JPS59148059A - 湿し水不要平版印刷版 - Google Patents
湿し水不要平版印刷版Info
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- JPS59148059A JPS59148059A JP2170983A JP2170983A JPS59148059A JP S59148059 A JPS59148059 A JP S59148059A JP 2170983 A JP2170983 A JP 2170983A JP 2170983 A JP2170983 A JP 2170983A JP S59148059 A JPS59148059 A JP S59148059A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/022—Quinonediazides
- G03F7/0226—Quinonediazides characterised by the non-macromolecular additives
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は湿し水不要平版印刷版に関するものであり、支
持体上に、特に選ばれた感光層とシリコーンゴム層を塗
設した湿し水不要平版印刷版に関するものである。
持体上に、特に選ばれた感光層とシリコーンゴム層を塗
設した湿し水不要平版印刷版に関するものである。
従来のオフセット方式による平版印刷では、湿し水の組
成、供給量等とインキのバランスが印刷結果に大きな影
響を及ぼすため、湿し水の供給について非常に高度な技
術が要求される。このためオフセット印刷を専らとする
業界では、湿し水が不要な平版印刷版の出現が久し。〈
待望されていた・近年、この要求を満たすものとして、
数多くの水なし平版印刷版に関する提案がなされている
。
成、供給量等とインキのバランスが印刷結果に大きな影
響を及ぼすため、湿し水の供給について非常に高度な技
術が要求される。このためオフセット印刷を専らとする
業界では、湿し水が不要な平版印刷版の出現が久し。〈
待望されていた・近年、この要求を満たすものとして、
数多くの水なし平版印刷版に関する提案がなされている
。
たとえば、特開昭５５−５９４６６号公報および特開昭
５５−１１０２４９号公報にはノボラック樹脂のナフト
キノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステルを
感光性とした湿し水不要平版印刷版が開示されている。
５５−１１０２４９号公報にはノボラック樹脂のナフト
キノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステルを
感光性とした湿し水不要平版印刷版が開示されている。
この印刷版はシリコーンゴム層を浸透し、露光部のカル
ボン酸化合物に変化した部分を溶解する溶媒を含浸させ
た布、ブラシ等で表面をこすり、露光部の感光層を溶解
するとともに、上部のンリコーン層を剥きとる方法で現
像を行なっている。しかしながら、その現像速度は十分
でなく、またその速度にばらつきがあり、とくに乾燥雰
囲気に保存された場合に現像速度が著しく低下するため
、現像条件の管理が困難であるという欠点があった。
ボン酸化合物に変化した部分を溶解する溶媒を含浸させ
た布、ブラシ等で表面をこすり、露光部の感光層を溶解
するとともに、上部のンリコーン層を剥きとる方法で現
像を行なっている。しかしながら、その現像速度は十分
でなく、またその速度にばらつきがあり、とくに乾燥雰
囲気に保存された場合に現像速度が著しく低下するため
、現像条件の管理が困難であるという欠点があった。
本発明者らは上述のような問題点を解決すべく鋭意検討
した結果、感光層として、（ａ）エステル化率３５〜６
５％のノボラック樹脂のナフトキノン−１，２−ジアジ
ド−５−スルホン酸エステルまたは４−スルホン酸エス
テル１００重ｉ部と、（ｂ）水酸基当量（水酸基１個当
りの分子量）２００以下！ で常温では実質的に不揮発性の水酸基含有有機化合物１
０〜１５０重量部からなる感光層を用いると、現像速度
が速く、またその速度にばらつきがなく、シかも乾燥雰
囲気に保存された場合にも現像速度がほとんど変化しな
いことを見出し本発明をなすに到った。
した結果、感光層として、（ａ）エステル化率３５〜６
５％のノボラック樹脂のナフトキノン−１，２−ジアジ
ド−５−スルホン酸エステルまたは４−スルホン酸エス
テル１００重ｉ部と、（ｂ）水酸基当量（水酸基１個当
りの分子量）２００以下！ で常温では実質的に不揮発性の水酸基含有有機化合物１
０〜１５０重量部からなる感光層を用いると、現像速度
が速く、またその速度にばらつきがなく、シかも乾燥雰
囲気に保存された場合にも現像速度がほとんど変化しな
いことを見出し本発明をなすに到った。
すなわち１本発明は支持体上に前記の感光性樹脂組成物
からなる感光層、シリコーンゴム層をこの順に塗設して
なる湿し水不要平版に関するものである。
からなる感光層、シリコーンゴム層をこの順に塗設して
なる湿し水不要平版に関するものである。
本発明の構成からなる湿し水不要平版印刷版の現像速度
がほとんど変動しない理由は、未た解明されていないが
、以下のように説明できると考えられる。
がほとんど変動しない理由は、未た解明されていないが
、以下のように説明できると考えられる。
即ち、従来のノボラック樹脂のオルトナフトキノンジア
ジドスルホン酸エステルを感光層とじた印刷版の現像速
度が十分でなく、また速度が変動するのは露光により生
成したケテン化合物が感光層中に存在する水分と反応し
てカルボン酸化合物が生成するばかりでなく、ノボラッ
ク樹脂に由来する残存水酸基と反応してエステル結合に
よる橋かけが一部で起こり、しかもカルボン酸化合物と
エステル結合の生成比率が露光時め感光層中に存在する
水分率によって変動するためと考えられる。
ジドスルホン酸エステルを感光層とじた印刷版の現像速
度が十分でなく、また速度が変動するのは露光により生
成したケテン化合物が感光層中に存在する水分と反応し
てカルボン酸化合物が生成するばかりでなく、ノボラッ
ク樹脂に由来する残存水酸基と反応してエステル結合に
よる橋かけが一部で起こり、しかもカルボン酸化合物と
エステル結合の生成比率が露光時め感光層中に存在する
水分率によって変動するためと考えられる。
当然、乾燥雰囲気に保存した場合には、エステル結合の
生成比率が高くなり現像速度が著しくおそくなる事は言
うまでもない。
生成比率が高くなり現像速度が著しくおそくなる事は言
うまでもない。
これに対して２本発明の組成からなる感光層の場合には
、露光により生成したケテン化合物と。
、露光により生成したケテン化合物と。
（ｂ）成分の水酸基含有有機化合物との反応が起るため
、とくに乾燥雰囲気に保存され水分が少ない場合にでも
、橋かけがほとんど生じることがなく。
、とくに乾燥雰囲気に保存され水分が少ない場合にでも
、橋かけがほとんど生じることがなく。
現像溶媒のアルコール等に対する溶解性が低下しないも
のと考えられる。さらには多価の水酸基を持つ有機化合
物の場合には、ケテン化合物と一部反応して水酸基が残
存し、現像溶媒のアルコール等に対する溶解性が低下し
ないので好適である。
のと考えられる。さらには多価の水酸基を持つ有機化合
物の場合には、ケテン化合物と一部反応して水酸基が残
存し、現像溶媒のアルコール等に対する溶解性が低下し
ないので好適である。
以下に本発明の構成を詳細に述べる。
感光層としては、（ａ）エステル化率３５〜６５係のノ
ボラック樹脂のナフトキノン−１，２−ジアジド−５−
スルホン酸エステルまたは４−スルホン酸エステル１０
０重量部と、（ｂ）水酸基当量２［１０以下で常温では
実質的に不揮発性の水酸基含有有機化合物１０〜１５０
重量部からなる感光層を用いる。
ボラック樹脂のナフトキノン−１，２−ジアジド−５−
スルホン酸エステルまたは４−スルホン酸エステル１０
０重量部と、（ｂ）水酸基当量２［１０以下で常温では
実質的に不揮発性の水酸基含有有機化合物１０〜１５０
重量部からなる感光層を用いる。
（ａ）成分はフェノールまたはクレゾールをホルムアル
デヒドと縮合して得られるノボラック樹脂のナフトキノ
ン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステルｔｉｕ
４−スルホン酸エステルテ、エステル化率６５〜６５係
（工、Ｒ，スペクトルヨリ測定）のものが好ましく用い
られる。エステル化率が６５憾より小さい場合には露光
部と未露光部の現像溶媒に対する溶解性に差が出現しに
〈〈。
デヒドと縮合して得られるノボラック樹脂のナフトキノ
ン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステルｔｉｕ
４−スルホン酸エステルテ、エステル化率６５〜６５係
（工、Ｒ，スペクトルヨリ測定）のものが好ましく用い
られる。エステル化率が６５憾より小さい場合には露光
部と未露光部の現像溶媒に対する溶解性に差が出現しに
〈〈。
６５係を超えると経済的に不利である。（ｂ）成分は水
酸基当量が２００以下の水酸基含有有機化合物を用いる
。水酸基当量が２００を越えるとおそらくはケテン化合
物と反応して分子量が巨大化するとともに、現像溶媒の
アルコール等に対する溶解性が低下するため現像性が極
端に悪くなり本発明には使用できない。そして、保存中
に揮散し添加効果がなくならないように、常温では実質
的に不揮発性の化合物が選ばれる。その最適添加量は適
用する化合物によって異なるが１０〜１５０重量部の範
囲で用いら、ねる。１０重量部より少ないと添加効果が
な（、，１５０重量部を超えると相対的に感光主成分で
ある（ａ）成分が少なくなるため、未 。
酸基当量が２００以下の水酸基含有有機化合物を用いる
。水酸基当量が２００を越えるとおそらくはケテン化合
物と反応して分子量が巨大化するとともに、現像溶媒の
アルコール等に対する溶解性が低下するため現像性が極
端に悪くなり本発明には使用できない。そして、保存中
に揮散し添加効果がなくならないように、常温では実質
的に不揮発性の化合物が選ばれる。その最適添加量は適
用する化合物によって異なるが１０〜１５０重量部の範
囲で用いら、ねる。１０重量部より少ないと添加効果が
な（、，１５０重量部を超えると相対的に感光主成分で
ある（ａ）成分が少なくなるため、未 。
露光部と露光部の現像溶媒に対する溶解性に差が出現し
に〈〈本発明の構成には適さない。
に〈〈本発明の構成には適さない。
（ｂ）成分の有機化合物の具体例としては次のようなも
のが挙げられる。
のが挙げられる。
エチレングリコールモノアセテート、メチル力ルヒトー
ル等の１１曲アルコール、エチレンクリコール、プロピ
レングリコール、フタンシオールグ゛リセリン、トリメ
チロールプロパン、ペンタエリスリトール等の脂肪族多
価アルコール、ジエチレンクリコール、トリエチレング
リコール、 ｆト−ｙエチレングリコール、ジプロピレ
ングリコール。
ル等の１１曲アルコール、エチレンクリコール、プロピ
レングリコール、フタンシオールグ゛リセリン、トリメ
チロールプロパン、ペンタエリスリトール等の脂肪族多
価アルコール、ジエチレンクリコール、トリエチレング
リコール、 ｆト−ｙエチレングリコール、ジプロピレ
ングリコール。
トリ９プロピレングリコール、テトラプロピレングリコ
ール等のポリアルキレングリコール、フェノール、ハイ
ドロキノン、レゾルシン、ヒロカテコール、ビスフ千ノ
ールＡ、 ビスフェノールＢ、ノボラック樹脂等のフ
ェノール類、ナフトール、ナフトレゾルシノール等のナ
フトール類、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレー
トのホモポ１ツマ等０ これら本発明に用いられる（ｂ）成分は所定量を（ａ）
成分とともに同一溶媒に溶解混合して後述する方法で所
望の支持体に塗布される。
ール等のポリアルキレングリコール、フェノール、ハイ
ドロキノン、レゾルシン、ヒロカテコール、ビスフ千ノ
ールＡ、 ビスフェノールＢ、ノボラック樹脂等のフ
ェノール類、ナフトール、ナフトレゾルシノール等のナ
フトール類、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレー
トのホモポ１ツマ等０ これら本発明に用いられる（ｂ）成分は所定量を（ａ）
成分とともに同一溶媒に溶解混合して後述する方法で所
望の支持体に塗布される。
感光層の厚さは０５〜５μが好ましい。薄くしすぎると
ピンホールの原因になり、厚くしすぎるとクラックが発
生しやすくなり、また経済的な見地からも不利となる。
ピンホールの原因になり、厚くしすぎるとクラックが発
生しやすくなり、また経済的な見地からも不利となる。
感光層中にはその性能を損わない限り、必要な添加剤１
例えば顔料、染料、樹脂、可塑剤等を力りえることがで
きる。
例えば顔料、染料、樹脂、可塑剤等を力りえることがで
きる。
本発明に用いられるインキ反撥層として、使用されるシ
リコーンゴム層の厚みは０５〜１００μ好ましくは１〜
５０μのものが用いられる。有用なシリコーンゴムは次
のような繰返し単位を有する分子量数千〜数十万の線状
有機ポリシロキサ／を生成分とするシリコーンゴムであ
る。
リコーンゴム層の厚みは０５〜１００μ好ましくは１〜
５０μのものが用いられる。有用なシリコーンゴムは次
のような繰返し単位を有する分子量数千〜数十万の線状
有機ポリシロキサ／を生成分とするシリコーンゴムであ
る。
−［−８ｉ−０−）−
（Ｒは炭素数１〜１０のアルキル基あるいはフェニル基
であり、Ｈの６０係以上がメチル基であるものが好捷し
い）。
であり、Ｈの６０係以上がメチル基であるものが好捷し
い）。
この線状有機ポリシロキサンは１通常末端水酸基を有す
るものを用い、アセトキシシラン、ケト５オキシム７ラ
ン、アルコオキシシラン等の橋かけ剤を存在させ有機ス
ズ化合物等の触媒共存下に。
るものを用い、アセトキシシラン、ケト５オキシム７ラ
ン、アルコオキシシラン等の橋かけ剤を存在させ有機ス
ズ化合物等の触媒共存下に。
熱処理により橋かけし、シリコーンゴム層として用いら
れる。
れる。
４た必要に応じて、シリコーンゴム層と感光層間あるい
は感光層と支持体間の接着のために２層間に公知のシリ
コーンプライマやシリコーンカップリング剤層を設けた
り、シリコーンゴム層あるいは感光層に公知のシリコー
ンプライマやシランカップリング剤を添加することも効
果的である。
は感光層と支持体間の接着のために２層間に公知のシリ
コーンプライマやシリコーンカップリング剤層を設けた
り、シリコーンゴム層あるいは感光層に公知のシリコー
ンプライマやシランカップリング剤を添加することも効
果的である。
支持体としては９紙、プラスチックフィルムまたはシー
ト、天然あるいは人造ゴムシート、金属板等が用いられ
る。これらの支持体はノーレーション防止その他の目的
でさらにコーティング層または貼合せ層を設は支持体と
して用いることも可能である。
ト、天然あるいは人造ゴムシート、金属板等が用いられ
る。これらの支持体はノーレーション防止その他の目的
でさらにコーティング層または貼合せ層を設は支持体と
して用いることも可能である。
以上説明したようにして構成された湿し水不要平版印刷
版の一表面を形成するシリコーンゴム層は傷の発生、は
こりの付着などを防止するために。
版の一表面を形成するシリコーンゴム層は傷の発生、は
こりの付着などを防止するために。
保護フィルムを積層することもできる。有用な保護フィ
ルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩
化ビニル、ポリビニルアルコール。
ルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩
化ビニル、ポリビニルアルコール。
ポリエチレンテレフタレート等が挙けられる。
本発明に基づく湿し水不要平版印刷版は１例えば次のよ
うにして製造される。まず、支持体の上ニリバースロー
ルコータ、エアナイ−ｙ−ｒ−タ、 メーヤバーコータ
等の通常のコータあるいはホエラのような回転塗布装置
を用い、感光性物質溶液を塗布、乾燥後、この感光層の
」二に同様な方法で必要に応じて接着層を塗布、乾燥し
て２次いでシリコーンゴム溶液を同様に塗布し９通常１
００〜１２０°Ｃの温度で数分間熱処理して十分に硬化
させシリコーンゴム層を形成する。さらに必要ならは保
護フィルムをこのシリコーンゴム層の上にラミネータ等
を用いて積層する。
うにして製造される。まず、支持体の上ニリバースロー
ルコータ、エアナイ−ｙ−ｒ−タ、 メーヤバーコータ
等の通常のコータあるいはホエラのような回転塗布装置
を用い、感光性物質溶液を塗布、乾燥後、この感光層の
」二に同様な方法で必要に応じて接着層を塗布、乾燥し
て２次いでシリコーンゴム溶液を同様に塗布し９通常１
００〜１２０°Ｃの温度で数分間熱処理して十分に硬化
させシリコーンゴム層を形成する。さらに必要ならは保
護フィルムをこのシリコーンゴム層の上にラミネータ等
を用いて積層する。
このようにして製造された本発明の湿し水不要平版印刷
版は２例えば所定のパターンを有する不カフイルム全真
空密着し２て紫外線により露光される。紫外線を発生す
る光源としては、水銀灯、カーボンアーク灯、キセノン
ランプ、メタルハライドランプ、螢光す］等ケ用いるこ
とができる。次いで現像液を含浸させた布、ブラシ等の
現像バットで表面をこすると露光部の感光層が溶解する
とともに上部のシリコーンゴム層が容易にはさとられ支
持体が蕗出する。
版は２例えば所定のパターンを有する不カフイルム全真
空密着し２て紫外線により露光される。紫外線を発生す
る光源としては、水銀灯、カーボンアーク灯、キセノン
ランプ、メタルハライドランプ、螢光す］等ケ用いるこ
とができる。次いで現像液を含浸させた布、ブラシ等の
現像バットで表面をこすると露光部の感光層が溶解する
とともに上部のシリコーンゴム層が容易にはさとられ支
持体が蕗出する。
現像液としては、シリコーンゴム層を浸透し。
かつ露光された感光層のみを溶解するものが用いられる
。このような現像液としてはメタノール。
。このような現像液としてはメタノール。
エタノール等のアルコール類等が好ましいが、感光層へ
の浸選をより容易にするため、シリコーン層を膨潤させ
得るヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類等を混合して用いる
ことも好ましい。
の浸選をより容易にするため、シリコーン層を膨潤させ
得るヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類等を混合して用いる
ことも好ましい。
以下実施例を示１〜１本発明をさらに詳細に説明するが
１本発明の実施の態様がこれにより限定されるものでは
ない。
１本発明の実施の態様がこれにより限定されるものでは
ない。
実施例１
化成処理のアルミ板（住友軽金属製）に、エステル（１
４４９％のフェノールノボラック樹脂（住友デュレズ製
；スミレジンＰＲ−５０２３５）のナフトキノン−１，
２−ジアジド−５−スルホン酸エステルｉｏｏｇ量部と
フェノールノボラック樹脂（住友ｆユｖズ製：ｐＲ−５
１６００）５０’ｉ量部からなる感光性樹脂組成物の２
０重重量部エチルセロノルブ溶液６４ｉ’ｏのバーコー
タで塗布後、 １００’ｃ、 ３．５分間乾燥させて２
７μの感光層を形成ｌ−た。この゛」二にγ−アミノプ
ロピルトリエトキシシラン（ＵＣＣ製、ｐ、−１１００
）の２ＯＮ量係アイソパーＦ、６（エッソ製）溶液をホ
エラで回転塗布後、１２０’Ｃ，４０秒間乾燥した。
４４９％のフェノールノボラック樹脂（住友デュレズ製
；スミレジンＰＲ−５０２３５）のナフトキノン−１，
２−ジアジド−５−スルホン酸エステルｉｏｏｇ量部と
フェノールノボラック樹脂（住友ｆユｖズ製：ｐＲ−５
１６００）５０’ｉ量部からなる感光性樹脂組成物の２
０重重量部エチルセロノルブ溶液６４ｉ’ｏのバーコー
タで塗布後、 １００’ｃ、 ３．５分間乾燥させて２
７μの感光層を形成ｌ−た。この゛」二にγ−アミノプ
ロピルトリエトキシシラン（ＵＣＣ製、ｐ、−１１００
）の２ＯＮ量係アイソパーＦ、６（エッソ製）溶液をホ
エラで回転塗布後、１２０’Ｃ，４０秒間乾燥した。
この上に次の組成をもつンリコーン組成物の２５係アイ
ソパーＥ溶液を＋１６のバーコータで塗布後、 １２０
’ｃ、 ３．５分間加熱硬化した。この時得らｉたン
リコーンゴム；曾の厚みは４８μであった。
ソパーＥ溶液を＋１６のバーコータで塗布後、 １２０
’ｃ、 ３．５分間加熱硬化した。この時得らｉたン
リコーンゴム；曾の厚みは４８μであった。
（ａ） ホリシメチルシロキサン（分子量約８万。
末端ＯＨ基） １００部（ｂ） エ
チルトリアセトキンシラン ５台１３（Ｃ） ジ
ブチル錫アセテート ０２部上記のようにし
て得られた印刷原版ｆ ２３ ’ｃ ｘ６０係ＲＨに７
日間保存後、真空密着した１００μ〜１５ｍｍの線巾の
直線画像を有するネガフィルム全通してメタルハライド
ランプ（岩崎電気製アイドルフィン２００’０）を用い
、１ｍの距離から６０秒露光した。版面を現像液のエタ
ノールに１分間浸漬した後、パッド（用島織・物製、ロ
ングランカーペット）で１０ｇ／Ｃｍ’の荷重下にこす
ると９露光部のシリコーン層は４回のこすり回数で除去
され化成処理ナルミ表面が露出したネガフィルムに忠実
な画像が得られた。
チルトリアセトキンシラン ５台１３（Ｃ） ジ
ブチル錫アセテート ０２部上記のようにし
て得られた印刷原版ｆ ２３ ’ｃ ｘ６０係ＲＨに７
日間保存後、真空密着した１００μ〜１５ｍｍの線巾の
直線画像を有するネガフィルム全通してメタルハライド
ランプ（岩崎電気製アイドルフィン２００’０）を用い
、１ｍの距離から６０秒露光した。版面を現像液のエタ
ノールに１分間浸漬した後、パッド（用島織・物製、ロ
ングランカーペット）で１０ｇ／Ｃｍ’の荷重下にこす
ると９露光部のシリコーン層は４回のこすり回数で除去
され化成処理ナルミ表面が露出したネガフィルムに忠実
な画像が得られた。
比較例１
感光層として、実施例１で用いたフェノールノボラック
樹脂のナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン
酸エステルのみを用い、同様な方法で印刷原版を借、２
３°Ｃ×６０％ＲＨに７日間保存後、露光および現像処
理を施した。露光部の化成処理アルミの表面が露出する
までに５８回のこすり回数が必要であった。
樹脂のナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホン
酸エステルのみを用い、同様な方法で印刷原版を借、２
３°Ｃ×６０％ＲＨに７日間保存後、露光および現像処
理を施した。露光部の化成処理アルミの表面が露出する
までに５８回のこすり回数が必要であった。
実施例２
実施例１で得た印刷原版を４０％ＲＨのデシケータに１
週間保存後、９同様に露光および現像処理を施した。現
像は９回のこすり回数で露光部の化成処理アルミ表面が
露出した。
週間保存後、９同様に露光および現像処理を施した。現
像は９回のこすり回数で露光部の化成処理アルミ表面が
露出した。
比較例２
比較例１で得た印刷原版を、実施例２と同条件に保存後
、同様に露光および現像処理を施した。
、同様に露光および現像処理を施した。
露光部の化成処理アルミ表面が露出するまでに９回のこ
すり回数が必要であった。
すり回数が必要であった。
実施例６
厚さ０．２５ｍｍのポリエチンンテレフタレートのフィ
ルムの」二に、厚す０．２５ ｍｍのショアＡゴム硬度
７０のニトリルゴム層を設けた支持体の上に。
ルムの」二に、厚す０．２５ ｍｍのショアＡゴム硬度
７０のニトリルゴム層を設けた支持体の上に。
エステル化率４７係のフェノールノボラック樹脂（住友
テュレズ製；スミレシンＰＲ−５０６２２）のナフトキ
ノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル１０
０−重量部とビスフェノールＡ１００重量部からなる組
成物を感光層とする印刷原版を実施例１と同様な方法で
得、２３’Ｃｘ６０％ＲＨに７日間保存後、露光および
現像処理を施した。
テュレズ製；スミレシンＰＲ−５０６２２）のナフトキ
ノン−１，２−ジアジド−５−スルホン酸エステル１０
０−重量部とビスフェノールＡ１００重量部からなる組
成物を感光層とする印刷原版を実施例１と同様な方法で
得、２３’Ｃｘ６０％ＲＨに７日間保存後、露光および
現像処理を施した。
現像液はアイソバーｗ６０重量部とエタノール４０重量
部の混合液を用いた。露光部の／リコーン層は６回のこ
すり回数で除去され、ニトリルコム層の表面が露出−し
たネガフィルムに忠実な画像が得られた。
部の混合液を用いた。露光部の／リコーン層は６回のこ
すり回数で除去され、ニトリルコム層の表面が露出−し
たネガフィルムに忠実な画像が得られた。
比較例６
実施例包と同じ支持体の上に、感光層として実施例６で
用いたフェノールノボラック樹脂のナフトキノン−１，
２−ジアジド−５−スルホン酸エスチルのみを用い、同
様の方法で印刷原版を得、２６“ＯＸ ６０ ％ ＲＨ
に７日間保存後、露光および現像処理を施した。ｍ’：
□元部のニトリルゴム層の表面が露光するまでに６７回
のこすり回数を要した。
用いたフェノールノボラック樹脂のナフトキノン−１，
２−ジアジド−５−スルホン酸エスチルのみを用い、同
様の方法で印刷原版を得、２６“ＯＸ ６０ ％ ＲＨ
に７日間保存後、露光および現像処理を施した。ｍ’：
□元部のニトリルゴム層の表面が露光するまでに６７回
のこすり回数を要した。
実施例４
実施例６で得られた印刷原版をシリカゲル上でデシケー
タ中に１週間保存後、同様に露光および現像処理を施ｒ
−た。現像は５回のこすり回数で露光部のニトリルゴム
層の表面が露出した。
タ中に１週間保存後、同様に露光および現像処理を施ｒ
−た。現像は５回のこすり回数で露光部のニトリルゴム
層の表面が露出した。
比較例４
比較例６で得た印刷原版を、実施例４と同条件に保存後
、同様に露光および現像処理を施［７た。
、同様に露光および現像処理を施［７た。
露光部のニトリルゴム層の表面が露出する捷でに７３回
のこすり回数を要した。
のこすり回数を要した。
実施例５
実施例１のフェノールノボラック樹脂にかえてペンタエ
リスリトールを５０重１１１ｇ１．混合した感光性樹脂
組成物を用い、実施例１と同条件で厚さ２５μの感光層
を形成した。この上に実施例１で用いたシリコーンゴム
組成物と同一組成の２５重量置部パアイソバール″′溶
液に、シリコーンゴム組成物に対して５重置部のγ−ア
ミノプロピルトリエトキシシラン（ＵＣＣ製；Δ−１１
００）を加え、＋１６の六−コータで塗布し、１２０°
Ｃ。
リスリトールを５０重１１１ｇ１．混合した感光性樹脂
組成物を用い、実施例１と同条件で厚さ２５μの感光層
を形成した。この上に実施例１で用いたシリコーンゴム
組成物と同一組成の２５重量置部パアイソバール″′溶
液に、シリコーンゴム組成物に対して５重置部のγ−ア
ミノプロピルトリエトキシシラン（ＵＣＣ製；Δ−１１
００）を加え、＋１６の六−コータで塗布し、１２０°
Ｃ。
３５分間乾燥した。この時得られたシリコーンゴム層の
厚みは４８μであった。
厚みは４８μであった。
上記のようにして得られた印刷原版を、実施例１と同様
に２ろ”ｃｘ６０係ＲＨに７日間保存後。
に２ろ”ｃｘ６０係ＲＨに７日間保存後。
露光および現像処理を施した。１２回のこすり回数で一
露光部の化成処理アルミの表面が露出した。
露光部の化成処理アルミの表面が露出した。
比較例５
実施例５の感光層をペンタエリスｌ） ）−ルを添加し
ない組成して、他は同一の方法で印刷原版を得、同様に
２３°Ｃ×６０係ＲＨに７Ｈ間保存後。
ない組成して、他は同一の方法で印刷原版を得、同様に
２３°Ｃ×６０係ＲＨに７Ｈ間保存後。
露光および現像処理を施した。露光部の化成処理アルミ
表面が露出するまでに５０回のこすり回数が必要であっ
た。
表面が露出するまでに５０回のこすり回数が必要であっ
た。
実施例６
実施例５で得らｈた印刷原版を実施例２と同一条件で保
存後、同様に露光および現像処理を施した。１０回のこ
すり回数で露光部の化成処理アルミ表面が露出しまた。
存後、同様に露光および現像処理を施した。１０回のこ
すり回数で露光部の化成処理アルミ表面が露出しまた。
比較例６
比較例５で得られた印刷原版ケ９実施例６と同一条件で
保存後、同様に露光および現像処理を施した。露光部の
化成処理アルミ表面が露出する捷でに７６回のこすり回
数が必要であった。
保存後、同様に露光および現像処理を施した。露光部の
化成処理アルミ表面が露出する捷でに７６回のこすり回
数が必要であった。
Claims (1)
- 支持体上に（ａ）エステル化率６５〜６５係のノボラッ
ク樹脂のナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホ
ン酸エステルまたは４−スルホン酸エステル１００重量
部と、（ｂ）水酸基当量（水酸基１個当りの分子１ｉ）
２００以下で常温では実質的に不揮発性の水酸基含有有
機化合物１０〜１５０重量部からなる感光層を塗設し、
更にその上にシリコーンゴム層を塗設してなる湿し水不
要平版印刷版。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2170983A JPS59148059A (ja) | 1983-02-14 | 1983-02-14 | 湿し水不要平版印刷版 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2170983A JPS59148059A (ja) | 1983-02-14 | 1983-02-14 | 湿し水不要平版印刷版 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59148059A true JPS59148059A (ja) | 1984-08-24 |
| JPH0428098B2 JPH0428098B2 (ja) | 1992-05-13 |
Family
ID=12062583
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2170983A Granted JPS59148059A (ja) | 1983-02-14 | 1983-02-14 | 湿し水不要平版印刷版 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59148059A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6346465A (ja) * | 1986-04-11 | 1988-02-27 | Toray Ind Inc | 水なし平版印刷用原版 |
| JPH07253661A (ja) * | 1986-04-11 | 1995-10-03 | Toray Ind Inc | 水なし平版印刷用原版 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5559466A (en) * | 1978-10-26 | 1980-05-02 | Toray Ind Inc | Lithographic printing plate without requiring dampening water |
-
1983
- 1983-02-14 JP JP2170983A patent/JPS59148059A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5559466A (en) * | 1978-10-26 | 1980-05-02 | Toray Ind Inc | Lithographic printing plate without requiring dampening water |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6346465A (ja) * | 1986-04-11 | 1988-02-27 | Toray Ind Inc | 水なし平版印刷用原版 |
| JPH07253661A (ja) * | 1986-04-11 | 1995-10-03 | Toray Ind Inc | 水なし平版印刷用原版 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0428098B2 (ja) | 1992-05-13 |
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