JPH0441454Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0441454Y2 JPH0441454Y2 JP1982142273U JP14227382U JPH0441454Y2 JP H0441454 Y2 JPH0441454 Y2 JP H0441454Y2 JP 1982142273 U JP1982142273 U JP 1982142273U JP 14227382 U JP14227382 U JP 14227382U JP H0441454 Y2 JPH0441454 Y2 JP H0441454Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic recording
- recording layer
- layer
- magnetic
- cobalt
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本考案は外観形状がすぐれ、しかも保磁力等の
磁気特性がすぐれた、斜方蒸着により形成された
磁気記録層を有する磁気記録媒体に関する。 〔従来の技術〕 磁気記録を高密度化するため、磁気記録媒体の
高保磁力化、高磁束密度化、並びに磁気記録層の
薄膜化の要求が高まつており、このような要求に
合致するものとして強磁性金属を基体に対し斜方
蒸着して得られる磁気記録媒体が知られており、
また基体上に非磁性金属層を50〜1000Å程度の厚
みになるよう設け、その上に磁気記録層を設ける
方法が提案されている。 〔考案が解決しようとする課題〕 上記ような斜方蒸着により得られる磁気記録媒
体においては出力の増加及び歪の減少を図る目的
で残留磁束を増加させることは磁気記録層を膜厚
を増加させることにより達成されるが、コバルト
を主体とする合金を用いて斜方蒸着するときは単
に磁気記録層の膜厚を増加させると結晶状態の変
化により磁束密度の減少、磁化容易方向の変化、
角型比の減少、ブロツホ磁壁の発生に加えて、保
磁力の減少を来し好ましくないものである。更に
磁気記録層の厚みを増加させると基体が可とう性
である場合には可とう性を損ない、熱可とう性合
成樹脂基体を用いるとカールを生じる欠点も生じ
るものである。 また、基体上に非磁性金属層を50〜1000Å程度
の厚みになるよう設け、その上に磁気記録層を設
ける方法においては、残留磁束の増加は出来る
が、非磁性金属の表面の酸化の度合や粒状性によ
り上層の磁気記録層の結晶状態に変化を生じ、多
くの場合、保磁力を減少させる不都合がある。更
に、可とう性基体を用いる場合にはカールの解消
の効果があまり期待できないものである。加えて
異種の金属層どうしが接触しているために腐食の
問題があり、湿気、汗や場合によつては雨水や海
水中では局部電池を構成するため腐食が進行しや
すい。 これに対して本考案は、残留磁束の増加はもち
ろんのこと媒体のカールの防止、耐食性をも改善
された磁気記録媒体を提供するものである。 〔課題を解決するための手段〕 本考案の磁気記録媒体は、基体上に、斜方蒸着
により形成されたコバルトを主体とするニツケル
との合金による磁気記録層、カルボキシル基を含
むポリ塩化ビニル系共重合樹脂による中間層及び
斜方蒸着により形成されたコバルトを主体とする
ニツケルとの合金による磁気記録層とが順次積層
されていることを特徴とする磁気記録体をその主
旨とするものである。 以下、本考案を図面を引用しつつ詳細に説明す
る。 第１図は本考案の磁気記録媒体の構造を示す断
面図であつて、基体１の表面に斜方蒸着により形
成された第１のコバルトを主体とするニツケルと
の合金による磁気記録層２（以下、単に磁気記録
層２という）、カルボキシル基を含むポリ塩化ビ
ニル系共重合樹脂による中間層（以下、単に中間
層という）３、及び斜方蒸着により形成された第
２のコバルトを主体とするニツケルとの合金によ
る磁気記録層４（以下、単に磁気記録層４とい
う）が順次積層されている。 上記において基体１としては耐熱性を有する合
成樹脂フイルム、例えばポリエチレンテレフタレ
ートフイルム、ポリイミドフイルムもしくはポリ
カーボネートフイルム等、金属箔、例えばアルミ
ニウム箔、非磁性ニツケル箔、銅箔もしくはステ
ンレス箔等、或いはガラスやセラミツクを用いる
ことができる。これらのうち磁気テープ状に磁気
記録媒体を製造する際には耐熱性、抗張力、及び
寸法安定性の点で厚み4μ〜25μのポリエチレンテ
レフタレートフイルムを用いるとよい。 次に基体１の表面に積層された、磁気記録層２
は、公知の斜方蒸着により形成することができ
る。磁気記録層２は、好ましくはニツケルを35重
量％以内添加したものがよく、この場合磁気記録
層の厚みを300Å〜1500Åとするが良い。 中間層３は塗料化して塗布することにより形成
することができる。中間層３の厚みは下層の第１
の磁気記録層２に関するスペーシングロスを生じ
ないよう0.5μ以下とすることが望ましい。 中間層３の表面に積層する第２の磁気記録層４
は第１の磁気記録層２と同様である。 以上、本考案の基本的な構成を説明したが、本
考案を利用すれば次のような事も可能である。 第２図は本考案の利用例を示すもので基体１１
上に第１の磁気記録層１２、第１の中間層１３、
第２の磁気記録層１４、第２の中間層１５及び第
３の磁気記録層１６を順次積層してなる。第２図
においては磁気記録層は３つの層からなるが、更
に中間層及び磁気記録層を交互に形成し、多層の
磁気記録層を有する磁気記録媒体とすることもで
き、このように多層化することにより更に残留磁
束が増加する。 又、本考案の磁気記録媒体には第３図中５で示
すように保護層５を設けてもよく、このように保
護層５を設けると耐食性、走行性の向上を図るこ
とができる。保護層５は適宜な合成樹脂塗料に界
面活性剤や滑剤としてワツクス、オイル等、更に
は顔料を添加して塗布することにより形成でき
る。保護層形成時に保護層形成用塗料中の溶剤が
より下層にある中間層を浸し、溶解もしくは膨潤
させて磁気記録層にクラツク等の変形を生じさせ
ることがあるので溶剤を選定するとよい。 〔実施例〕 実施例 基体として厚み6μのポリエチレンテレフタレ
ートフイルムを使用し、直径600mmの冷却ドラム
に沿わせて走行させつつ、真空度５×10-5Torr.
にてCo：Ni＝８：２の合金を用い、フイルムの
法線に対し入射角が90°で蒸着を開始し、蒸着終
了時の入射角が55°となるように入射角を連続的
に変えて蒸着を行い厚み1000Åの第１の磁気記録
層を作成した。 次に第１の磁気記録層を形成した上にカルボキ
シル基含有ポリ塩化ビニル樹脂（高分子化学工業
製、ビニールK2）の２％溶液（溶剤はMEK／ト
ルエン＝1/1）を用い版深25μのグラビア版を用
いたグラビアコーテイング法により厚み0.25μの
中間層を形成した。 更に中間層の上に上記の第１の磁気記録層を形
成したのと同条件で同厚みの第２の磁気記録層を
形成した。 比較例 １ 中間層を形成するのにエポキシ硬化型アクリル
樹脂（東レ製、コータツクスLK761）の２％溶液
（溶剤はMEK／トルエン＝1/1）を用いた以外は
実施例と同様にした。 比較例 ２ 実施例と同様に、但し中間層として500Å厚み
のアルミニウム蒸着層を用いた。 以上の実施例並びに比較例１及び２で得られた
磁気フイルムを巾3.81mmのテープとし、磁気特性
を評価した結果を表−１に、外観及び腐食性等を
評価した結果を表−２に示す。
磁気特性がすぐれた、斜方蒸着により形成された
磁気記録層を有する磁気記録媒体に関する。 〔従来の技術〕 磁気記録を高密度化するため、磁気記録媒体の
高保磁力化、高磁束密度化、並びに磁気記録層の
薄膜化の要求が高まつており、このような要求に
合致するものとして強磁性金属を基体に対し斜方
蒸着して得られる磁気記録媒体が知られており、
また基体上に非磁性金属層を50〜1000Å程度の厚
みになるよう設け、その上に磁気記録層を設ける
方法が提案されている。 〔考案が解決しようとする課題〕 上記ような斜方蒸着により得られる磁気記録媒
体においては出力の増加及び歪の減少を図る目的
で残留磁束を増加させることは磁気記録層を膜厚
を増加させることにより達成されるが、コバルト
を主体とする合金を用いて斜方蒸着するときは単
に磁気記録層の膜厚を増加させると結晶状態の変
化により磁束密度の減少、磁化容易方向の変化、
角型比の減少、ブロツホ磁壁の発生に加えて、保
磁力の減少を来し好ましくないものである。更に
磁気記録層の厚みを増加させると基体が可とう性
である場合には可とう性を損ない、熱可とう性合
成樹脂基体を用いるとカールを生じる欠点も生じ
るものである。 また、基体上に非磁性金属層を50〜1000Å程度
の厚みになるよう設け、その上に磁気記録層を設
ける方法においては、残留磁束の増加は出来る
が、非磁性金属の表面の酸化の度合や粒状性によ
り上層の磁気記録層の結晶状態に変化を生じ、多
くの場合、保磁力を減少させる不都合がある。更
に、可とう性基体を用いる場合にはカールの解消
の効果があまり期待できないものである。加えて
異種の金属層どうしが接触しているために腐食の
問題があり、湿気、汗や場合によつては雨水や海
水中では局部電池を構成するため腐食が進行しや
すい。 これに対して本考案は、残留磁束の増加はもち
ろんのこと媒体のカールの防止、耐食性をも改善
された磁気記録媒体を提供するものである。 〔課題を解決するための手段〕 本考案の磁気記録媒体は、基体上に、斜方蒸着
により形成されたコバルトを主体とするニツケル
との合金による磁気記録層、カルボキシル基を含
むポリ塩化ビニル系共重合樹脂による中間層及び
斜方蒸着により形成されたコバルトを主体とする
ニツケルとの合金による磁気記録層とが順次積層
されていることを特徴とする磁気記録体をその主
旨とするものである。 以下、本考案を図面を引用しつつ詳細に説明す
る。 第１図は本考案の磁気記録媒体の構造を示す断
面図であつて、基体１の表面に斜方蒸着により形
成された第１のコバルトを主体とするニツケルと
の合金による磁気記録層２（以下、単に磁気記録
層２という）、カルボキシル基を含むポリ塩化ビ
ニル系共重合樹脂による中間層（以下、単に中間
層という）３、及び斜方蒸着により形成された第
２のコバルトを主体とするニツケルとの合金によ
る磁気記録層４（以下、単に磁気記録層４とい
う）が順次積層されている。 上記において基体１としては耐熱性を有する合
成樹脂フイルム、例えばポリエチレンテレフタレ
ートフイルム、ポリイミドフイルムもしくはポリ
カーボネートフイルム等、金属箔、例えばアルミ
ニウム箔、非磁性ニツケル箔、銅箔もしくはステ
ンレス箔等、或いはガラスやセラミツクを用いる
ことができる。これらのうち磁気テープ状に磁気
記録媒体を製造する際には耐熱性、抗張力、及び
寸法安定性の点で厚み4μ〜25μのポリエチレンテ
レフタレートフイルムを用いるとよい。 次に基体１の表面に積層された、磁気記録層２
は、公知の斜方蒸着により形成することができ
る。磁気記録層２は、好ましくはニツケルを35重
量％以内添加したものがよく、この場合磁気記録
層の厚みを300Å〜1500Åとするが良い。 中間層３は塗料化して塗布することにより形成
することができる。中間層３の厚みは下層の第１
の磁気記録層２に関するスペーシングロスを生じ
ないよう0.5μ以下とすることが望ましい。 中間層３の表面に積層する第２の磁気記録層４
は第１の磁気記録層２と同様である。 以上、本考案の基本的な構成を説明したが、本
考案を利用すれば次のような事も可能である。 第２図は本考案の利用例を示すもので基体１１
上に第１の磁気記録層１２、第１の中間層１３、
第２の磁気記録層１４、第２の中間層１５及び第
３の磁気記録層１６を順次積層してなる。第２図
においては磁気記録層は３つの層からなるが、更
に中間層及び磁気記録層を交互に形成し、多層の
磁気記録層を有する磁気記録媒体とすることもで
き、このように多層化することにより更に残留磁
束が増加する。 又、本考案の磁気記録媒体には第３図中５で示
すように保護層５を設けてもよく、このように保
護層５を設けると耐食性、走行性の向上を図るこ
とができる。保護層５は適宜な合成樹脂塗料に界
面活性剤や滑剤としてワツクス、オイル等、更に
は顔料を添加して塗布することにより形成でき
る。保護層形成時に保護層形成用塗料中の溶剤が
より下層にある中間層を浸し、溶解もしくは膨潤
させて磁気記録層にクラツク等の変形を生じさせ
ることがあるので溶剤を選定するとよい。 〔実施例〕 実施例 基体として厚み6μのポリエチレンテレフタレ
ートフイルムを使用し、直径600mmの冷却ドラム
に沿わせて走行させつつ、真空度５×10-5Torr.
にてCo：Ni＝８：２の合金を用い、フイルムの
法線に対し入射角が90°で蒸着を開始し、蒸着終
了時の入射角が55°となるように入射角を連続的
に変えて蒸着を行い厚み1000Åの第１の磁気記録
層を作成した。 次に第１の磁気記録層を形成した上にカルボキ
シル基含有ポリ塩化ビニル樹脂（高分子化学工業
製、ビニールK2）の２％溶液（溶剤はMEK／ト
ルエン＝1/1）を用い版深25μのグラビア版を用
いたグラビアコーテイング法により厚み0.25μの
中間層を形成した。 更に中間層の上に上記の第１の磁気記録層を形
成したのと同条件で同厚みの第２の磁気記録層を
形成した。 比較例 １ 中間層を形成するのにエポキシ硬化型アクリル
樹脂（東レ製、コータツクスLK761）の２％溶液
（溶剤はMEK／トルエン＝1/1）を用いた以外は
実施例と同様にした。 比較例 ２ 実施例と同様に、但し中間層として500Å厚み
のアルミニウム蒸着層を用いた。 以上の実施例並びに比較例１及び２で得られた
磁気フイルムを巾3.81mmのテープとし、磁気特性
を評価した結果を表−１に、外観及び腐食性等を
評価した結果を表−２に示す。
【表】
【表】
〔考案の作用・効果〕
本考案の磁気記録媒体は、基体上に、斜方蒸着
により形成されたコバルトを主体とするニツケル
との合金による磁気記録層、カルボキシル基を含
みポリ塩化ビニル系共重合樹脂による中間層及び
斜方蒸着により形成されたコバルトを主体とする
ニツケルとの合金による磁気記録層とが順次積層
されているものである。 従つて、本考案によれば、磁気記録層のトータ
ルの厚みを増加させても中間層を介して多層に形
成されているため、残留磁束等の磁気特性の低下
を生じることがない。更に中間層にカルボキシル
基を含むポリ塩化ビニル系共重合樹脂を使用して
いるため、コバルトを主体とするニツケルとの合
金による磁気記録層と接着性が良好である上、中
間層３上の第２の磁気記録層の磁気特性を最適化
するような結晶方向を誘導する効果がある。
により形成されたコバルトを主体とするニツケル
との合金による磁気記録層、カルボキシル基を含
みポリ塩化ビニル系共重合樹脂による中間層及び
斜方蒸着により形成されたコバルトを主体とする
ニツケルとの合金による磁気記録層とが順次積層
されているものである。 従つて、本考案によれば、磁気記録層のトータ
ルの厚みを増加させても中間層を介して多層に形
成されているため、残留磁束等の磁気特性の低下
を生じることがない。更に中間層にカルボキシル
基を含むポリ塩化ビニル系共重合樹脂を使用して
いるため、コバルトを主体とするニツケルとの合
金による磁気記録層と接着性が良好である上、中
間層３上の第２の磁気記録層の磁気特性を最適化
するような結晶方向を誘導する効果がある。
第１図は本考案の磁気記録媒体の断面図、第２
図及び第３図はいずれも本考案の利用例を示す断
面図である。 １，１１……基体、２，４，１２，１４，１６
……磁気記録層、３……中間層、５……保護層。
図及び第３図はいずれも本考案の利用例を示す断
面図である。 １，１１……基体、２，４，１２，１４，１６
……磁気記録層、３……中間層、５……保護層。
Claims (1)
- 基体上に、斜方蒸着により形成されたコバルト
を主体とするニツケルとの合金による磁気記録
層、カルボキシル基を含むポリ塩化ビニル系共重
合樹脂による中間層及び斜方蒸着により形成され
たコバルトを主体とするニツケルとの合金による
磁気記録層とが順次積層されていることを特徴と
する磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14227382U JPS5992428U (ja) | 1982-09-20 | 1982-09-20 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14227382U JPS5992428U (ja) | 1982-09-20 | 1982-09-20 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5992428U JPS5992428U (ja) | 1984-06-22 |
| JPH0441454Y2 true JPH0441454Y2 (ja) | 1992-09-29 |
Family
ID=30317953
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14227382U Granted JPS5992428U (ja) | 1982-09-20 | 1982-09-20 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5992428U (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5243081B2 (ja) * | 1973-10-08 | 1977-10-28 |
-
1982
- 1982-09-20 JP JP14227382U patent/JPS5992428U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5992428U (ja) | 1984-06-22 |
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