JPH0445520Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0445520Y2 JPH0445520Y2 JP8314286U JP8314286U JPH0445520Y2 JP H0445520 Y2 JPH0445520 Y2 JP H0445520Y2 JP 8314286 U JP8314286 U JP 8314286U JP 8314286 U JP8314286 U JP 8314286U JP H0445520 Y2 JPH0445520 Y2 JP H0445520Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- koji
- chamber
- lower chamber
- substrate
- circulation duct
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 14
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- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
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Landscapes
- Apparatus Associated With Microorganisms And Enzymes (AREA)
- Ventilation (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本考案は、清酒、焼酎、味噌等の醸造工業にお
ける製麹装置に関するものであり、特に、製麹の
初期の床寝せ工程を改良することのできる装置に
関するものである。
ける製麹装置に関するものであり、特に、製麹の
初期の床寝せ工程を改良することのできる装置に
関するものである。
〈従来の技術〉
従来より、清酒、焼酎、味噌等の醸造工程にお
ける製麹において、前処理され種麹菌が散布され
た麹基質が発熱することによつて所定の温度に達
するまで寝かせておく、いわゆる床寝せが行なわ
れている。
ける製麹において、前処理され種麹菌が散布され
た麹基質が発熱することによつて所定の温度に達
するまで寝かせておく、いわゆる床寝せが行なわ
れている。
従来、この床寝せは単に断熱された麹室の培養
床の上に麹基質を堆積して放置しておくだけであ
つた。
床の上に麹基質を堆積して放置しておくだけであ
つた。
〈考案が解決しようとする問題点〉
このように床寝せは麹基質が熱を有してくるの
を待つのがこれまで原則であつたが、良品質の麹
製品を得るには、床寝せ段階で温和に加温する等
の手段によりこの段階での品温経過を一定にする
ことが必要である。
を待つのがこれまで原則であつたが、良品質の麹
製品を得るには、床寝せ段階で温和に加温する等
の手段によりこの段階での品温経過を一定にする
ことが必要である。
そこで、従来の製麹装置で麹基質を加温しよう
とする場合、ヒーターのみで麹室の内部空気を加
温して行なうと麹基質の水分が蒸発して潜熱を奪
うため品温が上らない。また、空気調和装置の温
水シヤワーで加温した内部空気を積極的に麹基質
に通風すると、送風空気の相対湿度が100%にな
つて、麹基質の表面に水分が付着してハゼ込み不
良の原因となる。
とする場合、ヒーターのみで麹室の内部空気を加
温して行なうと麹基質の水分が蒸発して潜熱を奪
うため品温が上らない。また、空気調和装置の温
水シヤワーで加温した内部空気を積極的に麹基質
に通風すると、送風空気の相対湿度が100%にな
つて、麹基質の表面に水分が付着してハゼ込み不
良の原因となる。
〈問題点を解決するための手段〉
本考案は以上のような麹基質の温和な加温の困
難性を、麹室を培養床1によつて上室2と下室3
とに仕切り、上室のリターン口4と下室の送風口
5との間に循環ダクト6及び空気調和装置7を設
けた通風式の製麹装置において、下室3と前記循
環ダクト6間にバイパスダクト8を設けることに
よつて解決したのである。
難性を、麹室を培養床1によつて上室2と下室3
とに仕切り、上室のリターン口4と下室の送風口
5との間に循環ダクト6及び空気調和装置7を設
けた通風式の製麹装置において、下室3と前記循
環ダクト6間にバイパスダクト8を設けることに
よつて解決したのである。
〈作用〉
このような構造であると、床寝せの際にバイパ
スダクト8を開けて空気を循環させると、麹基質
に通気がなされず、下室3の温度又は湿度を調整
することにより水分の付着がほとんどなしに下か
ら温めるだけの作用が得られる。このことによ
り、適温で均一な理想的床寝せを可能とする。
スダクト8を開けて空気を循環させると、麹基質
に通気がなされず、下室3の温度又は湿度を調整
することにより水分の付着がほとんどなしに下か
ら温めるだけの作用が得られる。このことによ
り、適温で均一な理想的床寝せを可能とする。
〈実施例〉
第1図は本考案の実施例を示す断面図である。
図において、麹室は麹基質を載せた培養床1で
上下に分割され、上部を上室2、下部を下室3と
して、全体を断熱壁11で包囲している。そし
て、循環ダクト6系に空気調和装置7が設けられ
て麹室内の麹基質を最適製麹条件に設定すること
ができる。この実施例では循環ダクト6系に設け
られた空気調和装置7はシヤワー12とエリミネ
ータ13、ヒータ14及びクーラー15とからな
り、下室3に設けられた送風口5に通ずる送風ダ
クトにより製麹室と密閉系で連通されている。こ
の循環ダクト6系内に設けられた空気調和装置及
び送風機の運転制御は、麹基質18中に設けられ
た品温センサ9又は下室3中に設けられた温度セ
ンサ10に伝導する温度調節計で行なうものであ
る。
上下に分割され、上部を上室2、下部を下室3と
して、全体を断熱壁11で包囲している。そし
て、循環ダクト6系に空気調和装置7が設けられ
て麹室内の麹基質を最適製麹条件に設定すること
ができる。この実施例では循環ダクト6系に設け
られた空気調和装置7はシヤワー12とエリミネ
ータ13、ヒータ14及びクーラー15とからな
り、下室3に設けられた送風口5に通ずる送風ダ
クトにより製麹室と密閉系で連通されている。こ
の循環ダクト6系内に設けられた空気調和装置及
び送風機の運転制御は、麹基質18中に設けられ
た品温センサ9又は下室3中に設けられた温度セ
ンサ10に伝導する温度調節計で行なうものであ
る。
このような製麹装置において、本考案は下室3
と前記循環ダクト6間にバイパスダクト8を設け
たことを特徴としている。このようなバイパスダ
クト8の下室3側と、上室のリターン口4側にそ
れぞれ開閉弁16,17が設けられており、通常
の製麹時にはバイパスダクト8側の開閉弁16が
閉じられ、リターン口4側の開閉弁17が開いた
状態にある。しかし、床寝せの際には前述したよ
うに、バイパスダクト8側の開閉弁16が開けら
れ、バイパスダクト8を開けて空気を循環させる
と、麹基質18に通気がない状態の床寝せが可能
となるのである。
と前記循環ダクト6間にバイパスダクト8を設け
たことを特徴としている。このようなバイパスダ
クト8の下室3側と、上室のリターン口4側にそ
れぞれ開閉弁16,17が設けられており、通常
の製麹時にはバイパスダクト8側の開閉弁16が
閉じられ、リターン口4側の開閉弁17が開いた
状態にある。しかし、床寝せの際には前述したよ
うに、バイパスダクト8側の開閉弁16が開けら
れ、バイパスダクト8を開けて空気を循環させる
と、麹基質18に通気がない状態の床寝せが可能
となるのである。
〈考案の効果〉
本考案は以上のような構造であるから、麹基質
を床寝せ段階で一定にすることができるので、麹
製造の能率向上と麹製品の品質向上に寄与する効
果が得られた。
を床寝せ段階で一定にすることができるので、麹
製造の能率向上と麹製品の品質向上に寄与する効
果が得られた。
第1図は本考案の実施例を示す縦断面図であ
る。 1……培養床、2……上室、3……下室、4…
…リターン口、5……送風口、6……循環ダク
ト、7……空気調和装置、8……バイパスダク
ト、9……品温センサ、10……温度センサ、1
1……断熱壁、16,17……開閉弁、18……
麹基質。
る。 1……培養床、2……上室、3……下室、4…
…リターン口、5……送風口、6……循環ダク
ト、7……空気調和装置、8……バイパスダク
ト、9……品温センサ、10……温度センサ、1
1……断熱壁、16,17……開閉弁、18……
麹基質。
Claims (1)
- 麹室を培養床1によつて上室2と下室3とに仕
切り上室のリターン口4と下室の送風口5との間
に循環ダクト6及び空気調和装置7を設けた通風
式の製麹装置において、下室3と前記循環ダクト
6間にバイパスダクト8を設けたことを特徴とす
る床寝せ管理製麹装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8314286U JPH0445520Y2 (ja) | 1986-05-31 | 1986-05-31 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8314286U JPH0445520Y2 (ja) | 1986-05-31 | 1986-05-31 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62193900U JPS62193900U (ja) | 1987-12-09 |
| JPH0445520Y2 true JPH0445520Y2 (ja) | 1992-10-26 |
Family
ID=30936460
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8314286U Expired JPH0445520Y2 (ja) | 1986-05-31 | 1986-05-31 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0445520Y2 (ja) |
-
1986
- 1986-05-31 JP JP8314286U patent/JPH0445520Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62193900U (ja) | 1987-12-09 |
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