JPH043392B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は、一般式 〔式中、R₁は水素原子または低級アルキル基
を表わし、R₂は低級アルコキシ基、低級ハロア
ルコキシ基、低級シクロアルコキシ基、低級アル
キルチオ基、低級アルキルアミノ基またはジ低級
アルキルアミノ基を表わす。〕 で示されるテトラヒドロフタルイミド誘導体（以
下、本発明化合物と配す。）、その製造法およびそ
れを有効成分とする除草剤に関するものである。 ある種のテトラヒドロフタルイミド誘導体、例
えば２−（４−クロロフエニル）−４，５，６，７
−テトラヒドロ−2H−イソインドール−１，３
−ジオンが、除草剤の有効成分として用いうるこ
とは、特公昭48−11940号公報に記載されている。
しかしながら、これらの化合物は、除草剤の有効
成分として必ずしも常に充分なものであるとはい
えない。 本発明化合物は畑地の茎葉処理および土壌処理
において、問題となる種々の雑草、例えば、ソバ
カズラ、サナエタデ、スベリヒユ、シロザ、アオ
ビユ（アオゲイトウ）、ダイコン、アメリカツノ
クサネム、エビスグサ、イチビ、アメリカキンゴ
ジカ、フイールドバンジー、ノラニンジン、ヤエ
ムグラ、アメリカアサガオ、マルバアサガオ、セ
イヨウヒルガオ、ヒメオドリコソウ、ホトケノ
ザ、ヨウシユチヨウセンアサガオ、イヌホオズ
キ、オオイヌノフグリ、フラサバソウ、オナモ
ミ、ヒマワリ、イヌカミツレ、コーンマリーゴー
ルド等の広葉雑草、ヒエ、イヌビエ、エノコログ
サ、メヒシバ、スズメノカタビラ、ブラツクグラ
ス、エンバク等のイネ科雑草およびコゴメガヤツ
リ等のカヤツリグサ科雑草等に対して除草効力を
有し、しかもいくつかの本発明化合物はトウモロ
コシ、コムギ、イネ、ダイズ等の主要作物に対し
て問題となるような薬害を示さない。 また、本発明化合物は水田の湛水処理において
問題となる種々の雑草、例えば、タイヌビエ等の
イネ科雑草、アゼナ、キカシグサ、ミゾハコベ等
の広葉雑草、タマガヤツリ、ホタルイ、マツバ
イ、ミズガヤツリ等のカヤツリグサ科雑草、コナ
ギ、ウリカワ等の水田雑草に対して除草効力を有
し、しかもイネに対して問題となるような薬害を
示さない。 本発明化合物は、２−（４−クロロ−３−ヒド
ロチオフエニル）−４，５，６，７−テトラヒド
ロ−2H−イソインドール−１，３−ジオンと一
般式 〔式中、R₁およびR₂は前記と同じ意味を表わ
し、Ｙは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を
表わす。〕 で示されるα−ハロカルボン酸誘導体とを溶媒
中、脱ハロゲン化水素剤および必要に応じ、相間
移動触媒の存在下、70℃〜100℃、１時間〜24時
間反応させることによつて製造することができ
る。 反応に供される試剤の量は、２−（４−クロロ
−３−ヒドロチオフエニル）−４，５，６，７−
テトラヒドロ−2H−イソインドール−１，３−
ジオン１当量に対して、α−ハロカルボン酸誘導
体〔〕は１〜５当量、脱ハロゲン化水素剤は１
〜10当量、相間移動触媒は0.01〜１当量である。 溶媒には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン等
の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシ
レン等の芳香族炭化水素類、ジクロロエタン、ク
ロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化
炭化水素類、ジイソプロピルエーテル、ジオキサ
ン、ジエチレングリコールジメチルエーテル等の
エーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキ
サノン等のケトン類、アセトニトリル、イソブチ
ロニトリル等のニトリル類、ホルムアミド、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトアミド等の酸
アミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等
の硫黄化合物、水等あるいは、それらの混合物が
ある。 脱ハロゲン化水素剤には、ピリジン、トリエチ
ルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン等の有機塩
基、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム等の
無機塩基、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエ
トキシド等のアルカリ金属アルコキシド等があ
る。 相間移動触媒には、臭化テトラ−ｎ−ブチルア
ンモニウム、塩化ベンジルトリ−ｎ−ブチルアン
モニウム等がある。 反応終了後は、通常の後処理を行い、必要なら
ば、クロマトグラフイー、再結晶等によつて精製
する。 次に、本発明化合物の製造例を示す。 製造例 １ （本発明化合物１の製造） ２−（４−クロロ−３−ヒドロチオフエニル）−
４，５，６，７−テトラヒドロ−2H−イソイン
ドール−１，３−ジオン1.5ｇと臭化テトラ−ｎ
−ブチルアンモニウム0.2ｇとを５％水酸化カリ
ウム水溶液９mlに懸濁させ、80〜90℃に加熱し
た。これにブロモ酢酸を２，２−ジクロロエチル
3.5ｇを80〜90℃で滴下し、同じ温度でさらに１
時間加熱した。反応混合物が冷えてから水で希釈
し、トルエンで抽出した。減圧下トルエンを留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー
（溶出液；酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：４）
で精製し、２−〔４−クロロ−３−（２，２−ジク
ロロエチルオキシカルボニルメチルチオ）フエニ
ル〕−４，５，６，７−テトラヒドロ−2H−イソ
インドール−１，３−ジオン0.6ｇを得た。n^28.0 _D
1.5897 このような製造法によつて製造できる本発明化
合物のいくつかを、第１表に示す。

【表】 本発明化合物を製造する場合、原料化合物であ
る２−（４−クロロ−３−ヒドロチオフエニル）−
４，５，６，７−テトラヒドロ−2H−イソイン
ドール−１，３−ジオンは、２−クロロ−５−ア
ミノベンゼンチオールと３，４，５，６−テトラ
ヒドロフタル酸無水物とを溶媒中、90℃〜120℃、
１時間〜24時間反応させることによつて製造する
ことができる。その際、３，４，５，６−テトラ
ヒドロフタル酸無水物は、２−クロロ−５−アミ
ノベンゼンチオール１当量に対して、１〜３当量
用いる。 溶媒には、ヘキサン、リグロイン等の脂肪族炭
化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳
香族炭化水素類、ジイソプロピルエーテル、ジオ
キサン、ジエチレングリコールジメチルエーテル
等のエーテル類、酢酸、プロピオン酸等の脂肪
酸、水等あるいは、それらの混合物がある。 反応終了後は、通常の後処理を行い、必要なら
ばクロマトグラフイー、再結晶等によつて精製す
る。 次に２−（４−クロロ−３−ヒドロチオフエニ
ル）−４，５，６，７−テトラヒドロ−2H−イソ
インドール−１，３−ジオンの製造例を示す。 製造例 ２ ２−クロロ−５−アミノベンゼンチオール21.1
ｇとテトラヒドロフタル酸無水物20.4ｇとを酢酸
130mlに溶解し、100〜110℃で１時間加熱撹拌し
た。反応混合物が冷えてから水で希釈し、析出し
た結晶を取した。この結晶をエタノールでよく
洗い、２−（４−クロロ−３−ヒドロチオフエニ
ル）−４，５，６，７−テトラヒドロ−2H−イソ
インドール−１，３−ジオン28.2ｇを得た。m.
p.153〜155℃本発明化合物の除草剤の有効成分と
して用いる場合は、通常固体担体、液体担体、界
面活性剤その他の製造用補助剤と混合して、乳
剤、水和剤、懸濁剤、粒剤等に製剤する。 これらの製剤には有効成分として本発明化合物
を、重量比で0.03〜90％、好ましくは0.05〜80％
含有する。 固体担体には、カオリンクレー、アツタパルジ
ヤイトクレー、ベントナイト、酸性白土、パイロ
フイライト、タルク、珪藻土、方解石、クルミ
粉、尿素、硫酸アンモニウム、合成含水酸化珪素
等の微粉末あるいは粒状物があり、液体担体に
は、キシレン、メチルナフタレン等の芳香族炭化
水素類、イソプロパノール、エチレングリコー
ル、セロソルブ等のアルコール類、アセトン、シ
クロヘサノン、イソホロン等のケトン類、大豆
油、綿実油等の植物油、ジメチルスルホキシド、
アセトニトリル、水等がある。 乳化、分散、湿度等のために用いられる界面活
性剤には、アルキル硫酸エステル塩、アルキル
（アリール）スルホン酸塩、ジアルキルスルホコ
ハク酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリール
エーテルリン酸エステル塩等の陰イオン界面活性
剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリ
オキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリ
オキシエチレンポリオキシプロピレンブロツクコ
ポリマー、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキ
シエチレンソルビタン脂肪酸エステル等の非イオ
ン界面活性剤等がある。製剤用補助剤には、リグ
ニンスルホン酸塩、アルギン酸塩、ポリビニルア
ルコール、アラビアガム、CMC（カルボキシメチ
ルセルロース）、PAP（酸性リン酸イソプロピル）
等がある。 次に製剤例を示す。なお、本発明化合物は第１
表の化合物番号で示す。部は重量部を示す。 製剤例 １ 本発明化合物１、30部、リグニンスルホン酸カ
ルシウム５部、ラウリル硫酸ナトリウム３部およ
び合成含水酸化珪素62部をよく粉砕混合して水和
剤を得る。 製剤例 ２ 本発明化合物３、10部、ポリオキシエチレンス
チリルフエニルエーテル14部、ドデシルベンゼン
スルホン酸カルシウム６部、キシレン30部および
シクロヘキサノン40部をよく混合して乳剤を得
る。 製剤例 ３ 本発明化合物２、２部、合成含水酸化珪素１
部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、ベント
ナイト30部およびカオリンクレー65部をよく粉砕
混合し、水を加えてよく練り合せた後、造粒乾燥
して粒剤を得る。 製剤例 ４ 本発明化合物６、25部、ポリオキシエチレンソ
ルビタンモノオレエート３部、CMC3部、水69部
を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式
粉砕して懸濁剤を得る。 このようにして製剤された本発明化合物は、雑
草の出芽前または出芽後に土壌処理、茎葉処理ま
たは湛水処理する。土壌処理には、土壌表面処
理、土壌混和処理等があり、茎葉処理には、植物
体の上方からの処理のほか、作物に付着しないよ
う雑草に限つて処理する局部処理等がある。 また、他の除草剤と混合して用いることによ
り、除草効力の増強を期待できる。さらに、殺虫
剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、植物生長調節
剤、肥料、土壌改良剤と混合して用いることもで
きる。 なお、本発明化合物は、水田、畑地、果樹園、
牧草地、芝生地、森林あるいは非農耕地等の除草
剤の有効成分として用いることができる。 本発明化合物を除草剤の有効成分として用いる
場合、その処理量は、気象条件、製剤形態、処理
時期、処理方法、処理場面、対象雑草、対象作物
等によつても異なるが通常１アールあたり0.05ｇ
〜50ｇ、好ましくは、0.2ｇ〜20ｇであり、乳剤、
水和剤、懸濁剤等は、通常、その所定量を１アー
ルあたり１リツトル〜10リツトルの（必要なら
ば、展着剤等の補助剤を添加した）水で希釈して
処理し、粒剤等は、通常、なんら希釈することな
くそのまゝ処理する。 展着剤には、前記の界面活性剤のほか、ポリオ
キシエチレン樹脂酸（エステル）、リグニンスル
ホン酸塩、アビエチン酸塩、ジナフチルメタンジ
スルホン酸塩、パラフイン等がある。 次に、本発明化合物が除草剤の有効成分として
有用であることを試験例で示す。なお、本発明化
合物は、第１表の化合物番号で示し、比較対照に
用いた化合物は第２表の化合物記号で示す。

【表】 また、除草効力は、調査時の供試植物の出芽お
よび生育阻害の程度を肉眼観察し、化合物を供試
していない場合と全くないしほとんど違いがない
ものを「０」とし、供試植物が枯死ないし生育が
完全に阻害されているものを「５」として、０〜
５の６段階に評価し、０、１、２、３、４、５で
示す。 試験例 １ 畑地茎葉処理試験 直径10cm、深さ10cmの円筒型プラスチツクポツ
トに畑地土壌を詰め、ヒエ、エンバク、ダイコ
ン、イチビを播種し、温室内で10日間育成した。
その後、製剤例２に準じて供試化合物を乳剤に
し、その所定量を１アールあたり10リツトル相当
の展着剤を含む水で希釈し、小型噴霧器で植物体
の上方から茎葉処理した。処理後20日間温室内で
育成し、除草効力を調査した。その結果を第３表
に示す。

【表】 試験例 ２ 畑地土壌処理試験 面積33×23cm²、深さ11cmのバツトに畑地土壌を
詰め、ダイズ、ワタ、マルバアサガオ、オナモ
ミ、イチビ、シロザ、トウモロコシ、コムギ、イ
ヌビエ、エノコログサを播種し、１〜２cmの厚さ
に覆土した。製剤例２に準じて供試化合物を乳剤
にし、その所定量を、１アールあたり10リツトル
相当の水で希釈し、小型噴霧器で土壌表面に処理
した。処理後20日間温室内で育成し、除草効力を
調査した。その結果を第４表に示す。

【表】 試験例 ３ 畑地茎葉処理試験 面積33×23cm²、深さ11cmのバツトに畑地土壌を
詰め、ダイズ、ワタ、マルバアサガオ、オナモ
ミ、イチビ、シロザ、トウモロコシ、コムギ、イ
ヌビエ、エノコログサを播種し、18日間育成し
た。その後、製剤例２に準じて供試化合物を乳剤
にし、その所定量を、展着剤を含む１アールあた
り５リツトル相当の水で希釈し、小型噴霧器で植
物体の上方から茎葉部全面を均一に処理した。こ
のとき雑草および作物の生育状況は草種により異
なるが、１〜４葉期で、草丈は２〜12cmであつ
た。処理20日後に除草効力を調査した。その結果
を第５表に示す。なお、本試験は、全期間を通し
て温室内で行つた。

【表】 試験例 ４ 水田湛水処理試験 直径８cm、深さ12cmの円筒型プラスチツクポツ
トに水田土壌を詰め、タイヌビエ、広葉雑草（ア
ゼナ、キカシグサ、ミゾハコベ）、ホタルイの種
子を１〜２cmの深さに混ぜ込んだ。湛水して水田
状態にした後、ウリカワの塊茎を１〜２cmの深さ
に埋め込み、更に２葉期のイネを移植し、温室内
で育成した。６日後（各雑草の発生初期）に製剤
例２に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量
を５ミリリツトルの水で希釈し、水面に処理し
た。処理後20日間温室内で育成し、除草効力を調
査した。その結果を第６表に示す。

【表】

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 〔式中、R₁は水素原子または低級アルキル基
   を表わし、R₂は低級アルコキシ基、低級ハロア
   ルコキシ基、低級シクロアルコキシ基、低級アル
   キルチオ基、低級アルキルアミノ基またはジ低級
   アルキルアミノ基を表わす。〕 で示されるテトラヒドロフタルイミド誘導体。 ２ ２−（４−クロロ−３−ヒドロチオフエニル）
   −４，５，６，７−テトラヒドロ−2H−イソイ
   ンドール−１，３−ジオンと一般式 〔式中、R₁は水素原子または低級アルキル基
   を表わし、R₂は低級アルコキシ基、低級ハロア
   ルコキシ基、低級シクロアルコキシ基、低級アル
   キルチオ基、低級アルキルアミノ基またはジ低級
   アルキルアミノ基を表わし、Ｙは塩素原子、臭素
   原子またはヨウ素原子を表わす。〕 で示されるα−ハロカルボン酸誘導体とを反応さ
   せることを特徴とする一般式 〔式中、R₁およびR₂は前記と同じ意味を表わ
   す。〕 で示されるテトラヒドロフタルイミド誘導体の製
   造法。 ３ 一般式 〔式中、R₁は水素原子または低級アルキル基
   を表わし、R₂は低級アルコキシ基、低級ハロア
   ルコキシ基、低級シクロアルコキシ基、低級アル
   キルチオ基、低級アルキルアミノ基またはジ低級
   アルキルアミノ基を表わす。〕 で示されるテトラヒドロフタルイミド誘導体を有
   効成分とすることを特徴とする除草剤。