実施例 1
化成処理のアルミ板(住友軽金属製)に、エス
テル化率49%のフエノールノボラツク樹脂(住友
デユレズ製;“スミレジン”PR−50235)のナフ
トキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エ
ステル100重量部とフエノールノボラツク樹脂
(住友デユレズ製;PR−51600)50重量部からな
る感光性樹脂組成物の20重量%のエチルセロソル
ブ溶液を#10のバーコーダで塗布後、100℃、3.5
分間乾燥させて2.7μの感光層を形成した。この上
にγ−アミノプロピルトリエトキシシラン
(UCC製、A−1100)の20重量%“アイソパー”
E(エッソ製)溶液をホエラで回転塗布後、120
℃、40秒間乾燥した。この上に次の組成をもつシ
リコーン組成物の25%“アイソパー”E溶液を
#16のバーコーダで塗布後、120℃、3.5分間加熱
硬化した。この時得られたシリコーンゴム層の厚
みは4.8μであつた。
テル化率49%のフエノールノボラツク樹脂(住友
デユレズ製;“スミレジン”PR−50235)のナフ
トキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エ
ステル100重量部とフエノールノボラツク樹脂
(住友デユレズ製;PR−51600)50重量部からな
る感光性樹脂組成物の20重量%のエチルセロソル
ブ溶液を#10のバーコーダで塗布後、100℃、3.5
分間乾燥させて2.7μの感光層を形成した。この上
にγ−アミノプロピルトリエトキシシラン
(UCC製、A−1100)の20重量%“アイソパー”
E(エッソ製)溶液をホエラで回転塗布後、120
℃、40秒間乾燥した。この上に次の組成をもつシ
リコーン組成物の25%“アイソパー”E溶液を
#16のバーコーダで塗布後、120℃、3.5分間加熱
硬化した。この時得られたシリコーンゴム層の厚
みは4.8μであつた。
(a) ポリジメチルシロキサン(分子量約8万、末
端OH基) 100部 (b) エチルトリアセトキシシラン 5部 (c) ジブチル錫アセテート 0.2部 上記のようにして得られた印刷原版を23℃×60
%RHに7日間保存後、真空密着した100μ〜15mm
の線巾の直線画像を有するネガフイルムを通して
メタルハライドランプ(岩崎電気製“アイドルフ
イン”2000)を用い、1mの距離から60秒露光し
た。版面を現像液のエタノールに1分間浸漬した
後、パツド(川島織物製、“ロングランカーペツ
ト”)で10g/cm2の荷重下にこすると、露光部の
シリコーン層は4回のこすり回数で除去され化成
処理アルミ表面が露出したネガフイルムに忠実な
画像が得られた。
端OH基) 100部 (b) エチルトリアセトキシシラン 5部 (c) ジブチル錫アセテート 0.2部 上記のようにして得られた印刷原版を23℃×60
%RHに7日間保存後、真空密着した100μ〜15mm
の線巾の直線画像を有するネガフイルムを通して
メタルハライドランプ(岩崎電気製“アイドルフ
イン”2000)を用い、1mの距離から60秒露光し
た。版面を現像液のエタノールに1分間浸漬した
後、パツド(川島織物製、“ロングランカーペツ
ト”)で10g/cm2の荷重下にこすると、露光部の
シリコーン層は4回のこすり回数で除去され化成
処理アルミ表面が露出したネガフイルムに忠実な
画像が得られた。
比較例 1
感光層として、実施例1で用いたフエノールノ
ボラツク樹脂のナフトキノン−1,2−ジアジド
−5−スルホン酸エステルのみを用い、同様な方
法で印刷原版を得、23℃×60%RHに7日間保存
後、露光および現像処理を施した。露光部の化成
処理アルミの表面が露出するまでに58回のこすり
回数が必要であつた。
ボラツク樹脂のナフトキノン−1,2−ジアジド
−5−スルホン酸エステルのみを用い、同様な方
法で印刷原版を得、23℃×60%RHに7日間保存
後、露光および現像処理を施した。露光部の化成
処理アルミの表面が露出するまでに58回のこすり
回数が必要であつた。
実施例 2
実施例1で得た印刷原版を40%RHのデシケー
タに1週間保存後、同様に露光および現像処理を
施した。現像は9回のこすり回数で露光部の化成
処理アルミ表面が露出した。
タに1週間保存後、同様に露光および現像処理を
施した。現像は9回のこすり回数で露光部の化成
処理アルミ表面が露出した。
比較例 2
比較例1で得た印刷原版を、実施例2と同条件
に保存後、同様に露光および現像処理を施した。
露光部の化成処理アルミ表面が露出するまでに9
回のこすり回数が必要であつた。
に保存後、同様に露光および現像処理を施した。
露光部の化成処理アルミ表面が露出するまでに9
回のこすり回数が必要であつた。
実施例 3
厚さ0.25mmのポリエチレンテレフタレートのフ
イルムの上に、厚さ0.25mmのシヨアAゴム硬度70
のニトリルゴム層を設けた支持体の上に、エステ
ル化率47%のフエノールノボラツク樹脂(住友デ
ユレズ製;“スミレジン”PR−50622)のナフト
キノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エス
テル100重量部とビスフエノールA100重量部から
なる組成物を感光層とする印刷原版を実施例1と
同様な方法で得、23℃×60%RHに7日間保存
後、露光および現像処理を施した。現像液はアイ
ソパーE60重量部とエタノール40重量部の混合液
を用いた。露光部のシリコーン層は3回のこすり
回数で除去され、ニトリルゴム層の表面が露出し
たネガフイルムに忠実な画像が得られた。
イルムの上に、厚さ0.25mmのシヨアAゴム硬度70
のニトリルゴム層を設けた支持体の上に、エステ
ル化率47%のフエノールノボラツク樹脂(住友デ
ユレズ製;“スミレジン”PR−50622)のナフト
キノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エス
テル100重量部とビスフエノールA100重量部から
なる組成物を感光層とする印刷原版を実施例1と
同様な方法で得、23℃×60%RHに7日間保存
後、露光および現像処理を施した。現像液はアイ
ソパーE60重量部とエタノール40重量部の混合液
を用いた。露光部のシリコーン層は3回のこすり
回数で除去され、ニトリルゴム層の表面が露出し
たネガフイルムに忠実な画像が得られた。
比較例 3
実施例3と同じ支持体の上に、感光層として実
施例3で用いたフエノールノボラツク樹脂のナフ
トキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エ
ステルのみを用い、同様の方法で印刷原版を得、
23℃×60%RHに7日間保存後、露光および現像
処理を施した。露光部のニトリルゴム層の表面が
露光するまでに67回のこすり回数を要した。
施例3で用いたフエノールノボラツク樹脂のナフ
トキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸エ
ステルのみを用い、同様の方法で印刷原版を得、
23℃×60%RHに7日間保存後、露光および現像
処理を施した。露光部のニトリルゴム層の表面が
露光するまでに67回のこすり回数を要した。
実施例 4
実施例3で得られた印刷原版をシリカゲル上で
デシケータ中に1週間保存後、同様に露光および
現像処理を施した。現像は5回のこすり回数で露
光部のニトリルゴム層の表面が露出した。
デシケータ中に1週間保存後、同様に露光および
現像処理を施した。現像は5回のこすり回数で露
光部のニトリルゴム層の表面が露出した。
比較例 4
比較例3で得た印刷原版を、実施例4と同条件
に保存後、同様に露光および現像処理を施した。
露光部のニトリルゴム層の表面が露出するまでに
93回のこすり回数を要した。
に保存後、同様に露光および現像処理を施した。
露光部のニトリルゴム層の表面が露出するまでに
93回のこすり回数を要した。
実施例 5
実施例1のフエノールノボラツク樹脂にかえて
ペンタエリスリトールを50重量%混合した感光性
樹脂組成物を用い、実施例1と同条件で厚さ2.5μ
の感光層を形成した。この上に実施例1で用いた
シリコーンゴム組成物と同一組成の25重量%の
“アイソパー”E溶液に、シリコーンゴム組成物
に対して5重量%のγ−アミノプロピルトリエト
キシシラン(UCC製;A−1100)を加え、#16
のバーコータで塗布し、120℃、3.5分間乾燥し
た。この時得られたシリコーンゴム層の厚みは
4.8μであつた。
ペンタエリスリトールを50重量%混合した感光性
樹脂組成物を用い、実施例1と同条件で厚さ2.5μ
の感光層を形成した。この上に実施例1で用いた
シリコーンゴム組成物と同一組成の25重量%の
“アイソパー”E溶液に、シリコーンゴム組成物
に対して5重量%のγ−アミノプロピルトリエト
キシシラン(UCC製;A−1100)を加え、#16
のバーコータで塗布し、120℃、3.5分間乾燥し
た。この時得られたシリコーンゴム層の厚みは
4.8μであつた。
上記のようにして得られた印刷原版を、実施例
1と同様に23℃×60%RHに7日間保存後、露光
および現像処理を施した。12回のこすり回数で露
光部の化成処理アルミの表面が露出した。
1と同様に23℃×60%RHに7日間保存後、露光
および現像処理を施した。12回のこすり回数で露
光部の化成処理アルミの表面が露出した。
比較例 5
実施例5の感光層をペンタエリスリトールを添
加しない組成して、他は同一の方法で印刷原版を
得、同様に23℃×60%RHに7日間保存後、露光
および現像処理を施した。露光部の化成処理アル
ミ表面が露出するまでに50回のこすり回数が必要
であつた。
加しない組成して、他は同一の方法で印刷原版を
得、同様に23℃×60%RHに7日間保存後、露光
および現像処理を施した。露光部の化成処理アル
ミ表面が露出するまでに50回のこすり回数が必要
であつた。
実施例 6
実施例5で得られた印刷原版を実施例2と同一
条件で保存後、同様に露光および現像処理を施し
た。10回のこすり回数で露光部の化成処理アルミ
表面が露出した。
条件で保存後、同様に露光および現像処理を施し
た。10回のこすり回数で露光部の化成処理アルミ
表面が露出した。
比較例 6
比較例5で得られた印刷原版を、実施例6と同
一条件で保存後、同様に露光および現像処理を施
した。露光部の化成処理アルミ表面が露出するま
でに73回のこすり回数が必要であつた。
一条件で保存後、同様に露光および現像処理を施
した。露光部の化成処理アルミ表面が露出するま
でに73回のこすり回数が必要であつた。
Claims (1)
- 1 支持体上に(a)エステル化率35〜65%のノボラ
ツク樹脂のナフトキノン−1,2−ジアジド−5
−スルホン酸エステルまたは4−スルホン酸エス
テル100重量部と、(b)水酸基当量(水酸基1個当
りの分子量)200以下で常温では実質的に不揮発
性である1価アルコール、脂肪族多価アルコー
ル、ポリアルキレングリコール、フエノール類、
ナフトール類および2−ヒドロキシエチル(メ
タ)アクリレートのホモポリマの群から選ばれた
少なくとも1種の水酸基含有有機化合物10〜150
重量部からなる感光層を塗設し、更にその上にシ
リコーンゴム層を塗設してなる湿し水不要平版印
刷版。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2170983A JPS59148059A (ja) | 1983-02-14 | 1983-02-14 | 湿し水不要平版印刷版 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2170983A JPS59148059A (ja) | 1983-02-14 | 1983-02-14 | 湿し水不要平版印刷版 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59148059A JPS59148059A (ja) | 1984-08-24 |
| JPH0428098B2 true JPH0428098B2 (ja) | 1992-05-13 |
Family
ID=12062583
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2170983A Granted JPS59148059A (ja) | 1983-02-14 | 1983-02-14 | 湿し水不要平版印刷版 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59148059A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07104598B2 (ja) * | 1986-04-11 | 1995-11-13 | 東レ株式会社 | 水なし平版印刷用原版 |
| JPH07253661A (ja) * | 1986-04-11 | 1995-10-03 | Toray Ind Inc | 水なし平版印刷用原版 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5559466A (en) * | 1978-10-26 | 1980-05-02 | Toray Ind Inc | Lithographic printing plate without requiring dampening water |
-
1983
- 1983-02-14 JP JP2170983A patent/JPS59148059A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59148059A (ja) | 1984-08-24 |
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