JPH0447952A - サーマルヘッド - Google Patents
サーマルヘッドInfo
- Publication number
- JPH0447952A JPH0447952A JP15635190A JP15635190A JPH0447952A JP H0447952 A JPH0447952 A JP H0447952A JP 15635190 A JP15635190 A JP 15635190A JP 15635190 A JP15635190 A JP 15635190A JP H0447952 A JPH0447952 A JP H0447952A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heating resistor
- thin film
- pattern
- glass
- thermal head
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 32
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 28
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 12
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 2
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 241000519995 Stachys sylvatica Species 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Electronic Switches (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、サーマルプリンタに用いられるサーマルプリ
ントヘッドに関する。
ントヘッドに関する。
〈従来の技術〉
従来のサーマルプリントヘッドは第６図斜線部に示すよ
うに、部分グレーズガラ、スと薄膜パターンのフォトリ
ソ時の位置合わせ方法は、十文字型が多く部分グレーズ
ガラス形状に対する薄膜パターンの位置合わせが難しか
った。更に、発熱抵抗体の主走査側距離（基板端面から
の発熱抵抗体列中心までの距離）を変えて多種のサーマ
ルプリントヘッドを製作する場合、多種のフォトマスク
を用意しておく必要があった。
うに、部分グレーズガラ、スと薄膜パターンのフォトリ
ソ時の位置合わせ方法は、十文字型が多く部分グレーズ
ガラス形状に対する薄膜パターンの位置合わせが難しか
った。更に、発熱抵抗体の主走査側距離（基板端面から
の発熱抵抗体列中心までの距離）を変えて多種のサーマ
ルプリントヘッドを製作する場合、多種のフォトマスク
を用意しておく必要があった。
〈発明が解決しようとする課題〉
従来のサーマルプリントヘッドは、第３図フォトリソプ
ロセスに示すように、耐熱性絶縁性基板上に発熱抵抗体
及び、電極をポジレジストを使用しフォトリソエツチン
グ方法により形成しサーマルヘッドを製作する場合、部
分グレーズガラス上の任意の位置に発熱抵抗体用フォト
マスクでパターンを重ね合わせ位置決めする際に、フォ
トマスクがポジレジストタイプであるため、基準となる
部分グレーズガラスの形状がフォトマスクを介すると見
えにくく、充分なパターン位置精度が得られなかった。
ロセスに示すように、耐熱性絶縁性基板上に発熱抵抗体
及び、電極をポジレジストを使用しフォトリソエツチン
グ方法により形成しサーマルヘッドを製作する場合、部
分グレーズガラス上の任意の位置に発熱抵抗体用フォト
マスクでパターンを重ね合わせ位置決めする際に、フォ
トマスクがポジレジストタイプであるため、基準となる
部分グレーズガラスの形状がフォトマスクを介すると見
えにくく、充分なパターン位置精度が得られなかった。
このためエツジ型サーマルヘッドを製作する場合、部分
グレーズガラス上に形成される発熱抵抗体中心までの距
離の長短（位置ズレ）により、特にラフ紙への転写性不
良及び高速印字での白抜は印字の原因となっていた。
又、発熱抵抗体の主走査側距離（基板端面からの発熱抵
抗体列中心までの距ｍ）を変えて多種のサーマルプリン
トヘッドを製作する場合、それぞれに応じたフォトマス
クを用意しておく必要がありサーマルプリントヘッドの
設計・製作コスト高の原因となっていた。 本発明はか
かる課題をを解決し、サーマルプリントヘッドの設計・
製作コストを下げ高品位なサーマルプリントヘッドを提
供することを目的としている。
グレーズガラス上に形成される発熱抵抗体中心までの距
離の長短（位置ズレ）により、特にラフ紙への転写性不
良及び高速印字での白抜は印字の原因となっていた。
又、発熱抵抗体の主走査側距離（基板端面からの発熱抵
抗体列中心までの距ｍ）を変えて多種のサーマルプリン
トヘッドを製作する場合、それぞれに応じたフォトマス
クを用意しておく必要がありサーマルプリントヘッドの
設計・製作コスト高の原因となっていた。 本発明はか
かる課題をを解決し、サーマルプリントヘッドの設計・
製作コストを下げ高品位なサーマルプリントヘッドを提
供することを目的としている。
〈課題を解決するための手段〉
（１） セラミック、もしくは耐熱性絶縁性を有する基
板上に部分グレーズガラスを配し、この基板表面に発熱
抵抗体層、電極層、保護膜層を積層し、各パターンがフ
ォトエツチング方法により薄膜形成された、多数−個の
発熱抵抗体素子を設けて成るサーマルプリントヘッドに
於て、前記発熱抵抗体は部分グレーズガラス上に設けら
れ、この部分グレーズガラスと薄膜パターンのフォトリ
ソ位置合わせが、部分グレーズガラス−の長手方向と横
方向が同時に位置合わせ可能な合わせマークである事を
特徴とする。
板上に部分グレーズガラスを配し、この基板表面に発熱
抵抗体層、電極層、保護膜層を積層し、各パターンがフ
ォトエツチング方法により薄膜形成された、多数−個の
発熱抵抗体素子を設けて成るサーマルプリントヘッドに
於て、前記発熱抵抗体は部分グレーズガラス上に設けら
れ、この部分グレーズガラスと薄膜パターンのフォトリ
ソ位置合わせが、部分グレーズガラス−の長手方向と横
方向が同時に位置合わせ可能な合わせマークである事を
特徴とする。
（２）部分グレーズガラスと薄膜パターンのフォトリソ
位置合わせマークが、櫛歯型であることを特徴とする。
位置合わせマークが、櫛歯型であることを特徴とする。
（３）部分グレーズガラスと薄膜パターンのフォトリソ
位置合わせマークが、部分グレーズガラスの横方向位置
合わせ用の窓を有する事を特徴とする。
位置合わせマークが、部分グレーズガラスの横方向位置
合わせ用の窓を有する事を特徴とする。
〈実施例〉
以下に本発明による実施例に基づいて説明する。
第１図に本発明に於けるサーマルプリントヘッドの全体
を示す平面図を示す。第２図は本発明による発熱抵抗体
部周辺を示す側断面図である。第４図は本発明に於ける
サーマルヘッドの発熱抵抗体部及び位置合わせパターン
の詳細図である。図に於て、１は耐熱性絶縁性基板、２
は耐熱性部分グレーズガラス、３は発熱抵抗体層、４は
電極層、５は３・４をは護する耐摩耗、耐酸化機能を有
する保護層、６は発熱抵抗体フォトマスクパターンの合
わせマークである。図に於て、１の耐熱性絶縁性基板上
に３の発熱抵抗体層及び４の電極層をスパッタリング等
の真空薄膜装置により膜付けを行う。次に第３図フォト
リソプロセスに示すように、この積層膜上全面にフォト
レジストを一般的なスピンコーター・ロールコータ−等
により塗布しブレベーク（前乾燥）後、発熱抵抗体用フ
ォトマスクにより露光・現像しエツチングによりパター
ン形成後レジスト剥離をし薄膜パターンを形成する。第
３図に於ける、斜線で示す部分はフォトレジストが感光
しないためエツチング後レジストを除去すると、発熱抵
抗体層が第４図斜線部のように発熱抵抗体パターンとし
て形成される。この露光工程での、部分グレーズガラス
と発熱抵抗体フォトマスクパターンとの位置合わせ方法
は、第４図ａ部に示すように、フォトマスクの合わせマ
ークの部分グレーズガラス横方向位置合わせ用窓（白抜
きパターン）により、位置合わせマーク中心（パターン
全体）が部分グレーズガラスのほぼ中央にくるようにア
ライメントし、次に部分グレーズガラスの外形形状ライ
ンを基準とし、合わせマークの長手方向櫛歯と横方向櫛
歯により部分グレーズガラスに対する長手方向と横方向
の微細な位置合わせを同時におこない発熱抵抗体パター
ンを形成する。
を示す平面図を示す。第２図は本発明による発熱抵抗体
部周辺を示す側断面図である。第４図は本発明に於ける
サーマルヘッドの発熱抵抗体部及び位置合わせパターン
の詳細図である。図に於て、１は耐熱性絶縁性基板、２
は耐熱性部分グレーズガラス、３は発熱抵抗体層、４は
電極層、５は３・４をは護する耐摩耗、耐酸化機能を有
する保護層、６は発熱抵抗体フォトマスクパターンの合
わせマークである。図に於て、１の耐熱性絶縁性基板上
に３の発熱抵抗体層及び４の電極層をスパッタリング等
の真空薄膜装置により膜付けを行う。次に第３図フォト
リソプロセスに示すように、この積層膜上全面にフォト
レジストを一般的なスピンコーター・ロールコータ−等
により塗布しブレベーク（前乾燥）後、発熱抵抗体用フ
ォトマスクにより露光・現像しエツチングによりパター
ン形成後レジスト剥離をし薄膜パターンを形成する。第
３図に於ける、斜線で示す部分はフォトレジストが感光
しないためエツチング後レジストを除去すると、発熱抵
抗体層が第４図斜線部のように発熱抵抗体パターンとし
て形成される。この露光工程での、部分グレーズガラス
と発熱抵抗体フォトマスクパターンとの位置合わせ方法
は、第４図ａ部に示すように、フォトマスクの合わせマ
ークの部分グレーズガラス横方向位置合わせ用窓（白抜
きパターン）により、位置合わせマーク中心（パターン
全体）が部分グレーズガラスのほぼ中央にくるようにア
ライメントし、次に部分グレーズガラスの外形形状ライ
ンを基準とし、合わせマークの長手方向櫛歯と横方向櫛
歯により部分グレーズガラスに対する長手方向と横方向
の微細な位置合わせを同時におこない発熱抵抗体パター
ンを形成する。
又、１種類の発熱抵抗体用フォトマスクと電極用フォト
マスクで発熱抵抗体の主走査側距離（基板端面からの発
熱抵抗体列中心までの距離）を可変してサーマルプリン
トヘッドを製作する場合、長手方向櫛歯と横方向櫛歯型
の合わせマークを具備した発熱抵抗体用フォトマスクを
使用し、第４図ａ部に示すように、前記合わせマークの
中心が部分グレーズガラスの中心に位置するように長手
方向櫛歯と横方向櫛歯型の合わせマークの櫛歯で同時に
位置合わせを行う。次に、電極用フォトマスクを使用し
、第５図ａのように発熱抵抗体パターン上に重ね合村、
第５図すのように前記発熱抵抗体フォトマスクの横方向
櫛歯と電極用フォトマスクの合わせマークの重なり量を
可変し、フォトマスクを変えずに基板毎に発熱抵抗体の
主走査側距離の違うタイプのサーマルプリントヘッドを
製作することができる。第６図に於ける斜線で示す部分
はフォトレジストが感光するのでエツチング後レジスト
を除去すると、電極層が第７図斜線部のように電極パタ
ーンとして形成される。
マスクで発熱抵抗体の主走査側距離（基板端面からの発
熱抵抗体列中心までの距離）を可変してサーマルプリン
トヘッドを製作する場合、長手方向櫛歯と横方向櫛歯型
の合わせマークを具備した発熱抵抗体用フォトマスクを
使用し、第４図ａ部に示すように、前記合わせマークの
中心が部分グレーズガラスの中心に位置するように長手
方向櫛歯と横方向櫛歯型の合わせマークの櫛歯で同時に
位置合わせを行う。次に、電極用フォトマスクを使用し
、第５図ａのように発熱抵抗体パターン上に重ね合村、
第５図すのように前記発熱抵抗体フォトマスクの横方向
櫛歯と電極用フォトマスクの合わせマークの重なり量を
可変し、フォトマスクを変えずに基板毎に発熱抵抗体の
主走査側距離の違うタイプのサーマルプリントヘッドを
製作することができる。第６図に於ける斜線で示す部分
はフォトレジストが感光するのでエツチング後レジスト
を除去すると、電極層が第７図斜線部のように電極パタ
ーンとして形成される。
その後、この薄膜パターン上に発熱抵抗体層、及び電極
層を保護する耐摩耗、耐酸化機能を有する保護層をスパ
ッタ等の真空薄膜装置により形成する。
層を保護する耐摩耗、耐酸化機能を有する保護層をスパ
ッタ等の真空薄膜装置により形成する。
〈発明の効果）
以上説明したように、本発明によるサーマルプリントヘ
ッドを用いることにより以下の点が改善される。
ッドを用いることにより以下の点が改善される。
（１）サーマルプリントヘッドの製作時、フォトリソエ
ッチンチ・露光工程での耐熱性絶縁性基板上の部分グレ
ーズガラスと薄膜パターン形成用のフォトマスクパター
ンの位置合わせに於て、部分グレーズガラスに対する長
手方向櫛歯及び横方向櫛歯を具備したフォトマスクを使
用することにより、発熱抵抗体の位置精度の良好なサー
マルプリントヘッドを製作することができる。
ッチンチ・露光工程での耐熱性絶縁性基板上の部分グレ
ーズガラスと薄膜パターン形成用のフォトマスクパター
ンの位置合わせに於て、部分グレーズガラスに対する長
手方向櫛歯及び横方向櫛歯を具備したフォトマスクを使
用することにより、発熱抵抗体の位置精度の良好なサー
マルプリントヘッドを製作することができる。
（２）又、発熱抵抗体の主走査側距離を可変して多種の
サーマルプリントへ・シトを製作する場合、多種のフォ
トマスクを用意する必要がなくサーマルプリントヘッド
の設計・製作コストを削減することができる。
サーマルプリントへ・シトを製作する場合、多種のフォ
トマスクを用意する必要がなくサーマルプリントヘッド
の設計・製作コストを削減することができる。
以上、本発明は品質の向上及びヘッドのコストダウンに
寄与するものである。
寄与するものである。
第１図に本発明の構成によるサーマルプリントヘッドの
全体を示す平面図。第２図にサーマルプリントヘッドの
発熱抵抗体部周辺の測断面図。 第３図に発熱艙試体のフォトリソプロセス図。 第４図に発熱抵抗体部と位置合わせマークの詳細図。第
５図に発熱抵抗体と電極位置合わせマークの重ね合わせ
図。第６図に電極のフォトリソプロセス図。第７図に電
極パターン詳細図。 第８図は従来の構成によるサーマルプリントヘッドの位
置合わせマーク図。 １ ・ ２ ・ ３ ・ ４ ・ ５ ・ ６ ・ ７ ・ ８ ・ ９ ・ ・耐熱性絶縁性基板 ・耐熱性部分グレーズガラス ・発熱抵抗体層 ・・電極層 ・保護膜層 °フォトマスク ・レジスト ・発熱抵抗体用位置合わせマーク ・電極用位置合わせマーク 以 上 第１ 図 第５図 第３図 第６図 第４図 第７図 第８図
全体を示す平面図。第２図にサーマルプリントヘッドの
発熱抵抗体部周辺の測断面図。 第３図に発熱艙試体のフォトリソプロセス図。 第４図に発熱抵抗体部と位置合わせマークの詳細図。第
５図に発熱抵抗体と電極位置合わせマークの重ね合わせ
図。第６図に電極のフォトリソプロセス図。第７図に電
極パターン詳細図。 第８図は従来の構成によるサーマルプリントヘッドの位
置合わせマーク図。 １ ・ ２ ・ ３ ・ ４ ・ ５ ・ ６ ・ ７ ・ ８ ・ ９ ・ ・耐熱性絶縁性基板 ・耐熱性部分グレーズガラス ・発熱抵抗体層 ・・電極層 ・保護膜層 °フォトマスク ・レジスト ・発熱抵抗体用位置合わせマーク ・電極用位置合わせマーク 以 上 第１ 図 第５図 第３図 第６図 第４図 第７図 第８図
Claims (3)
- （１）セラミック、もしくは耐熱性絶縁性を有する基板
上に部分グレーズガラスを配し、この基板表面に発熱抵
抗体層、電極層、保護膜層を積層し、各パターンがフォ
トエッチング方法により薄膜形成された、多数個の発熱
抵抗体素子を設けて成るサーマルヘッドに於て、前記発
熱抵抗体は部分グレーズガラス上に設けられ、この部分
グレーズガラスと薄膜パターンのフォトリソ位置合わせ
が、部分グレーズガラスの長手方向と横方向が同時に位
置合わせ可能な合わせマークである事を特徴とするサー
マルヘッド。 - （２）部分グレーズガラスと薄膜パターンのフォトリソ
位置合わせマークが、櫛歯型であることを特徴とする請
求項１記載のサーマルヘッド。 - （３）部分グレーズガラスと薄膜パターンのフォトリソ
位置合わせマークが、部分グレーズガラスの横方向位置
合わせ用の窓を有する事を特徴とする請求項１記載のサ
ーマルヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15635190A JPH0447952A (ja) | 1990-06-14 | 1990-06-14 | サーマルヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15635190A JPH0447952A (ja) | 1990-06-14 | 1990-06-14 | サーマルヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0447952A true JPH0447952A (ja) | 1992-02-18 |
Family
ID=15625860
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15635190A Pending JPH0447952A (ja) | 1990-06-14 | 1990-06-14 | サーマルヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0447952A (ja) |
-
1990
- 1990-06-14 JP JP15635190A patent/JPH0447952A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0447952A (ja) | サーマルヘッド | |
| JP2976086B2 (ja) | サーマルプリントヘッドの製造方法 | |
| JPH0560584B2 (ja) | ||
| JPH04308769A (ja) | サーマルプリントヘッド | |
| JP2863283B2 (ja) | サーマルヘッド及びその製造方法 | |
| JP2932339B2 (ja) | サーマルプリントヘッドの製造方法 | |
| JPS6212618Y2 (ja) | ||
| JP2569620B2 (ja) | サーマルヘッドの製造方法 | |
| JP3470824B2 (ja) | サーマルプリントヘッド | |
| JP3261145B2 (ja) | サーマルヘッドの製造方法 | |
| JP4748864B2 (ja) | サーマルヘッド | |
| JP2544143B2 (ja) | 端面型サ―マルヘッドの製造方法 | |
| JPH04251758A (ja) | サーマルプリントヘッド | |
| JPS60248366A (ja) | サ−マルヘツド | |
| JPH05201048A (ja) | 厚膜型サーマルヘッド及びその製造方法 | |
| JP2945202B2 (ja) | 厚膜型サーマルヘッド及びその製造方法 | |
| JP2945210B2 (ja) | 厚膜型サーマルヘッドの製造方法 | |
| JP2003118154A (ja) | 厚膜型サーマルヘッドの製造方法並びに厚膜型サーマルヘッド | |
| JPH05124237A (ja) | サーマルプリントヘツド | |
| JPH04128057A (ja) | サーマルヘッドの製造方法 | |
| JPH0159113B2 (ja) | ||
| JPH0720707B2 (ja) | 熱印字ヘッド | |
| JPH02111562A (ja) | グレーズドセラミック基板 | |
| JPH0667038U (ja) | サーマルヘッド基板 | |
| JPH02266958A (ja) | 通電記録ヘッドの製造方法 |