JPH0441972Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この考案はエナメル塗料塗布ロール、さらに詳
しく言えばエナメル線製造装置においてエナメル
塗料を線材に塗布するために用いられる塗布のロ
ールに関するものである。

（従来の技術） まず第５図および第６図についてエナメル線の
製造装置を概説する。

第５図に示されるように、線材ｗは全体として
符号１で示される塗布装置においてエナメル塗料
が塗布された後焼付₂を通過して第１層塗膜が
焼付形成され、案内ローラによる線材の循環路を
経由して再び塗布装置１を入り、ここで第２回目
の塗料塗布を受けた後再び焼付路２に入つて第２
層が焼き付けられ、こうして塗料塗布、焼付の工
程を通常10数回くり返して所望の塗膜厚をもつエ
ナメル線が製造されるものである。

塗布装置１は、これを拡大して詳しく描いた第
６図に示されるように、塗料槽６の中に貯えられ
たエナメル塗料に浸された状態で回転駆動される
塗布ロール３と、塗布ロール３の外周面に付着し
た余分な塗料をかき落とすスクレーパ３１とを備
え、張力付与用フエルト４により挟まれて適度の
張力を付与された線材ｗが塗布ロール３によつて
エナメル塗料を塗布され、その余分な塗料はしぼ
りフエルト５において拭われて焼付炉２に向かう
ように構成されている。

エナメル塗料の塗布に用いられる従来の塗布ロ
ール３は第３図に示されるように外周面にｎ本の
塗布用の溝G₁，G₂，G₃，……G_oが形成されたも
のであり、これらの各溝はすべて同一の断面積S₁
を有し、第５図に示されるエナメル線製造装置の
線材循環路の各経路に対応して位置する。線材ｗ
はこの溝の中を走行するとき塗布ロール３の回転
に従つて塗料槽６の中からこの溝内面に付着して
運ばれてくる塗料が塗布される。しかして第１溝
G₁を走行するとき初回の、つまり第１層の塗膜
のための塗布が行われ、第２溝G₂，第３溝G₃，
……第ｎ溝G_oを順次走行してそれぞれ第２層、
第３層、第ｎ（最終）層の塗膜のための塗布がな
されるものである。

ここで上記第１層目の塗膜のためのエナメル塗
布量Q₁は、線材ｗの表面と使用されるエナメル
塗料との馴染み性に関連して定まるものであつ
て、塗膜としてもつとも外観的にすぐれ、また外
径変動も少ない最大の厚さ、つまりいわゆる臨界
塗膜厚t₁を形成するための量が選定される。そし
て一般に、塗布ロールの溝によつてなされる塗布
量は、その溝の断面積と塗布ロールの回転速度の
積に比例するから、塗布ロール３の回転速度や溝
の断面積が、前記第１層目の臨界塗膜厚t₁を得る
塗布量Q₁を与えるように設定されている。

ところで第２層目以降の塗膜においては、第１
層目の塗膜と違つて塗膜の上に塗料を塗布するこ
とになるから、いわゆる前記の馴染み性がかなり
向上し、このため第２層目以降の臨界塗膜厚は第
１層目の臨界塗膜厚t₁よりもかなり大きい値とな
るものである。

（考案が解決すべき問題点） しかしながら従来の塗布ロールにおいては第２
溝G₂，第３溝G₃，……，第ｎ溝G_oが第３図に示
されるようにすべて第１溝G₁と同一の断面積S₁
を有し、かつこれらが一体的に回転駆動するもの
であるから、第２層目以降の塗膜のための塗布量
Q₂，Q₃，……，Q_oがすべて第１層目の塗布量Q₁
と同一量となり、そのため第４図に示される第２
層目以降の塗膜量t₂，t₃，……t_oがそれぞれの層
の臨界塗膜厚に到底達しないばかりでなく、塗膜
形成による線材ｗの実質的な外径増大を考慮に入
れると第２層目以降の塗膜厚t₂，t₃，……，t_oが
順次その前の、つまり直下の層の塗膜厚を下回る
ことになり、この結果最終的な所望の合計塗膜厚
（所定の仕上がり塗膜厚）を得るためにはそれだ
け塗膜層を増やす、つまり塗布回数を増やさねば
ならないという生産能率の著しい低下を招くもの
であつた。

（問題点を解決するための手段） この考案は上述の問題を解決するためになされ
たものであつて、第２層目以降については塗膜と
エナメル塗料との間の馴染み性に合わせて塗布量
を増大させるようにした塗布ロールを要旨とし、
具体的には円柱状をなし、外周面に円周方向に延
びるｎ本の平行な塗料塗布用の溝が形成されたエ
ナメル線製造装置におけるエナメル塗料塗布ロー
ルにおいて、第２溝の断面積を第１溝の断面積に
対し、塗膜とエナメル塗料との間の馴染み性が線
材の表面と塗料との間の馴染み性に比べて上昇し
た分に合わせて増大させると共に、第３溝以降第
ｎ溝までの各断面積を、それぞれそれらの直前の
第２溝以降第（ｎ−１）溝までの各断面積に対
し、塗膜形成毎に大となる実質的な線材外径に対
応させて増大させたエナメル塗料塗布ロールであ
る。

（作用） 塗布ロールの第２溝の断面積は第１溝の断面積
に対し、塗膜と塗料との間の馴染み性が線材表面
と塗料との間の馴染み性に比べて上昇した分に合
わせて増大させてあり、さらに第３溝以降の断面
積はそれぞれその直前の溝の断面積よりも塗膜形
成毎に大となる実質的な線材外径に対応させて増
大させてあるから、エナメル塗料塗布に際して各
層の塗膜は、それぞれ臨界塗膜厚を形成すること
になり、そのため所定の仕上がり塗膜厚を有する
エナメル線を塗布回数を最小限にして得ることが
できる。

（実施例） 第１図についてこの考案の１実施例を説明す
る。この考案の塗布ロール３においても第１溝
G₁の断面積S₁は第３図に示される従来の塗布ロ
ールと同様に、第１層目の塗膜を臨界塗膜厚t₁と
させ得る塗布量Q₁を供給し得る大きさに選定さ
れている。

次に第２溝G₂の断面積S₂は第１溝G₁の断面積
S₁より、エナメル塗料と塗膜との間の馴染み性
が、エナメル塗料と線材ｗの表面との間の馴染み
性に比べて増大した分に合わせて増大されてい
る。さらに第３溝G₃，第４溝G₄，……，第ｎ溝
G_oの断面積S₃，S₄，……，S_oがそれぞれ第２溝
G₂、第３溝G₃，……，第（ｎ−１）溝G_o-1の断
面積S₂，S₃，S_o-1よりも塗膜形成毎に実施的に増
大する線材外径に対応して順次増大している。こ
うすることによつて各層の塗膜厚をそれぞれの臨
界塗膜厚とさせ得るものである。

第２図はこの考案の塗布ロールによつて製造さ
れたエナメル線の断面を示すものであり、第２層
目以降の各層塗膜がすべてt₂＝t₃＝……＝t_oなる
同一厚さの臨界塗膜厚を持つものとなつている。

（考案の効果） この考案によれば、塗布ロールの第２溝の断面
積が第１溝の断面積よりも塗膜と塗料との間の馴
染み性が線材表面と塗料との間の馴染み性に比べ
て上昇した分に合わせて増大されており、さらに
第３溝以降の各溝の断面積が、それぞれ直前の溝
の断面積よりも塗膜形成毎に実質的に増大する線
材外径に対応して増大されているので、各層の塗
膜がそれぞれの層の臨界塗膜厚となり、そのため
所定の仕上がり塗膜厚を有するエナメル線を塗布
回数が最小限にして得ることができ、エナメル線
の製造能率を大幅に向上させることができるもの
である。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの考案に係るエナメル塗料塗布ロー
ルの一実施例を示す一部切断側面図、第２図は第
１図の塗布ロールを用いて製造されたエナメル線
を示す拡大断面図、第３図は従来の塗布ロールを
示す一部切断側面図、第４図は第３図の塗布ロー
ルを用いて製造されたエナメル線を示す拡大断面
図、第５図はエナメル線製造設備を示す簡略側面
図、第６図は第５図における塗料塗布装置部分を
示す拡大側面図である。 図において、３は塗布ロール、G₁，G₂，G₃，
……G_oは塗布ロールの第１、第２、第３、……
第ｎ溝、S₁，S₂，S₃，……S_oは第１、第２、第
３、……第ｎ溝の断面積である。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 円柱状をなし、外周面に円周方向に延びるｎ本
   の平行な塗料塗布用の溝が形成されたエナメル線
   製造装置におけるエナメル塗料塗布ロールにおい
   て、第２溝G₂の断面積S₂を第１溝G₁の断面積S₁
   に対し、塗膜とエナメル塗料との間の馴染み性が
   線材ｗの表面と塗料との間の馴染み性に比べて上
   昇した分に合わせて増大させると共に、第３溝
   G₃以降第ｎ溝G_oまでの各断面積S₃，S₄，……，
   S_oを、それぞれそれらの直前の第２溝G₂以降第
   （ｎ−１）溝G_o-1までの各断面積S₂，S₃，……，
   S_o-1より、塗膜形成毎に大となる実質的な線材外
   径に対応させて増大させたことを特徴とするエナ
   メル塗料塗布ロール。