JPH0475571B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

（技術分野） 本発明は鉄系の磁性材料を用いつつも保磁力が
高く、耐腐食性が改善された薄膜型の磁気記録媒
体に関するものである。 （従来技術） 近年、高密度磁気記録の要求の高まりに対応し
て真空蒸着、スパツタリング、イオンプレーテイ
ング等の方法により非磁性基材上に強磁性金属か
らなる薄膜を形成した薄膜型の磁気記録媒体が開
発されており、中でもCo系磁性材料を斜方蒸着
法により形成した薄膜を有する磁気記録媒体は磁
気特性がすぐれており、例えばマイクロカセツト
テープに利用されているなど、高密度記録化の一
翼を担つている。 しかしながらCo系磁性材料を使用するときは
Co系金属の材料費が高い上に斜方蒸着法の蒸着
効率が低いことにより、磁気記録媒体の価格が高
くなり過ぎるため、他の磁性材料への変換が望ま
れている。 一方、Fe系磁性材料を使用して磁気記録媒体
を製造すると、価格的には大巾な低下が図れる可
能性はあるが、高い保磁力が得られず、又、Fe
系磁性材料は耐腐食性が不充分であるため、従
来、種々の試みがなされているにも拘らず未だ実
用化には到つていない。 本発明者はFe系磁性材料を使用する際の欠点
を克服するため研究の結果、次の〜の各点を
見い出した。即ち、 Fe系磁性材料を使用して形成した薄膜の保
磁力は膜厚1000Å付近を境とし、1000Å以下で
は比較的高い値を示すが、1000Åを越えると急
に低下すること、 Fe系磁性材料を使用して形成した薄膜を複
数積層した場合、多層膜としての保磁力は同じ
膜厚の単層膜の保磁力よりは高いものの未だ充
分ではないこと、 上記の欠点を解消するには積層する薄膜の
間に非磁性金属層を形成すればよいが、却つて
耐腐食性が低下すること、および 積層する薄膜の間に合成樹脂の層を設けると
保磁力が低下せず、かつ、耐腐食性も低下しな
いこと。 （発明の構成） 本発明は上記の見い出された事実に基づいてな
されたものであつて、本発明の磁気記録媒体は、
非磁性基材上に斜方蒸着法により形成された鉄も
しくは鉄の合金の薄膜層が複数積層されており、
各薄膜層間には合成樹脂の中間層を有しているこ
とを特徴とするものである。 以下、図面を用いながら本発明について詳細に
説明する。 第１図は本発明の磁気記録媒体の一実施例を示
す断面図であつて、非磁性基材１の表面に磁性薄
膜層２、中間層３、磁性薄膜層４、中間層５、磁
性薄膜層６の各層が順に積層された構造をとつて
おり、即ち、合計３つの磁性薄膜層が非磁性基材
上に積層されており、磁性薄膜層２と４の間、及
び４と６の間にそれぞれ挿入された中間層を有し
ている。 上記における各層の材料を説明すると、まず、
非磁性基材１としてはポリエチレンテレフタレー
ト樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ
カーボネート樹脂等のプラスチツクフイルムが使
用できる。 磁性薄膜層２，４，６はFe系磁性材料を蒸着
源とした斜方蒸着法により形成されている。Fe
系磁性材料としてはFe単独の他、Fe−Ni，Fe−
Co，Fe−Ni−Co，Fe−Rh，Fe−Cu，Fe−Sm，
Fe−Cr，Fe−Si等のFeを主体とした強磁性合金
が使用できる。 磁性薄膜層を形成するには例えば第２図に示す
ごとく巻き出しリール７から繰り出された非磁性
基材１を冷却ドラム８に接触させて移動させつ
つ、ドラム８の下方に配置された蒸着源９を用い
て基材１の表面に蒸着する方法などの斜方蒸着に
よつて行なう。蒸着済の基材はリール１０に巻き
取られる。なお、ここで遮蔽板１１の位置を水平
に移動させることにより、基材１に対する最小入
射角θを調節することができる。 磁性薄膜層２，４、および６のおのおのの厚み
は1000Å以下とすることが望ましく、この理由は
第３図のグラフに示すごとく、厚みが1000Åを越
えると保磁力が急激に低下する上、角形比も低下
するからである。磁性薄膜層の厚みの下限として
は斜方蒸着の微結晶が十分成長し斜方蒸着の効果
が生じる点で200Å以上とすることが望ましい。
保磁力および角形比の望ましい値は、どのような
システムにおいて使用されるかにより異なるので
一概には言えないが、マイクロカセツトテープと
して使用する場合には市販のマイクロカセツトレ
コーダの設定バイアス電流から判断すると、保磁
力の値としては400〜700Oe程度であり、角形比
の値としては0.75以上であることが望ましい。 中間層４および５は合成樹脂の層からなつてい
る。中間層４および５は磁性薄膜層２，４、およ
び６を磁気的に遮断でき、かつ表面が良好な塗膜
状態を有するものであればいずれでもよく、例え
ば、次のような樹脂から選択して用いた塗料と公
知の塗布方法により、下層のFe系磁性薄膜層に
関するスペーシングロスが生じないよう0.5μｍ程
度あるいはそれ以下とするのがよい。中間層を構
成するための樹脂としてはポリビニルブチラール
樹脂、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合樹脂、ニト
ロセルロース・エチルセルロース等のセルロース
系樹脂、ポリウレタン樹脂・エポキシ樹脂・アル
キツド樹脂等の架橋型樹脂、アクリル樹脂、ポリ
エステル樹脂、環化ゴム等が例示できる。 以上の説明では、磁性薄膜層を３層と中間層を
２層有する例について述べたが、本発明はこれに
限定されることなく、磁性薄膜層を２層と中間層
を１層有する場合や、磁性薄膜層を４層以上と各
磁性薄膜層間の中間層とからなるものでもよい。 又、本発明の磁気記録媒体には最表層に表面の
保護の意味で合成樹脂からなる保護層を設けても
よい。保護層を構成する合成樹脂としては、例え
ばポリビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹
脂、エポキシ樹脂、アルキツド樹脂等の架橋型樹
脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂等、ほぼ中
間層を構成する樹脂と同様のものが使用できる。 以下、本発明をより具体的に説明するための実
施例を掲げる。 実施例 １ 非磁性基材としては厚み6μｍのポリエチレン
テレフタレートフイルムを用い、その表面にFe
を蒸着源として、第２図に示した斜方蒸着により
最小入射角60゜にて厚み800Åの蒸着膜を形成し
た。次にFe蒸着膜上にエポキシ硬化型アクリル
樹脂（東レ(株)製、コータツクスKL761）を
MEK／トルエン＝1/1の溶剤を用いて溶解した２
％溶液を用い、グラビアコーテイングにより乾燥
時厚み0.05μｍの中間層を設けた。以下、同様な
操作を繰り返すことにより、ポリエチレンテレフ
タレートフイルム／Fe蒸着膜／中間層／Fe蒸着
膜の積層体とし、更に最表層にポリビニルブチラ
ール樹脂をMEK／トルエン＝1/1の溶剤に溶解し
た2.5％溶液を用い、グラビアコーテイングを行
なつて乾燥時厚み0.1μｍの保護層とした磁気記録
媒体を得た。 比較例 １ 実施例１で用いたのと同じ基材を用い、実施例
１で行なつたのと同様な方法によりFe蒸着膜を
2400Åの厚みになるよう形成し、その上に実施例
１で行なつたのと同様な方法により保護層を形成
した。 比較例 ２ 各中間層をアルミニウムを蒸着源とした平面蒸
着により形成した厚み400Åのアルミニウム薄膜
とした以外は実施例１と同様に行なつた。 以上の実施例及び比較例で得られた磁気記録媒
体の静磁気特性及び耐腐食性を次表にまとめて示
す。

【表】 以上の結果から明らかなように本発明によれば
安価なFeを使用しつつも保磁力及び角形比の静
磁気特性がすぐれており、なおかつ、耐腐食性も
すぐれている。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の磁気記録媒体の実施例の断面
図、第２図は斜方蒸着法の説明図、第３図は蒸着
膜厚と静磁気特性の関係を示すグラフである。 １…非磁性基材、２，４，６…磁性薄膜層、
３，５…中間層、７…巻き出しリール、８…冷却
ドラム、９…蒸着源、１０…リール、１１…遮蔽
板、θ…最小入射角。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 非磁性基材上に、斜方蒸着法により形成され
   た鉄もしくは鉄の合金の薄膜層が複数積層されて
   おり、各薄膜層間には合成樹脂の中間層を有して
   いることを特徴とする磁気記録媒体。