JPH0446251B2 - - Google Patents

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JPH0446251B2
JPH0446251B2 JP59011810A JP1181084A JPH0446251B2 JP H0446251 B2 JPH0446251 B2 JP H0446251B2 JP 59011810 A JP59011810 A JP 59011810A JP 1181084 A JP1181084 A JP 1181084A JP H0446251 B2 JPH0446251 B2 JP H0446251B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
methylbutyl
fluoro
trans
formula
chiral
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP59011810A
Other languages
English (en)
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JPS6069046A (ja
Inventor
Ian Bishotsupu Deiuitsudo
Chaaruzu Saaji Ian
Jeraado Makudooneru Deimian
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Merck Patent GmbH
Original Assignee
Merck Patent GmbH
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Filing date
Publication date
Application filed by Merck Patent GmbH filed Critical Merck Patent GmbH
Publication of JPS6069046A publication Critical patent/JPS6069046A/ja
Publication of JPH0446251B2 publication Critical patent/JPH0446251B2/ja
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Liquid Crystal Substances (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 従来キラルなネマチツク材料として公知の液晶
材料は、一般に、1種もしくはそれ以上のキラル
なネマトゲニツク化合物から成り、前記化合物は
液晶相を形成する性質又は形成する傾向を示す光
学的に活性な化合物である。これらの材料は、例
えば所謂“相転移”効果の如き適当な効果を利用
する種々の電気光学装置に使用され得る。また、
これらの材料は、各波長の放射の温度に依存する
選択反射を含む種々の温度感知装置に使用され得
る。前記の如き温度感知装置の場合、選択的反射
が可視スペクトル領域で生じるのが好ましい。
本発明のキラルなネマトゲニツク化合物の製造
に使用するのに適当な新規なフルオロビフエニル
は、式 R−R1 [] [式中、Rは、2,3,2′又は3′位の少なくと
も1箇所にフツ素置換基を有する4−ビフエニル
基を表わし、またR1は光学的に活性な(+)−2
−メチルブチル基(+)・−CH2CH(CH3
CH2CH3を表わす] を有し、単一の光学活性異性体である。
(+)−は、ポジテイブな光学回転角度を示す
光学的な活性基を示す。
フツ素は2又は2′−位にある(R1は4位にあ
る)のが好ましい。
側位がフツ素化された4−アルキルビフエニル
類は公知であるが、該化合物の末端のアルキル基
が光学的に活性な中心を含むキラル基である化合
物は未知であつた。
本発明は、キラルなネマチツク液晶材料に使用
するのに適当なキラルなネマトゲニツク化合物の
製造に式の化合物を使用することにも係る。
式のビフエニルから製造され得るキラルなネ
マトゲニツク化合物として、式 (式中、R2はn−アルキルであり、X及びY
はH及びFから選択されX及びYの少なくとも一
方はFである) を有する化合物が例示される。
式の化合物から合成された液晶化合物は、予
期せぬ優れた性質、例えば以下に示す如く室温で
光を選択的に反射し得る性質を有する。
式の化合物は、下記のルートで製造され得
る。
R−Br ↓ R−MgBr ↓ R−R1 [式中、R及びR1は前記に定義したとおりで
ある。] 前記した式及びの化合物の製造及び性質を
以下実施例を以つて説明する。
実施例中に使用した記号の意味は、次の通りで
ある。
glc=気液クロマトグラフイー bp=沸点 mp=融点 Ch−I=キラルなネマチツク−等方性液体転
移温度 S−Ch=スメクチツク−キラルなネマチツク
転移温度 K−Ch=結晶性固体−キラルなネマチツク転
移温度 実施例 1 (+)−1−(トランス−4−n−ブチルシクロ
ヘキシル)−2−[2′−フルオロ−4′−(2−メ
チルブチル)−4−ビフエニルイル]エタンの
製造: ステツプ 1 (+)−2−フルオロ−4−(2−メチルブチ
ル)−ビフエニルの予備製造: 4−ブロモ−2−フルオロビフエニル(90g)
のテトラヒドロフラン(90ml)溶液10mlを、窒素
下でマグネシウム屑9.6g及びテトラヒドロフラ
ン20mlに添加した。ヨウ素の単結晶を添加後、加
温し反応を開始せしめた。4−ブロモ−2−フル
オロビフエニル溶液の残部を30分間に亘つて添加
した。
1時間還流加熱後、グリニヤール試薬の溶液を
25℃に冷却した。2−メチルブチルフエニル−ス
ルフオネート(150g)のテトラヒドロフラン
(140ml)溶液10mlを反応混合物に添加後、更に塩
化第一銅3gを添加した。フエニルスルフオネー
ト溶液の残部を40分間に亘つて添加した。生じた
グレー/グリーン反応混合物の温度は45℃に上昇
しており、これを1時間沸騰するまで加熱した。
室温まで冷却後、20容量%の塩酸溶液2.5を加
え、生成物をジクロロメタン(2×500ml)で抽
出した。有機層を水洗し(2×500ml)、無水硫酸
ナトリウム15gで乾燥し、溶媒を蒸発させると、
有機の液体残留物が得られた。冷却すると残留物
から白色固体が晶出した。過後残留物(88.6
g)を真空(0.5トル)で分別蒸溜すると、無色
の液体65gが得られた。このものの純度はglcに
よると98.8%であつた。bpは0.5トルで120℃であ
つた。旋光度は+14.62゜(溶媒)であつた。
ステツプ 1a2: (+)−4−(トランス−4−n−ブチルシクロ
ヘキシル−アセチル)−2′−フルオロ−4′−(2
−メチルブチル)ビフエニルの製造: (+)−2−フルオロ−4−(2−メチルブチ
ル)ビフエニル(10g)とトランス−4−n−ブ
チルシクロヘキシルアセチル クロライド(9.4
g)とのジクロロメタン(20ml)中の混合物を、
20分間に亘つて無水塩化アルミニウム(6.1g)
のジクロロメタン(20ml)冷却(5−10℃)攪拌
懸濁液に添加した。添加後反応混合物を23℃に加
温し、17時間攪拌した。生じた溶液を水(200ml)
に添加し、石油スピリツト(bp60−80℃:180ml
+100ml)で順次抽出した。次いで、有機抽出物
を水洗し(200ml)、無水硫酸ナトリウム(5g)
で乾燥し、蒸発させた。黄色の結晶性残留物
(17.9g)をエタノール(35ml)から25℃で再結
晶すると、生成物が得られた(14.8g、収率85
%)。生成物のmpは71.4−72.1℃であつた。実際
のCH−Iは68.5−68.8℃であつた。glcにより、
純度は99.5%であつた。
ステツプ 1b2 (+)−1−(トランス−4−n−ブチルシクロ
ヘキシル)−2−[2′−フルオロ−4′−(2−メ
チルブチル)−4−ビフエニルイル]エタンの
製造: 前記の如く製造したケトン14.4g、99%ヒドラ
ジン水化物14.4ml、水酸化カリウム7.2g及びジ
ゴール(digol)120mlを、攪拌下125℃で4時間
還流加熱した。こ後、過剰のヒドラジン水化物の
蒸溜により温度は175℃に上昇した。次いで、混
合物を17時間還流加熱し、60℃に冷却し、氷水
(500g)に注いだ。有機生成物を石油スピリツト
(bp60−80℃:2×200ml)で抽出し、抽出物を
水洗し(2×200ml)、無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。溶媒を蒸発させると、黄色油状物14.1gが
得られた。このものは石油スピリツト(bp60−
80℃:100ml)に溶解し、シリカゲル(20g)上
に塩基性アルミナ(50g)を充填させたカラム上
に吸着させた。石油スピリツト(320ml)で溶出
し、溶媒を蒸発させると、無色の油状物が11.7g
得られた。プロパン−1−オールから−50℃で結
晶化させると、キラルなネマチツク材料9.4g
(収率68%)が得られた。このものの純度はglcで
99.8%であつた。
生成物の性質は次の通りであつた。
S−Ch=6℃, Ch−I=72℃, ラセン分子ピツチ=0.23ミクロン 実施例 2 1−(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−
2−[2′−フルオロ−4′−(2−メチルブチル)
−4−ビフエニルイル]エタンの製造: ステツプ 1a3 4−(トランス−4−エチルシクロヘキシルア
セチル)−2′−フルオロ−4′−(2−メチルブチ
ル)ビフエニルの製造: 出発材料として4−エチルシクロヘキシル ア
セチルクロライドを用いて上記ステツプ1a2を繰
返すと、下記の性質を有する生成物が得られた。
m.p.=40−42℃, 実際のCh−I=(27.5℃) ステツプ 1b3 1−(トランス−4−エチルシクロヘキシル)−
2−[2′−フルオロ−4′−(2−メチルブチル)
−4−ビフエニルイル]エタンの製造: 上記ステツプ1b2を繰返して得られた生成物は
次の性質を有する。
S−Ch=−11℃, Ch−I=45℃ 実施例 3 1−(トランス−4−n−ヘプチルシクロヘキ
シル)−2−[2′−フルオロ−4′−(2−メチル
ブチル)−4−ビフエニルイル]エタンの製
造: ステツプ 1a4 4−(トランス−4−n−ヘプチルシクロヘキ
シルアセチル)−2′−フルオロ−4′−(2−メチ
ルブチル)ビフエニルの製造: 上記ステツプ1a2を繰返して得られた生成物は
次の性質を有する。
K−Ch=69.8−70.3℃, Ch−I=74.1−74.3℃ ステツプ 1b4 1−(トランス−4−n−ヘプチルシクロヘキ
シル)−2−[2′−フルオロ−4′−(2−メチル
ブチル)−4−ビフエニルイル]エタンの製
造: 上記ステツプ1b2を繰返して得られた生成物は
次の性質を有する。
S−Ch=52℃, Ch−I=79℃

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 キラルなネマトゲニツク化合物の製造に使用
    するのに適した式 R−R1 [式中、Rは、2,3,2′又は3′位の少なくと
    も1箇所にフツ素置換基を有する4−ビフエニル
    基を表わし、またR1は光学的に活性な(+)−2
    −メチルブチル基を表わす] を有し、単一の光学活性異性体であるフルオロビ
    フエニル。 2 Rが【式】及び 【式】 から選択される特許請求の範囲第1項に記載のフ
    ルオロビフエニル。
JP1181084A 1983-01-26 1984-01-25 液晶化合物の製造用ビフェニル類 Granted JPS6069046A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB8302119 1983-01-26
GB838302119A GB8302119D0 (en) 1983-01-26 1983-01-26 Disubstituted ethanes
GB8333897 1983-12-20

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6069046A JPS6069046A (ja) 1985-04-19
JPH0446251B2 true JPH0446251B2 (ja) 1992-07-29

Family

ID=10536967

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1181084A Granted JPS6069046A (ja) 1983-01-26 1984-01-25 液晶化合物の製造用ビフェニル類
JP1180984A Granted JPS6069045A (ja) 1983-01-26 1984-01-25 ジ置換エタン並びに液晶材料及び装置に於けるその使用

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JP (2) JPS6069046A (ja)
GB (1) GB8302119D0 (ja)

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Also Published As

Publication number Publication date
JPH0225894B2 (ja) 1990-06-06
GB8302119D0 (en) 1983-03-02
JPS6069045A (ja) 1985-04-19
JPS6069046A (ja) 1985-04-19

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