JPH04283912A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は磁気記録媒体及びその製
造方法に関し、さらに詳しくは非磁性基体上に強磁性金
属薄膜を有する磁気記録媒体の耐蝕性にの改良に関する
。

【０００２】

【従来技術】磁気記録媒体としては、従来、非磁性基体
上に粉末磁性材料を有機バインダーなどと共に、　塗布
，乾燥せしめて磁性層とする、いわゆる「塗布型」磁気
記録媒体が広く使用されてきた。しかるに、磁気記録が
より高記録密度化するに従い、従来の塗布型媒体では対
応しきれぬ面が目立ってきた。特に、例えばＨｉ−８シ
ステムのように記録波長が０．５μｍ以下の高密度記録
域では、磁気エネルギーが高く、磁性層を薄くできる非
磁性基体上に強磁性金属薄膜を成膜した、いわゆる「金
属薄膜型」の磁気記録媒体が本質的に適しており、一部
実用化されている。また、次世代の記録システムである
デジタル磁気記録に対しては、更に低記録波長，狭トラ
ック幅を目指す方向にあり、面記録密度の目標としては
、１ｂｉｔ／μｍ２　までが期待されている。以上のよ
うな、超高密度記録の技術動向にあっては、「金属薄膜
型」の磁気記録媒体に対する期待がますます大きくなっ
ているといえる。

【０００３】「金属薄膜型」の磁気記録媒体は、高密度
記録媒体の主力となるものであるが、磁性層が金属薄膜
よりなるため、耐蝕性確保には充分の配慮を払う必要が
ある。　　例えば、テープ形態の「金属薄膜型」の磁気
記録媒体としては、Ｃｏ−Ｎｉ系合金を酸素中斜め蒸着
した磁性層を有する、いわゆる「蒸着テープ」が主に検
討されてきた。例えば、Ｃｏ８０Ｎｉ２０ーＯよりなる
Ｃｏ−Ｎｉ−Ｏ系の蒸着膜は、酸素を含まないＣｏ８０
Ｎｉ２０蒸着膜に比較すると耐蝕性は飛躍的に向上して
いるものの、民生用記録媒体の遭遇する湿度や温度の点
で各種の苛酷な使用環境を想定すると、更に一段の耐蝕
性確保が必要とされた。蒸着テープの耐蝕性を改良する
ために、以下の諸点を考慮して、様々な手段が取られて
きた。すなわち、耐蝕性の改良は以下の問題に対処する
ことであった。■水分が強磁性金属薄膜上で、結露，乾
燥することで錆が発生する。■高温，高湿下に保存して
いるうちに、次第に強磁性金属薄膜の磁束量が減少して
しまう。 （減磁）■空気中に存在する亜硫酸ガス，酸化窒素ガス
などによって、強磁性金属薄膜表面に錆が発生する。■
海岸付近では、海水の微粒中に含まれるＮａＣｌ、Ｍｇ
Ｃｌ２　などの塩が強磁性金属薄膜表面に付着し、ここ
を起点して錆が発生する。（塩害）この内、前記■、前
記■及び前記■については、実用上問題のないレベルに
まで強磁性金属薄膜の耐食性を向上させる技術が、種々
提案されているが、前記■の塩害についてはいまだ適切
な手段が見いだされていない。前記■、前記■及び前記
■の観点で蒸着テープの耐食性に対して有効な技術であ
っても、全てに対して有効でなかったり、他の新たな問
題を引き起こしたりするなど磁気記録媒体の特性全体か
らみて充分な技術と言えるものはなかった。

【０００４】例えば、ＳｉＯ２，Ｃ，ＴｉＯ２などの無
機保護層を強磁性金属薄膜上に設ける方法では、必要な
耐蝕性を得るために３００Ａ（オングストローム）以上
の保護層厚が必要であり、スペーシング・ロスのため、
再生出力の低下を招いてしまう。特に、金属薄膜媒体が
使用されるような短波長記録領域では、この出力低下は
好ましくない。また、種々の後処理によって、強磁性金
属薄膜の耐蝕性を付与する方法、例えば、一定の温湿度
雰囲気に磁気記録媒体を放置する方法、電気化学的手法
で不働態膜を設ける方法、　蒸着原反に酸化処理を施す
方法等では、前記■及び前記■といった水分に対する耐
蝕性は向上するものの塩害による強磁性金属薄膜の錆の
発生を防止するには不十分であった。

【０００５】更に、特開昭５８−２６３１９号公報，特
開昭５８−２３６２２号公報，特開昭５８−６０４３２
号公報，特開昭５９−６３０３１号公報及び特開昭５９
−６０７３８公報等には、成膜中にオゾンに接触させた
り、成膜後強磁性金属薄膜をオゾン雰囲気中に曝すこと
によりその耐蝕性を向上させる方法が提案されている。 この方法は、従来の方法の中では、強磁性金属薄膜の耐
蝕性の向上に大きな効果があった。しかしながら、前記
■の観点からのすなわち塩害に対する耐蝕性に対しては
、前記の公報に開示された方法だけでは充分とは言えな
かった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上の従来
技術の問題点に鑑みなされたものであり、耐蝕特性、特
に塩害に対する塩害に対して極めて優れた耐蝕性を示す
「金属薄膜型」の磁気記録媒体の製造方法を提供するこ
とを目的としている。更に、耐食性の向上にオゾンを利
用する方法に改良を加えることにより、■生産性（処理
時間の短縮）を向上せしめ、　■非磁性高分子フイルム
上に強磁性金属薄膜を設けた媒体において、面欠陥をな
くし耐久特性を向上せしめることを目的としている。

【０００７】

【課題を解決するための手段】前記本発明の目的は、非
磁性基体上に酸素を１５ａｔ％以上含有したＣｏを主成
分とする強磁性金属薄膜成膜した後に、該強磁性金属薄
膜を相対湿度が２０％以下であり且つオゾン含有の雰囲
気中に曝す処理を施すことを特徴とする磁気記録媒体の
製造方法により達成される。

【０００８】すなわち、本発明は従来、酸素を含有する
Ｃｏ系磁性薄膜をオゾン雰囲気に曝すことは知られてい
るものの、発明者等は、強磁性金属薄膜を曝す雰囲気条
件に着目して、更にその効果の向上を目指して、鋭意検
討の結果、■強磁性金属薄膜の酸素含有量をある範囲と
することが望ましいこと■そのオゾン処理雰囲気の「湿
度」を管理することが処理を有効ならしめるため重要で
あること、を見いだし本発明に至ったものである。

【０００９】即ち、オゾン含有雰囲気の湿度を相対湿度
２０％以下と比較的低湿度下に強磁性金属薄膜を曝すこ
とにより低濃度のオゾンでも同様の耐蝕効果が得られ、
同じオゾン濃度でもより高速の処理ができるので生産性
の向上がはかれる。本発明のこの効果の作用機構に関し
ては、不明な点が多いが、強磁性金属薄膜をオゾン含有
雰囲気中に曝した場合、湿度がある程度低くないとオゾ
ンガスが化学反応的に作用すべき強磁性金属薄膜上の部
位が水分で優先的に作用せしめられて、オゾンが有効に
作用しなくなるのではないかと推察される。

【００１０】また、本発明の製造方法に於て、磁気記録
媒体の製造工程及び特性をさらに向上させるためには、
以下の実施態様を選択することが有効である。■必要な
耐蝕性能を付与するためには、オゾン雰囲気の濃度，そ
の時の被処理材の温度、曝し時間などを特定範囲とする
ことが有効であること。■長尺のウェブ状の媒体を処理
するに際しては、ある程度大きな内部容量を持つ密閉容
器中に原反送り出し部、処理部、巻取り部を配し、この
容器内のオゾン含有エアーを減圧方式にてポンプ引きし
、廃ガス処理部に導く必要があること。■処理バッチの
サイクルを高めるために、処理部のオゾン濃度は高く保
ったまま他の部分のオゾン濃度は低くしたほうが、処理
終了後の排ガス処理時間が短くなり有利であること。 ■その処理容器には、高濃度オゾン導入部分以外に、そ
の他の部分のオゾン濃度を希釈せしめる雰囲気ガス導入
部を設けること。■強磁性金属薄膜がＥＢ加熱方式の蒸
着法で設けられた場合には、このオゾン処理に先立ちカ
ッピング修正（あるいはカール修正）処理、除電処理を
行うこと。特に、上記の■実施態様を取ることによって
、高分子フイルムの変形に伴う面状劣化を補いうことが
できる。

【００１１】本発明の製造方法により得られる磁気記録
媒体の強磁性金属薄膜中の酸素含量は１５ａｔ％以上，
より好ましくは２０ａｔ％以上である。酸素含量が１５
ａｔ％以下では、本発明の手法を用いても耐蝕性向上の
効果は小さい。但し、３０ａｔ％以上になると磁性層中
の非磁性成分が増大し、磁気記録媒体の電磁変換特性に
悪影響を及ぼすため好ましくない。

【００１２】更に好ましくは、強磁性金属薄膜中の酸素
分布を、強磁性金属薄膜の厚さ方向でみたとき、非磁性
基体近傍ならびに磁性層表面近傍における酸素含有量の
方が、中央部付近よりも多い方が好ましい。すなわち、
ＡＥＳ（オージェ電子分光法）深さ分析で強磁性金属薄
膜の厚さ方向に５等分したとき、表面から非磁性基体の
方向に向けて全厚の５分の１迄の領域を表面近傍、非磁
性基体と強磁性金属薄膜との界面から上方に向けて全厚
の５分の１迄の領域を非磁性基体近傍としたときに、強
磁性金属薄膜中における酸素は前記表面近傍及び前記非
磁性基体近傍以外の領域の中央部の酸素含有量は、前記
表面近傍の酸素含有量もしくは前記非磁性基体近傍の酸
素含有量のいずれよりも少ないような酸素分布を有して
いることが好ましい。

【００１３】更に、強磁性金属薄膜の表面近傍の酸素含
有量及び非磁性基体近傍の酸素含有量は５ａｔ％以上、
中央部の酸素含有量は３乃至４ａｔ％であることが望ま
しい。以上のように、強磁性金属薄膜中の酸素含有量を
表面近傍及び非磁性基体近傍における方が中央部よりも
多くすることによって、本発明の方法におけるオゾン含
有雰囲気中に強磁性金属薄膜曝す処理を施す効果がより
一層顕著となって、前記の塩害に対して耐性の大きい磁
気記録媒体を得ることが出来る。本発明の方法の特徴あ
る効果をもたらす要因に次いては、明確ではないが、オ
ゾン含有雰囲気中に曝すことによって、強磁性金属薄膜
の表面に従来の酸化処理によるよりも緻密な酸化膜が形
成されるためではないかと推定される。

【００１４】本発明の磁気記録媒体の製造方法において
は、Ｃｏの含有量及び酸素の分布に関し前記の条件を満
たすように真空蒸着法などの真空成膜法によって非磁性
基体上に一定の厚さに強磁性金属薄膜を成膜した後に、
オゾン含有雰囲気中に強磁性金属薄膜を曝す処理を施し
、磁気記録媒体が作成される。このオゾン含有雰囲気中
に曝す処理に際しては、強磁性金属薄膜を保持する温度
，雰囲気のオゾン濃度，処理時間などを制御する必要が
あり、更に、このオゾン含有雰囲気の湿度を制御する必
要がある。

【００１５】本発明の製造方法に於て、強磁性金属薄膜
を曝す雰囲気の相対湿度は２０％以下であり、好ましく
は１５％以下、さらに好ましくは１０％以下である。湿
度が高くなると、強磁性金属薄膜の処理に要する時間が
長くなり、またその所要時間を短くしようとすると、オ
ゾン濃度を高くすれば良いはずであるが、現実的には処
理時間を実効的に短縮できるほどの高濃度のオゾン雰囲
気は得にくい。特に強磁性金属薄膜の処理容器が大容量
となるほどオゾンの高濃度化は困難であった。雰囲気の
オゾン濃度をｘｐｐｍ、前記強磁性金属薄膜を曝す時間
をｙ秒とした時、積ｘｙで、強磁性金属薄膜の処理効率
を表わした場合、相対湿度が２０％以上では少なくとも
１０万以上は必要である。本発明の製造方法を用いれば
、１０万以下で充分に処理の目的を達成できる。

【００１６】強磁性金属薄膜の温度に関しては、その効
果に対する臨界点といえるほどのクリティカルな点はな
く、割合に緩慢であるが、例えば室温ではより高濃度の
オゾン雰囲気でより長時間の処理が必要であり効率的で
ない。

【００１７】また、耐蝕性向上効果のみをみると温度は
高いほど望ましいわけだが、１４０℃以上になると、高
分子ベースフィルムの耐熱性，特に磁気テープに多く用
いられるＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィル
ムの耐熱性の問題があり好ましくない。また、１４０℃
以上ではテープの逆カッピングが大きくなって、ヘッド
当たりが不良となるので好ましくない。以上の諸点を考
慮するとオゾン処理時の強磁性金属薄膜の温度は、８０
℃以上で１４０℃を超えないことが望ましい。

【００１８】前述したように、本発明の方法においては
、オゾン含有雰囲気の湿度を管理することが、処理を効
率よく行うために必要である。本発明の磁気記録媒体の
製造方法における強磁性金属薄膜の処理方法の効率に関
して、バッチ式オゾン処理装置の要部概略図を示した図
１及び連続式オゾン処理装置の要部断面を示した図２に
より説明する。図１の比較的小型の装置においては前記
の処理効率に関してはそれほど問題にならない。即ち、
処理槽内１１０の容積は充分に小さく、ごく短時間にこ
の内部はオゾナイザー１０２で発生せしめられたオゾン
含有ガス（通常は空気であることが多い。）で置き換え
られる。このオゾン含有酸素は酸素ボンベ１００を原料
として作製されるものであるから、基本的に水分を含ま
ず、低湿度条件を満足できるからである。

【００１９】これに対し、例えば図２のごとき連続処理
機の場合には、広幅、長尺の非磁性基体を処理するので
■処理槽内に原反送り出し部、処理部、巻取り部を設け
る必要がある。■原反自身も広幅、長尺である。ために
処理槽内部の容量は大きくなる。従って、図１に示した
バッチ式の小型装置の場合と異なり、処理槽内の湿度管
理が不可欠となる。即ち、■強磁性金属薄膜の処理を開
始する前の槽内の「初期湿度」とでも言うべきものをご
く低湿としなくてはならない。■処理中においても処理
部に送られるオゾン含有ガス以外にも、処理槽内には希
釈用の低湿度のガスを送り込みつつ処理する必要がある
。特に、■については、処理槽内部はオゾン含有ガスで
満たされており、これは分解装置に導かれ排気される。 この際、内部容量の大きな装置では、処理終了後装置内
を安全上問題のない濃度（例えば０．０５ｐｐｍ）まで
排気するのに長時間必要となり、生産性を損なう。 よって、処理部のオゾン濃度は高く保つものの、槽内の
他の部分は低オゾン濃度にしておくことが望ましく、よ
って、この処理容器には、高濃度オゾン導入部分以外に
、その他の部分のオゾン濃度を希釈せしめる雰囲気ガス
導入部を設けることが望ましい。

【００２０】この雰囲気のオゾン希釈用ガスの湿度管理
も重要であり、低湿度条件を保つことでオゾン処理の効
率を高めることができる。さらに、オゾン濃度，処理時
間に関しては、オゾン濃度をｘｐｐｍ，処理（暴露）時
間をｙ秒とした時、ｘとｙの積が５００００以上である
ことが望ましい。上で述べたように、処理槽内部の湿度
を低湿度、特に２０％ＲＨ以下とすることでオゾン処理
の効果を高めることができる。言い換えれば、湿度管理
が不十分で相対湿度が大きくなると充分な処理の効果を
もたらす上記ｘｙの積は１０００００以上、望ましくは
１５００００以上は必要となる。ｘとｙの積がこれより
小さいと、本発明の耐蝕性向上効果は不十分となる。

【００２１】更に、オゾン雰囲気中にさらす処理を施す
前に強磁性金属薄膜の表面は、清浄にしておく必要があ
る。強磁性金属薄膜の表面が汚染されているとオゾンの
一部が汚染物の除去に消費されてしまう為なのか、前記
本発明の効果が充分に現れない。従って、強磁性金属薄
膜は、例えば水の接触角で管理することが必要で，接触
角６０度以下の表面状態を保った上で、前記のオゾン処
理を施すことが望ましい。

【００２２】オゾン雰囲気としては、乾燥空気中にオゾ
ンを含有させた雰囲気でも良いし、窒素、アルゴン、ヘ
リウムなどの不活性ガス中にオゾンを含有させてもよい
。前記オゾン処理は、強磁性金属薄膜をオゾナイザー等
のオゾン発生源で生成されたオゾンが導入されている処
理室に一定時間曝すことによりなされ、バッチ処理でも
また連続処理でも行うことができる。

【００２３】本発明の強磁性金属薄膜の組成は、酸素を
１５ａｔ％以上含有したＣｏ単体、もしくはＣｏを主成
分とする合金、例えば、ＣｏＮｉ、ＣｏＣｒ等があげら
れる。但し、酸素を含有する結果、これらはＣｏ−Ｏ，
ＣｏＮｉ−Ｏ，ＣｏＣｒ−Ｏ等となる。強磁性金属薄膜
中の酸素含有量は、ＡＥＳ（オージェ電子分光分析）深
さ分析にて算出する。

【００２４】本発明の方法における磁気記録媒体の前記
強磁性金属薄膜は、真空蒸着法、スパッタリング法など
の真空成膜法によって非磁性基体上に成膜される。強磁
性金属薄膜中に酸素を所定量含有させるために、成膜室
内には、同時に酸素が導入される。

【００２５】前記強磁性金属薄膜の膜厚としては、通常
、５００乃至３０００Ａ（オングストローム）の範囲に
あることが望ましい。

【００２６】本発明の方法における磁気記録媒体の前記
非磁性基体は、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミ
ド、ポリアラミド等の高分子フィルムが使用される。そ
の厚さとしては、用途によって相違するが、通常、数μ
ｍ乃至数１０μｍである。本発明の方法における磁気記
録媒体の前記強磁性金属薄膜の表面には、走行耐久性を
付与する目的で、各種の潤滑剤が塗布することもできる
。前記潤滑剤としては、特に制限はなく従来より知られ
ている各種の化合物を用いることが出来る。例えば、各
種の脂肪酸エステル、高級脂肪酸、高級脂肪酸の塩、シ
ラン化合物、フッ素含有化合物等が使用できる。

【００２７】更に、本発明の磁気記録媒体の走行性を高
めるために、非磁性基体の強磁性金属薄膜がある面とは
反対の面にカーボンブラック等の微粉末と結合剤樹脂と
を主体とする塗膜より成るバックコート層を設けること
ができる。

【００２８】ＰＥＴなどの高分子フイルム上にＥＢ（電
子ビーム）蒸着によって設けられた蒸着原反を、上記オ
ゾン処理を施した時、高分子フイルムの変形を伴う面欠
陥を生じる場合がある。この現象の原因については、未
だ不明の点も多いのであるが、オゾン処理時のフイルム
の被る熱ショック，蒸着磁性膜のオゾンによる硬化の組
み合わせで発生している可能性が高い。本発明者は種々
検討の結果、この面欠陥を以下の方法で回避しうること
を見いだした。

【００２９】即ち電子ビーム蒸着で強磁性金属薄膜を設
けた後、強磁性金属薄膜が蒸着されていない非磁性高分
子フイルム側を１００℃以上の熱ローラーにはわせて、
熱を与えることにより、カッピング修正ならびに除電処
理を行い、その後オゾン処理する方法である。この方法
によって、上記面欠陥の発生を抑えうるメカニズムは不
明であるが、おそらくは、蒸着時に高分子フイルム内に
蓄積された応力の緩和に関係するものと思われる。

【００３０】あるいはまた、電子ビーム蒸着時に高分子
フイルム内部に埋め込まれた電子による帯電、この帯電
を上記処理により除電している効果による場合も考えら
れる。前記熱ローラーの温度は１００℃以上が望ましく
、より望ましくは１１０℃以上である。この温度以下で
はカッピング修正効果，除電効果ともに不十分である。 　また、温度の上限は高分子フイルムの耐熱性にもよる
わけであるが、フイルムの耐熱性能の許す範囲内で高温
であるほど、このカッピング修正のための時間は少なく
てすむ、即ち、処理速度を高めることができ望ましい。

【００３１】本発明の製造方法に置ける、磁気記録媒体
の前記強磁性金属薄膜の密着性を高めるために非磁性基
体と強磁性金属薄膜との間に中間層を設けることもでき
る。本発明の新規な特徴を以下の実施例、比較例によっ
て更に具体的に説明する。

【００３２】

【実施例】（実施例１）図３にその要部断面の概略図を
示した蒸着装置１を用いて、以下の手順で磁気記録媒体
の試料を製造した。送り出し巻取り室１ａ、成膜室１ｂ
に取り付けられた排気口２および１６から排気を行なっ
て、前記成膜室１ｂの真空度を７×１０−５Ｔｏｒｒ以
下とした。しかる後に、送り出しロール３に巻かれた幅
３００ｍｍ、厚み９．７μｍのポリエチレンテレフタレ
ートフイルムの非磁性基体を４０ｍ／分の搬送速度で送
り出し、パスロール、隔壁を介して前記成膜室に導き入
れ、ー３０℃に冷却された冷却キャン８に沿わせて密着
搬送しつつ、再び隔壁、パスロールを介して巻取りロー
ル４に巻き取った。この中途にて２箇所のグローボック
スにおいて、グロー処理を行なって前記非磁性基体の表
面の清浄を行なった。

【００３３】別途、第１酸素導入口９より毎分１４００
ｃｃ、第２酸素導入口より毎分１２００ｃｃ酸素を導入
し、坩堝１２中にいれたＣｏ８０Ｎｉ２０合金１３を電
子ビーム源１４及び電子ビーム１５により加熱して、シ
ャッター１１で入射角をコントロールして入射角４３度
の斜め蒸着によって、蒸気流１８を前記冷却キャン８上
の前記非磁性基体５の上に２２００Ａの厚さに強磁性金
属薄膜を成膜して、磁気記録媒体を得た。

【００３４】得られた蒸着原反に図２に要部を示した連
続式オゾン処理機にてオゾン処理を施した。まず、上記
蒸着原反を送り出しロール２０５に取り付け、パス系を
介して巻取りロール２０６に巻き取るようウェブを張り
、３０ｃｍ／分の低速搬送を行った。この状態で容器を
密閉し、雰囲気ガス導入口２１５ａ，２１５ｂより室温
１０％ＲＨ以下の空気を３時間、５０リットル／分ずつ
導入して「初期槽内湿度」を低湿とした。（装置内容積
はほぼ１０ｍ３　である）　　また、このときポンプ２
１６を作動せしめ、槽内は大気圧に比べやや減圧状態と
した。次に、加熱ドラム２０３の温度を１１０℃とし、
搬送速度を可変とし、２１５ａ，２１５ｂよりの雰囲気
ガス導入量を３０リットル／分ずつとした。更に酸素導
入管２０１を介して酸素ガスをオゾナイザー２０２に送
り込み、オゾン導入管２１３を通じて２０リットル／分
、１００００ｐｐｍのオゾン含有酸素ガスを蒸着膜表面
に吹き付けた。ここでオゾン吹き出し口覆い２１２に対
抗する部分は加熱ドラム周囲の内１ｍに相当する。

【００３５】蒸着膜がオゾン雰囲気に曝される時間は上
記搬送速度によって変化する。搬送速度５ｍ／分，１０
ｍ／分，１５ｍ／分，２０ｍ／分　　の各々の搬送速度
でオゾン　処理を行った。このとき曝される時間は各々
１２秒、６秒、４秒、３秒に相当する。

【００３６】（実施例ー２）実施例ー１において、第１
酸素導入口９からは酸素を導入せず、以下は実施例ー１
と同一条件で４種類の磁気記録媒体を作製した。 （実施例ー３）実施例ー１において、第１酸素導入口９
からは酸素を導入せず、第２酸素導入口からは３５０ｃ
ｃ／分の酸素を導入した以外は実施例ー１と同一条件で
４種類の磁気記録媒体を得た。 （実施例ー４）ドラム温度を２３℃，５０℃，８０℃，
１２０℃とした以外は実施例ー１と同様として、１５ｍ
／分の搬送速度で４種類の磁気記録媒体を得た。 （実施例ー５）オゾン濃度を５０００ｐｐｍ，９８００
０ｐｐｍとした以外は実施例ー１と同様とし、２０ｍ／
分の搬送速度で２種類の磁気記録媒体を得た。 （比較例ー１）実施例ー１でオゾン処理を行なわなかっ
た以外は、実施例１と同一の条件で磁気記録媒体を得た
。 （比較例ー２）実施例ー２でオゾン処理を行なわなかっ
た以外は、実施例２と同一の条件で磁気記録媒体を得た
。 （比較例ー３）実施例ー３でオゾン処理を行なわなかっ
た以外は、実施例３と同一の条件で磁気記録媒体を得た
。 （比較例ー４）実施例ー１において最初の低湿雰囲気置
換を行わず、かつ処理時の雰囲気ガスを２３℃７５％Ｒ
Ｈのものとした以外は実施例ー１と同一の条件で４種類
の磁気記録媒体を得た。 （比較例ー５）実施例ー１において最初の低湿度雰囲気
の置換を行わなかった以外は、実施例ー１の２０ｍ／分
の搬送条件と同様にして３０００ｍ長の処理をおこなっ
た。

【００３７】以上のようにして得られた各磁気記録媒体
の試料について、強磁性金属薄膜中の酸素含有量の測定
及び耐蝕性の評価を以下のように行った。得られた結果
を表１〜表５に示す。

【００３８】強磁性金属薄膜中の酸素含有量は、オージ
ェ電子分光法により求めた。耐蝕性の評価は、前記磁気
記録媒体の試料の強磁性金属薄膜上に５重量％の食塩水
をエアゾールにして３分間吹き付け、ついで６０℃８０
％ＲＨの雰囲気化に２日間放置し、放置後の強磁性金属
薄膜表面の状態を肉眼観察及び光学顕微鏡観察（倍率：
５０倍）をして、その錆の発生状況から以下のように評
価点をつけた。 １点　　…　　ほぼ全面にわたり錆の発生が確認できる
。 （肉眼） ２点　　…　　錆の発生が肉眼で確認できる。 ３点　　…　　肉眼では錆は確認できないが、光学顕微
鏡で観察するとかなりの錆の発生が確認できる。 ４点　　…　　肉眼では錆は確認できないが、光学顕微
鏡で観察すると錆の発生が幾らか認められる。 ５点　　…　　肉眼で錆は認められず、又光学顕微鏡で
も錆は殆ど認められない。

【００３９】

【表１】

【００４０】

【表２】

【００４１】

【表３】

【００４２】

【表４】

【００４３】

【表５】

【００４４】比較例ー５については３０００ｍ長長さ方
向で約５００ｍおきにサンプリングして上記耐蝕性の評
価をおこなったところ、長さ方向で耐蝕性に相違があっ
た。即ち、処理のはじめの約１０００ｍは１〜２点であ
ったが、処理の一番最後の部分は４点であった。

【００４５】（実施例ー６）実施例ー１に記載された方
法で蒸着原反を得た。図４に要部断面を示したカッピン
グ修正機により、蒸着原反のカッピング修正を行う。蒸
着原反４０１が送り出され、フリーローラー４０２，ニ
ップローラー４０３を介して熱ドラム４０４に高分子フ
イルム側よりはわせる。このとき、熱ドラムにはテフロ
ンコート４０５が施されている。　　処理すみ原反はフ
リーローラー４０６を介して巻取り軸に巻き取られる。 処理条件としては、熱ドラム温度１１５℃，搬送速度３
５ｍ／分を選定した。次に、こうしてカッピング修正を
施した蒸着原反を実施例ー１の１０ｍ／分搬送と同様条
件にてオゾン処理した。

【００４６】こうして得られた磁気記録媒体表面を顕微
鏡観察（×２０倍）し、２０ｍｍ角に観察される面欠陥
を計数した。実施例ー１の試料ではＭＤ方向に長さ０．
５ｍｍ前後の短いスジが３０個見られた。これに対して
実施例ー６の試料では、このスジは１〜２個観察される
にすぎなかった。

【００４７】

【発明の効果】Ｃｏを主成分とし酸素を１５ａｔ％以上
含有する強磁性金属薄膜を非磁性基体上に成膜した後に
、オゾン含有雰囲気中に曝す処理を施す方法によって、
特に、従来の方法では困難であった塩害による耐腐食性
を高めることが出来、もって電磁変換特性が良好でかつ
耐侯性に優れた磁気記録媒体を得ることが出来る。 また特に、この際の湿度を低湿に保つことで、オゾン処
理の効果を高め、生産性を向上することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】強磁性金属薄膜をオゾン処理するためのバッチ
式オゾン処理装置の要部断面の概略図である。

【図２】磁気記録媒体の強磁性金属薄膜をオゾン処理す
るための連続式オゾン処理装置の要部断面の概略図であ
る。

【図３】磁気記録媒体の強磁性金属薄膜を成膜するため
の斜め蒸着装置の要部断面を示す概略図である。

【図４】蒸着原反をカッピング修正するためのカッピン
グ修正機の概略断面図である。

【符号の説明】

１００　　酸素ボンベ １０２　　オゾナイザー １０３　　導入管 １０４　　ケーシング １０５　　磁気記録媒体 １０６　　ホットプレート １０７　　基盤 １０８　　排気管 １０９　　触媒分解装置 １１０　　処理槽 １　　斜め真空蒸着装置 １ａ　送り出し巻取り装置 １ｂ　成膜室 ２　　排気口 ３　　送り出しドラム ４　　巻取りドラム ５　　非磁性基体 ６　　搬送ロール ７　　搬送ロール ８　　冷却キャン ９　　酸素導入管 １０　　酸素導入管 １１　　遮蔽板 １２　　ルツボ １３　　強磁性金属 １４　　電子ビーム発生源 １５　　電子ビーム １６　　隔壁 １７　　隔壁 １８　　蒸気流 １９　　グローボックス ２０　　グローボックス ２００ａ　送り出し巻取り室 ２００ｂ　オゾン処理室 ２０１　　酸素導入管 ２０２　　オゾナイザー ２０３　　加熱ドラム ２０４　　連続式オゾン処理装置 ２０５　　送り出しロール ２０６　　巻取りロール ２０７　　磁気記録媒体 ２０８　　触媒分解装置 ２０９　　隔壁 ２１０　　搬送ロール ２１１　　搬送ロール ２１２　　覆い ２１３　　オゾン導入管 ２１４　　排気管 ２１５ａ　　雰囲気ガス導入口 ２１５ｂ　　雰囲気ガス導入口 ２１６　　ポンプ ４０１　　蒸着原反 ４０２　　フリーローラー ４０３　　ニップローラー ４０４　　熱ドラム ４０５　　テフロンコート ４０６　　フリーローラー ４０７　　蒸着原反

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　非磁性基体上に酸素を１５ａｔ％以上
   含有したＣｏを主成分とする強磁性金属薄膜成膜した後
   に、該強磁性金属薄膜を相対湿度が２０％以下であり且
   つオゾン含有の雰囲気中に曝す処理を施すことを特徴と
   する磁気記録媒体の製造方法。
2. 【請求項２】　　非磁性基体近傍における酸素含有量が
   ５ａｔ％以上である請求項１の磁気記録媒体の製造方法
   。
3. 【請求項３】　　非磁性基体上に酸素を１５ａｔ％以上
   含有したＣｏを主成分とする強磁性金属薄膜成膜して磁
   気記録媒体を得た後に、該磁気記録媒体を８０℃以上に
   保持しつつ、相対湿度２０％以下であり且つオゾン含有
   の雰囲気中に前記強磁性金属薄膜を曝すことを特徴とす
   る磁気記録媒体の製造方法。
4. 【請求項４】　　オゾン濃度をｘｐｐｍ、前記強磁性金
   属薄膜を曝す時間をｙ秒とした時ｘｙ＞５００００　　
   である請求項１の磁気記録媒体の製造方法。
5. 【請求項５】　　電子ビーム蒸着法により非磁性高分子
   フイルム上に酸素を１５ａｔ％以上含むＣｏを主体とし
   た強磁性金属薄膜を設けて磁気記録媒体を得たた後に、
   該磁気記録媒体の非磁性高分子フイルム側を１００℃以
   上の熱ローラー表面上にはわせ、次いで相対湿度２０％
   以下であり且つオゾン含有の雰囲気中に前記強磁性金属
   薄膜を曝すことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。