JPH0432031B2 - - Google Patents

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JPH0432031B2
JPH0432031B2 JP62186753A JP18675387A JPH0432031B2 JP H0432031 B2 JPH0432031 B2 JP H0432031B2 JP 62186753 A JP62186753 A JP 62186753A JP 18675387 A JP18675387 A JP 18675387A JP H0432031 B2 JPH0432031 B2 JP H0432031B2
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sic
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carbon
toughness
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Description

【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野) 本発明は、SiC特有の高温特性を有し、かつ靱
性の高い焼結体を常圧焼結により得ることのでき
るSiC複合焼結体及びその製造方法に関するもの
である。 (従来の技術) 従来、単一相のSiC焼結体としてはその添加物
によりB−C系助剤SiCとAl系助剤SiCとがある。
B−C系SiCは高温特性は良好だが靱性が劣る
(KIC=2〜3MN/m3/2)ことが、またAl系SiC
は靱性は良好だが高温特性がそれほど良好でない
ことが知られている。 Al系SiCにおいて、より高靱性化を目的とし
て、特開昭60−186468号公報においてセラミツク
ス構造材及びその製造方法が開示されている。こ
のセラミツクス構造材は、炭化ケイ素に周期表の
第a族若しくは第a族元素の各ホウ化物の
少なくとも1種を含有させたものであり、所定組
成の元素を混合し、1900〜2500℃の範囲内の温度
で焼成して得られるものである。 (発明が解決しようとする問題点) しかしながら、上述した特開昭60−186468号公
報に示されたセラミツクス構造材においては、そ
の実施例では、W2Bを添加剤としホツトプレス
により緻密化を進め破壊靱性を改善している。こ
れはW2Bが難焼結性であり、常圧焼結では、緻
密化できない欠点を有するためである。しかしホ
ツトプレスは複雑形状の焼結体を得ることができ
ないとともに、量産性、製造コストの点で工業的
利用価値は低い。 また、一般にAl系助剤を用いた場合、低融点
粒界相がSiC粒界に残存し、高温での強度低下、
耐酸化性の低下等高温材料としては致命的欠点を
有している。 本発明の目的は上述した欠点を解消して、SiC
特有の高温特性を維持しつつ靱性の高い焼結体を
常圧焼結により得ることのできる高強度・高靱性
SiC複合焼結体及びその製造方法を提供しようと
するものである。 (問題点を解決するための手段) 本発明の第1発明であるSiC複合焼結体は、
SiCが20〜99wt%、W2B5が80〜0.5wt%、硼素、
炭素、炭化硼素のうち少なくとも1種類が0.5〜
5wt%からなることを特徴とする焼結体である。 本発明の第2発明であるSiC複合焼結体の製造
方法は、平均粒径5μm以下のSiC粉末20〜99wt
%、W2B5又はW2B5を生成する化合物をW2B5
換算して80〜0.5wt%、硼素又は硼素を含有する
化合物を硼素に換算して0.1〜5wt%、炭素又は炭
素を生成する有機化合物を炭素に換算して0.1〜
5wt%からなる調合粉末を混合成形し、次いで真
空中又は不活性雰囲気中1900〜2300℃の温度下で
焼成することを特徴とするものである。 (作用) 上述した構成において、B−C系SiCに所定量
のW2B5を含有させることにより、B−C系SiC
の欠点であつた靱性を高めることができ、高温で
も高強度で高靱性のSiC複合焼結体を常圧焼結に
より得ることができる。すなわち、W2B5は熱的
に安定なため優れた高温特性を発揮するととも
に、SiCに比べてヤング率が高く、SiCマトリツ
クス内を進展するクラツクがW2B5粒子により反
跳されるクラツクデイフレクト作用が有効に発揮
され靱性が向上する。同時にW2B5自体焼結過程
で緻密化を促進する効果があり、従来のSiC焼結
体では得られない高密度を常圧焼結法で達成でき
る。各種硼化物、及びSiCのヤング率、融点を第
1表にまとめて示す。本データは、サムソノフ著
高融点化合物便覧より抜すいした。
【表】 これらの効果はSiCとW2B5の複合焼結体にお
いてのみ得られるものであり、従来全く知られて
いない。 原料となるSiC粉末の平均粒径を5μm以下と限
定したのは、SiC粉末の平均粒径が5μmを超える
と常圧焼結で緻密化が不可能なためである。 SiCの組成範囲を20〜99wt%と限定したのは、
他の添加物との関係で他の添加物の総量が80wt
%を超えると基礎となるSiCの特性を十分に発揮
することができないとともに、1wt%未満である
と添加物の性質改善効果がないためである。な
お、このSiCの組成範囲は30〜95wt%であると好
ましく、40〜90wt%であるとさらに好ましい。 添加物として、W2B5が80〜0.5wt%と限定した
のは、80wt%を超えると高温特性が劣化すると
ともに0.5wt%未満であると靱性の向上がないた
めである。この添加量は70〜5wt%であると好ま
しく、60〜10wt%であるとさらに好ましい。 また、B化合物を0.1〜5wt%と限定したのは、
0.1wt%未満であるとその添加効果が認められず、
緻密化に寄与しないとともに、5wt%を超えると
緻密化が阻害されるとともにBが粒界に多量に残
り高温特性が劣化するためである。 さらに、C化合物を0.1〜5wt%と限定したの
は、0.1wt%未満ではSiC表面のSiO2膜を除去で
きないとともに5wt%を超えると焼成体にfree−
Cが多量に残り特性が劣化するためである。 (実施例) 第1図は本発明製造方法の製造工程の一例を示
す図である。まず、SiC原料粉末の平均粒径を5μ
m以下となるように準備するとともに、添加剤と
してW2B5,B,Cを準備する。本実施例に用い
たSiC原料粉末はβ−SiC:93wt%を含み残部が
α−SiCよりなり、平均粒計0.42μm、比表面積
20.0m2/gであり、第2表に示す化学組成を有し
ている。 第2表 (wt%) Total−Si 69.13 Free−SiO2 0.47 Free−Si 0.010 Free−C 0.51 O 0.90 Al 0.056 Fe 0.060 Ca 0.016 Mg 0.001 K <0.001 Na 0.001 Cu − Ti 0.007N 0.27 次に準備したSiC原料粉末およびW2B5,B,
Cの添加剤の所定量を、イソプロピルアルコール
を使用した湿式ボールミルにより粉砕・混合す
る。粉砕・混合後の原料は一旦乾燥した後造粒す
る。その後、造粒した粉末を予備成形し、さらに
静水圧プレスにより所定形状に成形する。最後に
1900〜2300℃真空中又は不活性ガス中で焼成して
焼結体を得ている。 なお、上述した製造方法において、W2B5の添
加を、W2B5以外の硼化物、酸化物、単体及び硼
素含有添加剤として別々に添加し、焼成初期又は
焼成前の別な熱処理等によりW2B5を成形体内又
は混合粉末内で合成することも可能である。この
場合、W2B5を合成させるに十分な余分のBの添
加が必要となる。また成形体を焼成後、カプセル
HIP又はカプセルフリーHIPによりさらに緻密化
を行ない特性をさらに向上することも可能であ
る。 以下、実際の例について説明する。 実施例 1 平均粒度5μm以下のSiC粉末、添加剤として
W2B5、焼結助剤としてB(金属硼素)、C(カー
ボンブラツク)を第3表に示す割合でイソプロピ
ルアルコールを使用した湿式ボールミルで混合、
乾燥後造粒し、さらに予備成形後3ton/cm2の静水
圧プレスにより60×60×6mmの角板を作製した。
作製した角板を1500℃までは真空中でその後アル
ゴン1気圧中2100℃で1時間焼成してそれぞれ本
発明実施例および比較例の焼結体を得た。なお実
施例5−2は実施例5の焼結体に対して2000℃、
2000気圧のHIP処理を行なつたものである。 得られたそれぞれの焼結体に対して、焼結体を
鏡面研磨し気孔分布より焼結体の相対密度を測定
して緻密性を評価するとともに、室温および1400
℃の温度でJIS R−1601(フアインセラミツクス
の曲げ強さ試験法)に従つた四点曲げ試験を実施
して室温、高温強度を評価した。さらに、室温に
おけるシユブロンノツチ法によりそれぞれのKIC
を求めて靱性を評価するとともに、CuKαを用い
たX線回折法により、焼結体中のW化合物を同定
した。結果を第3表に示す。
【表】
【表】 第3表の結果から、本発明の組成範囲を満足す
る実施例1〜10は比較例1〜6と比べて緻密かつ
高温強度が良好であるとともに従来のSiC単味の
KIC(2〜3)に比べて高いKIC値を示し靱性が向
上していることがわかる。さらに、焼成後HIP処
理を行なつた実施例5−2では、すべての点がさ
らに良好な性質が得られた。 焼結体中のW化合物はJCPDSカードNo.30−
1385に示されるW2B5であることが確認された。 第3表中実施例4のCuKα線によるX線回折線
を第2図に示す。 また、本実施例の焼結体を化学分析した結果、
SiC原料及び添加剤に含まれる不可避の金属不純
物(Al,Fe,Ca,Mg,Ti,Mn等)が0.01〜
0.06wt%検出された。 実施例 2 本発明における必須成分であるW2B5をW2B5
以外の硼化物、炭化物、酸化物単体で添加し、粉
砕、混合後、実施例1と同様の方法でそれぞれの
焼結体を得た。 その後、得られた焼結体の理論密度とW化合物
を実施例1と同様の方法で求めた。結果を第4表
に示す。
【表】 第4表の結果から、比較例7〜12に示すように
W2B5以外の添加剤の場合、従来知られているB
量(1wt%添加)では焼結体の高い相対密度すな
わち緻密化を達成することができないことがわか
る。また比較例13、14に示すようにBの量を増加
したものであつても焼結体中でW2B5になつてい
ないと、同様に高い相対密度を達成できないこと
がわかる。 実施例11、12に示すようにBの量を更に増加
し、Bの量のモル数がW添加量のモル数の2.5倍
(W:50wt%の場合、B:7.3wt%)以上添加し
た場合、W2B5が焼成初期に成形体中で形成さ
れ、実施例1で示したW2B5で添加した場合と同
様に緻密化を達成することができることがわか
る。 (発明の効果) 以上詳細に説明したところから明らかなよう
に、本発明のSiC複合焼結体およびその製造方法
によれば、B−C系SiCに所定量のW2B5を含有
させることにより、高温強度を保つたままB−C
系SiCの欠点であつた靱性を高めることができ、
高温でも高強度で高靱性のSiC複合焼結体を常圧
焼結により得ることができる。 本発明のSiC複合焼結体の特徴を従来技術と比
較して第5表に示す。
【表】 【図面の簡単な説明】
第1図は本発明製造方法の製造工程の一例を示
す図、第2図は本発明により得られた焼結体実施
例4のCuKα線によるX線回折結果の回折線を示
す線図である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 SiCが20〜99wt%、W2B5が80〜0.5wt%、硼
    素、炭素、炭化硼素のうち少なくとも1種類が
    0.5〜5wt%からなることを特徴とするSiC複合焼
    結体。 2 平均粒径5μm以下のSiC粉末20〜99wt%、
    W2B5又はW2B5を生成する化合物をW2B5に換算
    して80〜0.5wt%、硼素又は硼素を含有する化合
    物を硼素に換算して0.1〜5wt%、炭素又は炭素を
    生成する有機化合物を炭素に換算して0.1〜5wt%
    からなる調合粉末を混合成形し、次いで真空中又
    は不活性雰囲気中1900〜2300℃の温度下で焼成す
    ることを特徴とするSiC複合焼結体の製造方法。
JP62186753A 1987-07-28 1987-07-28 Sic composite sintered body and production thereof Granted JPS6433070A (en)

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US07/222,554 US4963516A (en) 1987-07-28 1988-07-21 SiC complex sintered bodies and production thereof
EP88306863A EP0301802B1 (en) 1987-07-28 1988-07-26 Sic complex sintered bodies and production thereof
DE88306863T DE3881777T2 (de) 1987-07-28 1988-07-26 Gesinterte Siliziumcarbid-Verbundkörper und Verfahren zu ihrer Herstellung.
CA000573126A CA1314295C (en) 1987-07-28 1988-07-27 Sic complex sintered bodies and production thereof
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