JPH0428136B2 - - Google Patents
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- JPH0428136B2 JPH0428136B2 JP59098484A JP9848484A JPH0428136B2 JP H0428136 B2 JPH0428136 B2 JP H0428136B2 JP 59098484 A JP59098484 A JP 59098484A JP 9848484 A JP9848484 A JP 9848484A JP H0428136 B2 JPH0428136 B2 JP H0428136B2
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- bonding
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Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、ワイヤボンデイング用雰囲気形成装
置に関するものであつて、更に詳しくはアルミニ
ウムまたは銅を用いたワイヤボンデイングにおい
て、放電によりワイヤ先端にボールを形成する際
の酸化を防ぐため、還元雰囲気あるいは不活性雰
囲気を形成する装置に関する。
置に関するものであつて、更に詳しくはアルミニ
ウムまたは銅を用いたワイヤボンデイングにおい
て、放電によりワイヤ先端にボールを形成する際
の酸化を防ぐため、還元雰囲気あるいは不活性雰
囲気を形成する装置に関する。
ダイボンデイングされた半導体チツプの電極薄
膜とリードフレームを結ぶワイヤボンデイングで
は、金線を用いるのが一般的であるが、近年原価
低減のためにアルミニウム線や銅線を用いる試み
がなされている、しかし、ボールボンデイングに
おいては、トーチ電極との放電によりワイヤ先端
にボールを形成する際に酸化するため、良好で安
定したボンデイングを行うにはワイヤ先端部を還
元雰囲気あるいは不活性雰囲気に保つ必要があ
る。
膜とリードフレームを結ぶワイヤボンデイングで
は、金線を用いるのが一般的であるが、近年原価
低減のためにアルミニウム線や銅線を用いる試み
がなされている、しかし、ボールボンデイングに
おいては、トーチ電極との放電によりワイヤ先端
にボールを形成する際に酸化するため、良好で安
定したボンデイングを行うにはワイヤ先端部を還
元雰囲気あるいは不活性雰囲気に保つ必要があ
る。
従来、このための還元雰囲気あるいは不活性雰
囲気を形成する装置としては、キヤピラリにガス
噴射装置を取付けたものがある。しかしこの装置
では、ワイヤ先端に作られるボールの下面まで十
分に還元雰囲気あるいは不活性雰囲気を保つのが
困難であるのに加えて、キヤピラリの重量が増加
するため、特に超音波熱圧着方式のボンデイング
では、超音波ホーンの先端負荷増大により振動モ
ードが変化してボンデイングが不安定になり易い
といつた欠点がある。
囲気を形成する装置としては、キヤピラリにガス
噴射装置を取付けたものがある。しかしこの装置
では、ワイヤ先端に作られるボールの下面まで十
分に還元雰囲気あるいは不活性雰囲気を保つのが
困難であるのに加えて、キヤピラリの重量が増加
するため、特に超音波熱圧着方式のボンデイング
では、超音波ホーンの先端負荷増大により振動モ
ードが変化してボンデイングが不安定になり易い
といつた欠点がある。
また、トーチ電極外壁面に沿つて還元ガスある
いは不活性ガスを導くことにより、放電空間を還
元雰囲気あるいは不活性雰囲気に保つ装置があ
る。しかしこの装置では、トーチ電極が振り込ま
れている時にしか雰囲気を形成することができな
いという欠点がある。
いは不活性ガスを導くことにより、放電空間を還
元雰囲気あるいは不活性雰囲気に保つ装置があ
る。しかしこの装置では、トーチ電極が振り込ま
れている時にしか雰囲気を形成することができな
いという欠点がある。
さらに、還元ガスあるいは不活性ガスを充満さ
せたチヤンバーでヘツド空間全体を囲む方法もあ
る。しかしこの方法では、密閉性が悪いのに加
え、チヤンバーの構造が複雑になる欠点がある。
せたチヤンバーでヘツド空間全体を囲む方法もあ
る。しかしこの方法では、密閉性が悪いのに加
え、チヤンバーの構造が複雑になる欠点がある。
本発明は、上記のような従来技術の欠点を除去
し、ボール形成時からボンデイング点に至るまで
ワイヤ先端部を還元雰囲気あるいは不活性雰囲気
に保つことを目的とするものであつて、その骨子
とするところは、ボールボンデイング装置のボン
デイングヘツドあるいはX,Yテーブルに固定さ
れた円筒カバーをキヤピラリを包み込むように置
き、該円筒カバーの側面から還元性あるいは不活
性ガスを円筒内に噴出させるという簡単な構造に
より、ボール形成時からボンデイング点に至るま
でボール周辺部を還元あるいは不活性雰囲気に保
つようにしたワイヤボンデイング用雰囲気形成装
置に関するものである。
し、ボール形成時からボンデイング点に至るまで
ワイヤ先端部を還元雰囲気あるいは不活性雰囲気
に保つことを目的とするものであつて、その骨子
とするところは、ボールボンデイング装置のボン
デイングヘツドあるいはX,Yテーブルに固定さ
れた円筒カバーをキヤピラリを包み込むように置
き、該円筒カバーの側面から還元性あるいは不活
性ガスを円筒内に噴出させるという簡単な構造に
より、ボール形成時からボンデイング点に至るま
でボール周辺部を還元あるいは不活性雰囲気に保
つようにしたワイヤボンデイング用雰囲気形成装
置に関するものである。
以下、本発明装置の一実施例を第1図により説
明する。第1図aはボール形成時を、第1図bは
ボンデイング時をそれぞれ示す。図中の符号1は
本発明で重要な円筒カバーであり、図のようにボ
ンデイングヘツドあるいはX,Yテーブルに固定
し、電気的に絶縁されていて、キヤピラリ2を包
み込むように構成されている。該円筒カバー1の
側面にはガス吸入孔3が設けてあり、ここからガ
スを注入することにより、円筒カバー1内を還元
雰囲気あるいは不活性雰囲気に保つ。また側面に
は、トーチ電極4が出入りする電極穴5を設けて
ある。
明する。第1図aはボール形成時を、第1図bは
ボンデイング時をそれぞれ示す。図中の符号1は
本発明で重要な円筒カバーであり、図のようにボ
ンデイングヘツドあるいはX,Yテーブルに固定
し、電気的に絶縁されていて、キヤピラリ2を包
み込むように構成されている。該円筒カバー1の
側面にはガス吸入孔3が設けてあり、ここからガ
スを注入することにより、円筒カバー1内を還元
雰囲気あるいは不活性雰囲気に保つ。また側面に
は、トーチ電極4が出入りする電極穴5を設けて
ある。
次に、上記の本発明装置の動作について説明す
る。まず、キヤピラリ2の先端が円筒カバー1の
上口部から出ない位置まで上昇した後、トーチ電
極4が電極穴5より振り込まれ、ワイヤ6の先端
との間で放電を起こすことによりボール7が形成
される。その後トーチ電極4が円筒カバー1の外
部に退避する。次いで、キヤピラリ2が降下し、
ボール7を半導体チツプ面8に押しつけ熱圧着あ
るいは超音波熱圧着により接合する。
る。まず、キヤピラリ2の先端が円筒カバー1の
上口部から出ない位置まで上昇した後、トーチ電
極4が電極穴5より振り込まれ、ワイヤ6の先端
との間で放電を起こすことによりボール7が形成
される。その後トーチ電極4が円筒カバー1の外
部に退避する。次いで、キヤピラリ2が降下し、
ボール7を半導体チツプ面8に押しつけ熱圧着あ
るいは超音波熱圧着により接合する。
従つて、ワイヤ先端部を、ボール形成時はもと
より、円筒カバー1の下口部から流出するガスに
よりボンデイング点直前まで、還元雰囲気あるい
は不活性雰囲気に保つことができ、放電により加
熱・溶融して形成されるボール7の酸化を防くた
め、金線以外の例えばアルミニウム線や銅線を用
いても常に良好で安定したボンデイングが可能に
なる。また、本発明装置は構造が簡単なのに加え
て、円筒カバー1は水平面内を移動するだけで上
下方向には動かないため、少ないガス消費量で効
率よく雰囲気を形成することができる。
より、円筒カバー1の下口部から流出するガスに
よりボンデイング点直前まで、還元雰囲気あるい
は不活性雰囲気に保つことができ、放電により加
熱・溶融して形成されるボール7の酸化を防くた
め、金線以外の例えばアルミニウム線や銅線を用
いても常に良好で安定したボンデイングが可能に
なる。また、本発明装置は構造が簡単なのに加え
て、円筒カバー1は水平面内を移動するだけで上
下方向には動かないため、少ないガス消費量で効
率よく雰囲気を形成することができる。
第2図は本発明の他の実施例を示す。ここでは
円筒カバー1は二重構造になつており、ガス吸入
孔3から注入されたガスは中空部9に充満し、内
壁10に設けられた複数個の噴出口11から円筒
カバー1の内部に噴き出す構成にしてある。
円筒カバー1は二重構造になつており、ガス吸入
孔3から注入されたガスは中空部9に充満し、内
壁10に設けられた複数個の噴出口11から円筒
カバー1の内部に噴き出す構成にしてある。
この実施例装置の場合は、ワイヤ先端部により
均一な還元雰囲気あるいは不活性雰囲気を形成す
ることができる。なお、円筒カバー1の上口部か
らガスが流出するのを防ぐため、上口部にフラン
ジ12を設けてもよい、また、ボール7が円筒カ
バー1の下口部から出てボンデイング点に達する
までのボール7周辺部のガス濃度を上げるため
に、噴出口11の一部あるいは全部を下向きに設
けて、下口部からのガス流出量を増やしてもよ
い。
均一な還元雰囲気あるいは不活性雰囲気を形成す
ることができる。なお、円筒カバー1の上口部か
らガスが流出するのを防ぐため、上口部にフラン
ジ12を設けてもよい、また、ボール7が円筒カ
バー1の下口部から出てボンデイング点に達する
までのボール7周辺部のガス濃度を上げるため
に、噴出口11の一部あるいは全部を下向きに設
けて、下口部からのガス流出量を増やしてもよ
い。
以上のように、本発明によれば金線以外のワイ
ヤ、例えばアルミニウム線や銅線を用いても良好
で安定したワイヤボンデイングを行うことがで
き、半導体製造コストの大幅な低減が可能とな
る。
ヤ、例えばアルミニウム線や銅線を用いても良好
で安定したワイヤボンデイングを行うことがで
き、半導体製造コストの大幅な低減が可能とな
る。
第1図a,bは本発明の一実施例による雰囲気
形成装置を示す断面図、第2図は本発明の他の実
施例を示す断面図である。 1……円筒カバー、2……キヤピラリ、3……
ガス吸入孔、4……トーチ電極、5……電極穴、
6……ワイヤ、7……ボール、8……半導体チツ
プ面、9……中空部、10……内壁、11……噴
出口、12……フランジ。なお、図中同一符号は
同一、又は相当部分を示す。
形成装置を示す断面図、第2図は本発明の他の実
施例を示す断面図である。 1……円筒カバー、2……キヤピラリ、3……
ガス吸入孔、4……トーチ電極、5……電極穴、
6……ワイヤ、7……ボール、8……半導体チツ
プ面、9……中空部、10……内壁、11……噴
出口、12……フランジ。なお、図中同一符号は
同一、又は相当部分を示す。
Claims (1)
- 1 ワイヤの先端にトーチ電極からの放電により
ボールを形成してボンデイングを行うボールボン
デイング装置に、該装置のボンデイングヘツドあ
るいはX,Yテーブルに固定されていて、上下す
るキヤピラリを包み込むように位置する電気的に
絶縁された円筒カバーを設け、該円筒カバーの内
部に還元ガスあるいは不活性ガスを注入してワイ
ヤ先端部を常に還元雰囲気あるいは不活性雰囲気
に保つように構成したことを特徴とするワイヤボ
ンデイング用雰囲気形成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59098484A JPS60244034A (ja) | 1984-05-18 | 1984-05-18 | ワイヤボンデイング用雰囲気形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59098484A JPS60244034A (ja) | 1984-05-18 | 1984-05-18 | ワイヤボンデイング用雰囲気形成装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60244034A JPS60244034A (ja) | 1985-12-03 |
| JPH0428136B2 true JPH0428136B2 (ja) | 1992-05-13 |
Family
ID=14220921
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59098484A Granted JPS60244034A (ja) | 1984-05-18 | 1984-05-18 | ワイヤボンデイング用雰囲気形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60244034A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012244093A (ja) * | 2011-05-24 | 2012-12-10 | Renesas Electronics Corp | 半導体装置の製造方法 |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5031821A (en) * | 1988-08-19 | 1991-07-16 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor integrated circuit device, method for producing or assembling same, and producing or assembling apparatus for use in the method |
| JP2008034811A (ja) * | 2006-07-03 | 2008-02-14 | Shinkawa Ltd | ワイヤボンディング装置におけるボール形成装置及びボンディング装置 |
| US7658313B2 (en) * | 2006-07-03 | 2010-02-09 | Kabushiki Kaisha Shinkawa | Ball forming device in a bonding apparatus and ball forming method |
| US7628307B2 (en) * | 2006-10-30 | 2009-12-08 | Asm Technology Singapore Pte Ltd. | Apparatus for delivering shielding gas during wire bonding |
| JP4392015B2 (ja) * | 2006-11-21 | 2009-12-24 | 株式会社カイジョー | ワイヤボンディング装置 |
| CN101971314B (zh) * | 2008-06-10 | 2013-10-09 | 库力索法工业公司 | 用于在引线接合操作中降低氧化的输气系统 |
| US8186562B1 (en) * | 2010-12-14 | 2012-05-29 | Asm Technology Singapore Pte Ltd | Apparatus for increasing coverage of shielding gas during wire bonding |
| KR101612012B1 (ko) * | 2012-01-26 | 2016-04-12 | 가부시키가이샤 신가와 | 산화 방지 가스 취출 유닛 |
-
1984
- 1984-05-18 JP JP59098484A patent/JPS60244034A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012244093A (ja) * | 2011-05-24 | 2012-12-10 | Renesas Electronics Corp | 半導体装置の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60244034A (ja) | 1985-12-03 |
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