JPH0444573B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0444573B2 JPH0444573B2 JP60153351A JP15335185A JPH0444573B2 JP H0444573 B2 JPH0444573 B2 JP H0444573B2 JP 60153351 A JP60153351 A JP 60153351A JP 15335185 A JP15335185 A JP 15335185A JP H0444573 B2 JPH0444573 B2 JP H0444573B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid
- recording
- recording head
- resin composition
- alkyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 97
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 48
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims description 29
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 18
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 17
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 15
- 229920005684 linear copolymer Polymers 0.000 claims description 15
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 10
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 9
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 7
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 3
- 125000003884 phenylalkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 27
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 27
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 description 18
- -1 β-hydroxyethoxymethyl Chemical group 0.000 description 16
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 14
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 11
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 9
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 5
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 4
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 4
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 4
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 4
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- DHQJMKJYFOHOSY-UHFFFAOYSA-L disodium 4-amino-3-[[4-[4-[(2,4-diaminophenyl)diazenyl]-3-methylphenyl]-2-methylphenyl]diazenyl]-5-oxido-6-phenyldiazenyl-7-sulfonaphthalene-2-sulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].Cc1cc(ccc1N=Nc1ccc(N)cc1N)-c1ccc(N=Nc2c(N)c3c(O)c(N=Nc4ccccc4)c(cc3cc2S([O-])(=O)=O)S([O-])(=O)=O)c(C)c1 DHQJMKJYFOHOSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 3
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 3
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 2
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 2
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 2
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 2
- GJYCVCVHRSWLNY-UHFFFAOYSA-N ortho-butylphenol Natural products CCCCC1=CC=CC=C1O GJYCVCVHRSWLNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 2
- PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N (4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl) prop-2-enoate Chemical compound C1CC2(C)C(OC(=O)C=C)CC1C2(C)C PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 1,3-Dimethyl-2-imidazolidinon Chemical compound CN1CCN(C)C1=O CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPBHXVRMWGWSMX-UHFFFAOYSA-N 1,4-dimethylidenecyclohexane Chemical compound C=C1CCC(=C)CC1 JPBHXVRMWGWSMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical group CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSUQLAYJZDEMOT-UHFFFAOYSA-N 2-(butoxymethyl)oxirane Chemical compound CCCCOCC1CO1 YSUQLAYJZDEMOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUFXMPWHOWYNSO-UHFFFAOYSA-N 2-[(4-methylphenoxy)methyl]oxirane Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1OCC1OC1 CUFXMPWHOWYNSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYEWHONLFGZGLK-UHFFFAOYSA-N 2-[1,3-bis(oxiran-2-ylmethoxy)propan-2-yloxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC(OCC1OC1)COCC1CO1 SYEWHONLFGZGLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUODQIKUTGWMPT-UHFFFAOYSA-N 2-fluoro-5-(trifluoromethyl)pyridine Chemical compound FC1=CC=C(C(F)(F)F)C=N1 UUODQIKUTGWMPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-butyl Chemical group [CH2]CCCO SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTNUOGWCFLMGLF-UHFFFAOYSA-N 5-methylbenzene-1,2,3,4-tetrol Chemical compound CC1=CC(O)=C(O)C(O)=C1O YTNUOGWCFLMGLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001050985 Disco Species 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N Phenyl glycidyl ether Chemical compound C1OC1COC1=CC=CC=C1 FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- IAXXETNIOYFMLW-COPLHBTASA-N [(1s,3s,4s)-4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1C[C@]2(C)[C@@H](OC(=O)C(=C)C)C[C@H]1C2(C)C IAXXETNIOYFMLW-COPLHBTASA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1CCC(CO)CC1 YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRTTZMZPZHBOPO-UHFFFAOYSA-N [B].[B].[Hf] Chemical compound [B].[B].[Hf] LRTTZMZPZHBOPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 229940079894 benzophenone-9 Drugs 0.000 description 1
- QPKOBORKPHRBPS-UHFFFAOYSA-N bis(2-hydroxyethyl) terephthalate Chemical compound OCCOC(=O)C1=CC=C(C(=O)OCCO)C=C1 QPKOBORKPHRBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 125000000853 cresyl group Chemical group C1(=CC=C(C=C1)C)* 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- INSRQEMEVAMETL-UHFFFAOYSA-N decane-1,1-diol Chemical compound CCCCCCCCCC(O)O INSRQEMEVAMETL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- AYOHIQLKSOJJQH-UHFFFAOYSA-N dibutyltin Chemical compound CCCC[Sn]CCCC AYOHIQLKSOJJQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDCHWIWENYCPIL-UHFFFAOYSA-L disodium;4-hydroxy-5-(2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfonatobenzoyl)-2-methoxybenzenesulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].C1=C(S([O-])(=O)=O)C(OC)=CC(O)=C1C(=O)C1=CC(S([O-])(=O)=O)=C(OC)C=C1O QDCHWIWENYCPIL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 229940119545 isobornyl methacrylate Drugs 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQFKMOCXFFNEPB-UHFFFAOYSA-N n,2-bis(hydroxymethyl)prop-2-enamide Chemical compound OCNC(=O)C(=C)CO OQFKMOCXFFNEPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FFCSUSFLXUYWAV-UHFFFAOYSA-N n-(butoxymethyl)-3-hydroxy-2-methylidenebutanamide Chemical compound CCCCOCNC(=O)C(=C)C(C)O FFCSUSFLXUYWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UYNYHBSWXLGPFU-UHFFFAOYSA-N n-(hydroxymethyl)-2-methylidenebutanamide Chemical compound CCC(=C)C(=O)NCO UYNYHBSWXLGPFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSKOCSQWGIDTHQ-UHFFFAOYSA-N n-(hydroxymethyl)-2-methylidenepentanamide Chemical compound CCCC(=C)C(=O)NCO CSKOCSQWGIDTHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTMDYDPHCFUVKQ-UHFFFAOYSA-N n-(propoxymethyl)prop-2-enamide Chemical compound CCCOCNC(=O)C=C XTMDYDPHCFUVKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 125000005429 oxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229940113115 polyethylene glycol 200 Drugs 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000001568 sexual effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)(C)C SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
- C09D4/06—Organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond in combination with a macromolecular compound other than an unsaturated polymer of groups C09D159/00 - C09D187/00
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は、液体噴射記録ヘツド、詳しくは、イ
ンク等の記録用液体の小滴を発生させ、それを紙
などの被記録材に付着させて記録を行なう液体噴
射記録方式に用いる記録用液体の小滴発生用の記
録ヘツドに関する。 〔従来の技術〕 インク等の記録用液体の小滴を発生させ、それ
を紙などの被記録材に付着させて記録を行なう液
体噴射記録方式は、記録時の騒音の発生が無視で
きる程度に極めて小さく、かつ高速記録が可能で
あり、しかも普通紙に定着などの特別な処理を必
要とせずに記録を行なうことのできる記録方式と
して注目され、最近種々のタイプのものが活発に
研究されている。 液体噴射記録方式に用いられる記録装置の記録
ヘツド部は、一般に、記録用液体を吐出するため
のオリフイス(液体吐出口)と、該オリフイスに
連通し、記録用液体を吐出するためのエネルギー
が記録用液体に作用する部分を有する液体通路
と、該液体通路に供給する記録用液体を貯留する
ための液室とを有して構成されている。 記録の際に、記録用液体を吐出するためのエネ
ルギーは、液体通路の一部を構成する記録用液体
に吐出エネルギーを作用させる部分(エネルギー
作用部)の所定の位置に配設された発熱素子、圧
電素子等の種々のタイプの吐出エネルギー発生素
子によつて発生されるものが多い。 このような構成の液体噴射記録ヘツドを製造す
る方法としては、例えば、ガラス、金属等の平板
に切削やエツチング等によつて、微細な溝を形成
し、更にこの溝を形成した平板に他の適当な板を
接合して液体通路を形成する工程を含む方法、あ
るいは例えば吐出エネルギー発生素子の配置され
た基板上に硬化した感光性樹脂の溝壁をフオトリ
ソグラフイー工程によつて形成して、基板上に液
体通路となる溝を設け、このようにして形成され
た溝付き板に、他の平板(覆い)を接合して液体
通路を形成する工程を含む方法が知られている
(例えば特開昭57−43876号)。 これらの液体噴射記録ヘツドの製造方法のなか
では、感光性樹脂を使用した後者の方法は、前者
の方法に対して、液体通路をより精度良く、かつ
歩留り良く微細加工でき、しかも量産化が容易で
あるので、品質が良く、より安価な液体噴射記録
ヘツドを提供することができるという利点を有し
ている。 このような記録ヘツドの製造に用いる感光性樹
脂としては、印刷版、プリント配線等におけるパ
ターン形成用として用いられてきたもの、あるい
はガラス、金属、セラミツクス等に用いる光硬化
型の塗料や接着剤として知られているものが用い
られており、また作業能率などの面からドライフ
イルムタイプの樹脂が主に利用されてきた。 〔発明が解決しようとする問題点〕 感光性樹脂の硬化膜を用いた記録ヘツドにおい
ては、高度な記録特性、耐久性及び信頼性等の優
れた特性を得るために、記録ヘツドに用いる感光
性樹脂には、 (1) 特に、硬化膜としての基板との接着性に優れ
ている、 (2) 硬化した際の機械的強度及び耐久性等に優れ
ている、 (3) パターン露光を用いたパターンニングの際の
感度及び解像度に優れている などの特性を有していることが要求される。 ところが、これまでに知られている液体噴射記
録ヘツドの形成に用いられる感光性樹脂として
は、上記の要求特性を全て満足したものが見当た
らないのが現状である。 すなわち、記録ヘツド用の感光性樹脂として、
印刷版、プリント配線等におけるパターン形成用
として用いられているものは、感度及び解像度に
おいては優れているが、基板として用いられるガ
ラス、セラミツクス、プラスチツクフイルムなど
に対する接着性や密着性に劣り、しかも硬化した
際の機械的強度や耐久性が十分でない。そのた
め、記録ヘツドの製造段階において、または使用
にともなつて、例えば液体通路内の記録用液体の
流れを阻害したり、あるいは液滴吐出方向を不安
定にするなどとして記録特性を低下させる等、記
録ヘツドの信頼性を著しく損なう原因となる樹脂
硬化膜の変形や基板からの剥離、損傷などが起き
易いという欠点を有している。 一方、ガラス、金属、セラミツクス等に用いる
光硬化型の塗料や接着剤として知られているもの
は、これらの材質からなる基板に対する密着性や
接着性に優れ、かつ硬化した際に十分な機械的強
度や耐久性が得られるという利点を有しているも
のの、感度及び解像度に劣るために、より高強度
の露光装置や長時間の露光操作が必要とされ、ま
た、その特性上、解像度良く精密な高密度パター
ンを得ることができないために、特に微細な精密
加工が要求される記録ヘツド用としては向いてい
ないという問題点を有している。 本発明は、このような問題点に鑑みなされたも
のであり、前述したような諸要求特性を全て満足
した樹脂硬化膜からなる液体通路壁を有し、安価
で精密であり、信頼性が高く、耐久性に優れた液
体噴射記録ヘツドを提供することを目的とする。 本発明の他の目的は、液体通路が精度良くかつ
歩留り良く微細加工された構成を有した液体噴射
記録ヘツドを提供することにある。 本発明の他の目的は、マルチオリフイス化され
た場合にも信頼性が高く、耐久性に優れた液体噴
射記録ヘツドを提供することにある。 〔問題点を解決するための手段〕 上記の目的は以下の本発明によつて達成するこ
とができる。 本発明は、液体の吐出口に連通する液体通路
と、該液体通路内の液体を吐出させるためのエネ
ルギーを発生する吐出エネルギー発生素子とを有
し、前記液体通路の少くとも1部が活性エネルギ
ー線によつて硬化する樹脂組成物の硬化領域で形
成されて成る液体噴射記録ヘツドにおいて、前記
樹脂組成物が () 共重合体構成成分として下記一般式で表
わされるモノマー5〜30モル%および下記一般
式で表されるモノマー5〜50モル%を含有す
る熱架橋性線状共重合高分子と、 (ただし、R1は水素または炭素原子数が1〜
3のアルキルもしくはヒドロキシアルキル基、
R2は水素または炭素原子数が1〜4のヒドロ
キシ基を有してもよいアルキルもしくはアシル
基、R3は水素または炭素原子数が1〜3のア
ルキル基、R4はその内部にエーテル結合を有
してもよく、且つハロゲン原子で置換されても
よい2価の炭化水素基、R5は炭素原子数が3
〜12のアルキルもしくはフエニルアルキル基ま
たはフエニル基を表す。) () エチレン性不飽和結合を有する単量体 とを有してなる活性エネルギー線硬化型樹脂組成
物であることを特徴とする液体噴射記録ヘツドで
ある。 すなわち本発明の記録ヘツドは、基板と、少な
くとも液体通路となる溝を形成する樹脂硬化膜層
とを有してなり、記録ヘツドを構成する各部材の
耐久性及び各部材間での接着性に優れ、しかも樹
脂硬化膜層が精度良く微細加工されており、優れ
た記録特性を有し、信頼性も高く、使用に際して
の耐久性にも優れた記録ヘツドである。 以下、図面に従つて本発明の液体噴射記録ヘツ
ドを詳細に説明する。 第1図は本発明の液体噴射記録ヘツドの一例で
あり、第1図aはその主要部の斜視図、第1図b
は第1図aのC−C′線に添つたり切断断面図であ
る。 この液体噴射記録ヘツドは、基本的に、基板1
と、該基板上に設けられ、所定の形状にパターン
ニングされた樹脂硬化膜3Hと、該樹脂硬化膜上
に積層された覆い7とを有してなり、これらの部
材によつて、記録用液体を吐出するためのオリフ
イス9、該オリフイスに連通し、記録用液体を吐
出するためのエネルギーが記録用液体に作用する
部分を有する液体通路6−2及び該液体通路に供
給する記録用液体を貯留するための液室6−1が
形成されている。更に、覆いに設けられた貫通孔
8には、記録ヘツド外部から液室6−1に記録用
液体を供給するための供給管10が接合されてい
る。尚、第1図aには、供給管10は省略してあ
る。 記録の際に、記録用液体を吐出するためのエネ
ルギーは、液体通路6−2の一部を構成する記録
用液体に吐出エネルギーを作用させる部分の所定
の位置に配設された発熱素子、圧電素子等の種々
のタイプの吐出エネルギー発生素子2に、これら
素子に接続してある配線(不図示)を介して吐出
信号を所望に応じて印加することにより発生され
る。 本発明の記録ヘツドを構成する基板1は、ガラ
ス、セラミツクス、プラスチツクあるいは金属等
からなり、発生素子2が所望の個数所定位置に配
設される。なお、第1図の例においては発生素子
が2個設けられているが、発熱素子の個数及び配
置は記録ヘツドの所定の構成に応じて適宜決定さ
れる。 また、覆い7は、ガラス、セラミツクス、プラ
スチツクあるいは金属等の平板からなり、融着あ
るいは接着剤を用いた接着方法により樹脂硬化膜
3H上に接合されており、また所定の位置に供給
管10を節沿するための貫通孔8が設けられてい
る。 本発明の記録ヘツドにおいて、液体通路6−2
及び液室6−1の壁を構成する所定の形状にパタ
ーンニングされた樹脂硬化膜3Hは、基板1上
に、あるいは覆い7上に設けた以下に説明する組
成の樹脂組成物からなる層をフオトリソグラフイ
ー工程によつてパターンニングして得られたもの
である。尚、この樹脂硬化膜3Hは、該樹脂組成
物で形成した覆い7と一体化してパターンニング
されたものであつてもよい。 このような少なくとも液体通路となる部分を構
成するために基板上に設けられた樹脂硬化膜を形
成するために用いる樹脂組成物は、 () 共重合体構成成分として下記一般式で表
わされるモノマー5〜30モル%および下記一般
式で表わされるモノマー5〜50モル%を含有
する熱架橋性線状共重合高分子と、 (ただし、R1は水素または炭素原子数が1〜
3のアルキルもしくはヒドロキシアルキル基、
R2は水素または炭素原子数が1〜4のヒドロ
キシ基を有してもよいアルキルもしくはアシル
基、R3は水素または炭素原子数が1〜3のア
ルキル基、R4はその内部にエーテル結合を有
してもよく、且つハロゲン原子で置換されても
よい2価の炭化水素基、R5は炭素原子数が3
〜12のアルキルもしくはフエニルアルキル基ま
たはフエニル基を表す。) () エチレン性不飽和結合を有する単量体 とを有してなる活性エネルギー線硬化型樹脂組成
物であり、特に硬化膜とした際にガラス、プラス
チツク、セラミツクス等からなる基板に対して良
好な接着性を有し、かつインク等の記録用液体に
対する耐性及び機械的強度にも優れ、しかも活性
エネルギー線によるパターニングによつて精密で
高解像度のパターンを形成することができるとい
う液体噴射記録ヘツドの構成部材として優れた特
性を有するものである。更に、この樹脂組成物
は、ドライフイルムとして用いることができ、そ
の際にも上記の優れた特性が発揮される。 以下、この本発明の記録ヘツドの形成に用いる
活性エネルギー硬化型樹脂組成物の組成について
詳細に説明する。 この活性エネルギー硬化型樹脂組成物の必須成
分である()熱架橋性状共重合高分子は、親水
性および熱架橋性を有する上記一般式と、該組
成物を硬化して得られるパターンに十分な密着性
と機械的強度を付与する上記一般式で示される
モノマーを共重合の成分として、それぞれ5〜30
モル%および5〜50モル%有するものであり、上
記親水性によつて基板への優れた密着性を、また
熱架橋性によつて構造材料としての優れた性状、
例えば耐熱性、耐薬品性、あるいは機械的強度等
を発揮し得るように成したものである。一般式
およびで表わされるモノマーは、その合計量が
約50モル%以下となるような範囲で熱架橋性線状
共重合高分子に含有されることが好ましい。 上記熱架橋性線状共重合高分子を製造するに際
して用いられる一般式で表わされるモノマーを
具体的に示せば、N−メチロール(メタ)アクリ
ルアミド(以下、(メタ)アクリルアミドと記す
場合、アクリルアミドおよびメタアクリアミドの
双方を含むこと意味するものとする。)、N−プロ
ポキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−n−
ブトキシメチル(メタ)アクリルアミド、β−ヒ
ドロキシエトキシメチル(メタ)アクリルアミ
ド、N−エトキシメチル(メタ)アクリルアミ
ド、N−メトキシメチル(メタ)アクルアミド、
N−アセトキシメチル(メタ)アクリルアミド、
α−ヒドロキシメチル−N−メチロールアクリル
アミド、α−ヒドロキシエチル−N−ブトキシメ
チルアクリルアミド、α−ヒドロキシプロピル−
N−プロポキシメチルアクリルアミド、α−エチ
ル−N−メチロールアクリルアミド、α−プロピ
ル−N−メチロールアクリルアミド等のアクリル
アミド誘導体が挙げられる。 これら一般式で表わされるモノマーは、5〜
30モル%が熱架橋性線状共重合高分子に含有され
ることが必要である。含有量が5モル%未満で
は、本発明の記録ヘツドの形成に用いる樹脂組成
物を硬化して得られるパターンに十分な耐薬品性
が付与されない。これに対して、含有量が30モル
%を越えると、硬化して得られるパターンが脆く
なる等の問題を生じる。 一方、一般式で表わされるモノマーは、5〜
50モル%が熱架橋性線状共重合高分子に含有され
ることが必要である。含有量が5モル%未満で
は、該樹脂組成物を硬化して得られるパターンに
十分な密着性および機械的強度が付与されない。
これに対して、含有量が50モル%を越えると、得
られる組成物の軟化点の低下が顕著になり、該組
成物を硬化して得られるパターンの表面硬度の低
下や、膨潤による耐薬品性の劣化等の問題を生じ
る。 熱架橋性共重合高分子の製造に用いられる一般
式で表わされるモノマーにおけるR4は、その
内部にエーテル結合を有してもよく、且つハロゲ
ン原子で置換されてもよい2価の任意の炭化水素
基とするとができるが、好ましいR4としては、
炭素原子数が2〜12のハロゲン原子で置換されて
もよいアルキレン基、1,4−ビスメチレンシク
ロヘキサンのよう脂環式炭化水素基、ビスフエニ
ルジメチルメタンのような芳香環を含む炭化水素
基等を挙げることができる。 一般式で表わされるモノマーを具体的に示せ
ば、1分子中に水酸基を1個含有する(α−アル
キル)アクリル酸エステルにモノイソシアナート
化合物を反応させて成る、1分子中にウレタン結
合を1個以上有する(α−アルキル)アクリル酸
エステルが挙げられる。 一般式で表わされるモノマーを製造するに際
し用いられる1分子中に水酸基を少なくとも1個
含有する(メタ)アクリル酸エステルとしては、
2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2
−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3
−クロロ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アク
リレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリ
レート、3−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレ
ート、5−ヒドロキシペンチル(メタ)アクリレ
ート、6−ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレ
ートあるいはライトエステルH−mpp(共栄社油
脂化学工業(株)製)などが挙げられる。1分子中に
水酸基を1個含有する(α−アルキル)アクリル
酸エステルとしては、上記以外に(a)脂肪族または
芳香族の二価アルコールと(メタ)アクリル酸と
のエステルや(b)モノエポキシ化合物の(メタ)ア
クリル酸エステルを同様に使用することができ
る。 上記(a)に用いられる二価アルコールとしては、
1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,10−
デカンジオール、ネオペンチルグリコール、ビス
(2−ヒドロキシエチル)テレフタレート、ビス
フエノールAへのエチレンオキシドまたはプロピ
レンオキシドの2〜10モル付加反応物などが挙げ
られる。また、上記(b)に用いられるモノエポキシ
化合物としては、エポライトM−1230(商品名、
共栄社油脂化学工業(株)製)、フエニルグリシジル
エーテル、クレシルグリシジルエーテル、ブチル
グリシジルエーテル、オクチレンオキサイド、n
−ブチルフエノールリシジルエーテルなどが挙げ
られる。 また、一般式で表わされるモノマーを製造す
るに際し用いられるモノイソシアナート化合物と
しては、炭素原子数が3〜12のアルキル基に1個
のイソシアナート基を付与しているアルキルモノ
イソシアナート、およびフエニルイソシアナー
ト、クレジルモノイソシアナートなとが挙げられ
る。 これらの一般式で表わされるモノマーは、1
分子中に水酸基を1個含有するアクリル酸エステ
ルとモノイソシアナート化合物とを、触媒、例え
ばジブチルスズジウラレートの存在下において反
応させる等により、容易に製造することができ
る。 熱架橋製線状共重合高分子を製造するに際して
用いられる一般式で示されるモノマーは親水性
を有しており、本発明に用いる樹脂組成物がガラ
ス、セラミツクス、プラスチツクなどの基板に接
着する際に、強固な密着性を付与するものであ
る。また、上記一般式で表わされるモノマーは
加熱による縮合架橋性を有しており、一般には
100℃以上の温度で水分子あるいはアルコールが
脱離し架橋結合を形成して硬化後に熱架橋性共重
合高分子自体にも網目構造を形成させ、硬化して
得られるパターンに優れた耐薬品性および機械的
強度を付与するものである。 尚、熱架橋性線状共重合高分子には、上記一般
式およびで表わされるモノマーの他、例えば
アクリル樹脂、ビニル樹脂等の製造に際して一般
に用いられている種々のモノマーが、20〜90モル
%の範囲内で共重合の成分として用いられる。こ
れらモノマーは、本発明における樹脂硬化膜形成
用の樹脂組成物に高い凝集強度を付与する等の
種々の目的で用いられるものである。 本発明の記録ヘツドの形成に用いる樹脂組成物
は、記録ヘツドの形成に際して溶液状あるいは固
形のフイルム状等、種々の形状で使用されるが、
ドライフイルムとして用いるのであれば、該組成
物をフイルム状で維持するために、約50℃以上の
ガラス転移温度を有する比較的剛直な性質を与え
るモノマーを一般式およびのモノマーに加え
て共重合して得られる熱架橋性線状共重合高分子
を用いることが好ましい。このような目的に好適
な熱架橋性線状共重合高分子を製造するに際して
用いられる一般式おおび以外のモノマーを示
せば、メルメタクリレート、エチルメタアクリレ
ート、イソブチメタアリレート、t−ブチルメタ
アクリレートなどのアルキル基の炭素数が1〜4
のアルキルメタアリレート、アクリロニトリル、
イソボルニルメタアクリレート、イソボルニルア
クレート、スチレン等の、そのホモポリのガラス
転移温度が約50℃以上のモノマーが挙げられる。
もちろん、これらモノマーは、その一種以上を適
宜選択して用いることができる。更に、これらモ
ノマーに加えて、ヒドロキシ基、アミノ基、カル
ボキシ基あるいはグリシジル基を有する他の公知
のモノマーや、ポリマーのガラス転移温度が約50
℃未満のモノマーをも適宜選択して使用すること
ができる。 上記ヒドロキシ基含有モノマーとしては、2−
ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、3−ク
ロロ−2−ヒドロキシ(メタ)アクレートなど
が、またアミノ基含有モノマーとしては、N,N
−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、
(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアミ
ノエチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメ
チル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル
アミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N,N
−ジt−ブチルアミノエチル(メタ)アクリルア
ミドなどが挙げられる。また、カルボキシル基含
有モノマーとしては、(メタ)アクリル酸、フマ
ール酸、イタコン酸あるいは東亜合成化学(株)製品
の商品名アロニツクスM−5400、アロニツクスM
−5500等で知れられるものが挙げられ、グリシジ
ル基を有するモノマーとしては、グリシジル(メ
タ)アクリレートなどが挙げられる。 また、本発明における樹脂硬化膜形成用の樹脂
組成物を溶液状にて用いるのであれば、該組成物
に柔軟性を与えるようなガラス転移温度の低い熱
架橋性線状共重合高分子を用いることも可能であ
る。しかしながら、この場合にも、優れた耐薬品
性と高い機械的強度を有するパターンを得るため
には、ガラス転移温度の高い熱架橋性線状共重合
高分子を用いることが好ましい。 何れにしても、本発明における樹脂硬化膜形成
用の樹脂組成物に用いられる熱架橋性線状共重合
高分子は、該組成物の硬化工程(すなわち、活性
エネルギー線照射によるパターンの形成および引
続いての熱硬化)において、該組成物に形態保持
性を付与して精密なパターニングを可能にすると
ともに、硬化して得られるパターンに対しては優
れた密着性、耐薬品性ならびに高い機械的強度を
与えるものである。 本発明における樹脂硬化膜形成用の樹脂組成物
に用いるもう一つの成分であるエチレン性不飽和
結合を有する単量体()とは、該組成物に活性
エネルギー線による硬化性を発揮させるための成
分であり、好ましくは大気圧下で100℃以上の沸
点を有し、また好ましくはエチレン性不飽和結合
を2個以上有するものであつて、活性エネルギー
線の照射で硬化する公知の種々の単量体を用いる
ことができる。 そのような2個以上のエチレン性不飽和結合を
有する単量体を具体的に示せば、例えば1分子
中に2個以上のエポキシ基を有する多官能エポキ
シ樹脂のアクリル酸エステルまたはメタアクリル
酸エステル、多価アルコールのアルキレンオキ
シド付加物のアクリル酸エステルまたはメタアク
リル酸エステル、二塩基酸と二価アルコールか
ら成る分子量500〜3000のポリエステルの分子鎖
末端にアクリル酸エステル基を持つポリエステル
アクリレート、多価イソシアネートと水酸基を
有するアクリル酸モノマーとの反応物が挙げられ
る。上記〜の単量体は、分子内にウレタン結
合を有するウレタン変性物であつてもよい。 に属する単量体としては、ビスフエノールA
型、ノボラツク型、脂環型に代表されるエポキシ
樹脂、あるいはビスフエノールS、ビスフエノー
ルF、テトラヒドロキシフエニルメタンテトラグ
リシジルエーテル、レゾルシノールジグリシジル
エーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、
ペンタエリストールトリグリシジルエーテル、イ
ソシアヌー酸トリグリシジルエーテルおよび下記
一般式 (ただし、Rはアルキル基またはオキシアルキル
基、R0は
ンク等の記録用液体の小滴を発生させ、それを紙
などの被記録材に付着させて記録を行なう液体噴
射記録方式に用いる記録用液体の小滴発生用の記
録ヘツドに関する。 〔従来の技術〕 インク等の記録用液体の小滴を発生させ、それ
を紙などの被記録材に付着させて記録を行なう液
体噴射記録方式は、記録時の騒音の発生が無視で
きる程度に極めて小さく、かつ高速記録が可能で
あり、しかも普通紙に定着などの特別な処理を必
要とせずに記録を行なうことのできる記録方式と
して注目され、最近種々のタイプのものが活発に
研究されている。 液体噴射記録方式に用いられる記録装置の記録
ヘツド部は、一般に、記録用液体を吐出するため
のオリフイス(液体吐出口)と、該オリフイスに
連通し、記録用液体を吐出するためのエネルギー
が記録用液体に作用する部分を有する液体通路
と、該液体通路に供給する記録用液体を貯留する
ための液室とを有して構成されている。 記録の際に、記録用液体を吐出するためのエネ
ルギーは、液体通路の一部を構成する記録用液体
に吐出エネルギーを作用させる部分(エネルギー
作用部)の所定の位置に配設された発熱素子、圧
電素子等の種々のタイプの吐出エネルギー発生素
子によつて発生されるものが多い。 このような構成の液体噴射記録ヘツドを製造す
る方法としては、例えば、ガラス、金属等の平板
に切削やエツチング等によつて、微細な溝を形成
し、更にこの溝を形成した平板に他の適当な板を
接合して液体通路を形成する工程を含む方法、あ
るいは例えば吐出エネルギー発生素子の配置され
た基板上に硬化した感光性樹脂の溝壁をフオトリ
ソグラフイー工程によつて形成して、基板上に液
体通路となる溝を設け、このようにして形成され
た溝付き板に、他の平板(覆い)を接合して液体
通路を形成する工程を含む方法が知られている
(例えば特開昭57−43876号)。 これらの液体噴射記録ヘツドの製造方法のなか
では、感光性樹脂を使用した後者の方法は、前者
の方法に対して、液体通路をより精度良く、かつ
歩留り良く微細加工でき、しかも量産化が容易で
あるので、品質が良く、より安価な液体噴射記録
ヘツドを提供することができるという利点を有し
ている。 このような記録ヘツドの製造に用いる感光性樹
脂としては、印刷版、プリント配線等におけるパ
ターン形成用として用いられてきたもの、あるい
はガラス、金属、セラミツクス等に用いる光硬化
型の塗料や接着剤として知られているものが用い
られており、また作業能率などの面からドライフ
イルムタイプの樹脂が主に利用されてきた。 〔発明が解決しようとする問題点〕 感光性樹脂の硬化膜を用いた記録ヘツドにおい
ては、高度な記録特性、耐久性及び信頼性等の優
れた特性を得るために、記録ヘツドに用いる感光
性樹脂には、 (1) 特に、硬化膜としての基板との接着性に優れ
ている、 (2) 硬化した際の機械的強度及び耐久性等に優れ
ている、 (3) パターン露光を用いたパターンニングの際の
感度及び解像度に優れている などの特性を有していることが要求される。 ところが、これまでに知られている液体噴射記
録ヘツドの形成に用いられる感光性樹脂として
は、上記の要求特性を全て満足したものが見当た
らないのが現状である。 すなわち、記録ヘツド用の感光性樹脂として、
印刷版、プリント配線等におけるパターン形成用
として用いられているものは、感度及び解像度に
おいては優れているが、基板として用いられるガ
ラス、セラミツクス、プラスチツクフイルムなど
に対する接着性や密着性に劣り、しかも硬化した
際の機械的強度や耐久性が十分でない。そのた
め、記録ヘツドの製造段階において、または使用
にともなつて、例えば液体通路内の記録用液体の
流れを阻害したり、あるいは液滴吐出方向を不安
定にするなどとして記録特性を低下させる等、記
録ヘツドの信頼性を著しく損なう原因となる樹脂
硬化膜の変形や基板からの剥離、損傷などが起き
易いという欠点を有している。 一方、ガラス、金属、セラミツクス等に用いる
光硬化型の塗料や接着剤として知られているもの
は、これらの材質からなる基板に対する密着性や
接着性に優れ、かつ硬化した際に十分な機械的強
度や耐久性が得られるという利点を有しているも
のの、感度及び解像度に劣るために、より高強度
の露光装置や長時間の露光操作が必要とされ、ま
た、その特性上、解像度良く精密な高密度パター
ンを得ることができないために、特に微細な精密
加工が要求される記録ヘツド用としては向いてい
ないという問題点を有している。 本発明は、このような問題点に鑑みなされたも
のであり、前述したような諸要求特性を全て満足
した樹脂硬化膜からなる液体通路壁を有し、安価
で精密であり、信頼性が高く、耐久性に優れた液
体噴射記録ヘツドを提供することを目的とする。 本発明の他の目的は、液体通路が精度良くかつ
歩留り良く微細加工された構成を有した液体噴射
記録ヘツドを提供することにある。 本発明の他の目的は、マルチオリフイス化され
た場合にも信頼性が高く、耐久性に優れた液体噴
射記録ヘツドを提供することにある。 〔問題点を解決するための手段〕 上記の目的は以下の本発明によつて達成するこ
とができる。 本発明は、液体の吐出口に連通する液体通路
と、該液体通路内の液体を吐出させるためのエネ
ルギーを発生する吐出エネルギー発生素子とを有
し、前記液体通路の少くとも1部が活性エネルギ
ー線によつて硬化する樹脂組成物の硬化領域で形
成されて成る液体噴射記録ヘツドにおいて、前記
樹脂組成物が () 共重合体構成成分として下記一般式で表
わされるモノマー5〜30モル%および下記一般
式で表されるモノマー5〜50モル%を含有す
る熱架橋性線状共重合高分子と、 (ただし、R1は水素または炭素原子数が1〜
3のアルキルもしくはヒドロキシアルキル基、
R2は水素または炭素原子数が1〜4のヒドロ
キシ基を有してもよいアルキルもしくはアシル
基、R3は水素または炭素原子数が1〜3のア
ルキル基、R4はその内部にエーテル結合を有
してもよく、且つハロゲン原子で置換されても
よい2価の炭化水素基、R5は炭素原子数が3
〜12のアルキルもしくはフエニルアルキル基ま
たはフエニル基を表す。) () エチレン性不飽和結合を有する単量体 とを有してなる活性エネルギー線硬化型樹脂組成
物であることを特徴とする液体噴射記録ヘツドで
ある。 すなわち本発明の記録ヘツドは、基板と、少な
くとも液体通路となる溝を形成する樹脂硬化膜層
とを有してなり、記録ヘツドを構成する各部材の
耐久性及び各部材間での接着性に優れ、しかも樹
脂硬化膜層が精度良く微細加工されており、優れ
た記録特性を有し、信頼性も高く、使用に際して
の耐久性にも優れた記録ヘツドである。 以下、図面に従つて本発明の液体噴射記録ヘツ
ドを詳細に説明する。 第1図は本発明の液体噴射記録ヘツドの一例で
あり、第1図aはその主要部の斜視図、第1図b
は第1図aのC−C′線に添つたり切断断面図であ
る。 この液体噴射記録ヘツドは、基本的に、基板1
と、該基板上に設けられ、所定の形状にパターン
ニングされた樹脂硬化膜3Hと、該樹脂硬化膜上
に積層された覆い7とを有してなり、これらの部
材によつて、記録用液体を吐出するためのオリフ
イス9、該オリフイスに連通し、記録用液体を吐
出するためのエネルギーが記録用液体に作用する
部分を有する液体通路6−2及び該液体通路に供
給する記録用液体を貯留するための液室6−1が
形成されている。更に、覆いに設けられた貫通孔
8には、記録ヘツド外部から液室6−1に記録用
液体を供給するための供給管10が接合されてい
る。尚、第1図aには、供給管10は省略してあ
る。 記録の際に、記録用液体を吐出するためのエネ
ルギーは、液体通路6−2の一部を構成する記録
用液体に吐出エネルギーを作用させる部分の所定
の位置に配設された発熱素子、圧電素子等の種々
のタイプの吐出エネルギー発生素子2に、これら
素子に接続してある配線(不図示)を介して吐出
信号を所望に応じて印加することにより発生され
る。 本発明の記録ヘツドを構成する基板1は、ガラ
ス、セラミツクス、プラスチツクあるいは金属等
からなり、発生素子2が所望の個数所定位置に配
設される。なお、第1図の例においては発生素子
が2個設けられているが、発熱素子の個数及び配
置は記録ヘツドの所定の構成に応じて適宜決定さ
れる。 また、覆い7は、ガラス、セラミツクス、プラ
スチツクあるいは金属等の平板からなり、融着あ
るいは接着剤を用いた接着方法により樹脂硬化膜
3H上に接合されており、また所定の位置に供給
管10を節沿するための貫通孔8が設けられてい
る。 本発明の記録ヘツドにおいて、液体通路6−2
及び液室6−1の壁を構成する所定の形状にパタ
ーンニングされた樹脂硬化膜3Hは、基板1上
に、あるいは覆い7上に設けた以下に説明する組
成の樹脂組成物からなる層をフオトリソグラフイ
ー工程によつてパターンニングして得られたもの
である。尚、この樹脂硬化膜3Hは、該樹脂組成
物で形成した覆い7と一体化してパターンニング
されたものであつてもよい。 このような少なくとも液体通路となる部分を構
成するために基板上に設けられた樹脂硬化膜を形
成するために用いる樹脂組成物は、 () 共重合体構成成分として下記一般式で表
わされるモノマー5〜30モル%および下記一般
式で表わされるモノマー5〜50モル%を含有
する熱架橋性線状共重合高分子と、 (ただし、R1は水素または炭素原子数が1〜
3のアルキルもしくはヒドロキシアルキル基、
R2は水素または炭素原子数が1〜4のヒドロ
キシ基を有してもよいアルキルもしくはアシル
基、R3は水素または炭素原子数が1〜3のア
ルキル基、R4はその内部にエーテル結合を有
してもよく、且つハロゲン原子で置換されても
よい2価の炭化水素基、R5は炭素原子数が3
〜12のアルキルもしくはフエニルアルキル基ま
たはフエニル基を表す。) () エチレン性不飽和結合を有する単量体 とを有してなる活性エネルギー線硬化型樹脂組成
物であり、特に硬化膜とした際にガラス、プラス
チツク、セラミツクス等からなる基板に対して良
好な接着性を有し、かつインク等の記録用液体に
対する耐性及び機械的強度にも優れ、しかも活性
エネルギー線によるパターニングによつて精密で
高解像度のパターンを形成することができるとい
う液体噴射記録ヘツドの構成部材として優れた特
性を有するものである。更に、この樹脂組成物
は、ドライフイルムとして用いることができ、そ
の際にも上記の優れた特性が発揮される。 以下、この本発明の記録ヘツドの形成に用いる
活性エネルギー硬化型樹脂組成物の組成について
詳細に説明する。 この活性エネルギー硬化型樹脂組成物の必須成
分である()熱架橋性状共重合高分子は、親水
性および熱架橋性を有する上記一般式と、該組
成物を硬化して得られるパターンに十分な密着性
と機械的強度を付与する上記一般式で示される
モノマーを共重合の成分として、それぞれ5〜30
モル%および5〜50モル%有するものであり、上
記親水性によつて基板への優れた密着性を、また
熱架橋性によつて構造材料としての優れた性状、
例えば耐熱性、耐薬品性、あるいは機械的強度等
を発揮し得るように成したものである。一般式
およびで表わされるモノマーは、その合計量が
約50モル%以下となるような範囲で熱架橋性線状
共重合高分子に含有されることが好ましい。 上記熱架橋性線状共重合高分子を製造するに際
して用いられる一般式で表わされるモノマーを
具体的に示せば、N−メチロール(メタ)アクリ
ルアミド(以下、(メタ)アクリルアミドと記す
場合、アクリルアミドおよびメタアクリアミドの
双方を含むこと意味するものとする。)、N−プロ
ポキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−n−
ブトキシメチル(メタ)アクリルアミド、β−ヒ
ドロキシエトキシメチル(メタ)アクリルアミ
ド、N−エトキシメチル(メタ)アクリルアミ
ド、N−メトキシメチル(メタ)アクルアミド、
N−アセトキシメチル(メタ)アクリルアミド、
α−ヒドロキシメチル−N−メチロールアクリル
アミド、α−ヒドロキシエチル−N−ブトキシメ
チルアクリルアミド、α−ヒドロキシプロピル−
N−プロポキシメチルアクリルアミド、α−エチ
ル−N−メチロールアクリルアミド、α−プロピ
ル−N−メチロールアクリルアミド等のアクリル
アミド誘導体が挙げられる。 これら一般式で表わされるモノマーは、5〜
30モル%が熱架橋性線状共重合高分子に含有され
ることが必要である。含有量が5モル%未満で
は、本発明の記録ヘツドの形成に用いる樹脂組成
物を硬化して得られるパターンに十分な耐薬品性
が付与されない。これに対して、含有量が30モル
%を越えると、硬化して得られるパターンが脆く
なる等の問題を生じる。 一方、一般式で表わされるモノマーは、5〜
50モル%が熱架橋性線状共重合高分子に含有され
ることが必要である。含有量が5モル%未満で
は、該樹脂組成物を硬化して得られるパターンに
十分な密着性および機械的強度が付与されない。
これに対して、含有量が50モル%を越えると、得
られる組成物の軟化点の低下が顕著になり、該組
成物を硬化して得られるパターンの表面硬度の低
下や、膨潤による耐薬品性の劣化等の問題を生じ
る。 熱架橋性共重合高分子の製造に用いられる一般
式で表わされるモノマーにおけるR4は、その
内部にエーテル結合を有してもよく、且つハロゲ
ン原子で置換されてもよい2価の任意の炭化水素
基とするとができるが、好ましいR4としては、
炭素原子数が2〜12のハロゲン原子で置換されて
もよいアルキレン基、1,4−ビスメチレンシク
ロヘキサンのよう脂環式炭化水素基、ビスフエニ
ルジメチルメタンのような芳香環を含む炭化水素
基等を挙げることができる。 一般式で表わされるモノマーを具体的に示せ
ば、1分子中に水酸基を1個含有する(α−アル
キル)アクリル酸エステルにモノイソシアナート
化合物を反応させて成る、1分子中にウレタン結
合を1個以上有する(α−アルキル)アクリル酸
エステルが挙げられる。 一般式で表わされるモノマーを製造するに際
し用いられる1分子中に水酸基を少なくとも1個
含有する(メタ)アクリル酸エステルとしては、
2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2
−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3
−クロロ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アク
リレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリ
レート、3−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレ
ート、5−ヒドロキシペンチル(メタ)アクリレ
ート、6−ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレ
ートあるいはライトエステルH−mpp(共栄社油
脂化学工業(株)製)などが挙げられる。1分子中に
水酸基を1個含有する(α−アルキル)アクリル
酸エステルとしては、上記以外に(a)脂肪族または
芳香族の二価アルコールと(メタ)アクリル酸と
のエステルや(b)モノエポキシ化合物の(メタ)ア
クリル酸エステルを同様に使用することができ
る。 上記(a)に用いられる二価アルコールとしては、
1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,10−
デカンジオール、ネオペンチルグリコール、ビス
(2−ヒドロキシエチル)テレフタレート、ビス
フエノールAへのエチレンオキシドまたはプロピ
レンオキシドの2〜10モル付加反応物などが挙げ
られる。また、上記(b)に用いられるモノエポキシ
化合物としては、エポライトM−1230(商品名、
共栄社油脂化学工業(株)製)、フエニルグリシジル
エーテル、クレシルグリシジルエーテル、ブチル
グリシジルエーテル、オクチレンオキサイド、n
−ブチルフエノールリシジルエーテルなどが挙げ
られる。 また、一般式で表わされるモノマーを製造す
るに際し用いられるモノイソシアナート化合物と
しては、炭素原子数が3〜12のアルキル基に1個
のイソシアナート基を付与しているアルキルモノ
イソシアナート、およびフエニルイソシアナー
ト、クレジルモノイソシアナートなとが挙げられ
る。 これらの一般式で表わされるモノマーは、1
分子中に水酸基を1個含有するアクリル酸エステ
ルとモノイソシアナート化合物とを、触媒、例え
ばジブチルスズジウラレートの存在下において反
応させる等により、容易に製造することができ
る。 熱架橋製線状共重合高分子を製造するに際して
用いられる一般式で示されるモノマーは親水性
を有しており、本発明に用いる樹脂組成物がガラ
ス、セラミツクス、プラスチツクなどの基板に接
着する際に、強固な密着性を付与するものであ
る。また、上記一般式で表わされるモノマーは
加熱による縮合架橋性を有しており、一般には
100℃以上の温度で水分子あるいはアルコールが
脱離し架橋結合を形成して硬化後に熱架橋性共重
合高分子自体にも網目構造を形成させ、硬化して
得られるパターンに優れた耐薬品性および機械的
強度を付与するものである。 尚、熱架橋性線状共重合高分子には、上記一般
式およびで表わされるモノマーの他、例えば
アクリル樹脂、ビニル樹脂等の製造に際して一般
に用いられている種々のモノマーが、20〜90モル
%の範囲内で共重合の成分として用いられる。こ
れらモノマーは、本発明における樹脂硬化膜形成
用の樹脂組成物に高い凝集強度を付与する等の
種々の目的で用いられるものである。 本発明の記録ヘツドの形成に用いる樹脂組成物
は、記録ヘツドの形成に際して溶液状あるいは固
形のフイルム状等、種々の形状で使用されるが、
ドライフイルムとして用いるのであれば、該組成
物をフイルム状で維持するために、約50℃以上の
ガラス転移温度を有する比較的剛直な性質を与え
るモノマーを一般式およびのモノマーに加え
て共重合して得られる熱架橋性線状共重合高分子
を用いることが好ましい。このような目的に好適
な熱架橋性線状共重合高分子を製造するに際して
用いられる一般式おおび以外のモノマーを示
せば、メルメタクリレート、エチルメタアクリレ
ート、イソブチメタアリレート、t−ブチルメタ
アクリレートなどのアルキル基の炭素数が1〜4
のアルキルメタアリレート、アクリロニトリル、
イソボルニルメタアクリレート、イソボルニルア
クレート、スチレン等の、そのホモポリのガラス
転移温度が約50℃以上のモノマーが挙げられる。
もちろん、これらモノマーは、その一種以上を適
宜選択して用いることができる。更に、これらモ
ノマーに加えて、ヒドロキシ基、アミノ基、カル
ボキシ基あるいはグリシジル基を有する他の公知
のモノマーや、ポリマーのガラス転移温度が約50
℃未満のモノマーをも適宜選択して使用すること
ができる。 上記ヒドロキシ基含有モノマーとしては、2−
ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、3−ク
ロロ−2−ヒドロキシ(メタ)アクレートなど
が、またアミノ基含有モノマーとしては、N,N
−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、
(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアミ
ノエチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメ
チル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル
アミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N,N
−ジt−ブチルアミノエチル(メタ)アクリルア
ミドなどが挙げられる。また、カルボキシル基含
有モノマーとしては、(メタ)アクリル酸、フマ
ール酸、イタコン酸あるいは東亜合成化学(株)製品
の商品名アロニツクスM−5400、アロニツクスM
−5500等で知れられるものが挙げられ、グリシジ
ル基を有するモノマーとしては、グリシジル(メ
タ)アクリレートなどが挙げられる。 また、本発明における樹脂硬化膜形成用の樹脂
組成物を溶液状にて用いるのであれば、該組成物
に柔軟性を与えるようなガラス転移温度の低い熱
架橋性線状共重合高分子を用いることも可能であ
る。しかしながら、この場合にも、優れた耐薬品
性と高い機械的強度を有するパターンを得るため
には、ガラス転移温度の高い熱架橋性線状共重合
高分子を用いることが好ましい。 何れにしても、本発明における樹脂硬化膜形成
用の樹脂組成物に用いられる熱架橋性線状共重合
高分子は、該組成物の硬化工程(すなわち、活性
エネルギー線照射によるパターンの形成および引
続いての熱硬化)において、該組成物に形態保持
性を付与して精密なパターニングを可能にすると
ともに、硬化して得られるパターンに対しては優
れた密着性、耐薬品性ならびに高い機械的強度を
与えるものである。 本発明における樹脂硬化膜形成用の樹脂組成物
に用いるもう一つの成分であるエチレン性不飽和
結合を有する単量体()とは、該組成物に活性
エネルギー線による硬化性を発揮させるための成
分であり、好ましくは大気圧下で100℃以上の沸
点を有し、また好ましくはエチレン性不飽和結合
を2個以上有するものであつて、活性エネルギー
線の照射で硬化する公知の種々の単量体を用いる
ことができる。 そのような2個以上のエチレン性不飽和結合を
有する単量体を具体的に示せば、例えば1分子
中に2個以上のエポキシ基を有する多官能エポキ
シ樹脂のアクリル酸エステルまたはメタアクリル
酸エステル、多価アルコールのアルキレンオキ
シド付加物のアクリル酸エステルまたはメタアク
リル酸エステル、二塩基酸と二価アルコールか
ら成る分子量500〜3000のポリエステルの分子鎖
末端にアクリル酸エステル基を持つポリエステル
アクリレート、多価イソシアネートと水酸基を
有するアクリル酸モノマーとの反応物が挙げられ
る。上記〜の単量体は、分子内にウレタン結
合を有するウレタン変性物であつてもよい。 に属する単量体としては、ビスフエノールA
型、ノボラツク型、脂環型に代表されるエポキシ
樹脂、あるいはビスフエノールS、ビスフエノー
ルF、テトラヒドロキシフエニルメタンテトラグ
リシジルエーテル、レゾルシノールジグリシジル
エーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、
ペンタエリストールトリグリシジルエーテル、イ
ソシアヌー酸トリグリシジルエーテルおよび下記
一般式 (ただし、Rはアルキル基またはオキシアルキル
基、R0は
【式】
本発明の液体噴射記録ヘツドは、該ヘツドの構
成部材である活性エネルギー線硬化型樹脂組成物
として、該組成物に必須成分として含有されるエ
チレン性不飽和結合を有する単量体によつて主に
付与されるパターン形成材料としての優れた感度
と解像度を有するものを用いたものであり、該樹
脂組成物を用いることにより、寸法精度に優れた
液体噴射記録ヘツドを歩留り良く得ることが可能
になつた。また、本発明に用いる樹脂組成物は、
主に必須成分としての熱架橋性線状共重合高分子
によつて付与される優れた基板との密着性、機械
的強度および耐薬品性をも有しており、該組成物
を用いることによつて長期の耐久性を有する記録
ヘツドを得ることも可能になつた。 〔実施例〕 以下、合成例および実施例により本発明を更に
詳細に説明する。 合成例 メチルメタアクリレートとN−メチロールアク
リルアミドとニツソーキユアUM−1M*1とを
メチルセロソルブ中、(メチルメタアクリレー
ト/N−メチロールアリルアミド/ニツソーキユ
アUM−1M=50/25/25モル比)の割合で溶液
重合し、重量平均分子量5.7×104の熱架橋性を有
する線状高分子(これをP−1とする)を得た。 *1:新日槽化工(株)の製品名で の構造を有するモノマーである。 この線状高分子P−1を用いた下記組成の活性
エネルギー線硬化型樹脂組成物を調整した。 P−1 100重量部 ライトエステル3002M*2 90 〃 ペンタエリスリトールトリアクリレート60 〃 ベンゾフエノン 9 〃 ミヒラーのケトン 3 〃 パラトルエンスルホン酸 2.5 〃 クリスタルバイオレツト 0.5 〃 メチルセロソルブ 250 〃 *2:共栄社油脂化学工業(株)製のエポキシ樹脂の
メタクリル酸エステル 次いで、上記樹脂組成物を16μmのポリエチレ
ンテレフタレートフイルムにワイアーバーで塗布
し100℃で20分乾燥することにより、膜厚75μm
の樹脂組成物層を有する本発明に係わるドライフ
イルムを作成した。 実施例 合成例で製造したドライフイルムを用い、先に
明細書中で説明した第1図〜第6図の工程に従つ
て、吐出エネルギー発生素子として発熱素子[ハ
フニウムボライド(HfB2)]10個のオリフイス
(オリフイス寸法;75μm×50μm、ピツチ0.125
mm)を有するオンデマンド型液体噴射記録ヘツド
の作成を以下のようにして実施した。尚、記録ヘ
ツドは、同形状のものを各30個宛試作した。 まず、シリコンからなる基板上に発熱素子の複
数を所定の位置に配設し、これらに記録信号印加
用電極を接続した。 次に、発熱素子が配設された基板面上に保護膜
としてSiO2層(厚さ1.0μm)を設け、保護層の表
面を清浄化すると共に乾燥させた後、保護層に重
ねて、80℃に加温された参考例に示した膜厚75μ
mのドライフイルムを0.4f/min.の速度、1Kg/
cm3の加圧条件下でラミネートした。 続いて、基板面上に設けたドライフイルム上
に、液体通路及び液室の形状に対応したパターン
を有するフオトマスクを重ね合わせ、最終的に形
成される液体通路中に上記素子が設けられるよう
に位置合せを行なつた後、このフオトマスクの上
部から12mW/cm2の強度の紫外線を用いて30秒間
ドライフイルムを露光した。 次に、露光済みのドライフイルムを、1.1,1
−トリクロルエタン中に浸漬して現像処理し、ド
ライフイルムの未重合(未硬化)部分を基板上か
ら溶解除去して、基板上に残存した硬化ドライフ
イルム膜によつて最終的に液体通路及び液室とな
る溝を形成した。 現像処理を終了した後、基板上の硬化ドライフ
イルム膜を、150℃で1時間加熱し、更に、これ
に50mW/cm2の強度の紫外線を2分間照射して更
に硬化させた。 このようにして、硬化ドライフイルム膜によつ
て液体通路及び液室となる溝を基板上に形成した
後、形成した溝の覆いとなるソーダガラスからな
る貫通孔の設けられた平板にエポキシ系樹脂接着
剤を厚さ3μmにスピンコートした後、予備加熱
してBステージ化させ、これを硬化したドライフ
イルム上に貼り合わせ、更に、接着剤を本硬化さ
せて接着固定し、接合体を形成した。 続いて、接合体の液体通路の下流側、すなわち
吐出エネルギー発生素子の設置位置から下流側へ
0.150mmのところを液体通路に対して垂直に、市
販のダイシング・ソー(商品名;DAD 2H/6
型、DISCO社製)を用いて切削し、記録用液体
を吐出するためのオリフイスを形成した。 最後に、切削面を洗浄したのち乾燥させ、更
に、切削面を研磨して平滑化し、貫通孔に記録用
液体の供給管を取付けて液体噴射記録ヘツドを完
成した。得られた記録ヘツドは、何れもマスクパ
ターンを忠実に再現した液体通路及び液室を有す
る寸法精度に優れたものであつた。ちなみに、オ
リフイス寸法は、50±5μm、オリフイスピツチ
は、125±5μmの範囲にあつた。 このようにして試作した記録ヘツドの品質及び
長期使用に際しての耐久性を以下のようにして試
験した。 まず、得られた記録ヘツドについて、次の各組
成からなる記録用液体中に、60℃で1000時間浸漬
処理(記録ヘツドの長期使用時に匹敵する環境条
件)する耐久試験を実施した。 記録用液体成分 (1) H2O/ジエチレングリコール/ポリエチレ
ングリコール200# /C.I.ダイレクトブラツク
154*1(=60/30/5/5重量部) PH=8.0 (2) H2O/エチレングリコール/C.I.ダイレクト
ブラツク154(=55/40/5重量部) PH9.0 (3) H2O/ジエチレグリコール/N−メチル−
2−ピロリドン/C.I.ダイレクトブラツク154
(=55/30/10/5重量部) PH7.0 (4) H2O/ジエチレングリコール/1,3−ジ
メチル−2−イミダゾリジノン/C.I.ダイレク
トブルー86*2(=57/30/10/3重量部)
PH=10.0 尚、(注)*1〜*2は、水溶性染料であり、PHの調
整にはカセイソーダを用いた。 各記録用液体について、それぞれ記録ヘツド各
5個を耐久試験に供した。 耐久試験後、該試験を実施した各ヘツドにつき
基板及び覆いと硬化ドライフイルム膜の接合状態
を観察した結果、すべての記録ヘツドにおいて剥
離や損傷は全く認められず、良好な密着性を示し
ていた。 次いでこれとは別に、得られた記録ヘツドの10
個について、各ヘツドを記録装置に取付け、前記
の記録用液体を用いて108パルスの記録信号を14
時間連続的に記録ヘツドに印加して印字を行なう
印字試験を実施した。何れの記録ヘツドに関して
も、印字開始直後と14時間経過後において、記録
用液体の吐出性能及び印字状態共に性能の低下が
殆ど認められず、耐久性に優れた記録ヘツドであ
つた。 比較例 膜厚75μmの市販のドライフイルムVacrel(ド
ライフイルムソルダーマスクの商品名、デユポ
ン・ネモアース(株)製)、および膜厚50μmの市販
のドライフイルムPhotec SR−3000(商品名、日
立化成工業(株)製)を用いる以外は実施例と同様に
して、記録ヘツドを作成した。 これらの記録ヘツドについて、実施例と同様の
耐久試験を実施した。 耐久試験の経過中、ドライフイルムとして
Vacrelを用いた場合は、100時間で(2)および(4)の
記録用液体で剥離が認められた。また、300時間
で、(1)および(3)の記録用液体で剥離が認められ
た。 一方、ドライフイルムとしてPhotec SR−
3000を用いた場合は、(1)〜(4)の各記録用液体で
300時間で剥離が認められた。 印字試験例 実施例および比較例で作成したヘツド(各々10
個ずつ)に先に(4)として挙げた組成の記録液を充
填し印字試験を行なつた。次に、記録液が充填さ
れた状態の各ヘツドを温度80℃、湿度90%の条件
下で200時間保存後、先に行なつたのと同様の印
字試験を行なつた。その結果、実施例で得られた
ヘツドでは10個のヘツドのいずれも保存の前後で
良好な印字が得られたのに対し、比較例のヘツド
のいずれにおいても印字不良が観察された。これ
らの印字不良部を顕微鏡で観察すると、文字を構
成する記録液滴の位置のズレが観察された。ま
た、印字不良を起こした各ヘツドの吐出口付近を
観察したところ、その部分におけるドライフイル
ム硬化膜に剥離が見られた。
成部材である活性エネルギー線硬化型樹脂組成物
として、該組成物に必須成分として含有されるエ
チレン性不飽和結合を有する単量体によつて主に
付与されるパターン形成材料としての優れた感度
と解像度を有するものを用いたものであり、該樹
脂組成物を用いることにより、寸法精度に優れた
液体噴射記録ヘツドを歩留り良く得ることが可能
になつた。また、本発明に用いる樹脂組成物は、
主に必須成分としての熱架橋性線状共重合高分子
によつて付与される優れた基板との密着性、機械
的強度および耐薬品性をも有しており、該組成物
を用いることによつて長期の耐久性を有する記録
ヘツドを得ることも可能になつた。 〔実施例〕 以下、合成例および実施例により本発明を更に
詳細に説明する。 合成例 メチルメタアクリレートとN−メチロールアク
リルアミドとニツソーキユアUM−1M*1とを
メチルセロソルブ中、(メチルメタアクリレー
ト/N−メチロールアリルアミド/ニツソーキユ
アUM−1M=50/25/25モル比)の割合で溶液
重合し、重量平均分子量5.7×104の熱架橋性を有
する線状高分子(これをP−1とする)を得た。 *1:新日槽化工(株)の製品名で の構造を有するモノマーである。 この線状高分子P−1を用いた下記組成の活性
エネルギー線硬化型樹脂組成物を調整した。 P−1 100重量部 ライトエステル3002M*2 90 〃 ペンタエリスリトールトリアクリレート60 〃 ベンゾフエノン 9 〃 ミヒラーのケトン 3 〃 パラトルエンスルホン酸 2.5 〃 クリスタルバイオレツト 0.5 〃 メチルセロソルブ 250 〃 *2:共栄社油脂化学工業(株)製のエポキシ樹脂の
メタクリル酸エステル 次いで、上記樹脂組成物を16μmのポリエチレ
ンテレフタレートフイルムにワイアーバーで塗布
し100℃で20分乾燥することにより、膜厚75μm
の樹脂組成物層を有する本発明に係わるドライフ
イルムを作成した。 実施例 合成例で製造したドライフイルムを用い、先に
明細書中で説明した第1図〜第6図の工程に従つ
て、吐出エネルギー発生素子として発熱素子[ハ
フニウムボライド(HfB2)]10個のオリフイス
(オリフイス寸法;75μm×50μm、ピツチ0.125
mm)を有するオンデマンド型液体噴射記録ヘツド
の作成を以下のようにして実施した。尚、記録ヘ
ツドは、同形状のものを各30個宛試作した。 まず、シリコンからなる基板上に発熱素子の複
数を所定の位置に配設し、これらに記録信号印加
用電極を接続した。 次に、発熱素子が配設された基板面上に保護膜
としてSiO2層(厚さ1.0μm)を設け、保護層の表
面を清浄化すると共に乾燥させた後、保護層に重
ねて、80℃に加温された参考例に示した膜厚75μ
mのドライフイルムを0.4f/min.の速度、1Kg/
cm3の加圧条件下でラミネートした。 続いて、基板面上に設けたドライフイルム上
に、液体通路及び液室の形状に対応したパターン
を有するフオトマスクを重ね合わせ、最終的に形
成される液体通路中に上記素子が設けられるよう
に位置合せを行なつた後、このフオトマスクの上
部から12mW/cm2の強度の紫外線を用いて30秒間
ドライフイルムを露光した。 次に、露光済みのドライフイルムを、1.1,1
−トリクロルエタン中に浸漬して現像処理し、ド
ライフイルムの未重合(未硬化)部分を基板上か
ら溶解除去して、基板上に残存した硬化ドライフ
イルム膜によつて最終的に液体通路及び液室とな
る溝を形成した。 現像処理を終了した後、基板上の硬化ドライフ
イルム膜を、150℃で1時間加熱し、更に、これ
に50mW/cm2の強度の紫外線を2分間照射して更
に硬化させた。 このようにして、硬化ドライフイルム膜によつ
て液体通路及び液室となる溝を基板上に形成した
後、形成した溝の覆いとなるソーダガラスからな
る貫通孔の設けられた平板にエポキシ系樹脂接着
剤を厚さ3μmにスピンコートした後、予備加熱
してBステージ化させ、これを硬化したドライフ
イルム上に貼り合わせ、更に、接着剤を本硬化さ
せて接着固定し、接合体を形成した。 続いて、接合体の液体通路の下流側、すなわち
吐出エネルギー発生素子の設置位置から下流側へ
0.150mmのところを液体通路に対して垂直に、市
販のダイシング・ソー(商品名;DAD 2H/6
型、DISCO社製)を用いて切削し、記録用液体
を吐出するためのオリフイスを形成した。 最後に、切削面を洗浄したのち乾燥させ、更
に、切削面を研磨して平滑化し、貫通孔に記録用
液体の供給管を取付けて液体噴射記録ヘツドを完
成した。得られた記録ヘツドは、何れもマスクパ
ターンを忠実に再現した液体通路及び液室を有す
る寸法精度に優れたものであつた。ちなみに、オ
リフイス寸法は、50±5μm、オリフイスピツチ
は、125±5μmの範囲にあつた。 このようにして試作した記録ヘツドの品質及び
長期使用に際しての耐久性を以下のようにして試
験した。 まず、得られた記録ヘツドについて、次の各組
成からなる記録用液体中に、60℃で1000時間浸漬
処理(記録ヘツドの長期使用時に匹敵する環境条
件)する耐久試験を実施した。 記録用液体成分 (1) H2O/ジエチレングリコール/ポリエチレ
ングリコール200# /C.I.ダイレクトブラツク
154*1(=60/30/5/5重量部) PH=8.0 (2) H2O/エチレングリコール/C.I.ダイレクト
ブラツク154(=55/40/5重量部) PH9.0 (3) H2O/ジエチレグリコール/N−メチル−
2−ピロリドン/C.I.ダイレクトブラツク154
(=55/30/10/5重量部) PH7.0 (4) H2O/ジエチレングリコール/1,3−ジ
メチル−2−イミダゾリジノン/C.I.ダイレク
トブルー86*2(=57/30/10/3重量部)
PH=10.0 尚、(注)*1〜*2は、水溶性染料であり、PHの調
整にはカセイソーダを用いた。 各記録用液体について、それぞれ記録ヘツド各
5個を耐久試験に供した。 耐久試験後、該試験を実施した各ヘツドにつき
基板及び覆いと硬化ドライフイルム膜の接合状態
を観察した結果、すべての記録ヘツドにおいて剥
離や損傷は全く認められず、良好な密着性を示し
ていた。 次いでこれとは別に、得られた記録ヘツドの10
個について、各ヘツドを記録装置に取付け、前記
の記録用液体を用いて108パルスの記録信号を14
時間連続的に記録ヘツドに印加して印字を行なう
印字試験を実施した。何れの記録ヘツドに関して
も、印字開始直後と14時間経過後において、記録
用液体の吐出性能及び印字状態共に性能の低下が
殆ど認められず、耐久性に優れた記録ヘツドであ
つた。 比較例 膜厚75μmの市販のドライフイルムVacrel(ド
ライフイルムソルダーマスクの商品名、デユポ
ン・ネモアース(株)製)、および膜厚50μmの市販
のドライフイルムPhotec SR−3000(商品名、日
立化成工業(株)製)を用いる以外は実施例と同様に
して、記録ヘツドを作成した。 これらの記録ヘツドについて、実施例と同様の
耐久試験を実施した。 耐久試験の経過中、ドライフイルムとして
Vacrelを用いた場合は、100時間で(2)および(4)の
記録用液体で剥離が認められた。また、300時間
で、(1)および(3)の記録用液体で剥離が認められ
た。 一方、ドライフイルムとしてPhotec SR−
3000を用いた場合は、(1)〜(4)の各記録用液体で
300時間で剥離が認められた。 印字試験例 実施例および比較例で作成したヘツド(各々10
個ずつ)に先に(4)として挙げた組成の記録液を充
填し印字試験を行なつた。次に、記録液が充填さ
れた状態の各ヘツドを温度80℃、湿度90%の条件
下で200時間保存後、先に行なつたのと同様の印
字試験を行なつた。その結果、実施例で得られた
ヘツドでは10個のヘツドのいずれも保存の前後で
良好な印字が得られたのに対し、比較例のヘツド
のいずれにおいても印字不良が観察された。これ
らの印字不良部を顕微鏡で観察すると、文字を構
成する記録液滴の位置のズレが観察された。ま
た、印字不良を起こした各ヘツドの吐出口付近を
観察したところ、その部分におけるドライフイル
ム硬化膜に剥離が見られた。
第1図〜第6図は本発明の液体噴射記録ヘツド
ならびにその製造方法を説明するための模式図で
ある。 1:基板、2:吐出エネルギー発生素子、3:
樹脂層、3H:樹脂硬化膜、4:フオトマスク、
4P:マスクパターン、6−1:液室、6−2:
液体通路、7:覆い、8:貫通孔、9:オリフイ
ス、10:供給管。
ならびにその製造方法を説明するための模式図で
ある。 1:基板、2:吐出エネルギー発生素子、3:
樹脂層、3H:樹脂硬化膜、4:フオトマスク、
4P:マスクパターン、6−1:液室、6−2:
液体通路、7:覆い、8:貫通孔、9:オリフイ
ス、10:供給管。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 液体の吐出口に連通する液体通路と、該液体
通路内の液体を吐出させるためのエネルギーを発
生する吐出エネルギー発生素子とを有し、前記液
体通路の少くとも1部が活性エネルギー線によつ
て硬化する樹脂組成物の硬化領域で形成されて成
る液体噴射記録ヘツドにおいて、前記樹脂組成物
が () 共重合体構成部分として下記一般式で表
されるモノマー5〜30モル%および下記一般式
で表されるモノマー5〜50モル%を含有する
熱架橋性線状共重合高分子と、 (ただし、R1は水素または炭素原子数が1〜
3のアルキルもしくはヒドロキシアルキル基、
R2は水素または炭素原子数が1〜4のヒドロ
キシ基を有してもよいアルキルもしくはアシル
基、R3は水素または炭素原子数が1〜3のア
ルキル基、R4はその内部にエーテル結合を有
してもよく、且つハロゲン原子で置換されても
よい2個の炭化水素基、R5は炭素原子数が3
〜12のアルキルもしくはフエニルアルキル基ま
たはフエニル基を表す。) () エチレン性不飽和結合を有する単量体 とを有してなるものであることを特徴とする液体
噴射記録ヘツド。 2 前記活性エネルギー線硬化型樹脂組成物が前
記()の熱架橋性共重合高分子20〜80重量部、
および前記()のエチレン性不飽和結合を有す
る単量体80〜20重量部を含有するものである特許
請求の範囲第1項に記載の液体噴射記録ヘツド。 3 前記活性エネルギー線硬化型樹脂組成物が前
記()の熱架橋性共重合高分子及び前記()
のエチレン性不飽和結合を有する単量体の合計量
100重量部に対して、0.1〜20重量%の光重合開始
剤を配合して成るものである特許請求の範囲第1
項または第2項に記載の液体噴射記録ヘツド。 4 前記吐出エネルギー発生素子が発熱素子であ
る特許請求の範囲第1項、第2項または第3項に
記載の液体噴射記録ヘツド。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60153351A JPS6216147A (ja) | 1985-07-13 | 1985-07-13 | 液体噴射記録ヘツド |
| US06/881,620 US4688055A (en) | 1985-07-13 | 1986-07-03 | Liquid jet recording head having a layer of a resin composition curable with an active energy ray |
| DE3623716A DE3623716A1 (de) | 1985-07-13 | 1986-07-14 | Fluessigkeitsstrahl-aufzeichnungskopf |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60153351A JPS6216147A (ja) | 1985-07-13 | 1985-07-13 | 液体噴射記録ヘツド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6216147A JPS6216147A (ja) | 1987-01-24 |
| JPH0444573B2 true JPH0444573B2 (ja) | 1992-07-22 |
Family
ID=15560565
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60153351A Granted JPS6216147A (ja) | 1985-07-13 | 1985-07-13 | 液体噴射記録ヘツド |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4688055A (ja) |
| JP (1) | JPS6216147A (ja) |
| DE (1) | DE3623716A1 (ja) |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0206086B1 (en) * | 1985-06-10 | 1992-09-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Active energy ray-curing resin composition |
| JPS61285201A (ja) * | 1985-06-13 | 1986-12-16 | Canon Inc | 活性エネルギ−線硬化型樹脂組成物 |
| DE3620254C2 (de) * | 1985-06-18 | 1994-05-05 | Canon Kk | Durch Strahlen mit wirksamer Energie härtbare Harzmischung |
| DE3688956T2 (de) * | 1985-06-26 | 1994-02-17 | Canon Kk | Strahlenhärtbare Zusammensetzung. |
| DE3621477A1 (de) * | 1985-06-26 | 1987-01-08 | Canon Kk | Durch strahlen mit wirksamer energie haertbare harzmischung |
| US5536621A (en) * | 1986-02-14 | 1996-07-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Ray-curing butadiene and substituted liquid polybutadiene composition |
| JPH0698759B2 (ja) * | 1986-10-13 | 1994-12-07 | キヤノン株式会社 | 液体噴射記録ヘツド |
| JPH0698760B2 (ja) * | 1986-10-13 | 1994-12-07 | キヤノン株式会社 | 液体噴射記録ヘツド |
| EP0307921B1 (en) * | 1987-09-16 | 1993-05-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Resin composition curable with an active energy ray containing photopolymerizable polyurethane |
| US5578417A (en) * | 1989-01-10 | 1996-11-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid jet recording head and recording apparatus having same |
| US5150132A (en) * | 1989-04-07 | 1992-09-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Material containing a cured substance for use with a liquid ejection recording head and apparatus |
| JP2683435B2 (ja) * | 1989-12-14 | 1997-11-26 | キヤノン株式会社 | インクジェットノズル製造用接着剤 |
| US5571659A (en) * | 1990-03-21 | 1996-11-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid jet recording head and recording apparatus using same |
| US5086307A (en) * | 1990-03-21 | 1992-02-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid jet recording head |
| US5578418A (en) * | 1990-03-21 | 1996-11-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid jet recording head and recording apparatus having same |
| US5901425A (en) | 1996-08-27 | 1999-05-11 | Topaz Technologies Inc. | Inkjet print head apparatus |
| US6177238B1 (en) * | 1999-06-04 | 2001-01-23 | Xerox Corporation | Ink jet printheads containing arylene ether alcohol polymers and processes for their formation |
| JP4087822B2 (ja) * | 2004-07-22 | 2008-05-21 | 東芝テック株式会社 | インクジェットプリンタヘッド用洗浄液、およびそれを用いた洗浄方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57102366A (en) * | 1980-12-18 | 1982-06-25 | Canon Inc | Ink jet head |
| JPS58220754A (ja) * | 1982-06-18 | 1983-12-22 | Canon Inc | インクジエツト記録ヘツド |
| JPS5919168A (ja) * | 1982-07-26 | 1984-01-31 | Canon Inc | インクジエツト記録ヘツド |
-
1985
- 1985-07-13 JP JP60153351A patent/JPS6216147A/ja active Granted
-
1986
- 1986-07-03 US US06/881,620 patent/US4688055A/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-07-14 DE DE3623716A patent/DE3623716A1/de active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6216147A (ja) | 1987-01-24 |
| DE3623716C2 (ja) | 1991-08-01 |
| US4688055A (en) | 1987-08-18 |
| DE3623716A1 (de) | 1987-01-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4688053A (en) | Liquid jet recording head having a layer of a resin composition curable with an active energy ray | |
| US4688052A (en) | Liquid jet recording head having a layer of a resin composition curable with an active energy ray | |
| JPH0444573B2 (ja) | ||
| US4688056A (en) | Liquid jet recording head having a layer of a resin composition curable with an active energy ray | |
| US4688054A (en) | Liquid jet recording head | |
| US5086307A (en) | Liquid jet recording head | |
| JPH0284343A (ja) | 液体噴射記録ヘッド | |
| JPH04294148A (ja) | 液体噴射記録ヘッド | |
| JPH0415242B2 (ja) | ||
| JPS6395950A (ja) | 液体噴射記録ヘツド | |
| JPS6395949A (ja) | 液体噴射記録ヘツド | |
| JPS6355534B2 (ja) | ||
| JPH0444575B2 (ja) | ||
| US5571659A (en) | Liquid jet recording head and recording apparatus using same | |
| JPH02131946A (ja) | 液体噴射記録ヘッド | |
| JPH0444576B2 (ja) | ||
| JPH0444579B2 (ja) | ||
| JPH0444577B2 (ja) | ||
| JPH0444574B2 (ja) | ||
| JPH0444910B2 (ja) | ||
| JPH0444572B2 (ja) | ||
| JPH0444578B2 (ja) | ||
| JPH0444909B2 (ja) | ||
| JPS6355533B2 (ja) | ||
| EP0447589B1 (en) | Liquid jet recording head and recording apparatus having same |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |