JPH0436112Y2 - - Google Patents
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- JPH0436112Y2 JPH0436112Y2 JP1986052405U JP5240586U JPH0436112Y2 JP H0436112 Y2 JPH0436112 Y2 JP H0436112Y2 JP 1986052405 U JP1986052405 U JP 1986052405U JP 5240586 U JP5240586 U JP 5240586U JP H0436112 Y2 JPH0436112 Y2 JP H0436112Y2
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- Japan
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- metal film
- fet
- package
- effect transistor
- field effect
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/90—Bond pads, in general
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/071—Connecting or disconnecting
- H10W72/075—Connecting or disconnecting of bond wires
- H10W72/07541—Controlling the environment, e.g. atmosphere composition or temperature
- H10W72/07551—Controlling the environment, e.g. atmosphere composition or temperature characterised by changes in properties of the bond wires during the connecting
-
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- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/50—Bond wires
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- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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- H10W72/50—Bond wires
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- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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- H10W72/884—Die-attach connectors and bond wires
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- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
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- H10W72/931—Shapes of bond pads
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- H10W90/736—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of die-attach connectors between a chip and a stacked lead frame, conducting package substrate or heat sink
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Landscapes
- Wire Bonding (AREA)
- Amplifiers (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案は半導体装置に関し、特に高周波領域で
使用される電界効果トランジスタ(以下FETと
いう)の内部整合回路に関するものである。
使用される電界効果トランジスタ(以下FETと
いう)の内部整合回路に関するものである。
従来、高周波用のFETに用いられる出力用整
合回路は、FETの外に集中定数あるいはマイク
ロストリツプラインとして、パツケージ出力端子
と出力伝送路との間に接続されるのが一般的であ
つた。
合回路は、FETの外に集中定数あるいはマイク
ロストリツプラインとして、パツケージ出力端子
と出力伝送路との間に接続されるのが一般的であ
つた。
一般に高周波用FETのパツケージ出力端子か
ら見た出力インピーダンスは伝送線路の特性イン
ピーダンスに対して小さい為、整合回路により大
きなインピーダンスに変換を行う必要がある。こ
のため、特に高帯域アンプを実現する上では多く
の回路部品を必要とする。
ら見た出力インピーダンスは伝送線路の特性イン
ピーダンスに対して小さい為、整合回路により大
きなインピーダンスに変換を行う必要がある。こ
のため、特に高帯域アンプを実現する上では多く
の回路部品を必要とする。
又、高周波用FETのソース電極とパツケージ
のソース端子間は、高周波動作用に底インダクタ
ンス化のため、多数本のボンデイングワイヤーで
接続する必要があるが、高周波用FETのソース
電極面積はその構造上限られる為、低インダクタ
ンス化に十分な多数本のボンデイングワイヤーを
接続することが不可能であつた。更に高密度にボ
ンデイングを行う為、製造上の歩留低下の原因と
なつていた。
のソース端子間は、高周波動作用に底インダクタ
ンス化のため、多数本のボンデイングワイヤーで
接続する必要があるが、高周波用FETのソース
電極面積はその構造上限られる為、低インダクタ
ンス化に十分な多数本のボンデイングワイヤーを
接続することが不可能であつた。更に高密度にボ
ンデイングを行う為、製造上の歩留低下の原因と
なつていた。
本考案では出力整合回路の第1段目の並列接続
容量を、半導体基板、酸化膜及び金属膜による
MOS容量としてFETと同一基板内に形成してい
る。
容量を、半導体基板、酸化膜及び金属膜による
MOS容量としてFETと同一基板内に形成してい
る。
本考案の半導体装置は、電界効果トランジスタ
と、この電界効果トランジスタと同一半導体基板
上に形成された酸化膜と金属膜とからなるMOS
容量とを有し、電界効果トランジスタのソース電
極が金属膜に接続され、金属膜とパツケージの端
子とがボンデイングワイヤーで接続されたことを
特徴とする。
と、この電界効果トランジスタと同一半導体基板
上に形成された酸化膜と金属膜とからなるMOS
容量とを有し、電界効果トランジスタのソース電
極が金属膜に接続され、金属膜とパツケージの端
子とがボンデイングワイヤーで接続されたことを
特徴とする。
次に本考案について図面を参照して説明する。
第1図a及び第1図bは本考案の一実施例の平
面図及び断面図である。ドレインとなる半導体基
板8の表面上に形成された酸化膜4と金属膜1お
よび半導体基板8とによりMOS容量を形成して
いる。金属膜1はソース電極2として直接FET
上に延びバツクゲート領域6内に形成されたソー
ス拡散層5と接続している。ゲート電極3が酸化
膜上に設けられており、半導体基板8の裏面には
ドレイン電極7が設けられている。
面図及び断面図である。ドレインとなる半導体基
板8の表面上に形成された酸化膜4と金属膜1お
よび半導体基板8とによりMOS容量を形成して
いる。金属膜1はソース電極2として直接FET
上に延びバツクゲート領域6内に形成されたソー
ス拡散層5と接続している。ゲート電極3が酸化
膜上に設けられており、半導体基板8の裏面には
ドレイン電極7が設けられている。
第2図は、パツケージ実装時の一実施例であ
る。FETのソースに接続した金属膜1は、ボン
デイングワイヤ11により、パツケージ9のソー
ス端子10に接続され、裏面電極7はパツケージ
のドレイン端子12に接続されている。
る。FETのソースに接続した金属膜1は、ボン
デイングワイヤ11により、パツケージ9のソー
ス端子10に接続され、裏面電極7はパツケージ
のドレイン端子12に接続されている。
第3図は本考案の一実施例のFETを実装した
回路実施例の等価回路であり、破線13で囲んだ
部分がMOS容量20を同一基板上に有するFET
21とからなる本考案の一実施例の等価回路であ
る。
回路実施例の等価回路であり、破線13で囲んだ
部分がMOS容量20を同一基板上に有するFET
21とからなる本考案の一実施例の等価回路であ
る。
従来、パツケージ外部に接続された第1段目並
列容量がFETと同一基板上に形成されているこ
とを示す。
列容量がFETと同一基板上に形成されているこ
とを示す。
以上説明したように本考案は、FETと同一基
板内にドレイン、ソース間と並列のMOS容量を
形成し、内部整合回路用並列容量とすることによ
り、広帯域アンプの設計を行う上で、外付け部品
点数の低減が可能となる。さらに、パツケージの
ソース電極との接続は、面積の広い内部整合回路
用のMOS容量金属膜を用いることが出来る為、
ボンデイングが容易となり歩留向上の効果があ
る。
板内にドレイン、ソース間と並列のMOS容量を
形成し、内部整合回路用並列容量とすることによ
り、広帯域アンプの設計を行う上で、外付け部品
点数の低減が可能となる。さらに、パツケージの
ソース電極との接続は、面積の広い内部整合回路
用のMOS容量金属膜を用いることが出来る為、
ボンデイングが容易となり歩留向上の効果があ
る。
第1図aは本考案の一実施例の平面図、第1図
bは第1図aの断面図、第2図は本考案の一実施
例のFETのパツケージ実装時の側面図、第3図
は本考案の一実施例のFETの回路実装例の等価
回路図である。 1……金属膜、2……ソース電極、3……ゲー
ト電極、4……酸化膜、5……ソース拡散層、6
……バツクゲート領域、7……ドレイン電極、8
……半導体基板、9……パツケージ、10……パ
ツケージのソース端子、11……ボンデイングワ
イヤー、12……パツケージのドレイン端子、1
3……本考案の一実施例のMOS容量を有する
FETの等価回路、14……整合回路入力端子、
15……整合回路出力端子、16……ゲート直流
バイアス回路、17……直流バイアス回路、18
……整合用インダクタンス、19……整合用容
量、20……FETと同一基板上に形成したMOS
容量、21……FET。
bは第1図aの断面図、第2図は本考案の一実施
例のFETのパツケージ実装時の側面図、第3図
は本考案の一実施例のFETの回路実装例の等価
回路図である。 1……金属膜、2……ソース電極、3……ゲー
ト電極、4……酸化膜、5……ソース拡散層、6
……バツクゲート領域、7……ドレイン電極、8
……半導体基板、9……パツケージ、10……パ
ツケージのソース端子、11……ボンデイングワ
イヤー、12……パツケージのドレイン端子、1
3……本考案の一実施例のMOS容量を有する
FETの等価回路、14……整合回路入力端子、
15……整合回路出力端子、16……ゲート直流
バイアス回路、17……直流バイアス回路、18
……整合用インダクタンス、19……整合用容
量、20……FETと同一基板上に形成したMOS
容量、21……FET。
Claims (1)
- 電界効果トランジスタと、該電界効果トランジ
スタと同一半導体基板上に形成された酸化膜と金
属膜とからなるMOS容量とを有し、前記電界効
果トランジスタのソース電極が前記金属膜に接続
され、該金属膜とパツケージの端子とがボンデイ
ングワイヤーで接続されたことを特徴とする半導
体装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986052405U JPH0436112Y2 (ja) | 1986-04-07 | 1986-04-07 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986052405U JPH0436112Y2 (ja) | 1986-04-07 | 1986-04-07 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62163944U JPS62163944U (ja) | 1987-10-17 |
| JPH0436112Y2 true JPH0436112Y2 (ja) | 1992-08-26 |
Family
ID=30877546
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1986052405U Expired JPH0436112Y2 (ja) | 1986-04-07 | 1986-04-07 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0436112Y2 (ja) |
-
1986
- 1986-04-07 JP JP1986052405U patent/JPH0436112Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62163944U (ja) | 1987-10-17 |
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