JPH0441468A - トラネキサム酸誘導体 - Google Patents
トラネキサム酸誘導体Info
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- JPH0441468A JPH0441468A JP2149487A JP14948790A JPH0441468A JP H0441468 A JPH0441468 A JP H0441468A JP 2149487 A JP2149487 A JP 2149487A JP 14948790 A JP14948790 A JP 14948790A JP H0441468 A JPH0441468 A JP H0441468A
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Landscapes
- Liquid Crystal Substances (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、新規な液晶を呈する化合物、その製造法お
よびこれら化合物を使用した液晶素子を提供するもので
ある。
よびこれら化合物を使用した液晶素子を提供するもので
ある。
液晶化合物として数多く知られているものに、ネマチッ
ク液晶と呼ばれているものがある。このものは、現在液
晶表示装置に使用される化合物又は組成物の主流を成し
ているけれども、短所の一つに、応答速度が遅く、数m
5ecのオーダーの応答速度しか得られないということ
があり、そのため表示の大型化に対して限界に近づいて
いるといわれている。
ク液晶と呼ばれているものがある。このものは、現在液
晶表示装置に使用される化合物又は組成物の主流を成し
ているけれども、短所の一つに、応答速度が遅く、数m
5ecのオーダーの応答速度しか得られないということ
があり、そのため表示の大型化に対して限界に近づいて
いるといわれている。
このような従来型の液晶表示素子の欠点を改善するもの
として、双安定性を有する液晶の使用がクラーク及びラ
ガウェルにより提案されている(特開昭56−1072
16号)。この双安定性を有する液晶は、強誘電性液晶
と呼ばれ、高速応答性とメモリ性が得られることが注目
され、特に近年において、その実用化の検討が活発であ
り、実用強誘電性液晶物質の開発が急務になっている。
として、双安定性を有する液晶の使用がクラーク及びラ
ガウェルにより提案されている(特開昭56−1072
16号)。この双安定性を有する液晶は、強誘電性液晶
と呼ばれ、高速応答性とメモリ性が得られることが注目
され、特に近年において、その実用化の検討が活発であ
り、実用強誘電性液晶物質の開発が急務になっている。
一般に、強誘電性液晶は、光学活性部位を有する化合物
で、かつその分子長軸が層の法線方向からチルトした分
子配向を有する一連のスメクチック相において発現され
る。中でも、キラルスメクチックC(以下、S♂と略記
する)相は、比較的低電圧動作性のため実用上優位とさ
れる。
で、かつその分子長軸が層の法線方向からチルトした分
子配向を有する一連のスメクチック相において発現され
る。中でも、キラルスメクチックC(以下、S♂と略記
する)相は、比較的低電圧動作性のため実用上優位とさ
れる。
このように強誘電性液晶は、自発分極を有するために非
常に速い応答速度を有する上に、メモリ性のある双安定
状態を発現させることができ、さらに視野角が優れてい
ることから、大容量大側9面のデイスプレィ用材料とし
て適している。
常に速い応答速度を有する上に、メモリ性のある双安定
状態を発現させることができ、さらに視野角が優れてい
ることから、大容量大側9面のデイスプレィ用材料とし
て適している。
このような強誘電性液晶として1975年、RB。
Meyerらにより合成された4−(4−n−デシルオ
キシベンジリデンアミン)桂皮酸−2−メチルブチルエ
ステル(以下、DOBAMBCと略記する)が知られて
いる(J、 Physique 36 L−69又は(
1975) )。
キシベンジリデンアミン)桂皮酸−2−メチルブチルエ
ステル(以下、DOBAMBCと略記する)が知られて
いる(J、 Physique 36 L−69又は(
1975) )。
このDOBAMBCは、シッフベースを構造内に含むた
め、その化学的安定性に難がある。そこで、強誘電性液
晶材料として、物理的、化学的に安定な種々の化合物が
探索され、現在、4−(4−nアルキルオキシフェニル
)−1−カルボン酸−2−メチルブチルエステル(以下
、CNと略記する)を初めとするエステル系化合物の探
索にその主力が移ってきている。しかし、このCNを始
めとするエステル系化合物は、S♂相を示さないか、示
したとしてもそのS♂相を示す温度範囲が狭く、しかも
液晶を加熱、冷却したときで異なる相系列を示すモノト
ロピック液晶であるため、実用に耐えるものは少ない(
Liquid Crystals andOrdere
d Fluids 4又は(1984+ )。
め、その化学的安定性に難がある。そこで、強誘電性液
晶材料として、物理的、化学的に安定な種々の化合物が
探索され、現在、4−(4−nアルキルオキシフェニル
)−1−カルボン酸−2−メチルブチルエステル(以下
、CNと略記する)を初めとするエステル系化合物の探
索にその主力が移ってきている。しかし、このCNを始
めとするエステル系化合物は、S♂相を示さないか、示
したとしてもそのS♂相を示す温度範囲が狭く、しかも
液晶を加熱、冷却したときで異なる相系列を示すモノト
ロピック液晶であるため、実用に耐えるものは少ない(
Liquid Crystals andOrdere
d Fluids 4又は(1984+ )。
方、液晶相温度範囲を室温を含む広い領域ヘシフトさせ
る方法として、ピリジン:ピリミジン環などへテロ環の
導入およびシクロヘキサン環の導入が一般に行なわれて
いるが、合成法が9雑である。
る方法として、ピリジン:ピリミジン環などへテロ環の
導入およびシクロヘキサン環の導入が一般に行なわれて
いるが、合成法が9雑である。
特に、液晶性の改善のためシクロヘキサン環を導入する
ことについてはシクロヘキサン環を導入することにより
スメクチック性を失うケースがあったり、合成段階にお
いてシクロヘキサン−1,4−ジ置換体のシス−トラン
ス異性混合物の分離操作を必要とする等の問題があるた
め十分な検討が成されていなかった。
ことについてはシクロヘキサン環を導入することにより
スメクチック性を失うケースがあったり、合成段階にお
いてシクロヘキサン−1,4−ジ置換体のシス−トラン
ス異性混合物の分離操作を必要とする等の問題があるた
め十分な検討が成されていなかった。
一方、シクロヘキサン誘導体としてトラネキサム酸があ
り、止血剤として広(用いられている。
り、止血剤として広(用いられている。
しかし、薬剤としての用途以外の利用は未だ行なわれて
いない。
いない。
[発明が解決しようとする課題]
本発明は化学的に安定でかつ広い液晶温度範囲を有する
新規なトラネキサム酸誘導体を提供することを目的とす
る。
新規なトラネキサム酸誘導体を提供することを目的とす
る。
すなわち、トラネキサム酸を安価で入手し易いシクロヘ
キサン−トランス−1,4−ジ置換体原料として利用し
、N末端のアルキル化、C末端のエステル化をすること
により、新規な液晶化合物を提供する。
キサン−トランス−1,4−ジ置換体原料として利用し
、N末端のアルキル化、C末端のエステル化をすること
により、新規な液晶化合物を提供する。
更に、本発明の製造方法ではN末端のアルキル基の種類
および長さおよびC末端のエステル基の種類を変更する
ことが容易であり、このことにより液晶状態において発
現する液晶相の種類や温度範囲を制御することが容易な
液晶性化合物を提供することができる。さらにそれを少
なくとも1種類配合成分として含有する液晶組成物を提
供する。
および長さおよびC末端のエステル基の種類を変更する
ことが容易であり、このことにより液晶状態において発
現する液晶相の種類や温度範囲を制御することが容易な
液晶性化合物を提供することができる。さらにそれを少
なくとも1種類配合成分として含有する液晶組成物を提
供する。
本発明によって提供される化合物は、一般式[式中R1
は炭素数1〜16の不斉炭素を有するアルキル基であり
、ハロゲンで置換されていても良い。R2は水素又はメ
チル基であり、R3は一般式(II) ・・・・・・ (II) ここで、p=1のときq=2、又はp=2のときq=l
でありnは1−16の整数を表わし、XはC00又はO
COを表わし、YはCOO1OCO又はOを表わす】 で表わされるトラネキサム酸誘導体である。
は炭素数1〜16の不斉炭素を有するアルキル基であり
、ハロゲンで置換されていても良い。R2は水素又はメ
チル基であり、R3は一般式(II) ・・・・・・ (II) ここで、p=1のときq=2、又はp=2のときq=l
でありnは1−16の整数を表わし、XはC00又はO
COを表わし、YはCOO1OCO又はOを表わす】 で表わされるトラネキサム酸誘導体である。
本発明では、トラネキサム酸をトランス−1,4−ジ置
換−シクロヘキサン原料として用い、N末端のアルキル
化およびC末端のエステル化を行なうことにより〈広範
囲に亘る温度領域で安定した液晶性を示す化合物を合成
することに成功した。
換−シクロヘキサン原料として用い、N末端のアルキル
化およびC末端のエステル化を行なうことにより〈広範
囲に亘る温度領域で安定した液晶性を示す化合物を合成
することに成功した。
すなわち、アミノ基のアルキル化に際し、アミン基のア
ルキル置換の種類により液晶性は変化する。R1につい
ていえば炭素数1〜16の不斉炭素を有するアルキル基
であり、その一部がハロゲンで置換されていても良い。
ルキル置換の種類により液晶性は変化する。R1につい
ていえば炭素数1〜16の不斉炭素を有するアルキル基
であり、その一部がハロゲンで置換されていても良い。
炭素数が17を超えるときは原料が入手困難であるばか
りでな(、得られた液晶化合物としてのトラネキサム酸
誘導体の熱安定性が低くなる。炭素数は5〜IOが最も
好ましい。
りでな(、得られた液晶化合物としてのトラネキサム酸
誘導体の熱安定性が低くなる。炭素数は5〜IOが最も
好ましい。
R3の具体例としては、2−オクチル基、2−クロルプ
ロピル基、fs)−2−メチルブチル基などが挙げられ
、(Sl −メチルブチル基は安価に入手出来る点で好
ましい。
ロピル基、fs)−2−メチルブチル基などが挙げられ
、(Sl −メチルブチル基は安価に入手出来る点で好
ましい。
R2は水素又はメチル基であるが、メチル基の方が熱に
対して安定であるので望ましい。
対して安定であるので望ましい。
2)一般式(III)
式中R1は炭素数1〜16の不斉炭素を有するアルキル
基であり、ハロゲンで置換されたものを含む R2は水素又はメチル基 で表わされる化合物又はその塩と、−船蔵%式%) 式中、 p:1又は2 q:p=1のときは2.9=2の ときは1 nil〜16の整数 X:COO又は0CO Y:COO1OCO又はO で表わされる化合物とを反応させることを特徴とする請
求項1記載のトラネキサム酸誘導体の製造方法。
基であり、ハロゲンで置換されたものを含む R2は水素又はメチル基 で表わされる化合物又はその塩と、−船蔵%式%) 式中、 p:1又は2 q:p=1のときは2.9=2の ときは1 nil〜16の整数 X:COO又は0CO Y:COO1OCO又はO で表わされる化合物とを反応させることを特徴とする請
求項1記載のトラネキサム酸誘導体の製造方法。
R3は一般式(II)で表わされる。
−・・・・・ (II)
1式中、p、qはp= l 、 q= 2又はp=2
、q=lの組合わせをとり、nは1〜16の整数を表わ
し、XはCOO又はOCOを表わし、YはCOO1OC
O又はOを表わす]R3の種類によっても液晶性は変化
する。nについて云えば、n=I〜16、好ましくは5
〜12であって、nが5〜12より遠ざかるに従い、液
晶性は低下する。
、q=lの組合わせをとり、nは1〜16の整数を表わ
し、XはCOO又はOCOを表わし、YはCOO1OC
O又はOを表わす]R3の種類によっても液晶性は変化
する。nについて云えば、n=I〜16、好ましくは5
〜12であって、nが5〜12より遠ざかるに従い、液
晶性は低下する。
Cn1t2n+1で示されるアルキル基は、直鎖でも分
岐でも良く、不斉炭素が含まれていても良い。
岐でも良く、不斉炭素が含まれていても良い。
p、qはpが1のときqが2又はpが2のときqが1で
あり、R3はベンゼン環を3つ含んだ構造を有するもの
となる。
あり、R3はベンゼン環を3つ含んだ構造を有するもの
となる。
XはCOO又はOCOを表わし、YはCOO1OCO又
は0を表わすが、X、Yの組合わせは自由に選ぶことが
出来る。
は0を表わすが、X、Yの組合わせは自由に選ぶことが
出来る。
末端にエステル結合がある場合、エステル結合の向きは
一方向にそろっている方が液晶性を示しやすいが、Yが
Oの場合にはXの種類にかかわらず液晶性を示しやすく
、特に強誘電性を示し易い傾向がある。
一方向にそろっている方が液晶性を示しやすいが、Yが
Oの場合にはXの種類にかかわらず液晶性を示しやすく
、特に強誘電性を示し易い傾向がある。
製造方法としては、−船蔵(m)
[ただし、式中、R1は炭素数1−16の不斉炭素を有
するアルキル基であり、ハロゲンで置換されていても良
い。R2は水素又はメチル基である。1 で表わされるトラネキサム酸のN−アルキル化により合
成し、−船蔵(T)におけるR3に相当する化合物又は
その塩と、−船蔵(1’V)HO−(◎)−pX−(◎
)−9Y−C山、、。
するアルキル基であり、ハロゲンで置換されていても良
い。R2は水素又はメチル基である。1 で表わされるトラネキサム酸のN−アルキル化により合
成し、−船蔵(T)におけるR3に相当する化合物又は
その塩と、−船蔵(1’V)HO−(◎)−pX−(◎
)−9Y−C山、、。
−・・・・−(rV)
〔式中、p、qはp=1% q二2又はp=2、q=l
の組合わせをとり、nは1〜16の整数を表わし、Xは
C00又はOCOを表わし、YはCOO1OCO又はO
を表わす。Jで表わされるフェノール誘導体とを脱水縮
合させることによって、−船蔵(I)で示されるトラネ
キサム酸誘導体を合成することが出来る。
の組合わせをとり、nは1〜16の整数を表わし、Xは
C00又はOCOを表わし、YはCOO1OCO又はO
を表わす。Jで表わされるフェノール誘導体とを脱水縮
合させることによって、−船蔵(I)で示されるトラネ
キサム酸誘導体を合成することが出来る。
反応過程を第1図に示す。
まず、−船蔵(III)で示される化合物の製造につい
て説明する。
て説明する。
一般式(1)で示される化合物はトラネキサム酸のアミ
ノ基をt−ブチルオキシカルボニル基等で保護しく第1
図(a)参照)、R2が水素のときはR3に相当するハ
ロゲン化アルキル、R2がメチル基のときはハロゲン化
メチルと水素化ナトリウムを用いてN−アルキル化と同
時にC末端をエステル化した後、t−ブチルオキシカル
ボニル基の脱保護を行なう(第1図(b)参照)。更に
R2がメチル基の場合にはR3に相当するハロゲン化ア
ルキルと水素化ナトリウμを用いてアルキル化する。
ノ基をt−ブチルオキシカルボニル基等で保護しく第1
図(a)参照)、R2が水素のときはR3に相当するハ
ロゲン化アルキル、R2がメチル基のときはハロゲン化
メチルと水素化ナトリウムを用いてN−アルキル化と同
時にC末端をエステル化した後、t−ブチルオキシカル
ボニル基の脱保護を行なう(第1図(b)参照)。更に
R2がメチル基の場合にはR3に相当するハロゲン化ア
ルキルと水素化ナトリウμを用いてアルキル化する。
最後にエステルを加水分解して一般式(III)で示さ
れる化合物を得ることができる(第1図(c)参照)。
れる化合物を得ることができる(第1図(c)参照)。
次に一般式(IV)で示される化合物は、X、 Yの組
合わせにより、出発原料が第2図〜第3図の(TV−1
)〜(IV−4)の4種類に分けられる。
合わせにより、出発原料が第2図〜第3図の(TV−1
)〜(IV−4)の4種類に分けられる。
まず、x=coo、Y=C00テ表わサレル化合物(I
V−1)を合成するには、原料として市販の4−ヒドロ
キシ安息香酸エチル又は4−(4’−ヒドロキシフェニ
ル)安息香酸を用い、水酸基をベンジルエーテル等で保
護した後、−船蔵(IV )中−C1HQ n+ 1に
相当するアルキル基(第2図(IV−1)中Rにあたる
)を有するアルコールとエステル化を行ない、脱保護す
る(第2図C参照)。
V−1)を合成するには、原料として市販の4−ヒドロ
キシ安息香酸エチル又は4−(4’−ヒドロキシフェニ
ル)安息香酸を用い、水酸基をベンジルエーテル等で保
護した後、−船蔵(IV )中−C1HQ n+ 1に
相当するアルキル基(第2図(IV−1)中Rにあたる
)を有するアルコールとエステル化を行ない、脱保護す
る(第2図C参照)。
次いで、上述の過程で得られる水酸基を保護した安息香
酸誘導体と、塩化チオニル等でエステル化を行ない、脱
保護して、目的の化合物が得られる(第2図C参照)。
酸誘導体と、塩化チオニル等でエステル化を行ない、脱
保護して、目的の化合物が得られる(第2図C参照)。
次ニx=coo、Y=O又はx=coo、y = oc
。
。
で表わされる化合物HV−2)を合成するには、市販の
フェノール誘導体の一方の水酸基を保護したものを、Y
=Oの場合は相当するアルキルトシレート又はアルキル
ブロマイドとエーテル化し、y=ocoの場合は相当す
る脂肪酸とエステル化し、その後脱保護する(第2図C
参照)。
フェノール誘導体の一方の水酸基を保護したものを、Y
=Oの場合は相当するアルキルトシレート又はアルキル
ブロマイドとエーテル化し、y=ocoの場合は相当す
る脂肪酸とエステル化し、その後脱保護する(第2図C
参照)。
あとは(IV−1)の場合と同様にして、目的の化合物
(rV−2)を得る。
(rV−2)を得る。
x=oco、y=o又はx =oco 、 y =oc
oで表わされる化合物(TV−3)の合成は、市販の4
−ヒドロキシ安息香酸エチル又は4−ヒドロキシ安息香
酸エチル又は4−(4”−ヒドロキシフェニル)安息香
酸を原料とし、第2図Cと同様にエーテル化又はエステ
ル化した後、第2図Bと同様の反応を経て得ることが出
来る。
oで表わされる化合物(TV−3)の合成は、市販の4
−ヒドロキシ安息香酸エチル又は4−ヒドロキシ安息香
酸エチル又は4−(4”−ヒドロキシフェニル)安息香
酸を原料とし、第2図Cと同様にエーテル化又はエステ
ル化した後、第2図Bと同様の反応を経て得ることが出
来る。
また、x =oco 、y =cooで表わされる化合
物(rV−4)は、市販のジカルボン酸を相当するアル
コールでエステル化した後、第2図B同様の反応を経て
得ることが出来る(第3図参照)。
物(rV−4)は、市販のジカルボン酸を相当するアル
コールでエステル化した後、第2図B同様の反応を経て
得ることが出来る(第3図参照)。
最後に前述のようにして得た一般式(III)と−船蔵
(rV)で示される化合物を反応させることによって一
般式(1)のトラネキサム酸誘導体を得ることが出来る
。具体的には縮合反応を適宜溶媒中(例えばジクロロメ
タン、四塩化炭素、ベンゼン等)において、縮合剤とし
てN、N’−ジシクロへキシルカルボジイミド(以下、
DCCと省略する)等を用いるか又は−船蔵(III)
の化合物を塩化チオニルなどを用いて酸ハライドなどに
誘導体化し、塩基性条件下で一般式(rV)の化合物を
作用させる等の方法がある。
(rV)で示される化合物を反応させることによって一
般式(1)のトラネキサム酸誘導体を得ることが出来る
。具体的には縮合反応を適宜溶媒中(例えばジクロロメ
タン、四塩化炭素、ベンゼン等)において、縮合剤とし
てN、N’−ジシクロへキシルカルボジイミド(以下、
DCCと省略する)等を用いるか又は−船蔵(III)
の化合物を塩化チオニルなどを用いて酸ハライドなどに
誘導体化し、塩基性条件下で一般式(rV)の化合物を
作用させる等の方法がある。
上述した方法にて製造した化合物はカラムクロマトグラ
フィーおよび再結晶にて精製する。
フィーおよび再結晶にて精製する。
[作用1
本発明における一般式(I)
の化合物は、非常に安定な液晶性を示すトラネキサム酸
誘導体である。
誘導体である。
室温に近い広い温度領域で安定な液晶相を有するのは、
アミンとカルボン酸にはさまれたシクロヘキサン環が、
立体構造としてはベンゼン環と同じように分子のコアの
剛直性を保ち、また、化学的な効果としては低融点化を
もたらしているためと推定される。
アミンとカルボン酸にはさまれたシクロヘキサン環が、
立体構造としてはベンゼン環と同じように分子のコアの
剛直性を保ち、また、化学的な効果としては低融点化を
もたらしているためと推定される。
一方、R3の種類によってスメクチック性に違いが見ら
れる。これは、ベンゼン環とその結合子の種類によって
生じる分子の折れ曲がりや分子長軸から見た結合角、す
なわち分子のねじれ構造の変化が分子間相互作用や分子
配列の規則性に影響を及ぼしているためと推定される。
れる。これは、ベンゼン環とその結合子の種類によって
生じる分子の折れ曲がりや分子長軸から見た結合角、す
なわち分子のねじれ構造の変化が分子間相互作用や分子
配列の規則性に影響を及ぼしているためと推定される。
本発明の化合物は、上記理由により応答性、メモリ性に
優れた液晶表示素子の利用可能性を有する新規なアミノ
酸誘導体である。
優れた液晶表示素子の利用可能性を有する新規なアミノ
酸誘導体である。
また、本発明の化合物は、既に知られている強誘電性液
晶と配合して強誘電性を示す温度領域を上下に広げたり
、応答性を改善したりすることができ、又光学活性でな
い液晶に配合して強誘電性を持たせたりすることができ
る。
晶と配合して強誘電性を示す温度領域を上下に広げたり
、応答性を改善したりすることができ、又光学活性でな
い液晶に配合して強誘電性を持たせたりすることができ
る。
[実施例]
以下、実施例により本発明の化合物について更に詳細に
説明するが、本発明はこれらの実施例により限定される
ものではない。
説明するが、本発明はこれらの実施例により限定される
ものではない。
以下、Cry、 Ch 、 Iso、 SA、 Sc
、 SX”相はそれぞれ結晶、コレステリック相、等
月相、スメクチックA相、キシルスメクチックC相、キ
ラルスメクチックX相を示す。
、 SX”相はそれぞれ結晶、コレステリック相、等
月相、スメクチックA相、キシルスメクチックC相、キ
ラルスメクチックX相を示す。
本発明の化合物の精製は、シリカゲルクロマトグラフィ
ー及びエーテル、ヘキサンによる再結晶にて行なった。
ー及びエーテル、ヘキサンによる再結晶にて行なった。
以下に示す相転移点の測定値は、物質の純度により若干
の影響を受けることもある。
の影響を受けることもある。
なお、以下の実施例においては原料の光学活性体として
8体のものを使用した例のみを記数するが、R体を原料
とした場合にも夫々同一の相転移温度のものが得られる
ことは理論上からも明らかである。
8体のものを使用した例のみを記数するが、R体を原料
とした場合にも夫々同一の相転移温度のものが得られる
ことは理論上からも明らかである。
(1)トランス−4−(N−t−ブチルオキシカルボニ
ルアミノメチル)シクロヘキサンカルボン酸の合成 トラネキサム酸15.7gをジオキサン−水(2:1)
300+n9.に渚解し、水冷下1モル水酸化ナトリウ
ム水溶液100IDI2とジ−t−ブチルジカーボネー
ト24.0 gのジオキサン(50mI2)溶液を10
分間を要して滴下した。室温に戻し、2.5時間撹拌し
た後、反応液を外温50〜60℃の水溶上でおよそ1/
3に減圧濃縮し、水冷下IN塩酸およそ851112滴
下し、pH3〜4に調整した。酢酸エチル(80mQ
x 3 )で抽出し、有機層を精製水(30I112)
、飽和食塩水(30a112)で洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥後溶媒を減圧留去した。得られた粗結晶をイ
ソブロビルエーテルデ洗浄した後、酢酸エチルから再結
晶することにより無色粉末トランス−4−(N−t−ブ
チルオキシカルボニルアミノメチル)シクロヘキサンカ
ルボン酸21.2g(収率82%)を得た。
ルアミノメチル)シクロヘキサンカルボン酸の合成 トラネキサム酸15.7gをジオキサン−水(2:1)
300+n9.に渚解し、水冷下1モル水酸化ナトリウ
ム水溶液100IDI2とジ−t−ブチルジカーボネー
ト24.0 gのジオキサン(50mI2)溶液を10
分間を要して滴下した。室温に戻し、2.5時間撹拌し
た後、反応液を外温50〜60℃の水溶上でおよそ1/
3に減圧濃縮し、水冷下IN塩酸およそ851112滴
下し、pH3〜4に調整した。酢酸エチル(80mQ
x 3 )で抽出し、有機層を精製水(30I112)
、飽和食塩水(30a112)で洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥後溶媒を減圧留去した。得られた粗結晶をイ
ソブロビルエーテルデ洗浄した後、酢酸エチルから再結
晶することにより無色粉末トランス−4−(N−t−ブ
チルオキシカルボニルアミノメチル)シクロヘキサンカ
ルボン酸21.2g(収率82%)を得た。
(2)トランス−4−(N−t−ブチルオキシカルボニ
ル−N−メチルアミノメチル)シクロヘキサンカルボン
酸メチルエステルの合成 (1)で合成した化合物4.1gとヨウ化メチル8II
IβをDMFに溶解し、水冷下ゆっくり撹拌しながら6
0%水素化ナトリウム169gを少しずつ加えた。
ル−N−メチルアミノメチル)シクロヘキサンカルボン
酸メチルエステルの合成 (1)で合成した化合物4.1gとヨウ化メチル8II
IβをDMFに溶解し、水冷下ゆっくり撹拌しながら6
0%水素化ナトリウム169gを少しずつ加えた。
室温に戻し、−夜撹拌を続けた後エチルエーテル80
mg、で希釈し、水冷上精製水5 nlを滴下した。有
機層を精製水(20m12 X 3) 、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液(2011IQ)、飽和食塩水(20
10で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を
減圧留去することにより黄色油状の粗トランス−4−’
(N−t−ブチルオキシカルボニル−N−メチルアミノ
メチル)シクロヘキサンカルボン酸メチルエステル6.
8g (収率100%)を得た。
mg、で希釈し、水冷上精製水5 nlを滴下した。有
機層を精製水(20m12 X 3) 、飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液(2011IQ)、飽和食塩水(20
10で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を
減圧留去することにより黄色油状の粗トランス−4−’
(N−t−ブチルオキシカルボニル−N−メチルアミノ
メチル)シクロヘキサンカルボン酸メチルエステル6.
8g (収率100%)を得た。
(3)トランス−4−(N−メチル−N−(S)−2−
メチルブチルアミノメチル)シクロヘキサンカルボン酸
メチルエステルの合成(2)で合成した化合物6.8g
に水冷下4N塩酸−酢酸エチル溶液15 mgを加え、
15分間撹拌した後溶媒を減圧留去し、刺激臭がな(な
るのを確認した。
メチルブチルアミノメチル)シクロヘキサンカルボン酸
メチルエステルの合成(2)で合成した化合物6.8g
に水冷下4N塩酸−酢酸エチル溶液15 mgを加え、
15分間撹拌した後溶媒を減圧留去し、刺激臭がな(な
るのを確認した。
得られた粗トランス−4−(N−メチル−アミノメチル
)シクロヘキサンカルボン酸メチルエステル塩酸塩をD
MFlO1112に溶解し、水冷下トリエチルアミン2
.2 mQ、(S)−2−メチルブチルプロミド3.2
mgを加えた。60%水酸化ナトリウム768mgを少
しずつ加え、80℃で1〜2時間加温した。冷接、エチ
ルエーテル80m!で希釈し、精製水5 mj2をゆっ
(りと滴下した。有機層を精製水(20mρ)、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液(20m2 ) 、飽和食塩水
(20mI2)で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥
し、溶媒を減圧留去した。
)シクロヘキサンカルボン酸メチルエステル塩酸塩をD
MFlO1112に溶解し、水冷下トリエチルアミン2
.2 mQ、(S)−2−メチルブチルプロミド3.2
mgを加えた。60%水酸化ナトリウム768mgを少
しずつ加え、80℃で1〜2時間加温した。冷接、エチ
ルエーテル80m!で希釈し、精製水5 mj2をゆっ
(りと滴下した。有機層を精製水(20mρ)、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液(20m2 ) 、飽和食塩水
(20mI2)で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥
し、溶媒を減圧留去した。
得られた黄色油状物を50gのシリカゲルを用いてカラ
ムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル−ヘキサン(
1:6)の留分から無色油状のトランス−4−(N−メ
チル−N−(S)−2−メチルブチルアミノメチル)シ
クロヘキサンカルボン酸メチルエステル3.2g (収
率61%)を得た。
ムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル−ヘキサン(
1:6)の留分から無色油状のトランス−4−(N−メ
チル−N−(S)−2−メチルブチルアミノメチル)シ
クロヘキサンカルボン酸メチルエステル3.2g (収
率61%)を得た。
(4)トランス−4−(N−メチル−N−(S)−2−
メチルブチルアミノメチル)シクロヘキサンカルボン酸
塩酸塩の合成 (3)で得られた化合物3.2gを6N塩酸に溶解し、
室温で24時間撹拌した。
メチルブチルアミノメチル)シクロヘキサンカルボン酸
塩酸塩の合成 (3)で得られた化合物3.2gを6N塩酸に溶解し、
室温で24時間撹拌した。
溶媒を減圧留去して無色粉末トランス−4−(N−メチ
ル−N−(S)−2−メチルブチルアミノメチル)シク
ロヘキサンカルボン酸塩酸塩2゜9g (収率86%)
を得た。
ル−N−(S)−2−メチルブチルアミノメチル)シク
ロヘキサンカルボン酸塩酸塩2゜9g (収率86%)
を得た。
(5)トランス−4−(N−メチル−N−(S)−2−
メチルブチルアミノメチル)シクロヘキサンカルボン酸
エステルの合成 (4)で得られたトランス−4−(N−%チルーN−(
S)−2−メチルブチルアミノメチル)シクロヘキサン
カルボン酸塩酸塩と、常法により製造した表1のR3に
相当するフェノール誘導体をジクロロメタン中1当量の
DCCと0.1当量の4−ピロリジノピリジンを加えて
一夜撹拌し、後処理の後ヘキサンから再結晶して実施例
1〜9に不CH3CH3 (1)の化合物を得た。収率は20〜50%であった。
メチルブチルアミノメチル)シクロヘキサンカルボン酸
エステルの合成 (4)で得られたトランス−4−(N−%チルーN−(
S)−2−メチルブチルアミノメチル)シクロヘキサン
カルボン酸塩酸塩と、常法により製造した表1のR3に
相当するフェノール誘導体をジクロロメタン中1当量の
DCCと0.1当量の4−ピロリジノピリジンを加えて
一夜撹拌し、後処理の後ヘキサンから再結晶して実施例
1〜9に不CH3CH3 (1)の化合物を得た。収率は20〜50%であった。
これらの化合物について相転移温度を測定した結果を第
1表に示す。
1表に示す。
相転移温度は、偏光顕微鏡による目視観察と示差走査熱
量計を併用して判定した。
量計を併用して判定した。
さらに得られた化合物につき、’H−NMR、IRによ
ってその構造を確認した。結果を表2に示す。
ってその構造を確認した。結果を表2に示す。
(以下余白)
〔発明の効果〕
以上例示したように、本発明の化合物は極めて広範な温
度領域において強誘電性を呈する。したがって、単独に
あるいは他のネマチック、スメクチックあるいは強誘電
性液晶と適切に配合されて、実用温度領域において電気
光学的効果を応用した液晶表示素子の材料として有用な
新規な化合物を簡単に廉価に提供することができる。
度領域において強誘電性を呈する。したがって、単独に
あるいは他のネマチック、スメクチックあるいは強誘電
性液晶と適切に配合されて、実用温度領域において電気
光学的効果を応用した液晶表示素子の材料として有用な
新規な化合物を簡単に廉価に提供することができる。
第1図は、−船蔵(III)で表わされる化合物の合成
過程を示し、第2図、第3図は一般式(rV)で表わさ
れる化合物の合成過程を示す。
過程を示し、第2図、第3図は一般式(rV)で表わさ
れる化合物の合成過程を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・( I
) 式中R_1は炭素数1〜16の不斉炭素を有するアルキ
ル基であり、ハロゲンで置 換されたものを含む R_2は水素又はメチル基 R_3は一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・(II) ただし、p:1又は2 q:p=1のときは2、 p=2のときは1 n:1〜16の整数 X:COO又はOCO Y:COO、OCO又はO で表わされるトラネキサム酸誘導体。 2)一般式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・(III
) 式中R_1は炭素数1〜16の不斉炭素を有するアルキ
ル基であり、ハロゲンで置換され たものを含む R_2は水素又はメチル基 で表わされる化合物又はその塩と、一般式 (IV) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・(IV) 式中、p:1又は2 q:p=1のときは2、 p=2のときは1 n:1〜16の整数 X:COO又はOCO Y:COO、OCO又はO で表わされる化合物とを反応させることを特徴とする請
求項1記載のトラネキサム酸誘導体の製造方法。 3)請求項1記載のトラネキサム酸誘導体を少なくとも
一種配合成分として含有することを特徴とする液晶素子
。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2149487A JPH0441468A (ja) | 1990-06-06 | 1990-06-06 | トラネキサム酸誘導体 |
| US07/640,753 US5166403A (en) | 1990-03-29 | 1991-01-14 | Amine derivatives and process for producing the same |
| DE4101129A DE4101129A1 (de) | 1990-03-29 | 1991-01-16 | Aminderivate und verfahren zu ihrer herstellung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2149487A JPH0441468A (ja) | 1990-06-06 | 1990-06-06 | トラネキサム酸誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0441468A true JPH0441468A (ja) | 1992-02-12 |
Family
ID=15476230
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2149487A Pending JPH0441468A (ja) | 1990-03-29 | 1990-06-06 | トラネキサム酸誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0441468A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1993005015A1 (fr) * | 1991-08-29 | 1993-03-18 | Showa Denko K.K. | Derive de l'acide alkylthiobenzoique optiquement actif et production et utilisation de ce derive |
| CN116284814A (zh) * | 2023-01-17 | 2023-06-23 | 杭州三式化妆品有限公司 | 超分子传明酸甘醇酸离子盐及其制备方法和应用 |
-
1990
- 1990-06-06 JP JP2149487A patent/JPH0441468A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1993005015A1 (fr) * | 1991-08-29 | 1993-03-18 | Showa Denko K.K. | Derive de l'acide alkylthiobenzoique optiquement actif et production et utilisation de ce derive |
| CN116284814A (zh) * | 2023-01-17 | 2023-06-23 | 杭州三式化妆品有限公司 | 超分子传明酸甘醇酸离子盐及其制备方法和应用 |
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