JPH0447510A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents
薄膜磁気ヘッドInfo
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- JPH0447510A JPH0447510A JP15954590A JP15954590A JPH0447510A JP H0447510 A JPH0447510 A JP H0447510A JP 15954590 A JP15954590 A JP 15954590A JP 15954590 A JP15954590 A JP 15954590A JP H0447510 A JPH0447510 A JP H0447510A
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- lead wire
- thin film
- magnetic head
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、磁気抵抗効果素子(以下、MR素子と略す)
を備えた薄膜磁気ヘッドに関するものである。
を備えた薄膜磁気ヘッドに関するものである。
MR素子を備えた薄膜磁気ヘッドにより磁気記録媒体上
の記録情報を検出する場合の回路構成を第8図に示す。
の記録情報を検出する場合の回路構成を第8図に示す。
MR素子3には、定電流源19から定電流1cが供給さ
れており、この状態で磁気記録媒体より記録情報に応じ
て変化する磁界がMR素子3に印加されると、MR素子
3の電気抵抗がその磁界に応じて変化し、これに伴って
MR素子3の両端電圧が変化するようになっており、こ
れにより記録情報に応じた磁界変化が電圧変化として検
出される。そして、結合用のコンデンサー20により直
流成分が除去され、交流成分が増幅用IC(集積回路)
14に入力されて増幅され、その出力信号より情報の再
生が行われている。
れており、この状態で磁気記録媒体より記録情報に応じ
て変化する磁界がMR素子3に印加されると、MR素子
3の電気抵抗がその磁界に応じて変化し、これに伴って
MR素子3の両端電圧が変化するようになっており、こ
れにより記録情報に応じた磁界変化が電圧変化として検
出される。そして、結合用のコンデンサー20により直
流成分が除去され、交流成分が増幅用IC(集積回路)
14に入力されて増幅され、その出力信号より情報の再
生が行われている。
ところが、上記従来の構成では、SN比(信号雑音比)
を改善するために、MR素子3、コンケンサ−20及び
増幅用IC14を一体化した薄膜磁気ヘッドを製造しよ
うとすると、コンデンサー20の容積が大きいので、薄
膜磁気ヘッドが太きくなり過ぎるという問題点を有して
いる。
を改善するために、MR素子3、コンケンサ−20及び
増幅用IC14を一体化した薄膜磁気ヘッドを製造しよ
うとすると、コンデンサー20の容積が大きいので、薄
膜磁気ヘッドが太きくなり過ぎるという問題点を有して
いる。
特に、多トラツク型の薄膜磁気へ・ンドの場合、MR素
子3数と同数のコンデンサー20を設ける必要があり、
このために薄膜磁気ヘッドの大型化を招き、一体化する
ことは難しい。
子3数と同数のコンデンサー20を設ける必要があり、
このために薄膜磁気ヘッドの大型化を招き、一体化する
ことは難しい。
本発明の薄膜磁気ヘッドは、上記の課題を解決するため
に、磁界により電気抵抗が変化する磁気抵抗効果素子と
、この磁気抵抗効果素子の電気抵抗変化に伴う電流変化
を電圧変化に変換する信号検出用トランスとが一体的に
基板上に備えられると共に、前記信号検出用トランスの
1次巻線及び2次巻線は前記磁気抵抗効果素子から取り
出されたリード線により形成されていることを特徴とし
ている。
に、磁界により電気抵抗が変化する磁気抵抗効果素子と
、この磁気抵抗効果素子の電気抵抗変化に伴う電流変化
を電圧変化に変換する信号検出用トランスとが一体的に
基板上に備えられると共に、前記信号検出用トランスの
1次巻線及び2次巻線は前記磁気抵抗効果素子から取り
出されたリード線により形成されていることを特徴とし
ている。
上記の構成によれば、磁界により電気抵抗が変化する磁
気抵抗効果素子と、この磁気抵抗効果素子の電気抵抗変
化に伴う電流変化を電圧変化に変換する信号検出用トラ
ンスとを一体的に基板上に備えると共に、信号検出用ト
ランスの1次巻線及び2次巻線を磁気抵抗効果素子から
取り出されたリード線により形成したので、容積の大き
い結合用のコンデンサーを使用しなくとも、小型の信号
検出用トランスを用いて磁界変化に応じた電圧変化を取
り出すことができる。これにより、磁気抵抗効果素子、
信号検出用トランス及び増幅用ICを一体化した小型の
薄膜磁気ヘッドを構成することが可能になる。
気抵抗効果素子と、この磁気抵抗効果素子の電気抵抗変
化に伴う電流変化を電圧変化に変換する信号検出用トラ
ンスとを一体的に基板上に備えると共に、信号検出用ト
ランスの1次巻線及び2次巻線を磁気抵抗効果素子から
取り出されたリード線により形成したので、容積の大き
い結合用のコンデンサーを使用しなくとも、小型の信号
検出用トランスを用いて磁界変化に応じた電圧変化を取
り出すことができる。これにより、磁気抵抗効果素子、
信号検出用トランス及び増幅用ICを一体化した小型の
薄膜磁気ヘッドを構成することが可能になる。
〔実施例1〕
本発明の一実施例を第1図乃至第4図に基づいて説明す
れば、以下のとおりである。なお、従来例の図面で示し
た部材と同一の機能を有する部材には、同一の符号を付
記する。
れば、以下のとおりである。なお、従来例の図面で示し
た部材と同一の機能を有する部材には、同一の符号を付
記する。
本実施例で使用される薄膜磁気ヘッドの回路構成は、第
4図に示すように、基本的にはMR素子3と信号検出用
トランス13からなっており、MR素子3は信号検出用
トランス13の1次巻線に直列に接続されている。一方
、信号検出用トランス13の2次巻線は外部に設けられ
た増幅用IC14に接続されている。
4図に示すように、基本的にはMR素子3と信号検出用
トランス13からなっており、MR素子3は信号検出用
トランス13の1次巻線に直列に接続されている。一方
、信号検出用トランス13の2次巻線は外部に設けられ
た増幅用IC14に接続されている。
上記の構成において、定電圧Vcが信号検出用トランス
13の1次巻線を介してMR素子3に印加される。この
状態で磁気記録媒体(図示されていない)より記録情報
に応じて変化する磁界がMR素子3に印加されると、M
R素子3の電気抵抗がその磁界に応じて変化し、これに
伴って信号検出用トランス13の1次巻線を流れる電流
が変化する。そして、相互誘導により2次巻線の両端に
電圧が誘起され、これが増幅用IC14に入力されて増
幅され、その出力信号より情報の再生が行われる。
13の1次巻線を介してMR素子3に印加される。この
状態で磁気記録媒体(図示されていない)より記録情報
に応じて変化する磁界がMR素子3に印加されると、M
R素子3の電気抵抗がその磁界に応じて変化し、これに
伴って信号検出用トランス13の1次巻線を流れる電流
が変化する。そして、相互誘導により2次巻線の両端に
電圧が誘起され、これが増幅用IC14に入力されて増
幅され、その出力信号より情報の再生が行われる。
本実施例の薄膜磁気ヘッドは、第1図(a)及び(b)
に示すように、磁性体基板1と、磁性体基板1上に形成
された第1絶縁層2と、第1絶縁層2上に形成された1
軸磁気異方性を有する磁性体薄膜からなるMR素子3と
、MR素子3の両端から取り出されて第1絶縁層2上に
渦巻き状に形成されたリード線4a・4bと、同じく第
1絶縁層2上に形成された引出し線9a・9bと、MR
素子3とリード線4a・4bと引出し線9a・9bとを
覆うように形成された第2絶縁層5と、MR素子3を覆
うように第2絶縁層5上に形成された磁性体層8と、リ
ード線4aの端部と引出し線9aの端部とを電気的に接
続する導電体7aと、リード線4bの端部と引出し線9
bの端部とを電気的に接続する導電体7bと、磁性体基
板1からリード線4aの渦巻きの中央部を通ってリード
線4bの渦巻きの中央部を経て磁性体基板1に戻るよう
に設けられた磁性体層6とから構成されている。
に示すように、磁性体基板1と、磁性体基板1上に形成
された第1絶縁層2と、第1絶縁層2上に形成された1
軸磁気異方性を有する磁性体薄膜からなるMR素子3と
、MR素子3の両端から取り出されて第1絶縁層2上に
渦巻き状に形成されたリード線4a・4bと、同じく第
1絶縁層2上に形成された引出し線9a・9bと、MR
素子3とリード線4a・4bと引出し線9a・9bとを
覆うように形成された第2絶縁層5と、MR素子3を覆
うように第2絶縁層5上に形成された磁性体層8と、リ
ード線4aの端部と引出し線9aの端部とを電気的に接
続する導電体7aと、リード線4bの端部と引出し線9
bの端部とを電気的に接続する導電体7bと、磁性体基
板1からリード線4aの渦巻きの中央部を通ってリード
線4bの渦巻きの中央部を経て磁性体基板1に戻るよう
に設けられた磁性体層6とから構成されている。
ここで、MR素子3の上下面を挟むように設けられてい
る磁性体基板1と磁性体層8は、MR素子3の磁気シー
ルドを構成しており、外部からの不要磁界がMR素子3
に悪影響を及ぼさないようにしている。また、磁性体基
板1と磁性体層6は磁気回路を構成しており、リード線
4a・4bの渦巻きは、それぞれこの磁気回路の回りに
巻かれた1次巻線と2次巻線に対応している。つまり、
磁性体基板1、磁性体層6及びリード線4a・4bは信
号検出用トランス13を構成している。
る磁性体基板1と磁性体層8は、MR素子3の磁気シー
ルドを構成しており、外部からの不要磁界がMR素子3
に悪影響を及ぼさないようにしている。また、磁性体基
板1と磁性体層6は磁気回路を構成しており、リード線
4a・4bの渦巻きは、それぞれこの磁気回路の回りに
巻かれた1次巻線と2次巻線に対応している。つまり、
磁性体基板1、磁性体層6及びリード線4a・4bは信
号検出用トランス13を構成している。
上記の構成において、引出し線9aとリード線4b間に
定電圧Vcが印加される。そして、MR素子3の電気抵
抗が外部からの磁界に応じて変化すると、これに伴って
信号検出用トランス13の1次巻線としてのリード線4
aを流れる電流が変化して、相互誘導により2次巻線と
してのリード線4bに電圧が誘起され、引出し線9bと
リード線4bの間に磁界に応じて変化する電圧が出力さ
れる。
定電圧Vcが印加される。そして、MR素子3の電気抵
抗が外部からの磁界に応じて変化すると、これに伴って
信号検出用トランス13の1次巻線としてのリード線4
aを流れる電流が変化して、相互誘導により2次巻線と
してのリード線4bに電圧が誘起され、引出し線9bと
リード線4bの間に磁界に応じて変化する電圧が出力さ
れる。
上記の薄膜磁気ヘッドを製造するには、第2図に示すよ
うに、磁性体基板1上に例えばStowからなる第1絶
縁層2を形成した後、Ni−Fe合金薄膜等の磁性体薄
膜からなるMR素子3を形成する0次に、MR素子30
両端に電気的に接続されるように例えばAffiからな
るリード線4a・4bを渦巻き状に形成すると同時に、
引出し線9a・9bも形成する。
うに、磁性体基板1上に例えばStowからなる第1絶
縁層2を形成した後、Ni−Fe合金薄膜等の磁性体薄
膜からなるMR素子3を形成する0次に、MR素子30
両端に電気的に接続されるように例えばAffiからな
るリード線4a・4bを渦巻き状に形成すると同時に、
引出し線9a・9bも形成する。
その後、第3図に示すように、MR素子3とリード、1
i4a・4bと引出し線9a・9bとを覆うように、例
えばSin、からなる第2絶縁層5を全面に形成する0
次に、リード線4aと引出し線9aとを電気的に接続す
るために、リード線4aの端部上の第2絶縁層5及び引
出し線9aの端部上の第2絶縁層5をRIE(リアクテ
ィブイオンエツチング)法等により除去して、コンタク
トホール10a・llaを形成する。同様にして、リー
ド線4bと引出し線9bとを電気的に接続するために、
コンタクトホール10b・llbを形成する。また、こ
のとき同時に、信号検出用トランス13(第1図(b)
)の磁気回路を設けるために、リード線4a・4bの渦
巻きの中央部上の第1絶縁層2及び第2絶縁層5を除去
して、コンタクトホール12・12を形成する。
i4a・4bと引出し線9a・9bとを覆うように、例
えばSin、からなる第2絶縁層5を全面に形成する0
次に、リード線4aと引出し線9aとを電気的に接続す
るために、リード線4aの端部上の第2絶縁層5及び引
出し線9aの端部上の第2絶縁層5をRIE(リアクテ
ィブイオンエツチング)法等により除去して、コンタク
トホール10a・llaを形成する。同様にして、リー
ド線4bと引出し線9bとを電気的に接続するために、
コンタクトホール10b・llbを形成する。また、こ
のとき同時に、信号検出用トランス13(第1図(b)
)の磁気回路を設けるために、リード線4a・4bの渦
巻きの中央部上の第1絶縁層2及び第2絶縁層5を除去
して、コンタクトホール12・12を形成する。
次に、MR素子3の磁気シールド用の磁性体層8(第1
図(a)(b))と、リード線4aの端部と引出し線9
aの端部とを電気的に接続する導電体7aと、リード線
4bの端部と引出し線9bの端部とを電気的に接続する
導電体7bと、信号検出用トランス13の磁気回路を閉
じるための磁性体Ji6とをNi−Fe合金薄膜等の金
属軟磁性体膜により同時に形成する。
図(a)(b))と、リード線4aの端部と引出し線9
aの端部とを電気的に接続する導電体7aと、リード線
4bの端部と引出し線9bの端部とを電気的に接続する
導電体7bと、信号検出用トランス13の磁気回路を閉
じるための磁性体Ji6とをNi−Fe合金薄膜等の金
属軟磁性体膜により同時に形成する。
〔実施例2〕
本発明の他の実施例を第5図乃至第7図に基づいて説明
すれば、以下のとおりである。なお、説明の便宜上、前
記の実施例の図面で示した部材と同一の機能を有する部
材には、同一の符号を付記し、その説明を省略する。
すれば、以下のとおりである。なお、説明の便宜上、前
記の実施例の図面で示した部材と同一の機能を有する部
材には、同一の符号を付記し、その説明を省略する。
本実施例で使用される薄膜磁気ヘッドの回路構成は、前
記実施例(第4図)と同一である。
記実施例(第4図)と同一である。
本実施例の薄膜磁気ヘッドは、第5図(a)及び(b)
に示すように、磁性体基板1と、磁性体基板1の左上部
に形成された第3絶縁層15と、磁性体基板1と第3絶
縁層15とを覆うように形成された第1絶縁層2と、第
1絶縁層2上に形成された1軸磁気異方性を有する磁性
体薄膜からなるMR素子3と、MR素子3の両端から取
り出されて第1絶縁層2上に渦巻き状に形成されたリー
ド線4a・4bと、同じく第1絶縁層2上に形成された
引出し線9a・9bと、MR素子3とリード線4a・4
bと引出し線9a・9bとを覆うように形成された第2
絶縁層5と、MR素子jを左右から囲むように第2絶縁
層5上に形成された磁性体層16・16と、リード線4
aの端部と引出し線9aの端部とを電気的に接続する導
電体7aと、リード線4bの端部と引出し線9bの端部
とを電気的に接続する導電体7bと、磁性体基板1から
リード!4aの中央部を通ってリード線4bの中央部を
経て磁性体基板1に戻るように設けられた磁性体層6と
から構成されている。
に示すように、磁性体基板1と、磁性体基板1の左上部
に形成された第3絶縁層15と、磁性体基板1と第3絶
縁層15とを覆うように形成された第1絶縁層2と、第
1絶縁層2上に形成された1軸磁気異方性を有する磁性
体薄膜からなるMR素子3と、MR素子3の両端から取
り出されて第1絶縁層2上に渦巻き状に形成されたリー
ド線4a・4bと、同じく第1絶縁層2上に形成された
引出し線9a・9bと、MR素子3とリード線4a・4
bと引出し線9a・9bとを覆うように形成された第2
絶縁層5と、MR素子jを左右から囲むように第2絶縁
層5上に形成された磁性体層16・16と、リード線4
aの端部と引出し線9aの端部とを電気的に接続する導
電体7aと、リード線4bの端部と引出し線9bの端部
とを電気的に接続する導電体7bと、磁性体基板1から
リード!4aの中央部を通ってリード線4bの中央部を
経て磁性体基板1に戻るように設けられた磁性体層6と
から構成されている。
ここで、MR素子3の上下面を挟むように設けられてい
る磁性体基板1と磁性体層16・16は、それぞれMR
素子3の下部ヨーク及び上部ヨークを構成しており、磁
性体基板1と磁性体層16の間に設けられた第3絶縁層
15はギャップ層を構成している。すなわち、記録情報
に応じた磁界は、磁性体基板1と磁性体層16・16か
らなる上下部ヨークに導かれてMR素子3に到達するよ
うになっている。また、磁性体基板1と磁性体層6は磁
気回路を構成しており、リード線4a・4bの渦巻きは
、それぞれこの磁気回路の回りに巻かれた1次巻線と2
次巻線に対応している。つまり、磁性体基板1、磁性体
層6及びリード線4a・4bは信号検出用トランス13
を構成している。
る磁性体基板1と磁性体層16・16は、それぞれMR
素子3の下部ヨーク及び上部ヨークを構成しており、磁
性体基板1と磁性体層16の間に設けられた第3絶縁層
15はギャップ層を構成している。すなわち、記録情報
に応じた磁界は、磁性体基板1と磁性体層16・16か
らなる上下部ヨークに導かれてMR素子3に到達するよ
うになっている。また、磁性体基板1と磁性体層6は磁
気回路を構成しており、リード線4a・4bの渦巻きは
、それぞれこの磁気回路の回りに巻かれた1次巻線と2
次巻線に対応している。つまり、磁性体基板1、磁性体
層6及びリード線4a・4bは信号検出用トランス13
を構成している。
上記の構成において、引出し線9aとリード線4b間に
定電圧Vcが印加される。そして、MR素子3の電気抵
抗が外部からの磁界に応じて変化すると、これに伴って
信号検出用トランス13の1次巻線としてのリード線4
aを流れる電流が変化して、相互誘導により2次巻線と
してのリード線4bに電圧が誘起され、引出し線9bと
リード線4bの間に磁界に応じて変化する電圧が出力さ
れる。
定電圧Vcが印加される。そして、MR素子3の電気抵
抗が外部からの磁界に応じて変化すると、これに伴って
信号検出用トランス13の1次巻線としてのリード線4
aを流れる電流が変化して、相互誘導により2次巻線と
してのリード線4bに電圧が誘起され、引出し線9bと
リード線4bの間に磁界に応じて変化する電圧が出力さ
れる。
上記の薄膜磁気ヘッドを製造するには、第6図に示すよ
うに、磁性体基板1の左上部に例えばAit Osから
なる第3絶縁層15を形成し、続いて磁性体基板1と第
3絶縁層15とを覆うように例えばStowからなる第
1絶縁層2を形成した後、Ni−Fe合金薄膜等の磁性
体薄膜からなるMR素子3を形成する0次に、MR素子
3の両端に電気的に接続されるように例えばA!からな
るリード線4a・4bを渦巻き状に形成すると同時に、
引出し線9a・9bも形成する。
うに、磁性体基板1の左上部に例えばAit Osから
なる第3絶縁層15を形成し、続いて磁性体基板1と第
3絶縁層15とを覆うように例えばStowからなる第
1絶縁層2を形成した後、Ni−Fe合金薄膜等の磁性
体薄膜からなるMR素子3を形成する0次に、MR素子
3の両端に電気的に接続されるように例えばA!からな
るリード線4a・4bを渦巻き状に形成すると同時に、
引出し線9a・9bも形成する。
その後、第7図に示すように、MR素子3とリード線4
a・4bと引出し線9a・9bとを覆うように、例えば
5iChからなる第2絶縁1ii5を全面に形成する0
次に、リード線4aと引出し線9aとを電気的に接続す
るために、リード線4aの端部上の第2絶縁層5及び引
出し線9aの端部上の第2絶縁層5をRIE (リアク
ティブイオンエツチング)法等を用いて除去して、コン
タクトホール10a・llaを形成する。同様にして、
リード線4bと引出し線9bとを電気的に接続するため
に、コンタクトホール10b・llbを形成する。また
、このとき同時に、信号検出用トランス13(第1図(
b))の磁気回路を設けるために、リード線4a・4b
の渦巻きの中央部上の第1絶縁層2及び第2絶縁層5を
除去して、コンタクトホール12・12を形成すると共
に、上部ヨークとしての磁性体層16・16を設けるた
めに、MR素子3の左右両側の第1絶縁層2及び第2絶
縁層5を除去して、コンタクトホールI7・18を形成
する。
a・4bと引出し線9a・9bとを覆うように、例えば
5iChからなる第2絶縁1ii5を全面に形成する0
次に、リード線4aと引出し線9aとを電気的に接続す
るために、リード線4aの端部上の第2絶縁層5及び引
出し線9aの端部上の第2絶縁層5をRIE (リアク
ティブイオンエツチング)法等を用いて除去して、コン
タクトホール10a・llaを形成する。同様にして、
リード線4bと引出し線9bとを電気的に接続するため
に、コンタクトホール10b・llbを形成する。また
、このとき同時に、信号検出用トランス13(第1図(
b))の磁気回路を設けるために、リード線4a・4b
の渦巻きの中央部上の第1絶縁層2及び第2絶縁層5を
除去して、コンタクトホール12・12を形成すると共
に、上部ヨークとしての磁性体層16・16を設けるた
めに、MR素子3の左右両側の第1絶縁層2及び第2絶
縁層5を除去して、コンタクトホールI7・18を形成
する。
次に、MR素子3の上部ヨークとしての磁性体層16−
16(第5図(a)(b))と、リード線4aの端部と
引出し線9aの端部とを電気的に接続する導電体7aと
、リード線4bの端部と引出し線9bの端部とを電気的
に接続する導電体7bと、信号検出用トランス13の磁
気回路を閉じるための磁性体層6とをNi−Fe合金薄
膜等の金属軟磁性体膜により同時に形成する。
16(第5図(a)(b))と、リード線4aの端部と
引出し線9aの端部とを電気的に接続する導電体7aと
、リード線4bの端部と引出し線9bの端部とを電気的
に接続する導電体7bと、信号検出用トランス13の磁
気回路を閉じるための磁性体層6とをNi−Fe合金薄
膜等の金属軟磁性体膜により同時に形成する。
以上の実施例では、生産効率を向上させるため、磁性体
層6・8(第1図)あるいは磁性体層8・16と導電体
7a・7bとを同一の金属軟磁性体膜により同時に形成
したが、異なる材料で形成してもかまわない。こうする
ことにより、磁性体層6・8・16は必ずしも金属を使
用する必要がなくなり、導電体7a・7bも軟磁性体で
ある必要がなくなるので、それぞれに最適材料を選択で
きる。また、磁性体基板1の代わりに、Sin。
層6・8(第1図)あるいは磁性体層8・16と導電体
7a・7bとを同一の金属軟磁性体膜により同時に形成
したが、異なる材料で形成してもかまわない。こうする
ことにより、磁性体層6・8・16は必ずしも金属を使
用する必要がなくなり、導電体7a・7bも軟磁性体で
ある必要がなくなるので、それぞれに最適材料を選択で
きる。また、磁性体基板1の代わりに、Sin。
基板等の非磁性体基板上に磁性体層を形成した基板を用
いてもかまわない。こうすることにより、基板の選択範
囲が広がる。また、信号検出用トランス13において、
リード’IA4a・4bからなる1次巻線と2次巻線の
巻き数は1回であるが、さらに多く巻くことにより相互
誘導が強くなり、誘導損失が小さくなる。また、1次巻
線の巻き数に対して2次巻線の巻き数を増やすことによ
り、電圧増幅もできる。
いてもかまわない。こうすることにより、基板の選択範
囲が広がる。また、信号検出用トランス13において、
リード’IA4a・4bからなる1次巻線と2次巻線の
巻き数は1回であるが、さらに多く巻くことにより相互
誘導が強くなり、誘導損失が小さくなる。また、1次巻
線の巻き数に対して2次巻線の巻き数を増やすことによ
り、電圧増幅もできる。
本発明の薄膜磁気ヘッドは、以上のように、磁界により
電気抵抗が変化する磁気抵抗効果素子と、この磁気抵抗
効果素子の電気抵抗変化に伴う電流変化を電圧変化に変
換する信号検出用トランスとを一体的に基板上に備える
と共に、信号検出用トランスの1次巻線及び2次巻線を
磁気抵抗効果素子から取り出されたリード線により形成
したので、容積の大きい結合用のコンデンサーを使用し
なくとも、小型の信号検出用トランスから磁界変化に応
じた電圧変化を取り出すことができる。これにより、磁
気抵抗効果素子、信号検出用トラニス及び増幅用tCを
一体化した小型の薄wi!磁気−ッドを構成することが
可能になり、磁気抵抗効果素子から増幅用ICまでの配
線が短(なるので、雑音を拾いにくくなり、SN比が著
しく改善さt。
電気抵抗が変化する磁気抵抗効果素子と、この磁気抵抗
効果素子の電気抵抗変化に伴う電流変化を電圧変化に変
換する信号検出用トランスとを一体的に基板上に備える
と共に、信号検出用トランスの1次巻線及び2次巻線を
磁気抵抗効果素子から取り出されたリード線により形成
したので、容積の大きい結合用のコンデンサーを使用し
なくとも、小型の信号検出用トランスから磁界変化に応
じた電圧変化を取り出すことができる。これにより、磁
気抵抗効果素子、信号検出用トラニス及び増幅用tCを
一体化した小型の薄wi!磁気−ッドを構成することが
可能になり、磁気抵抗効果素子から増幅用ICまでの配
線が短(なるので、雑音を拾いにくくなり、SN比が著
しく改善さt。
るという効果を奏する。また、多トランク型の春膜磁気
ヘッドに応用する場合、並列処理を時系ll処理に変換
するためのマルチプレクサ一部を一得化することにより
、複数の薄膜磁気ヘッドからC出力を少数の出力線にて
引き出すことができるため、引出し用FPC(フレキシ
ブルプリント回婬)と薄膜磁気ヘッドとの電気的接続点
が少なくなり、接続作業が簡素化されると同時に接触不
良も起こりにくくなるという効果を奏する。
ヘッドに応用する場合、並列処理を時系ll処理に変換
するためのマルチプレクサ一部を一得化することにより
、複数の薄膜磁気ヘッドからC出力を少数の出力線にて
引き出すことができるため、引出し用FPC(フレキシ
ブルプリント回婬)と薄膜磁気ヘッドとの電気的接続点
が少なくなり、接続作業が簡素化されると同時に接触不
良も起こりにくくなるという効果を奏する。
第1図乃至第4図は本発明の一実施例を示すものである
。 第1図(a)は、薄膜磁気ヘッドの平面図である。 第1図(b)は、同図(a)のA−A矢視断面図である
。 第2図は、磁気抵抗効果素子及びリード線を形成した段
階を示す平面図である。 第3図は、コンタクトホールを形成した段階を示す平面
図である。 第4図は、薄膜磁気ヘッドの回路図である。 第5図乃至第7図は本発明の他の実施例を示すものであ
る。 第5図(a)は、薄膜磁気ヘッドの平面図である。 第5図(b)は、同図(a)のB−B矢視断面図である
。 第6図は、磁気抵抗効果素子及びリード1JIAを形成
した段階を示す平面図である。 第7図は、コンタクトホールを形成した段階を示す平面
図である。 第8図は従来例を示すものであり、薄膜磁気ヘッドの回
路図である。 1は磁性体基板、3はMR素子、4a・4bはリード線
、6・8・16は磁性体層、13は信号検出用トランス
、15は第3絶縁層である。
。 第1図(a)は、薄膜磁気ヘッドの平面図である。 第1図(b)は、同図(a)のA−A矢視断面図である
。 第2図は、磁気抵抗効果素子及びリード線を形成した段
階を示す平面図である。 第3図は、コンタクトホールを形成した段階を示す平面
図である。 第4図は、薄膜磁気ヘッドの回路図である。 第5図乃至第7図は本発明の他の実施例を示すものであ
る。 第5図(a)は、薄膜磁気ヘッドの平面図である。 第5図(b)は、同図(a)のB−B矢視断面図である
。 第6図は、磁気抵抗効果素子及びリード1JIAを形成
した段階を示す平面図である。 第7図は、コンタクトホールを形成した段階を示す平面
図である。 第8図は従来例を示すものであり、薄膜磁気ヘッドの回
路図である。 1は磁性体基板、3はMR素子、4a・4bはリード線
、6・8・16は磁性体層、13は信号検出用トランス
、15は第3絶縁層である。
Claims (1)
- 1、磁界により電気抵抗が変化する磁気抵抗効果素子と
、この磁気抵抗効果素子の電気抵抗変化に伴う電流変化
を電圧変化に変換する信号検出用トランスとが同一基板
上に備えられると共に、前記信号検出用トランスの1次
巻線及び2次巻線は前記磁気抵抗効果素子から取り出さ
れたリード線により形成されていることを特徴とする薄
膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15954590A JPH0447510A (ja) | 1990-06-15 | 1990-06-15 | 薄膜磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15954590A JPH0447510A (ja) | 1990-06-15 | 1990-06-15 | 薄膜磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0447510A true JPH0447510A (ja) | 1992-02-17 |
Family
ID=15696096
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15954590A Pending JPH0447510A (ja) | 1990-06-15 | 1990-06-15 | 薄膜磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0447510A (ja) |
-
1990
- 1990-06-15 JP JP15954590A patent/JPH0447510A/ja active Pending
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