JPH0441559Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔考案の技術分野〕 この考案は、例えばマグネトロンの表面研磨を
行なう場合に使用して好適な電子管の製造装置に
関する。

〔考案の技術的背景とその問題点〕

電子管例えばマグネトロンを製造する場合、排
気により銅製陽極すなわち真空外囲器の外周面に
生じた酸化膜をドライホーニング（表面研磨）に
より除去しなければならず、従来、第１図に示す
ような電子管の製造装置を使用していた。

即ち、３個の回転自在のゴム製支持体１により
マグネトロン２を支持し２回転させ、このマグネ
トロン２の真空外囲器外周面にノズル（図示せ
ず）から砂状の研磨材を噴射して表面研磨を行な
つていた。

ところが上記のような従来の製造装置ではマグ
ネトロン２が真すぐにならず、前後左右に移動す
ると共に傾むいて、均一な表面研磨ができなかつ
た。

〔考案の目的〕

この考案の目的は、均一な表面処理ができる電
子管の製造装置を提供することである。

〔考案の概要〕

この考案は、支持体にテーパー面を形成し、こ
のテーパー面で被処理電子管を回転自在に支持す
るようにした電子管の製造装置である。

〔考案の実施例〕

この考案による電子管の製造装置は第２図及び
第３図に示すように構成され、被処理電子管例え
ばマグネトロン２を回転自在に支持するために、
復数例えば３個の支持体３が等間隔（120°毎）に
配設され、それぞれ回転自在となつている。この
支持体３は例えばゴムからなり、円柱状にしてほ
ぼ下半分の外周面はテーパー面４に形成され、こ
のテーパー面４でマグネトロン２を回転自在に支
持することになる。このような支持体３に近接し
て、ノズル５がマグネトロン方向に配設され、こ
のノズル５から例えば砂状の研磨材がマグネトロ
ン２の真空外囲器外周面に噴射され、表面研磨が
行なわれる。

〔考案の効果〕

以上のように、この考案は120度間隔でサーク
ル状に置かれて同一方向に回転する３個の支持体
の、被処理電子管の円筒状部すなわちマグネトロ
ンの陽極円筒部をサークル中心部に下から支持す
る部分が、下方に向かつて径大となるテーパ面を
それぞれ有してなる表面研磨装置である。それに
よつて、マグネトロンの陽極円筒部が３個の支持
体のサークル中心部からずれて置かれても、マグ
ネトロンの自重及び各支点における回転周速度の
違いにより、初期には歳差運動のように陽極円筒
部の管軸が振れ回る。

しかし、次第にその振れ回りが小さくなり、つ
いに３個の支持体のサークル中心部と陽極円筒部
の管軸とが一致して振れ回りがなく、直立状態に
安定して回転するようになる。従つて、陽極円筒
部にノズルから噴射する研磨材を当てて、均一な
表面研磨を行なうことができる。しかも、この研
磨材の噴射が比較的強く、それにより陽極円筒部
に偏心力が加えられても、陽極円筒部には上述の
ように支持体のサークル中心部に復帰する作用が
働くので、安定な表面研磨を行なうことができ
る。又、３個の回転支持体の電子管支持部がテー
パ状であるので、直径の異なる円筒部を有する電
子管をも、同一の装置で表面処理することができ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の電子管の製造装置を示す断面
図、第２図はこの考案の一実施例に係る電子管の
製造装置を示す平面図、第３図は第２図のＡ−
A′線に沿つて切断し矢印方向に見た断面図であ
る。 ２……マグネトロン（被処理電子管）、３……
支持体、４……テーパー面、５……ノズル。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 120度間隔でサークル状に置かれ且つ同一方向
   に回転する３個の支持体で、円筒状部を有する被
   処理電子管の上記円筒状部をサークル中心部に支
   持し、該電子管の上記円筒状部にノズルから噴射
   する研磨材を当てて該電子管の表面研磨を行なう
   電子管の製造装置において、 上記３個の支持体は、上記電子管の円筒状部を
   下から支える部分が下方に向かつて径大となるテ
   ーパ面をそれぞれ有してなることを特徴とする電
   子管の製造装置。